用于emv測量測試的測試室的制作方法
【專利摘要】本發(fā)明涉及一種用于EMV測量測試的測試室以及一種用于校驗的方法和一種用于在這樣的測試室中實施EMV測量測試的方法.為了使校驗EMV測量測試室以及在唯一一個測試室中實施不同的EMV測量測試方法變得簡單，提出一種用于EMV測量測試的測試室，該測試室構造用于通過提供具有不同測量軸線的多個測量布置結構實施不同的EMV測量測試方法，在該測試室中同時設置多個天線，每個所述天線分別配設給所述測量測試方法中的至少一種測量測試方法，并且為了提供用于相應測量測試方法的測量布置結構，每個所述天線從靜止位置可運動到配設給該測量布置結構的測量位置中并且返回。
【專利說明】
用于EMV測量測試的測試室
技術領域
[0001]本發(fā)明涉及一種用于EMV測量測試的測試室、一種用于校驗這樣的測試室的方法以及一種在這種測試室中實施EMV測量測試的方法。
【背景技術】
[0002]電氣儀器和電子儀器的電磁兼容性(EMV)經受嚴格的測試要求。在此，在合適的測試室中測試這些儀器的干擾發(fā)射(輻射，Emiss1n)及干擾強度(抗擾性)。用于EMV測量測試的測量方法和極限值以相應的標準進行調節(jié)。這對于本領域技術人員是已知的并且因此在這一點上無需進一步探討。
[0003]在此，這樣的符合標準的EMV測量測試的前提總是在于經校驗的符合標準的測試室。為此，測試室必須滿足隨后詳細解釋的確定的校驗標準。
[0004]為了檢驗在30MHz至IGHz之間頻率范圍內的干擾發(fā)射，在校驗測試室時在測量距離為三米和十米的情況下按照校驗標準CISPR 16-1-4/EN 55016-1-4和ANSI C63.4在具有金屬底部基準、亦即無底部吸收體的測試室中檢驗歸一化測量場衰減(Normalized SiteAttenuat1n,NSA)。
[0005]為了檢驗在IGHz至18GHz之間頻率范圍內的干擾發(fā)射，在校驗測試室時按照校驗標準CISPR 16-1-4/EN 55016-1-4測試SVSWR(場地電壓駐波比，測量場地駐波比)。在此，使用底部吸收體。
[0006]為了檢驗在80MHz至18GHz之間的頻率范圍內的干擾強度，在校驗測試室時根據校驗標準EN 61000-4-3在I至18GHz以及80MHz至IGHz的兩個頻率范圍內測試場均勻性。在此，同樣使用底部吸收體。
[0007]每種用于校驗測試室的校驗測試為了標準一致的實施需要遵守許多框架條件、特別是關于測量布置結構性能(所使用的天線的類型、測量軸線的方位、測量間距、測試體積的大小等)的框架條件以及關于測試室性能(壁吸收體和頂吸收體的性能、底部吸收體的使用等)的框架條件。
[0008]因此，從現有技術中已知的所有解決方案在實施不同的校驗測試和另外不同的EMV測量測試之間規(guī)定在測試室內部的大量改造工作，包括測試設備(天線、底部吸收體或底部吸收體區(qū))的裝配或拆卸在內，因為否則由于測試設備的相互影響不能進行標準一致的測量。
[0009]這些改造是非常耗費的、時間緊張的和成本緊張的。同時，存在損壞靈敏的測試設備的危險。此外，測試設備的裝配和拆卸可能改變測量質量，使得無法總確保測量結果的可靠的再現性。

【發(fā)明內容】

[0010]本發(fā)明的任務在于，使在合適的測試室中的EMV測量測試變得簡單。特別是應使在唯一一個測試室中實施不同的EMV測量測試變得簡單。該任務通過根據權利要求1所述的測試室或通過根據權利要求9所述的方法或通過根據權利要求11所述的方法得以解決。
