用于分光光度數(shù)據(jù)的統(tǒng)計測量控制的系統(tǒng)和方法
【專利摘要】一種計算機實現(xiàn)方法。該方法包括使用處理器從其上具有目標涂層的被涂覆的表面獲得光譜反射率數(shù)據(jù)(10)；并且使用處理器確定(18)所述數(shù)據(jù)是否包括任何異常數(shù)據(jù)點(20)。該方法還包括使用處理器移除(22)所述異常數(shù)據(jù)點中的至少一個，以產(chǎn)生最終的光譜反射率數(shù)據(jù)(32)；以及使用處理器，至少部分基于所述最終的光譜反射率數(shù)據(jù)，計算(34)所述目標涂層的特性。
【專利說明】
用于分光光度數(shù)據(jù)的統(tǒng)計測量控制的系統(tǒng)和方法
技術領域
[0001] 在各個實施例中，本發(fā)明一般涉及一種方法和裝置，用于推導出通過對被固化的 復合涂層（例如涂料）混合物涂覆的表面進行分光光度測量獲得的準確數(shù)據(jù)。
【背景技術】
[0002] 因為顏色的固有變化橫跨被涂覆的表表（這可能是由于，例如低劣的涂層應用， 不穩(wěn)定的涂料化學成分，特殊顏料諸如云母和Xirallic的自然波動），經(jīng)常使用統(tǒng)計測量 控制（"SMC"）移除由這樣的變化導致的錯誤的或者不準確的數(shù)據(jù)。另外，SMC通常被用來 改善測量不正確的區(qū)域或者不能代表被測量的被涂覆的表面的其余部分的區(qū)域的效果。這 樣的相關區(qū)域包括，例如表面上的劃痕、灰塵、指紋、涂層瑕疵或者分光光度計的光圈不能 保持完全處于涂層上的區(qū)域。
[0003] 通常，在剛性需求下，SMC已使用比色數(shù)據(jù)（例如，作為L *、a *和b * )在角度 基礎上使用置信區(qū)間來完成。然而，這樣的方法在移除從分光光度測量獲得的錯誤的或者 不準確的數(shù)據(jù)上并不總是準確的。因此，需要一種系統(tǒng)和方法，使用光譜反射率數(shù)據(jù)，而不 是比色推導，并且允許更靈活的公差。

【發(fā)明內(nèi)容】

[0004] 在第一方面，本發(fā)明的實施例提供了一種計算機實現(xiàn)方法。該方法包括使用處理 器從其上具有目標涂層的被涂覆的表面獲得光譜反射率數(shù)據(jù)；并且使用處理器確定該數(shù)據(jù) 是否包括任何異常數(shù)據(jù)點。該方法還包括使用處理器移除異常數(shù)據(jù)點中的至少一個，以產(chǎn) 生最終的光譜反射率數(shù)據(jù)；并且使用處理器，至少部分基于最終的光譜反射率數(shù)據(jù)計算目 標涂層的特性。在另一方面，本發(fā)明的實施例提供了一種系統(tǒng)。該系統(tǒng)包括用戶界面；以 及與用戶界面通信的處理器。該處理器被編程以從其上具有目標涂層的被涂覆的表面獲得 光譜反射率數(shù)據(jù)；確定數(shù)據(jù)中是否包含任何異常數(shù)據(jù)點；移除異常數(shù)據(jù)點中的至少一個以 產(chǎn)生最終的光譜反射率數(shù)據(jù)；并且至少部分基于最終的光譜反射率數(shù)據(jù)計算目標涂層的特 性。
[0005] 在另一方面，本發(fā)明的實施例提供了一種裝置，該裝置包括用于從其上具有目標 涂層的被涂覆的表面獲得光譜反射率數(shù)據(jù)的裝置；用于確定數(shù)據(jù)是否包括任何異常數(shù)據(jù)點 的裝置；用于移除異常數(shù)據(jù)點中的至少一個以產(chǎn)生最終的光譜反射率數(shù)據(jù)的裝置；用于至 少部分基于最終的光譜反射率數(shù)據(jù)計算目標涂層的特性的裝置。在另一方面，本發(fā)明的實 施例提供了一種非瞬態(tài)計算機可讀介質(zhì)，其包括軟件，該軟件用于使處理器：
[0006] 從其上具有目標涂層的被涂覆的表面獲得光譜反射率數(shù)據(jù)；
