專利名稱：放射線檢測(cè)元件及其制造方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及放射線檢測(cè)元件，特別地涉及在醫(yī)療用X射線照相等中使用的具有大面積受光單元的放射性檢測(cè)元件。
在醫(yī)療、工業(yè)用的X射線照相中，雖然以前使用X射線感光膠片，但從方便和照相結(jié)果的保存的角度考慮，使用放射線檢測(cè)元件的放射線成像系統(tǒng)正日益普及。在這種放射線成像系統(tǒng)中，使用具有多個(gè)象素的放射性檢測(cè)元件，以電信號(hào)形式取得由放射線所產(chǎn)生的二維圖像數(shù)據(jù)，在利用處理裝置處理該信號(hào)后，在監(jiān)視器上進(jìn)行顯示。典型的放射線檢測(cè)元件是在一維或二維排列的光檢測(cè)器上配置閃爍器，由閃爍器將入射放射線轉(zhuǎn)換成光后進(jìn)行檢測(cè)。
典型的閃爍器材料CsI是吸水性材料，它可吸收空氣中的水蒸氣(濕氣)并溶化。結(jié)果，就出現(xiàn)閃爍器的特性尤其是解像度劣化的問(wèn)題。
作為使閃爍器免受潮氣影響的放射線檢測(cè)元件的結(jié)構(gòu)，已知有特開(kāi)平5-196742號(hào)公報(bào)公開(kāi)的技術(shù)。該技術(shù)通過(guò)在閃爍器層的上部形成不透水的防濕保護(hù)層使閃爍器免受潮氣的影響。
然而，在該技術(shù)中，將閃爍器層外周部分的防濕保護(hù)層密合在放射線檢測(cè)元件的基板上很困難，特別是在胸部X射線照相等中使用的大面積的放射線檢測(cè)元件中，外周部分很長(zhǎng)，防濕保護(hù)層很容易脫落，閃爍器層不能完全密封，水分會(huì)侵入閃爍器層，具有其特性容易劣化的缺點(diǎn)。
另外，在該技術(shù)中還公開(kāi)了防濕保護(hù)層的水密層的制造方法在液態(tài)下將硅澆注材料等涂敷在閃爍器層或涂敷在設(shè)置在放射性檢測(cè)元件的受光面?zhèn)鹊墓怅@材料的內(nèi)側(cè)之后，在水密層干燥前將該光闌材料設(shè)置在閃爍器層上，由此來(lái)固定水密層。采用該制造方法，難以在表面形狀不規(guī)則的閃爍器層上均勻地形成水密層，存在著密合性下降的可能性。這一點(diǎn)在大面積放射線檢測(cè)元件中更容易發(fā)生。
本發(fā)明正是鑒于上述問(wèn)題而提出的，其目的在于提供具有閃爍器防濕用的、均勻且容易制造的保護(hù)膜的放射線檢測(cè)元件及其制造方法。
為了解決該課題，本發(fā)明的放射線檢測(cè)元件的特征在于包括(1)受光元件陣列，系將多個(gè)受光元件在基板上一維或二維排列形成受光單元并將與該受光單元的各行或各列的受光元件電連接的多個(gè)焊盤配置在受光單元的外部而形成；(2)閃爍器層，它將集聚在受光元件上的放射線轉(zhuǎn)換成可見(jiàn)光；(3)放射線可通過(guò)的耐濕保護(hù)膜，它由至少包含有機(jī)膜和在其上沉積的無(wú)機(jī)膜的兩層以上的多層膜組成，至少覆蓋住閃爍器層，并使受光元件陣列的焊盤露出；(4)覆蓋樹(shù)脂膜，沿受光元件陣列露出部分的邊界即邊緣用該覆蓋樹(shù)脂涂敷耐濕保護(hù)膜，使該耐濕保護(hù)膜的邊緣密合在受光元件陣列上。