[0011]因此，根據本發(fā)明的用于EMV測量測試的測試室被構造用于通過提供具有不同測量軸線的多個測量布置結構實施不同的EMV測量測試方法。在該測試室中同時設置多個天線，其中，每個所述天線被分別配設給所述測量測試方法中的至少一種測量測試方法。為了提供用于相應測量測試方法的測量布置結構，每個所述天線從靜止位置可移動到配設給該測量布置結構的測量位置中并且返回。
[0012]根據本發(fā)明的用于校驗這樣的測試室的方法的特征在于，在校驗所述測試室期間，為了提供待校驗的測量布置結構，所述天線中的相應一個天線位于配設給該測量布置結構的測量位置中，而相應另外的天線位于不同于其測量位置的其靜止位置中。
[0013]根據本發(fā)明的用于運行這種用于EMV測量測試的測試室的方法的特征在于，在測試室中實施不同的EMV測量測試方法，其方式是，依次提供具有不同測量軸線的多個測量布置結構，其中，在所述測試室中同時布置多個天線，每個所述天線分別配設給所述測量測試方法中的至少一種測量測試方法，并且為了提供用于相應測量測試方法的測量布置結構，所述天線中的相應一個天線從靜止位置運動到配設給該測量布置結構的測量位置中。
[0014]本發(fā)明的有利的實施方式在從屬權利要求中給出。
[0015]下面與測試室相結合地解釋的優(yōu)點和實施方式按意義也適用于本發(fā)明的方法并且反之亦然。
[0016]本發(fā)明所基于的主旨在于，提供具有不同測量軸線的多個測量布置結構，用以在同一個測試室中實施不同的EMV測量測試方法。換言之，在這樣的根據本發(fā)明的“混合”測試室中，可以實現具有彼此不同的測量軸線的多個測量布置結構。優(yōu)選地，具有例如3至10米測量距離的三個測量軸線安裝在唯一一個測試室中。優(yōu)選地，該測試室同時構造為半吸收體室(半電波暗室)。以這種方式，可以在使用唯一一個這樣的測試室的情況下覆蓋干擾強度測量和輻射測量的整個波譜。在不同測量布置結構之間進行變換，其方式是，測試設備的相應部件、特別是天線和可選地底部吸收體從靜止位置運動到需要的測量位置中。如果提及底部吸收體，則它大多是底部吸收體區(qū)。天線和底部吸收體的運動或者手動地或者自動地進行。因此，在全自動化的解決方案中也可以特別簡單地實現一種亦或多種測量測試方法的自動化測試過程。但是，在純手動的實施方案中也使各個測試之間的方法過程變得簡單。
[0017]在真正的EMV測量測試之前，總是發(fā)生對根據本發(fā)明的測試室的校驗。在此，由測試室提供的所有測量布置結構按照遵守已知的校驗標準進行測試，為此，相應待檢驗的天線和底部吸收體位于其測量位置中，而恰好不經受測試的天線和底部吸收體位于其靜止位置中。經校驗的(“經測試的”)測量布置結構構成用于之后的標準一致的EMV測量測試的基礎?？梢栽跍y試室的整體校驗時進行所有測量布置結構的校驗，但也可以以較大時間間隔校驗個別測量布置結構。
[0018]利用本發(fā)明，能實現無需耗費地改造測試場和測試結構的EMV測量測試。整個測試設備可以持久地、亦即也在實施全部測量測試方法期間在接通狀態(tài)下保持在測試室中。不僅省去漫長的改裝時間。因為在測試室內或外對測試設備的裝配或拆卸不再是必需的，所以也省去暫時提供用于恰好不需要的裝備物的外部存放場地的必要性。在一定程度上排除了由于頻繁的操作和運輸對測試設備的損壞。同樣的情況原則上也適用于錯誤操作，因為未改變地占據一次限定的測量位置和靜止位置。為此，也以簡單方式保證:測量測試是可再現的并且測試的質量保持恒定。因此，EMV測量測試相對于傳統(tǒng)技術明顯變得簡單，并且所有需要的測量測試方法能夠更快速地且更有效地實施。