[0007] 確定該數(shù)據(jù)是否包括任何異常數(shù)據(jù)點；
[0008] 移除異常數(shù)據(jù)點中的至少一個以產(chǎn)生最終的光譜反射率數(shù)據(jù)；
[0009] 至少部分基于最終的光譜反射率數(shù)據(jù)計算目標涂層的特性。
【附圖說明】
[0010] 圖1例示了用于推導出通過對被固化的復合涂層（例如，涂料）混合物涂覆的表 面進行分光光度測量獲得的數(shù)據(jù)的過程的實施例的流程圖。
[0011] 圖2例示了系統(tǒng)的實施例，其可以被用于產(chǎn)生通過對被固化的復合涂層（例如，涂 料）混合物涂覆的表面進行分光光度測量獲得的數(shù)據(jù)。
【具體實施方式】
[0012] 在各種方面，本發(fā)明的實施例包括分光光度計，以及可用于從對被涂覆的表面進 行分光光度測量獲得的數(shù)據(jù)中產(chǎn)生準確數(shù)據(jù)的方法。本發(fā)明的各種實施例包括裝置，其具 有用于捕獲目標樣本的分光光度數(shù)據(jù)的設備，以及用于從分光光度數(shù)據(jù)推導出準確數(shù)據(jù)的 處理器，所述準確數(shù)據(jù)可用于產(chǎn)生具有與目標樣本特性相似的涂層。輸出設備可以用于將 該特性傳達給用戶。
[0013] 雖然此處的描述的一般指的是涂料，應當理解的是，所述設備、系統(tǒng)和方法也應用 于其它類型的涂層，包括染料和工業(yè)涂層。本發(fā)明描述的實施例不應當被認為是限制。和 本發(fā)明一致的方法可以在多個領域?qū)嵺`，諸如服飾和時尚產(chǎn)品的匹配和/或協(xié)調(diào)。
[0014] 本發(fā)明的實施例可以與計算機系統(tǒng)一起使用，或者并入計算機系統(tǒng)中，所述計算 機系統(tǒng)可以是一個獨立的單元或者包括一個或者多個通過網(wǎng)絡（諸如，例如因特網(wǎng)或內(nèi)聯(lián) 網(wǎng)）與中央計算機通信的遠程終端或者設備。同樣地，計算機或者"處理器"以及此處描述 的相關組件可以是下列系統(tǒng)的一部分：本地計算機系統(tǒng)或者遠程計算級或者在線系統(tǒng)或者 它們的組合。此處描述的數(shù)據(jù)庫和軟件可存儲在計算機內(nèi)部存儲器或者非瞬態(tài)計算機可讀 介質(zhì)中。
[0015] 本發(fā)明的實施例針對用于對從分光光度計獲得的數(shù)據(jù)進行統(tǒng)計測量控制（"SMC"） 的多步驟處理。
[0016] 圖1例示了用于推導出通過對被涂覆的表面進行的分光光度測量獲得的數(shù)據(jù)的 過程的實施例的流程圖。該過程開始于步驟10,這時用戶啟動來自光學儀器（諸如，分光光 度計）的光譜反射率數(shù)據(jù)的傳輸（例如，上傳）。在各種實施例中，該數(shù)據(jù)或者在每次單獨 的測量后傳輸，或者在所有的測量都已完成后作為一系列測量結(jié)果傳輸。在各種實施例中， 至少進行三次測量，以確保充足的樣本，并且在各種實施例中，測量結(jié)果的最大數(shù)量是基于 用戶指定的測量結(jié)果的數(shù)量。
[0017] 為了在步驟10獲得準確的測量結(jié)果，可以期望不論在表面的任何測量位置，分光 光度計相對于被涂覆的表面都保持單一的指向。同樣，可以期望在各種實施例中，移動分光 光度計到橫跨目標表面的不同的位置以獲得多個測量結(jié)果，并且可以進一步期望避開目標 表面上的明顯瑕疵，諸如灰塵、劃痕、針孔、氣泡等。