由此，入射放射線由閃爍器層轉(zhuǎn)換成可見(jiàn)光。通過(guò)利用一維或二維排列的受光元件檢測(cè)該可見(jiàn)光圖像，得到與入射放射線圖像對(duì)應(yīng)的電信號(hào)。閃爍器層具有因吸濕而劣化的性質(zhì)，然而根據(jù)本發(fā)明，用耐濕保護(hù)膜覆蓋閃爍器層，用覆蓋樹(shù)脂涂覆耐濕保護(hù)膜的邊緣，使得閃爍器層被完全密封，與外部空氣隔離，可免受空氣中的水蒸氣的影響。而且，與外部電路連接用的焊盤部分被露出來(lái)。
另一方面，本發(fā)明的放射線檢測(cè)元件的制造方法特征在于包括(1)，在受光元件陣列的受光元件上積層形成把放射線轉(zhuǎn)換成可見(jiàn)光的閃爍器層，其中，將多個(gè)受光元件在基板上一維或二維排列而形成其受光單元，將與該受光單元的各行或各列受光元件電連接的多個(gè)焊盤配置在受光單元的外部；(2)，形成放射線可通過(guò)的第一有機(jī)膜，該有機(jī)膜包覆全部的受光元件陣列；(3)，形成放射線可通過(guò)的耐濕保護(hù)膜，該耐濕保護(hù)膜是在第一有機(jī)膜上沉積包含無(wú)機(jī)膜的至少一層膜，是由兩層以上的多層膜組成；(4)，在閃爍器層的外側(cè)上將至少包覆焊盤的那部分耐濕保護(hù)膜切開(kāi)除去，至少使受光元件陣列的包含焊盤的區(qū)域露出來(lái)；(5)，沿受光元件陣列的露出部分的邊界(即邊緣)用樹(shù)脂涂敷耐濕保護(hù)膜，使耐濕保護(hù)膜的邊緣密合在受光元件上。
通過(guò)把整個(gè)受光元件包覆的方式形成第一有機(jī)膜，提高了閃爍器層和有機(jī)膜的密合程度，形成均勻的膜。由于形成了均勻的耐濕保護(hù)膜，通過(guò)除去焊盤部分上的耐濕保護(hù)膜就可使焊盤確定地露出來(lái)。而且，由于沿露出部分的邊界(即邊緣)用樹(shù)脂涂覆耐濕保護(hù)膜，使耐濕保護(hù)膜的邊緣密合在其下的受光元件陣列的表面上，從而密封了耐濕保護(hù)膜下面的閃爍器層。
通過(guò)下面的詳細(xì)說(shuō)明和附圖可進(jìn)一步充分理解本發(fā)明，但這些只是示例性的，不應(yīng)認(rèn)為是對(duì)本發(fā)明的限制。
本發(fā)明的其它應(yīng)用范圍可從以下的詳細(xì)說(shuō)明中得到闡明。然而，雖然詳細(xì)說(shuō)明及特定事例示出了本發(fā)明的優(yōu)選實(shí)施方案，但在本發(fā)明的精神和范圍中，本領(lǐng)域的技術(shù)人員可從詳細(xì)說(shuō)明中引出各種變更和改進(jìn)，這是不言而喻的。
圖1是本發(fā)明的一個(gè)實(shí)施方案的俯視圖。
圖2是圖1的A-A剖面圖。
圖3-10是圖1所示實(shí)施方案的制造工序圖。
圖11是本發(fā)明的另一實(shí)施方案的俯視圖。
圖12是圖11的B-B剖面圖。
下面，根據(jù)


本發(fā)明的優(yōu)選實(shí)施方案。另外，為了易于理解，對(duì)各圖中的同一構(gòu)成要素盡可能標(biāo)注同一標(biāo)號(hào)，并省略重復(fù)的說(shuō)明。而且，各附圖中的大小和形狀不一定都和實(shí)際相同，為了易于理解對(duì)某些部位進(jìn)行了夸張放大。
圖1是本發(fā)明的一個(gè)實(shí)施方案的俯視圖，圖2是其外周部分的A-A斷面的放大圖。
