程序的CD-ROM等的暫時的計算機可讀的記錄介質(zhì)來實現(xiàn)。
[0247] 例如，本發(fā)明用程序（軟件）來實現(xiàn)的情況下，利用計算機的CPU、存儲器及輸入輸 出電路等的硬件資源來執(zhí)行程序，從而實現(xiàn)本發(fā)明的各個功能要素。換言之，通過將CPU處 理對象的數(shù)據(jù)從存儲器或輸入輸出電路等獲得并運算數(shù)據(jù)，或者將運算結(jié)果輸出到存儲器 或輸入輸出電路等，從而實現(xiàn)各個功能要素。
[0248] 此外，分布解析裝置中包含的多個構(gòu)成要素，可以作為集成電路即LSI來實現(xiàn)。這 些構(gòu)成要素可以將每一個制成一個芯片，也可以將一部分或者全部制成一個芯片。在這里 是LSI,不過根據(jù)集成度的不同，也稱為IC(Integrated Circuit)、系統(tǒng)LSI、超級LSI或極 超 LSI。
[0249] 還有，集成電路化的方法不局限于LSI，也可以用專用電路或者通用處理器來實 現(xiàn)。也可以利用可編程的現(xiàn)場可編程門陣列（FPGA : Field Programmable Gate Array) 或可動態(tài)地重構(gòu)LSI內(nèi)部的電路單元的連接和設(shè)定的可重構(gòu)處理器。
[0250] 而且，隨著半導(dǎo)體技術(shù)的進(jìn)步或派生出的其他的技術(shù)，若出現(xiàn)了能夠取代LSI的 集成電路化的技術(shù)，當(dāng)然也可以利用這些技術(shù)來對分布解析裝置中包含的構(gòu)成要素進(jìn)行集 成電路化。
[0251] 本發(fā)明涉及的分布解析裝置，能夠解析各種場的分布，例如能夠適用于磁場診斷 裝置、電子器件的檢查、混凝土內(nèi)部的鋼筋腐蝕的檢查、受災(zāi)地的鋼筋結(jié)構(gòu)物的抗震檢查、 以及醫(yī)療診斷。
[0252] 符號說明
[0253] 10分布解析系統(tǒng)
[0254] 20, 25分布解析裝置
[0255] 21獲得部
[0256] 22計算部
[0257] 26測量部
[0258] 27圖像處理部
[0259] 30測量裝置
[0260] 31，32, 33, 34傳感器感受區(qū)域
[0261] 35 轉(zhuǎn)盤
[0262] 36自由層
[0263] 37隧道層
[0264] 38 PIN層（磁化固定層）
[0265] 40顯示裝置
[0266] 50檢查對象物
[0267] 51，52 測量面
[0268] 55坐標(biāo)位置
【主權(quán)項】
1. 一種分布解析裝置，對具有滿足拉普拉斯方程式的特性的場的分布進(jìn)行解析，所述 分布解析裝置包括： 獲得部，獲得所述場的測量數(shù)據(jù)，該測量數(shù)據(jù)是經(jīng)由傳感器感受區(qū)域，按所述傳感器感 受區(qū)域的每個轉(zhuǎn)動角度及每個坐標(biāo)位置獨立地測量的數(shù)據(jù)，所述傳感器感受區(qū)域是以與所 述場被測量的測量面垂直的軸為中心，相對地轉(zhuǎn)動的有界的區(qū)域、并且是以該區(qū)域轉(zhuǎn)動的 狀態(tài)下該區(qū)域的規(guī)定的位置與所述測量面的格子狀的多個坐標(biāo)位置的每一個一致的方式， 相對地移動的區(qū)域、并且是該區(qū)域中所述場被合計之后被感受的區(qū)域；以及 計算部，利用運算式，根據(jù)所述場的測量數(shù)據(jù)，計算所述場的分布，所述運算式是以表 示所述場的分布的對象調(diào)和函數(shù)和表示所述傳感器感受區(qū)域的截面的形狀的形狀函數(shù)的 合成積，與暫定調(diào)和函數(shù)相等為條件來導(dǎo)出所述對象調(diào)和函數(shù)而得到的，所述傳感器感受 區(qū)域的截面是相對于與所述測量面平行的平面的、有界的所述傳感器感受區(qū)域的截面，所 述暫定調(diào)和函數(shù)是利用與所述測量面垂直的方向上的所述傳感器感受區(qū)域的大小以及所 述場的測量數(shù)據(jù)，來解所述拉普拉斯方程式而導(dǎo)出的。2. 如權(quán)利要求1所述的分布解析裝置， 所述獲得部，獲得作為磁場或電場的所述場的測量數(shù)據(jù)， 所述計算部，根據(jù)所述場的測量數(shù)據(jù)，計算所述場的分布。3. 如權(quán)利要求1或2所述的分布解析裝置， 所述計算部利用包含已被傅里葉變換的所述形狀函數(shù)與已被傅里葉變換的所述暫定 調(diào)和函數(shù)的乘法運算的所述運算式，根據(jù)所述場的測量數(shù)據(jù)，計算所述場的分布。