[0018] 在該過程的步驟12,計算在步驟10進行的每次測量的色調(diào)角（hue angle)。這種 計算移除一個或者多個明顯不接近大多數(shù)測量結(jié)果的測量結(jié)果，例如當測量在與目標表面 不同的表面上進行時。在各種實施例中，做出這樣的基本假設：來自步驟10的大多數(shù)的測 量是正確的。如果在步驟10采用多角度分光光度計設備，那么可以使用在"面"角（例如， 在45度角）的色調(diào)角。在步驟14,每一次測量結(jié)果都與中間色調(diào)角進行比較。在步驟16， 如果確定該中間色調(diào)角和單獨的測量的色調(diào)角之間的差值大于一個指定的公差，那么該測 量結(jié)果被標記為排除。在各種實施例中，指定的公差例如為5度，并且在各種實施例中，設 置該公差需要單獨的角度分析。在各種實施例中，如果多個測量結(jié)果超出公差，那么在步驟 16具有最大差值的測量結(jié)果被標記為排除。在各種實施例中，可以按照需要為了大幅變化 的數(shù)據(jù)集重復步驟12、14和16。然而，如果在色調(diào)角分析時已經(jīng)達到測量結(jié)果的最小數(shù)量 (例如，三個測量結(jié)果），并且如在步驟14確定的呈現(xiàn)了大于公差的差值，該測量結(jié)果將使 該過程失效并且按照以下描述的來解決。
[0019] -旦已經(jīng)完成色調(diào)角相對于中間色調(diào)角的所有檢查，并且如步驟14確定的在所 希望的公差水平內(nèi)，則過程前進到步驟18,其中應用統(tǒng)計異常值檢測檢驗。在各種實施例 中，統(tǒng)計異常值檢測檢驗是用于異常值的Grubbs'檢驗。在各種實施例中，做出測量結(jié)果呈 現(xiàn)正態(tài)分布的假設，因為與測量結(jié)果正態(tài)性相偏斜的測量結(jié)果在步驟16中已經(jīng)被去除。在 各種實施例中，Grubbs'檢驗被應用于在每個特定的角度和波長的組合處的光譜反射率數(shù) 據(jù)。在統(tǒng)計方面，Grubbs'檢驗使用從置信水平推導出的顯著性水平，目的在于接受或者拒 絕無效的以及可替換的假定。在各種實施例中，無效的假定是在特定的角度和波長結(jié)合處 的光譜反射率數(shù)據(jù)集不包含任何的異常值。而可替換的假定是在數(shù)據(jù)集中存在至少一個異 常值。為了完成分析，置信水平和顯著性水平是基于處理需要而設置的。"G"值和"臨界" 值（"C"）按照下列等式⑴和⑵計算：
[0022] 其中R是在特定的角度和波長組合處的特定測量結(jié)果的光譜反射率，M是在特定 的角度和波長組合處的來自所有還未被標記為排除的測量結(jié)果的光譜反射率的中間值，S 是在特定的角度和波長組合處的來自所有還未被標記為排除的測量結(jié)果的光譜反射率的 標準方差（基于中間值計算），t是在期望的顯著性水平的兩側(cè)的學生式t值，N是還未被 標記為排除的測量結(jié)果的數(shù)量。當G值大于C值時，無效假設被拒絕，而可替換的假設被接 受。否則，無效假設被接受。在任何無效假設被拒絕的情形下，特定的角度和波長的組合可 在步驟20被標記為潛在的異常值。從而，對每個測量結(jié)果，在步驟20已被標記為潛在異常 值的角度和波長的組合的數(shù)量被計數(shù)。如果該計數(shù)超過一個期望的公差，那么該測量結(jié)果 被標記為排除。例如，在各種實施例中，該公差是全部評估值的10 %，并且在各種實施例中， 設置該公差需要單獨的角度分析。如果多于一個測量結(jié)果超過期望的公差，那么在步驟22， 具有最大的潛在異常值計數(shù)的測量結(jié)果被標記為排除。步驟18、20和22可以按照需要重 復，或者直到已經(jīng)達到了測量結(jié)果的最小數(shù)量（例如三個測量結(jié)果）。如果已經(jīng)達到了測量 結(jié)果的最小數(shù)量，并且統(tǒng)計異常值檢驗表明另一個測量結(jié)果被排除，則過程失效并且按照 以下描述的來解決。