首先，參照?qǐng)D1、圖2說(shuō)明本實(shí)施方案的結(jié)構(gòu)。進(jìn)行光電轉(zhuǎn)換的受光元件2被二維排列在絕緣的，例如玻璃制作的，基板1上面形成受光單元。該受光元件2由非晶態(tài)硅制成的發(fā)光二極管(PD)和薄膜晶體管(TFT)構(gòu)成。各行或各列的受光元件2分別由讀出信號(hào)用的信號(hào)線3電連接。用于將信號(hào)取出到外部電路(未圖示)的多個(gè)焊盤4沿基板1的外周邊(例如相鄰的兩個(gè)邊)配置，并通過(guò)信號(hào)線3與對(duì)應(yīng)的多個(gè)受光元件2電連接。在受光元件2和信號(hào)線3上形成絕緣的鈍化膜5。該鈍化膜5最好采用氮化硅或二氧化硅。另一方面，焊盤4為了便于和外部電路連接而露出。下面，將該基板和基板上的電路部分稱作受光元件陣列6。
在受光元件陣列6的受光單元上形成把入射放射線轉(zhuǎn)換成可見(jiàn)光的柱狀結(jié)構(gòu)的閃爍器7。閃爍器7可采用各種材料，最好采用發(fā)光效率高的摻雜TL(鉈)的CsI等。在閃爍器7上，形成由X射線可透過(guò)水蒸氣不能透過(guò)的第一有機(jī)膜8、無(wú)機(jī)膜9、第二有機(jī)膜10依次沉積的保護(hù)膜11。
第一有機(jī)膜8和第二有機(jī)膜10采用聚對(duì)二甲苯樹(shù)脂(ThreeBond公司生產(chǎn)、商品名Parylene(聚對(duì)亞苯基二甲基或稱聚對(duì)二甲苯基))最好采用聚對(duì)氯二甲苯基(同一公司制造，商品名Parylene C)。利用Parylene制成的涂敷膜具有水蒸氣和氣體的透過(guò)率極低、防水性、耐腐蝕性高、電絕緣性優(yōu)良、對(duì)放射線和可見(jiàn)光透明等與有機(jī)膜8、10相稱的優(yōu)良特征。有關(guān)利用Parylene制成的涂料的詳細(xì)情況，記載于《ThreeBond技術(shù)新聞》(平成4年9月23日發(fā)行)中，在此描述其特征。
Parylene能夠和金屬的真空蒸鍍相同地在真空中利用化學(xué)氣相沉積法(CVD)在支持體上沉積以進(jìn)行涂敷。它由如下工序構(gòu)成將原料P-二甲苯熱分解，將生成物在甲苯、苯等有機(jī)溶劑中急冷，可得到稱作二聚物的二對(duì)二甲苯；將二聚物熱分解，可生成穩(wěn)定的自由基對(duì)二甲苯氣體；使產(chǎn)生的氣體吸附在坯料上，聚合形成聚合分子量為約50萬(wàn)的聚對(duì)二甲苯膜。
Parylene蒸鍍時(shí)的壓力比金屬真空蒸鍍時(shí)的壓力0.001乇高，為0.1～0.2乇。并且，在蒸鍍時(shí)，單分子膜覆蓋住被覆蓋物的全部后，才在其上進(jìn)一步蒸鍍Parylene。因此，能夠生成沒(méi)有微孔的均勻厚度的厚0.2μm以上的薄膜，在液態(tài)下不可能進(jìn)行的在尖角部分、邊緣部分以及微米量級(jí)的狹窄縫隙處的涂敷都成為可能。而且由于涂敷時(shí)不需要熱處理，可以在接近室溫的溫度下進(jìn)行涂敷，所以不產(chǎn)生伴隨硬化而發(fā)生的機(jī)械應(yīng)力和熱變形，還具有優(yōu)良的涂覆穩(wěn)定性。而且，還可以對(duì)幾乎所有的固體材料進(jìn)行涂敷。