4. 如權(quán)利要求1至3的任一項所述的分布解析裝置， 所述計算部，利用所述運算式，根據(jù)所述場的測量數(shù)據(jù)，計算所述場的分布，所述運算 式包含以轉(zhuǎn)動角度對包含已被傅里葉變換的所述形狀函數(shù)與已被傅里葉變換的所述暫定 調(diào)和函數(shù)的乘法運算的式進(jìn)行積分。5. 如權(quán)利要求1至4的任一項所述的分布解析裝置， 所述計算部，利用所述運算式，根據(jù)所述場的測量數(shù)據(jù)，計算所述場的分布，所述運算 式中包含以下兩個式的除法運算，即以轉(zhuǎn)動角度對包含已被傅里葉變換的所述形狀函數(shù)與 已被傅里葉變換的所述暫定調(diào)和函數(shù)的乘法運算的式進(jìn)行積分而得到的式，除以以轉(zhuǎn)動角 度對包含已被傅里葉變換的所述形狀函數(shù)的絕對值的平方的式進(jìn)行積分而得到的式。6. 如權(quán)利要求1至5的任一項所述的分布解析裝置， 所述獲得部，獲得經(jīng)由所述傳感器感受區(qū)域被測量的所述場的測量數(shù)據(jù)，所述傳感器 感受區(qū)域是，以與所述測量面垂直的軸為中心，隨著所述場的轉(zhuǎn)動而相對轉(zhuǎn)動的區(qū)域、并且 是移動到所述測量面的處于靜止?fàn)顟B(tài)的所述多個坐標(biāo)位置的每一個的區(qū)域。7. 如權(quán)利要求6所述的分布解析裝置， 所述計算部，在（x，y，z)表示轉(zhuǎn)動的轉(zhuǎn)動坐標(biāo)系，（X，Y，Z)表示不轉(zhuǎn)動的靜止坐標(biāo)系， 0表示轉(zhuǎn)動角度，kx表示轉(zhuǎn)動坐標(biāo)系的x方向的波數(shù)，ky表示轉(zhuǎn)動坐標(biāo)系的y方向的波數(shù)， I表示靜止坐標(biāo)系的X方向的波數(shù)，n表示靜止坐標(biāo)系的Y方向的波數(shù)， [數(shù)1] j L-u) 表示已被二維傅里葉變換的所述形狀函數(shù)， [數(shù)2] 表示已被二維傅里葉變換的所述暫定調(diào)和函數(shù)的情況下， 將[數(shù)3]作為所述運算式來利用，根據(jù)所述場的測量數(shù)據(jù)，計算所述場的分布。8. 如權(quán)利要求6或7所述的分布解析裝置， 所述計算部，在（x，y，z)表示轉(zhuǎn)動的轉(zhuǎn)動坐標(biāo)系，（X，Y，Z)表示不轉(zhuǎn)動的靜止坐標(biāo)系， 0表示轉(zhuǎn)動角度，kx表示轉(zhuǎn)動坐標(biāo)系的x方向的波數(shù)，ky表示轉(zhuǎn)動坐標(biāo)系的y方向的波數(shù)， I表示靜止坐標(biāo)系的X方向的波數(shù)，n表示靜止坐標(biāo)系的Y方向的波數(shù)， [數(shù)4] J(^i) 表示已被二維傅里葉變換的所述形狀函數(shù)， [數(shù)5] 表示已被二維傅里葉變換的所述暫定調(diào)和函數(shù)的情況下， 將[數(shù)6] A\. >?- f, 作為用于計算所述場的x方向的成分的所述運算式來利用，根據(jù)所述場的測量數(shù)據(jù)， 計算所述場的分布。9. 如權(quán)利要求6至8的任一項所述的分布解析裝置， 所述計算部，在（x，y，z)表示轉(zhuǎn)動的轉(zhuǎn)動坐標(biāo)系，（X，Y，Z)表示不轉(zhuǎn)動的靜止坐標(biāo)系， 0表示轉(zhuǎn)動角度，kx表示轉(zhuǎn)動坐標(biāo)系的x方向的波數(shù)，ky表示轉(zhuǎn)動坐標(biāo)系的y方向的波數(shù)， I表示靜止坐標(biāo)系的X方向的波數(shù)，n表示靜止坐標(biāo)系的Y方向的波數(shù)， [數(shù)7] m 表示已被二維傅里葉變換的所述形狀函數(shù)， [數(shù)8] 表示已被二維傅里葉變換的所述暫定調(diào)和函數(shù)的情況下， 將[數(shù)9]作為用于計算所述場的y方向的成分的所述運算式來利用，根據(jù)所述場的測量數(shù)據(jù)， 計算所述場的分布。10. 如權(quán)利要求1至9的任一項所述的分布解析裝置， 所述分布解析裝置還具備測量部，該測量部具有所述傳感器感受區(qū)域， 所述測量部，經(jīng)由所述傳感器感受區(qū)域，按所述傳感器感受區(qū)域的每個轉(zhuǎn)動角度及每 個坐標(biāo)位置獨立地測量所述場， 所述獲得部，獲得由所述測量部測量的所述場的測量數(shù)據(jù)。11. 