[0023] 一旦還未被標記為排除的測量結(jié)果通過統(tǒng)計異常值檢驗和/或已經(jīng)達到測量結(jié) 果的最小數(shù)量，過程繼續(xù)到步驟24。在步驟24,做出在特定的角度和波長組合處的其余的 光譜反射率相對于公差值的范圍檢查。例如，在各種實施例中，公差是關于給定的潛在反射 率值的范圍的1/100,并且在各種實施例中，設置該公差需更單獨的角度分析。在各種實施 例中，范圍檢查的一個目的是為了補償潛在地過于嚴格的統(tǒng)計異常值檢驗。在這樣的情況 下，光譜反射率的最終的范圍檢查將允許一個測量結(jié)果通過并且完成該過程，即使在達到 測量結(jié)果的最小數(shù)量后，統(tǒng)計異常值檢驗可能已經(jīng)繼續(xù)顯示多個異常值（這可能導致過程 失效，無緣最終的范圍檢查）。同樣，在測量和/或數(shù)據(jù)極端變化的情況下，由于大的標準方 差計算，統(tǒng)計異常值檢驗可能"上當"，接受差的測量結(jié)果。在這種情況下，潛在的問題是使 用錯誤的數(shù)據(jù)創(chuàng)建最終控制的測量結(jié)果。這兩種情形都可以在步驟24使用光譜反射率的 范圍檢查來處理。在各種實施例中，在步驟24對所有在每個特定的角度和波長的組合處還 未被排除的測量結(jié)果的光譜反射率的范圍或者最大值減去最小值進行計算。該范圍然后與 期望的公差比較。如果計算的范圍值超過公差，在范圍計算內(nèi)的最大的單違規(guī)測量結(jié)果被 標記為潛在異常值。在各種實施例中，最大的單違規(guī)測量結(jié)果將是最大值或者最小值。在 步驟24,相對于公差檢查了所有的范圍之后，對每個測量結(jié)果的多少個角度和波長的組合 被標記為潛在異常值進行計數(shù)。如果該計數(shù)超過期望的公差，那么該測量結(jié)果在步驟26被 排除，并且在各種實施例中該過程回到步驟18(如果多于未被排除的測量結(jié)果的最小數(shù)量 保持下去），或者回到步驟24,從而再次執(zhí)行光譜反射率范圍檢查。例如，在各種實施例中， 該公差是全部評估值的10 %，并且在各種實施例中，設置該公差需要單獨的角度分析。如果 達到了測量結(jié)果的最小數(shù)量，但是光譜反射率范圍檢查失敗，那么過程失效，并且可按照以 下描述的來解決。如果已經(jīng)滿足測量結(jié)果的最小數(shù)量并且光譜反射率范圍檢查通過，那么 過程前進到步驟28,在步驟28該過程確定是否需要處理額外的角度數(shù)據(jù)，如果需要處理額 外的角度數(shù)據(jù)，過程返回步驟12。
[0024] 如果在步驟28確定不需要處理額外的角度數(shù)據(jù)，那么在各種實施例中，對在步驟 30評定的每個角度，單獨的角度測量結(jié)果被合并為單一角度測量結(jié)果。在各種實施例中， 通過計算在每個特定的角度和波長的組合處的所有剩余的（即，可接受的）測量結(jié)果的平 均值來合并測量結(jié)果。在步驟32的最終結(jié)果為基本上穩(wěn)定并且可靠的光譜反射率數(shù)據(jù)集， 并且在應對同樣的被涂覆的表面工作時可以用作在步驟34的對各種應用的未來計算中的 基準，其中為所述同樣的被涂覆的表面在步驟10獲得分光光度數(shù)據(jù)。例如，最終結(jié)果可以 被用于被涂覆的表面的特性的確定、比色數(shù)據(jù)（L*，a*，b*，C*，h*)的產(chǎn)生、三刺激 數(shù)據(jù)（X，Y，Z)的產(chǎn)生、吸收和散射數(shù)據(jù)（K，S)的產(chǎn)生、不透明度計算、傳播計算、圖像繪制、 數(shù)字芯片組織/排序、印刷顏色工具組織/排序、黑度計算、顏料強度計算、數(shù)據(jù)庫搜索、進 入到數(shù)據(jù)庫中的輸入數(shù)據(jù)的質(zhì)量控制、儀器輸出的質(zhì)量控制、印刷顏色工具的質(zhì)量控制、多 儀器的校準、顏色配方、顏色匹配質(zhì)量指示器、顏色調(diào)整、光譜反射率曲線比較、多樣的預測 /選擇以及任何其它適當?shù)膽谩?br>[0025] 圖1中例示了在一組測量結(jié)果集使過程失效的情況下，在各種實施例中該失效可 以通過三種方式來處理。