另一方面，如果無(wú)機(jī)膜9可以透過(guò)X射線，則能夠使用對(duì)可見(jiàn)光透明、不透明或反射等的各種材料，能夠使用Si、Ti、Cr的氧化膜和金、銀、鋁等的金屬薄膜。尤其是若使用對(duì)可見(jiàn)光反射的膜，則由于具有防止閃爍器7發(fā)生的散光泄漏到外部而使靈敏度上升的效果，最理想。在此，使用容易成形的Al為例進(jìn)行說(shuō)明。雖然Al本身在空氣中容易腐蝕，但由于無(wú)機(jī)膜9被第一有機(jī)膜8和第二有機(jī)膜10夾著，所以可受到保護(hù)而不受腐蝕。
該保護(hù)膜11的外周，在受光單元的外周和受光元件陣列6的外周之間并延伸到焊盤4內(nèi)側(cè)，焊盤4露出以用于與外部電路連接。這樣，該保護(hù)膜11雖然由上述Parylene涂敷形成，但由于是用CVD法形成，所以形成為覆蓋了受光元件陣列6的整個(gè)表面。因而，為使焊盤4露出，需要切開(kāi)比焊盤4更內(nèi)側(cè)的Parylene涂覆形成的保護(hù)膜11，除去外部的保護(hù)膜11。這時(shí)，保護(hù)膜11很容易從切開(kāi)的外周部分剝離。因此，在保護(hù)膜11的外周部分和其外邊的受光元件陣列6上的鈍化膜5上涂敷覆蓋樹(shù)脂12進(jìn)行覆蓋。
作為覆蓋樹(shù)脂12，優(yōu)選采用對(duì)保護(hù)膜11和鈍化膜5粘結(jié)性優(yōu)良的樹(shù)脂，例如丙烯酸類粘合劑的協(xié)立化學(xué)工業(yè)株式會(huì)社生產(chǎn)的WORLDROCK No.801-SET2(70,000 cP型)。該樹(shù)脂粘合劑用700mW/cm2的紫外線照射大約20秒就硬化，硬化膜柔韌且具有足夠的強(qiáng)度，耐潮、耐水、耐電解性能優(yōu)良，與各種材料特別是玻璃、塑料等的粘接性良好，具有適于用作覆蓋樹(shù)脂12的優(yōu)良特性。
下面，參照?qǐng)D3～10說(shuō)明該實(shí)施例的制造工序。如圖4所示，利用蒸鍍法在圖3所示的受光元件陣列6的受光面上生長(zhǎng)厚為600μm的鉈摻雜的CsI柱狀結(jié)晶而形成閃爍器7層。
形成閃爍器7的CsI吸濕性強(qiáng)，如果原樣露出，會(huì)吸收空氣中的水蒸氣而溶解。因而，為防止這種情況，利用如圖5所示的CVD法在基板的整個(gè)表面包覆10μm厚的由Parylene形成第一有機(jī)膜8。雖然在CsI的柱狀晶體中有間隙，但由于Parylene進(jìn)入狹小的間隙中，第一有機(jī)膜8密合在閃爍器7的層上。而且，利用Parylene涂覆，在凹凸的閃爍器7層的表面上得到厚度均勻的致密涂覆薄膜。如上所述，由于能夠在比金屬蒸鍍時(shí)更低的真空度中和常溫下進(jìn)行Parylene的CVD形成，所以加工容易。
另外，如圖6所示，通過(guò)蒸鍍法在入射面一側(cè)的第一有機(jī)膜8的表面上沉積一層0.15μm厚的Al膜，形成無(wú)機(jī)膜9。并且，再次利用CVD法將Parylene以10μm的厚度覆蓋在整個(gè)基板的表面上而形成第2有機(jī)膜10，如圖7所示。該第二有機(jī)膜10可防止由于無(wú)機(jī)膜9的腐蝕而造成的劣化。