[0019]此外，相比于傳統(tǒng)測量場地，通過本發(fā)明可以實現具有非常緊湊的測試室的節(jié)省場地的解決方案，即使測試室具有不規(guī)則的形狀、特別是不規(guī)則的基本輪廓。利用本發(fā)明，能夠標準一致地在唯一一個測試室中安裝多個測量布置結構和進而多個測量軸線，即使涉及不規(guī)則的非對稱的室。換言之，天線和底部吸收體或底部吸收體區(qū)在測試室中的布置結構和進而不同測量布置結構的安放可以根據測試室的形狀來實施。換言之，本發(fā)明則不僅容許使用非對稱的測試室，而且同時允許多個測量布置結構設置在一個測試室中，由此，相對于傳統(tǒng)解決方案使EMV測量測試的實施明顯變得簡單，但也使測試室的事先校驗明顯變得簡單。
[0020]在實行本發(fā)明時，因為相對于傳統(tǒng)解決方案自由地選擇測試室的幾何形狀，所以也可以設置附加的屏蔽室例如控制室或放大器室，而因此不需要比在傳統(tǒng)測試室?guī)缀涡螤钪写蟮慕ㄖ?。此外，借助本發(fā)明可以以簡單的方式對變化的空間條件作出反應，例如如果測試室應擴大或縮小的話。通過測量布置結構特定地可能地匹配于新給定條件，多個測量軸線在一個測試室中的構思也可以在大小和形狀方面改變時實現。
[0021]根據本發(fā)明，例如也可以稱為吸收體室或吸收體廳的測試室構造為所謂的半吸收體室(半電波暗室)。相反于所有的壁面、底面和頂面都設有吸收體的全吸收體室(全電波暗室)，半吸收體室的底部設計有全反射金屬板(接地面)。
[0022]根據本發(fā)明的測試室構造用于實施不同的EMV測量測試方法。這通過相繼地提供具有不同測量軸線的多個測量布置結構來實現。因此，在同一個測試室中可以標準一致地相互交替地實現兩個或更多個、但特別是三個不同的測量布置結構。在此，特別是涉及用于輻射和抗擾性的測量布置結構。在此，每個所述測量布置結構具有總是不同于其他測量布置結構的測量軸線的自身的測量軸線。換言之，在測試室中存在三個測量軸線，它們如下面還更準確地解釋那樣以特別的方式相對于彼此地設置。
[0023]在測試室的內部中持久地設置多個符合相應測試標準的彼此不同的天線。這意味著:這些天線在實施不同的測量測試方法期間保持在測試室中。在不同的測試之間不進行天線的裝配或拆卸。優(yōu)選地，在測試室中安裝三個不同的天線。在此，天線可以根據測量測試方法也理解為多個天線的特別是形式為天線對的組合。根據測量測試方法也可以涉及發(fā)送和/或接收天線。
[0024]為了實現對于相應的測量測試方法需要的測量布置結構，每個所述天線能從天線不被使用的限定的靜止位置(停止位置)運動到至少一個限定的配設給相應的測量布置結構的測量位置中并且返回。
[0025]所述天線在其靜止位置和測量位置之間能根據測試室的實施方案手動地、半自動地或全自動地運動。在此，天線的運動符合標準地、特別是水平地進行。天線的運動優(yōu)選是相應構件沿著導軌或借助于其他合適的引導裝置的移動。但根據實施方案，天線的自由運動也是可能的，而不借助于在測試室內部的用作引導元件的單獨的構件。