首先，可以使用分光光度計進行額外的測量，并且然后將測量結(jié)果 加入到已經(jīng)存在的測量結(jié)果數(shù)據(jù)集中。過程將然后在步驟12用擴充的數(shù)據(jù)集開始。第二， 目前的數(shù)據(jù)集可以被舍棄，而過程可以在步驟12用新的數(shù)據(jù)集重新開始。第三，圖1的過 程可以連同對目標表面中的變化可能將嗓聲引入光譜反射率數(shù)據(jù)或者隨后的比色推導中 這一理解一起被完全跳過。
[0026] 下面提供的是此處描述的過程的實施例的示例，其中在單一角度使用了六次分光 光度測量。表1例示了起始數(shù)據(jù)。
[0027] 表1 :起始數(shù)據(jù)

[0029] 色調(diào)角分析（步驟12)將測量結(jié)果4標記為排除。色調(diào)角分析再循環(huán)第二次并且 將測量結(jié)果1標記為排除。色調(diào)角分析再循環(huán)第三次，而所有剩余的測量結(jié)果入公差范圍 內(nèi)。
[0030] 異常值測量（在這種情況下為用于異常值的Grubb'S檢驗）緊跟其后（步驟18)。 Grubb's檢驗標記出測量3被排除。當Grubb's檢驗再循環(huán)，滿足三個測量結(jié)果的最小值， 從而不再進行分析。
[0031] 因為已經(jīng)達到測量結(jié)果的最小數(shù)量，對還未被標記為排除的測量結(jié)果開始范圍檢 查步驟（步驟24)。所述范圍檢查接受最終的三個測量結(jié)果。
[0032] 未被排除的測量結(jié)果最終被平均為有效輸出，如表2所示。
[0033] 表 2
[0034]

[0035] 圖2例示了可用于識別目標樣本的涂層混合物的物理性質(zhì)屬性的系統(tǒng)90的實施 例。用戶92可利用用戶界面94(諸如圖形用戶界面）來操作分光光度計96以測量目標樣 本98的性質(zhì)。來自分光光度計96的數(shù)據(jù)可以被傳輸?shù)接嬎銠C100,諸如個人計算機、移動 設備或者任何類型的處理器。計算機100可以通過網(wǎng)絡102與服務器104通信。網(wǎng)絡102 可以是任何類型的網(wǎng)絡，諸如因特網(wǎng)、局域網(wǎng)、內(nèi)聯(lián)網(wǎng)或者無線網(wǎng)絡。服務器104與可存儲 數(shù)據(jù)和信息的數(shù)據(jù)庫106通信，所述數(shù)據(jù)和信息是通過本發(fā)明的實施例的方法使用和產(chǎn)生 的。本發(fā)明的實施例的方法的各種步驟可通過計算機100和/或服務器106來執(zhí)行。
[0036] 在另一方面，本發(fā)明可以作為非瞬態(tài)計算機可讀介質(zhì)來實現(xiàn)，所述非瞬態(tài)計算機 可讀介質(zhì)包含用于使計算機或者計算機系統(tǒng)執(zhí)行上述的方法的軟件。該軟件可以包括用于 使處理器和用戶界面能執(zhí)行此處描述的方法的各種模塊。
[0037] 本領域技術人員容易理解的是，可以對本發(fā)明進行修改而不背離前述描述中公開 的構思。這樣的修改被認為是包括在下列權利要求內(nèi)，除非所述權利要求按照其語言明確 地另有所陳述。因此，此處詳細描述的特別實施例僅是列示性的，并且不限制于本發(fā)明的范 圍，所述本發(fā)明的范圍被給予權利要求以及其任何和全部等同物的最大寬度。
【主權項】