如圖8所示，在受光單元的外周和受光元件陣列6的外周部分之間且在焊盤4的內(nèi)側(cè)，用準(zhǔn)分子(excimer)激光等沿光受光單元的外周切開(kāi)采用如上方式所形成的保護(hù)膜11，就可如圖9所示，除去切開(kāi)部分以外和入射面的內(nèi)側(cè)(或另一側(cè))的保護(hù)膜11不要的部分，使用于與外部電路連接的焊盤4露出。由于鈍化膜5和保護(hù)膜11的最下層的第一有機(jī)膜7的密合性不好，如果在其上按原樣設(shè)置切斷的外周部，保護(hù)膜11就容易從外周部剝離。因此，如圖10所示，要在保護(hù)膜11的外周部和其周圍的鈍化膜5上涂敷覆蓋樹(shù)脂12進(jìn)行覆蓋，再用紫外線照射，使覆蓋樹(shù)脂12硬化，使保護(hù)膜11密合在受光元件陣列6上。由此，把閃爍器7密封，能夠防止因吸濕引起的解像度的劣化。
下面，參照?qǐng)D1和圖2說(shuō)明本實(shí)施方案的動(dòng)作。從入射面?zhèn)热肷涞腦射線(放射線)透過(guò)第一有機(jī)膜8、無(wú)機(jī)膜9和第二有機(jī)膜10組成的保護(hù)膜11到達(dá)閃爍器7。閃爍器7吸收該X射線并放出與X射線光量成正比的可見(jiàn)光。在發(fā)出的可見(jiàn)光中，與X射線入射方向相同的可見(jiàn)光在無(wú)機(jī)膜9處被反射，因此，閃爍器7發(fā)出的可見(jiàn)光，幾乎全部到達(dá)閃爍器7之下的受光元件2。因此，可以進(jìn)行高效率的檢測(cè)。
在各受光元件2上，利用光電轉(zhuǎn)換生成與該可見(jiàn)光的光量相對(duì)應(yīng)的電信號(hào)并累積一定時(shí)間。到達(dá)受光元件2的可見(jiàn)光的光量，由于與入射X射線的光量對(duì)應(yīng)，在各受光元件2上累積的電信號(hào)與入射X射線的光量對(duì)應(yīng)，就成為與X射線圖像對(duì)應(yīng)的圖像信號(hào)。受光元件2上累積的該圖像信號(hào)通過(guò)信號(hào)線3從焊盤4上依次讀出，傳輸?shù)酵獠浚妙A(yù)定的處理電路處理后能夠顯示X射線圖像。
在上面的說(shuō)明中，作為保護(hù)膜11說(shuō)明的是結(jié)構(gòu)為在Parylene制的第一有機(jī)膜8、10之間夾有無(wú)機(jī)膜9的保護(hù)膜，但也可以是第一有機(jī)膜8和第二有機(jī)膜10材料不同的保護(hù)膜。還有，在無(wú)機(jī)膜9使用抗腐蝕性的材料時(shí)，也可以不設(shè)置第二有機(jī)膜10。
在此，是以覆蓋樹(shù)脂12形成在受光元件陣列6的受光元件2的外側(cè)的鈍化膜上為例進(jìn)行說(shuō)明的，但在受光元件2與焊盤4鄰接的情況下，在其邊界形成覆蓋樹(shù)脂幾乎是困難的。為使焊盤4可靠地露出且用覆蓋樹(shù)脂12可靠地涂覆保護(hù)膜11的周圍，最好使覆蓋樹(shù)脂12的位置位于受光元件2的兩側(cè)。為此，閃爍器7不是在整個(gè)受光元件2上形成，而是在除去焊盤4附近的象素的有效畫(huà)面區(qū)域的受光元件2上形成，然后形成覆蓋整個(gè)閃爍器7層的保護(hù)膜11，在其上未形成閃爍器7的受光元件2的象素上可以通過(guò)覆蓋樹(shù)脂12涂覆保護(hù)膜11。這時(shí)，由于焊盤4附近的象素都被覆蓋樹(shù)脂12蓋住，在前面不存在閃爍器7，所以，對(duì)放射線的靈敏度降低，結(jié)果，這些象素不能使用，受光元件2的有效象素?cái)?shù)及有效畫(huà)面面積減小，但是在受光元件2為大畫(huà)面象素多時(shí)，無(wú)效象素的比例減少，因元件的結(jié)構(gòu)使得具有制作容易的優(yōu)點(diǎn)。