[0026]本發(fā)明能實現如上面說明的那樣在盡可能小的空間中持久地統(tǒng)一地安裝用于三種EMV測量測試方法的測量設備，此時具有盡可能小的相互影響、干擾和電激勵。為了做到這一點，完成運行的測量測試方法剛好所不需要的所有天線位于其在測試室內部的靜止位置中，在測試室中，所述天線不僅位于盡可能遠離測試體積、特別是試件，而且位于盡可能遠離剛好激活的天線。在此，不僅天線的測量位置和在測試室中的測試體積的位置、而且所有其他部件的靜止位置的方位在考慮遵守所有相應的測試標準的情況下如此選擇，使得這些物體之間的距離和角度是最大的。換言之，特別是天線但還有測試設備的所有其他部件根據預給定的或可供使用的空間給定條件和空間的由此得出的特性、特別是空間大小和空間形狀如此定位和定向，使得相互的影響在實施不同的測量測試方法期間相應是最小的。在此，特別是所述空間的幾何形狀確定測量軸線的最佳方位和進而包括天線和底部吸收體的確定的測量位置和靜止位置的測試室的限定布局。由此，也得到測量軸線在測試室的空間體積內部的方位。
[0027]為了實施用于輻射和抗擾性的上述測量測試方法，提供具有三個不同測量軸線的三個測量布置結構，其中，在天線和測試體積的中點之間延伸的測量軸線在此還通過天線相對于試件的定向、天線與試件的距離和天線在測試室的內部中的方位來限定。由此，產生具有一個較長的測量軸線和兩個較短的測量軸線的測量軸線的星形的、標準一致的測試間距的長度的、特別是Y形的布置結構，其中，所述測量軸線在測試體積的中心相交。換言之，所述天線不指向彼此。以可供使用的足夠大的室為前提，這三個測量軸線相互位于盡可能遠的角度間距中，其中，未激活的天線的靜止位置位于同時與激活的天線的測量位置和測試體積的中心盡可能遠的距離中，分別遵守相應的標準。根據測試室的空間大小和形狀也可以規(guī)定在測量軸線之間的偏離最大間距的角度間距或者說偏離最大距離的距離，只要最終產生符合標準的測量環(huán)境。對于EMV測量測試重要的測試標準具體為用于輻射測試的標準CISPR 16-2-3/EN 55016_2_3、CISPR 22/EN 55022、CISPR II/EN 55011、CISPR 14-1/EN55014-1和CISPR 32/EN 55032以及用于抗干擾性測試的標準IEC/EN 61000-4-3。
[0028]本發(fā)明不局限于提供三個測量布置結構。同樣地，可以提供特別是具有多于一個測量軸線的另外的多個測量布置結構。在此，測量軸線的布置結構也不必強制性地是Y形的。根據需要的測量軸線的數量，其他的星形布置也可能是有利的，例如測量軸線的X形布置結構。當測試室的大小足夠大時，也可以在測試室的內部中安裝多組測量布置結構，如果能夠排除各組測量布置結構的相互影響的話。因此，例如可以在一個測試室中設置具有三個Y形地布置的測量軸線的第一組測量布置結構以及具有三個另外的Y形地布置的測量軸線的第二組測量布置結構。
[0029]如果根據相應的測量測試方法使用底部吸收體或底部吸收體區(qū)，則它們優(yōu)選與天線一樣運動和定位。亦即為了提供用于相應測量測試方法的測量布置結構，相應地配設給所述測量測試方法中的一種測量測試方法的符合標準的底部吸收體從在測試室內部的靜止位置運動到其相應的測量位置中。在此期間，不需要的底部吸收體位于其靜止位置中，該靜止位置如此選擇，使得該靜止位置適合作為存放場地，而不對測試室性能產生不利影響。換言之，根據本發(fā)明的測試室允許可變的、單獨地配置用于每個測量軸線的底部吸收體區(qū)。如已經關于天線描述的那樣，底部吸收體的測量位置和靜止位置如此選擇，使得對測試設備的其他部件的影響是最小的，但無論如何滿足相應的標準。