1. 一種計算機實現(xiàn)的方法，包括： 使用處理器，從其上具有目標涂層的被涂覆的表面獲得光譜反射率數(shù)據(jù)； 使用處理器，確定所述數(shù)據(jù)是否包括任何異常數(shù)據(jù)點； 使用處理器，移除所述異常數(shù)據(jù)點中的至少一個，以產(chǎn)生最終的光譜反射率數(shù)據(jù)；以及 使用處理器，至少部分基于所述最終的光譜反射率數(shù)據(jù)，計算所述目標涂層的特性。2. 根據(jù)權利要求1所述的方法，其中確定所述數(shù)據(jù)是否包括任何異常數(shù)據(jù)點包括對所 述數(shù)據(jù)執(zhí)行統(tǒng)計異常值檢驗。3. 根據(jù)權利要求2所述的方法，其中所述統(tǒng)計異常值檢驗是用于異常值的Grubb's檢 驗。4. 根據(jù)權利要求1所述的方法，其中計算所述目標涂層的特性包括下列中的至少一 個：產(chǎn)生比色數(shù)據(jù)（L*，a*，b*，C*，h*)、產(chǎn)生三刺激數(shù)據(jù)（X，Y，Z)、產(chǎn)生吸收和散 射數(shù)據(jù)（K，S)、計算不透明度、計算黑度、計算顏料強度、產(chǎn)生顏色配方、產(chǎn)生顏色匹配質(zhì)量 指示器、產(chǎn)生顏色調(diào)整以及產(chǎn)生光譜反射率曲線比較。5. 根據(jù)權利要求1所述的方法，進一步包括用分光光度計測量所述被涂覆的表面以獲 得所述光譜反射率數(shù)據(jù)。6. 一種系統(tǒng)，包括： 用戶界面；以及 處理器，其與所述用戶界面通信并且被編程為： 從其上具有目標涂層的被涂覆的表面獲得光譜反射率數(shù)據(jù)； 確定所述數(shù)據(jù)是否包括任何異常數(shù)據(jù)點； 移除所述異常數(shù)據(jù)點中的至少一個，以產(chǎn)生最終的光譜反射率數(shù)據(jù)；以及 至少部分基于所述最終的光譜反射率數(shù)據(jù)，計算所述目標涂層的特性。6. 根據(jù)權利要求5所述的系統(tǒng)，進一步包括與所述處理器通信的數(shù)據(jù)庫。7. 根據(jù)權利要求5所述的系統(tǒng)，進一步包括與所述處理器通信的顯示器。8. 根據(jù)權利要求5所述的系統(tǒng)，進一步包括與所述處理器通信的分光光度計。9. 根據(jù)權利要求5所述的系統(tǒng)，其中所述處理器被編程為使用Grubb's異常值檢驗來 確定所述數(shù)據(jù)是否包括任何異常數(shù)據(jù)點。10. -種裝置，包括： 用于從其上具有目標涂層的被涂覆的表面獲得光譜反射率數(shù)據(jù)的裝置； 用于確定所述數(shù)據(jù)是否包括任何異常數(shù)據(jù)點的裝置； 用于移除所述異常數(shù)據(jù)點中的至少一個以產(chǎn)生最終的光譜反射率數(shù)據(jù)的裝置；以及 用于至少部分基于所述最終的光譜反射率數(shù)據(jù)來計算所述目標涂層的特性的裝置。11. 根據(jù)權利要求10所述的裝置，其中用于確定所述數(shù)據(jù)是否包括任何異常數(shù)據(jù)點的 裝置包括用于對異常值執(zhí)行Grubb' S檢驗的裝置。12. -種非瞬態(tài)計算機可讀介質(zhì)，其包括軟件，所述軟件用于使處理器： 從其上具有目標涂層的被涂覆的表面獲得光譜反射率數(shù)據(jù)； 確定所述數(shù)據(jù)是否包括任何異常數(shù)據(jù)點； 移除所述異常數(shù)據(jù)點中的至少一個，以產(chǎn)生最終的光譜反射率數(shù)據(jù)；以及 至少部分基于所述最終的光譜反射率數(shù)據(jù)，計算所述目標涂層的特性。13.根據(jù)權利要求12所述的計算機可讀介質(zhì)，其中所述計算機可讀介質(zhì)包括軟件，所 述軟件用于使所述處理器使用用于異常值的Grubb' s檢驗來移除所述異常數(shù)據(jù)點中的至 少一個，以產(chǎn)生最終的光譜反射率數(shù)據(jù)。
【文檔編號】G01N21/84GK105899940SQ201480004463
【公開日】2016年8月24日
【申請日】2014年1月8日
【發(fā)明人】A·M·諾里斯
【申請人】Ppg工業(yè)俄亥俄公司