一種用于光學(xué)均勻性測試的柔性支撐裝置的制造方法
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本發(fā)明屬于光學(xué)材料光學(xué)均勻性測試技術(shù)領(lǐng)域，具體涉及一種用于光學(xué)均勻性測試的柔性支撐裝置。
【背景技術(shù)】
[0002]光學(xué)材料的光學(xué)均勻性是指一塊光學(xué)玻璃內(nèi)部折射率的不一致性，常用光學(xué)材料內(nèi)部折射率的最大差值表示，它直接影響透射光學(xué)系統(tǒng)的波面質(zhì)量，改變透射光學(xué)系統(tǒng)波像差。光學(xué)均勻性是光學(xué)材料使用和加工中必不可少的參數(shù)。隨著現(xiàn)代科學(xué)技術(shù)和國防事業(yè)的發(fā)展，一些透射光學(xué)系統(tǒng)對制造它們的光學(xué)玻璃的質(zhì)量要求越來越高。極紫外光刻相關(guān)技術(shù)對透射光學(xué)系統(tǒng)的波面質(zhì)量要求非常高，達(dá)納米量級(jí)，而光學(xué)材料的受力狀態(tài)變化會(huì)影響光學(xué)材料內(nèi)部折射率分布的變化。在投影光刻物鏡中，光學(xué)元件的支撐、固定和裝配大多采用多點(diǎn)粘膠和柔性鉸鏈等結(jié)構(gòu)，以最大限度的減小外部應(yīng)力對光學(xué)元件面形的影響，因此，在對光學(xué)均勻性要求極高的情況下，檢測光學(xué)均勻性時(shí)被測試樣品的支撐方式要盡量與樣品未來應(yīng)用時(shí)的支撐方式一致。
[0003]目前國內(nèi)外普遍使用的光學(xué)均勻性檢測方法為基于高精度干涉儀的干涉測試法。在實(shí)際檢測過程中，大多采用通用夾具裝夾被測試樣品，將引入較大的應(yīng)力而改變光學(xué)材料內(nèi)部折射率分布，未見有專門設(shè)計(jì)的支撐結(jié)構(gòu)用于光學(xué)均勻性測試。

【發(fā)明內(nèi)容】

[0004]本發(fā)明的目的在于提出一種用于光學(xué)均勻性測試的柔性支撐裝置，解決現(xiàn)有技術(shù)存在的通用夾具引入較大應(yīng)力的問題。在檢測光學(xué)材料光學(xué)均勻性時(shí)，使光學(xué)材料受力狀態(tài)與未來工作的受力狀態(tài)一致，提高光學(xué)均勻性測試的準(zhǔn)確性、測試數(shù)據(jù)有效性。
[0005]為實(shí)現(xiàn)上述目的，本發(fā)明的一種用于光學(xué)均勻性測試的柔性支撐裝置包括片體底板、柔性片體、片體頂板和限位塊；
[0006]多個(gè)所述柔性片體一端均勻設(shè)置在圓環(huán)形的片體底板和圓環(huán)形的片體頂板之間，另一端位于片體底板和片體頂板的中空區(qū)域，多個(gè)所述限位塊一端的下表面均勻固定在所述片體頂板上端面上，所述限位塊的另一端的側(cè)壁和被測試樣品外圓柱面接觸。
[0007]多個(gè)所述柔性片體上表面位于同一水平高度。
[0008]所述柔性片體的數(shù)量的取值范圍為:3-16。
[0009 ]所述柔性片體的厚度的取值范圍為:0.1 -0.5mm。
[0010]所述柔性片體的長度的取值范圍為:10-30mm。
[0011 ]所述柔性片體的材料為鋼。
[0012]所述限位塊的數(shù)量為三個(gè)。
[0013]所述限位塊和被測試樣品外圓柱面的接觸面為半圓柱面。
[0014]所述圓環(huán)形的片體底板和圓環(huán)形的片體頂板的中空區(qū)域在用于干涉法測量光學(xué)均勻性時(shí)通光。
[0015]本發(fā)明的有益效果為:本發(fā)明的一種用于光學(xué)均勻性測試的柔性支撐裝置中的多個(gè)柔性片體相互獨(dú)立安置于底板上，多個(gè)柔性片體上表面處于同一水平高度，片體頂板安置于柔性片體上方并將柔性片體壓緊固定。被測試樣品安放在多個(gè)柔性片體上，被測試樣品側(cè)壁和三個(gè)限位塊的側(cè)壁接觸，通過三個(gè)樣品限位塊限制被測試樣品的徑向位移。被測試樣品的受力狀態(tài)與未來實(shí)際應(yīng)用中的多點(diǎn)粘膠支撐方式受力狀態(tài)一致，減小了由于光學(xué)材料受力狀態(tài)不一致導(dǎo)致的光學(xué)均勻性測試誤差，提高了光學(xué)均勻性測試的準(zhǔn)確性、測試數(shù)據(jù)有效性。
【附圖說明】
[0016]圖1為本發(fā)明的一種用于光學(xué)均勻性測試的柔性支撐裝置結(jié)構(gòu)示意圖；
[0017]圖2為本發(fā)明的一種用于光學(xué)均勻性測試的柔性支撐裝置支撐被測試樣品時(shí)狀態(tài)圖；
[0018]其中:1、片體底板，2、柔性片體，3、片體頂板，4、限位塊，5、被測試樣品。
【具體實(shí)施方式】
[0019]下面結(jié)合附圖對本發(fā)明的實(shí)施方式作進(jìn)一步說明。
[0020]參見附圖1和附圖2，本發(fā)明的一種用于光學(xué)均勻性測試的柔性支撐裝置包括片體底板1、柔性片體2、片體頂板3和限位塊4;
[0021]多個(gè)所述柔性片體2—端均勻設(shè)置在圓環(huán)形的片體底板I和圓環(huán)形的片體頂板3之間，另一端位于片體底板I和片體頂板3的中空區(qū)域，多個(gè)所述限位塊4 一端的下表面均勻固定在所述片體頂板3上端面上，所述限位塊4的另一端的側(cè)壁和被測試樣品5外圓柱面接觸。