如權(quán)利要求1至10的任一項所述的分布解析裝置， 所述分布解析裝置還具備圖像處理部，該圖像處理部利用所述計算部計算出的所述分 布，生成表示所述分布的圖像。12. 如權(quán)利要求1至11的任一項所述的分布解析裝置， 所述獲得部，獲得經(jīng)由所述傳感器感受區(qū)域被測量的所述場的測量數(shù)據(jù)，所述傳感器 感受區(qū)域是以該傳感器感受區(qū)域轉(zhuǎn)動的狀態(tài)下該傳感器感受區(qū)域的中央的位置與所述多 個坐標(biāo)位置的每一個一致的方式，相對地移動的區(qū)域， 所述計算部，利用所述運算式，根據(jù)所述場的測量數(shù)據(jù)，計算所述場的分布，所述運算 式是通過導(dǎo)出滿足所述對象調(diào)和函數(shù)和將所述傳感器感受區(qū)域的中央的位置作為基點而 決定的所述形狀函數(shù)的合成積，與所述暫定調(diào)和函數(shù)相等的條件的所述對象調(diào)和函數(shù)而得 到的。13. 如權(quán)利要求1至12的任一項所述的分布解析裝置， 所述計算部，利用所述運算式，根據(jù)所述場的測量數(shù)據(jù)，計算所述場的分布，所述運算 式是以所述對象調(diào)和函數(shù)和所述形狀函數(shù)的合成積與所述暫定調(diào)和函數(shù)相等為條件，來導(dǎo) 出所述對象調(diào)和函數(shù)而得到的，所述暫定調(diào)和函數(shù)是將與所述傳感器感受區(qū)域的大小對應(yīng) 的區(qū)間中的所述拉普拉斯方程式的解的積分適合于所述場的測量數(shù)據(jù)，作為邊界條件來解 所述拉普拉斯方程式而得到的，所述傳感器感受區(qū)域的大小是與所述測量面垂直的方向上 的所述傳感器感受區(qū)域的大小。14. 一種分布解析方法，對具有滿足拉普拉斯方程式的特性的場的分布進(jìn)行解析，所述 分布解析方法包括： 獲得步驟，獲得所述場的測量數(shù)據(jù)，該測量數(shù)據(jù)是經(jīng)由傳感器感受區(qū)域，按所述傳感器 感受區(qū)域的每個轉(zhuǎn)動角度及每個坐標(biāo)位置獨立地測量的數(shù)據(jù)，所述傳感器感受區(qū)域是以與 所述場被測量的測量面垂直的軸為中心，相對地轉(zhuǎn)動的有界的區(qū)域、并且是以該區(qū)域轉(zhuǎn)動 的狀態(tài)下該區(qū)域的規(guī)定的位置與所述測量面的格子狀的多個坐標(biāo)位置的每一個一致的方 式，相對地移動的區(qū)域、并且是該區(qū)域中所述場被合計之后被感受的區(qū)域；以及 計算步驟，利用運算式，根據(jù)所述場的測量數(shù)據(jù)，計算所述場的分布，所述運算式是以 表示所述場的分布的對象調(diào)和函數(shù)和表示所述傳感器感受區(qū)域的截面的形狀的形狀函數(shù) 的合成積，與暫定調(diào)和函數(shù)相等為條件來導(dǎo)出所述對象調(diào)和函數(shù)而得到的，所述傳感器感 受區(qū)域的截面是相對于與所述測量面平行的平面的、有界的所述傳感器感受區(qū)域的截面， 所述暫定調(diào)和函數(shù)是利用與所述測量面垂直的方向上的所述傳感器感受區(qū)域的大小以及 所述場的測量數(shù)據(jù)，來解所述拉普拉斯方程式而導(dǎo)出的。
【專利摘要】分布解析裝置(20)具備：獲得部(21)，經(jīng)由傳感器感受區(qū)域，按傳感器感受區(qū)域的每個轉(zhuǎn)動角度及每個坐標(biāo)位置獨立地測量的場的測量數(shù)據(jù)；以及計算部(22)，利用運算式，根據(jù)場的測量數(shù)據(jù)，計算場的分布，所述運算式是以表示場的分布的對象調(diào)和函數(shù)和表示傳感器感受區(qū)域(34)的截面的形狀的形狀函數(shù)的合成積與暫定調(diào)和函數(shù)相等為條件來導(dǎo)出對象調(diào)和函數(shù)而得到的，所述傳感器感受區(qū)域的截面是相對于與測量面平行的平面的、有界的傳感器感受區(qū)域的截面，所述暫定調(diào)和函數(shù)是利用與測量面垂直的方向上的傳感器感受區(qū)域的大小以及場的測量數(shù)據(jù)，來解拉普拉斯方程式而導(dǎo)出的。
【IPC分類】G01R33/10, G01R29/14
【公開號】CN105122076
【申請?zhí)枴緾N201480010105
【發(fā)明人】木村建次郎
【申請人】國立大學(xué)法人神戶大學(xué)
【公開日】2015年12月2日
【申請日】2014年2月13日
【公告號】EP2960668A1, WO2014129151A1