下面，參照?qǐng)D11、圖12說(shuō)明本發(fā)明的另一實(shí)施方案。圖11是該實(shí)施例的放射線檢測(cè)元件的俯視圖，圖12是其B-B放大剖面圖。該元件的基本結(jié)構(gòu)與圖1和圖2所示的實(shí)施方案的元件相同，下面僅說(shuō)明不同點(diǎn)。
在圖11、圖12所示的實(shí)施方案中，保護(hù)膜11被形成在受光元件陣列6的受光面?zhèn)群蛢?nèi)側(cè)(即受光面另一側(cè))的前面，焊盤4被露出。并且，沿保護(hù)膜11的邊界(邊緣)涂敷覆蓋樹(shù)脂12，包圍露出的焊盤4。由于在本實(shí)施例中，焊盤4也可靠地露出，保護(hù)膜11被覆蓋樹(shù)脂12可靠地密合在受光元件陣列6上，所以閃爍器7層被密封，能夠防止吸濕造成的劣化。
這一點(diǎn)在焊盤4小的CCD及MOS型攝影元件的情況下，減少可能引起保護(hù)膜剝落的邊界部分即邊緣部分的長(zhǎng)度時(shí)更為顯著。
另外，在上述說(shuō)明中，對(duì)從受光元件上的閃爍器側(cè)入射放射線的所謂表面入射型的放射線檢測(cè)元件進(jìn)行了說(shuō)明，但本發(fā)明也可適用于從基板側(cè)入射放射線的所謂內(nèi)側(cè)入射型的放射線檢測(cè)元件。這樣的內(nèi)側(cè)入射型放射線檢測(cè)元件能夠用作高能放射線檢測(cè)元件。
如上述說(shuō)明的那樣，根據(jù)本發(fā)明，為保護(hù)吸濕性高的閃爍器，在閃爍器上形成由Parylene等構(gòu)成的保護(hù)膜，該保護(hù)膜的邊緣利用樹(shù)脂層與受光元件陣列結(jié)合，因此，閃爍器層被密封。特別是，由于防止了從保護(hù)膜的邊緣上剝落，提高了耐濕性能。
根據(jù)本發(fā)明的制造方法，在形成保護(hù)膜后除去了不必要的部分，所以，與只在必要部分形成保護(hù)膜的情況相比，容易形成均勻狀態(tài)的保護(hù)膜，使焊盤可靠地露出。還有，由于保護(hù)膜可浸透到閃爍器晶體間隙中，保護(hù)膜和閃爍層的密合性得到了提高。
當(dāng)然，可從上述本發(fā)明的說(shuō)明出發(fā)對(duì)本發(fā)明進(jìn)行各種變形，不能認(rèn)為這些變形脫離了本發(fā)明的思想和范圍，在下面的權(quán)利要求書(shū)中包括了本領(lǐng)域技術(shù)人員易知的種種改進(jìn)。
本發(fā)明的放射性檢測(cè)元件可應(yīng)用于特別是醫(yī)療、工業(yè)用X射線照相中使用的大面積放射線圖像系統(tǒng)。特別是在取代當(dāng)前廣泛使用的X射線膠片的胸部X射線攝影等中使用。
權(quán)利要求
1．一種放射線檢測(cè)元件，包括受光元件陣列，其多個(gè)受光元件在基板上呈一維或二維排列形成其受光單元，并將與所述受光單元的各行或各列的所述受光元件電連接的多個(gè)焊盤配置在所述受光單元的外部；閃爍器層，該閃爍器層在所述受光元件上層積形成，把放射線轉(zhuǎn)換成可見(jiàn)光；放射線可通過(guò)的耐濕保護(hù)膜，它由至少包含有機(jī)膜和在其上沉積的無(wú)機(jī)膜的兩層以上的多層膜組成，在覆蓋了閃爍器層的同時(shí)使所述受光元件陣列的所述焊盤部分露出；以及覆蓋樹(shù)脂，沿所述耐濕保護(hù)膜和受光元件陣列露出部分的邊界(即邊緣)用所述覆蓋樹(shù)脂涂敷耐濕保護(hù)膜，使所述耐濕保護(hù)膜的邊緣密合在所述受光元件陣列上。