[0022]多個(gè)所述柔性片體2上表面位于同一水平高度。
[0023]所述柔性片體2的數(shù)量的取值范圍為:3_16。
[0024]所述柔性片體2的厚度的取值范圍為:0.1-0.5mm。
[0025]所述柔性片體2的長度的取值范圍為:10-30mm。
[0026]所述柔性片體2的材料為鋼。
[0027]所述限位塊4的數(shù)量為三個(gè)。
[0028]所述限位塊4和被測試樣品5外圓柱面的接觸面為半圓柱面，使限位塊4和被測試樣品5的接觸為線接觸，避免引入干擾應(yīng)力。
[0029]所述圓環(huán)形的片體底板I和圓環(huán)形的片體頂板3的中空區(qū)域在用于干涉法測量光學(xué)均勻性時(shí)通光。
[0030]所述柔性片體的數(shù)量、厚度、長度和材料的選用將根據(jù)設(shè)計(jì)輸入?yún)?shù)進(jìn)行計(jì)算機(jī)仿真優(yōu)化設(shè)計(jì)和加工。片體數(shù)量與未來被測試樣品的粘接膠點(diǎn)數(shù)一致。片體數(shù)量、被測試樣品的質(zhì)量、被測試樣品外圓直徑作為設(shè)計(jì)輸入?yún)?shù)。片體材料一般選用鋼材料。片體厚度、片體長度為計(jì)算機(jī)仿真待優(yōu)化的參數(shù)，在設(shè)計(jì)過程中需綜合考慮兩者相互影響，使片體對被測試樣品應(yīng)力的影響最小。
【主權(quán)項(xiàng)】
1.一種用于光學(xué)均勻性測試的柔性支撐裝置，其特征在于，包括片體底板(I)、柔性片體(2)、片體頂板(3)和限位塊(4); 多個(gè)所述柔性片體(2)—端均勻設(shè)置在圓環(huán)形的片體底板(I)和圓環(huán)形的片體頂板(3)之間，另一端位于片體底板(I)和片體頂板(3)的中空區(qū)域，多個(gè)所述限位塊(4) 一端的下表面均勻固定在所述片體頂板(3)上端面上，所述限位塊(4)的另一端的側(cè)壁和被測試樣品(5)外圓柱面接觸。2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種用于光學(xué)均勻性測試的柔性支撐裝置，其特征在于，多個(gè)所述柔性片體(2)上表面位于同一水平高度。3.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的一種用于光學(xué)均勻性測試的柔性支撐裝置，其特征在于，所述柔性片體(2)的數(shù)量的取值范圍為:3-16。4.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的一種用于光學(xué)均勻性測試的柔性支撐裝置，其特征在于，所述柔性片體(2)的厚度的取值范圍為:0.1 -0.5mm。5.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的一種用于光學(xué)均勻性測試的柔性支撐裝置，其特征在于，所述柔性片體(2)的長度的取值范圍為:10-30mm。6.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的一種用于光學(xué)均勻性測試的柔性支撐裝置，其特征在于，所述柔性片體(2)的材料為鋼。7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種用于光學(xué)均勻性測試的柔性支撐裝置，其特征在于，所述限位塊(4)的數(shù)量為三個(gè)。8.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種用于光學(xué)均勻性測試的柔性支撐裝置，其特征在于，所述限位塊(4)和被測試樣品(5)外圓柱面的接觸面為半圓柱面。9.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種用于光學(xué)均勻性測試的柔性支撐裝置，其特征在于，所述圓環(huán)形的片體底板(I)和圓環(huán)形的片體頂板(3)的中空區(qū)域在用于干涉法測量光學(xué)均勻性時(shí)通光。
【專利摘要】一種用于光學(xué)均勻性測試的柔性支撐裝置屬于光學(xué)材料光學(xué)均勻性測試技術(shù)領(lǐng)域，目的在于解決現(xiàn)有技術(shù)存在的通用夾具引入較大應(yīng)力的問題。本發(fā)明的一種用于光學(xué)均勻性測試的柔性支撐裝置包括片體底板、柔性片體、片體頂板和限位塊；多個(gè)柔性片體一端均勻設(shè)置在圓環(huán)形的片體底板和圓環(huán)形的片體頂板之間，另一端位于片體底板和片體頂板的中空區(qū)域，多個(gè)限位塊一端的下表面均勻固定在片體頂板上端面上，限位塊的另一端的側(cè)壁和被測試樣品外圓柱面接觸。使用本發(fā)明時(shí)，被測試樣品的受力狀態(tài)與未來實(shí)際應(yīng)用中的多點(diǎn)粘膠支撐方式受力狀態(tài)一致，減小了由于光學(xué)材料受力狀態(tài)不一致導(dǎo)致的光學(xué)均勻性測試誤差，提高了光學(xué)均勻性測試的準(zhǔn)確性、測試數(shù)據(jù)有效性。
【IPC分類】G01N21/45, G01N21/01
【公開號(hào)】CN105572043
【申請?zhí)枴緾N201510962286
【發(fā)明人】張文龍, 苗亮, 劉鈺, 王輝, 周烽, 郭本銀, 馬冬梅, 金春水
【申請人】中國科學(xué)院長春光學(xué)精密機(jī)械與物理研究所
【公開日】2016年5月11日
【申請日】2015年12月21日