2．如權(quán)利要求1所述的放射線檢測(cè)元件，其特征在于所述焊盤位于所述基板的外周邊處，所述耐濕保護(hù)膜在所述受光單元的外緣和所述受光元件陣列的外緣之間覆蓋形成，所述覆蓋樹(shù)脂涂敷在所述耐濕保護(hù)膜的外周部分。
3．一種放射線檢測(cè)元件的制造方法，包括下列步驟在受光元件陣列的受光元件上層積形成把放射線轉(zhuǎn)換成可見(jiàn)光的閃爍器層，其中，將多個(gè)所述受光元件在基板上呈一維或二維排列地形成所述受光元件陣列的受光單元，并將與所述受光單元的各行或各列受光元件電連接的多個(gè)焊盤配置在所述受光單元的外部；形成放射線可通過(guò)的第一有機(jī)膜，使其包覆整個(gè)所述受光元件陣列；在所述第一有機(jī)膜上沉積包含無(wú)機(jī)膜的一層以上的膜，形成由兩層以上的多層膜組成的放射線可通過(guò)的耐濕保護(hù)膜；將所述閃爍器層的外側(cè)的，即至少將包覆所述焊盤的那部分耐濕保護(hù)膜切開(kāi)除去，至少使所述受光元件陣列的包含上述焊盤的區(qū)域露出來(lái)；沿所述耐濕保護(hù)膜與所述受光元件陣列的露出部分的邊界(即邊緣)用樹(shù)脂涂敷所述耐濕保護(hù)膜，使所述耐濕保護(hù)膜的邊緣密合在所述受光元件陣列上。
4．一種放射線檢測(cè)元件的制造方法，包括下列步驟在受光元件陣列的所述受光元件上層積形成把放射線轉(zhuǎn)換成可見(jiàn)光的閃爍器層，其中，將多個(gè)受光元件在基板上呈一維或二維排列形成其受光單元，將與所述受光單元的各行或各列的所述受光元件電連接的多個(gè)焊盤配置在所述基板的外周邊部；形成放射線可通過(guò)的第一有機(jī)膜，使其包覆所述受光元件陣列整體；在所述第一有機(jī)膜上淀積包含無(wú)機(jī)膜的一層以上的膜，形成由兩層以上的多層膜組成的放射線可通過(guò)的耐濕保護(hù)膜；在所述閃爍器層的外周和所述焊盤部分之間的位置沿所述閃爍器層外周把所述耐濕保護(hù)膜切開(kāi)，將在該切開(kāi)面以外以及入射面內(nèi)側(cè)形成的所述耐濕保護(hù)膜除去，使所述焊盤露出；用樹(shù)脂涂敷被切開(kāi)的所述耐濕保護(hù)膜的外周部分，使所述耐濕保護(hù)膜的外周部分密合在所述受光元件陣列上。
全文摘要
將受光元件2二維排列在基板上,把用信號(hào)線3與各行或各列受光元件2電連接的焊盤4排列在基板1的外周邊上,在受光元件2和信號(hào)線3上設(shè)置保護(hù)用的鈍化膜5,形成受光元件陣列6。將CsI柱狀晶體的閃爍器7沉積在該受光元件陣列6的受光面上,并在其上沉積Al無(wú)機(jī)膜9夾在Parylene制的有機(jī)膜8、10之間作為保護(hù)膜11。在使焊盤4露出的位置把保護(hù)膜11的外周切開(kāi),并用覆蓋樹(shù)脂12密合在鈍化膜5上。
文檔編號(hào)G01T1/20GK1222977SQ98800427
公開(kāi)日1999年7月14日 申請(qǐng)日期1998年2月12日 優(yōu)先權(quán)日1997年2月14日
發(fā)明者本目卓也, 高林敏雄, 佐藤宏人 申請(qǐng)人:浜松光子學(xué)株式會(huì)社