[0030]此外，根據本發(fā)明的測試室的特征優(yōu)選在于，天線或底部吸收體區(qū)在測試室中的運動沿著限定的軌跡進行，特別是沿著測量軸線進行。更特別是有利的是，這些運動僅沿著規(guī)定軌跡、特別是僅沿著測量軸線進行。換言之，每個所述天線和/或每個所述底部吸收體優(yōu)選能沿著相應測量測試方法的測量布置結構的同一測量軸線在測試室內部從其靜止位置運動到其測量位置中并且返回。換言之，測量軸線的走向限定用于天線和底部吸收體的運動軸線。換句話說，測量軸線的走向跟隨天線或底部吸收體區(qū)的運動軸線。關于天線，“沿著測量軸線”(軸向地)意味著:天線的運動沿測量軸線進行。反之，關于待設置在測試室底部上的底部吸收體，這意味著:底部吸收體平行于測量軸線運動。特別是因為底部吸收體和天線以這種方式可重復地準確地安放，所以產生測量測試的高度可再現性。同時，這使天線按測量軸線的運動變得簡單，以便在試件不同大小的情況下建立需要的測量距離。
[0031]在上下文中，天線或底部吸收體“沿著測量軸線”的運動可理解為:雖然運動方向相應于測量軸線方向，但運動的有效范圍在此未通過測量軸線的長度來限定。換言之，天線或底部吸收體的運動也可以超過上述固定點(天線的測量位置、測試體積的中心)地在測量軸線的延長部中進行，特別是當所述部件運動到其靜止位置中時。
[0032]本發(fā)明的一個實施方式是特別是有利的，其中，相對應地配設給所述測量測試方法中的一種測量測試方法的天線和底部吸收體能相互獨立地、但在此沿同一方向、亦即優(yōu)選沿著給其相應配設的測量軸線從其靜止位置運動到其測量位置中并且返回。天線和底部吸收體相互獨立的這樣的運動以簡單方式允許在測試體積或試件和由此需要的測量距離不同的情況下也符合標準地實施測量測試方法。但是，天線和底部吸收體相互獨立進行的運動也可以沿不同方向進行。
[0033]在本發(fā)明的另一個實施方式中可能有利的是，天線和底部吸收體不是能相互獨立地運動，而是取而代之地能一起運動。在這種情況下，天線和吸收體優(yōu)選構成一個結構單元。例如天線與適用于構造相應的測量布置結構的底部吸收體或底部吸收體區(qū)螺紋連接。
[0034]但是，在本發(fā)明的備選實施方式中，天線和/或底部吸收體或底部吸收體區(qū)也能以其他方式運動到其測量位置中，例如與測量軸線錯位地，從側面向內擺動、從上方向下移動或從下方向上移動。因此，特別是也可以進行底部吸收體非軸向地移動到相應的測量位置或靜止位置中，例如由于特定的預給定的測試室?guī)缀涡螤睢?br>[0035]天線和/或底部吸收體或底部吸收體區(qū)在其位置之間的運動例如可以按為此設置的軌道進行。但取代軌道，也可以使用安裝在天線或吸收體上的其他移動器件、例如滾子。在此，移動路程未在本發(fā)明的所有實施方式中預給定。天線和/或吸收體在測試室內部的自由運動也是可能的。
[0036]在本發(fā)明的其他實施方式中，并非所有天線或并非所有底部吸收體或底部吸收體區(qū)持久地設置在測試室中。本發(fā)明的提供具有不同測量軸線的多個測量布置結構用于在同一個測試室中實施不同的EMV測量測試方法的基本構思也能夠在如下系統(tǒng)中實現，其中，天線和/或吸收體不僅可以在測試室的內部運動，而且可以從測試室移出和移入測試室中。換言之，天線或吸收體的靜止位置也可以設置在測試室的外部。但至少所述底部吸收體或底部吸收體區(qū)優(yōu)選持久地位于測試室的內部，以使通常比較重的系統(tǒng)部件要經過的路程減小到最小限度。
【附圖說明】
[0037]下面結合附圖詳細解釋本發(fā)明的實施例。附圖中:
[0038]圖1以俯視圖示出具有三個測量軸線的測試室，
[0039]圖2以俯視圖示出圖1中的構造用于輻射測試的測試室，
[0040]圖3以俯視圖示出圖2中的構造用于在第一頻率范圍內的輻射測試以及抗干擾性測試的測試室，
[0041]圖4以俯視圖示出圖2中的構造用于在第二頻率范圍內的抗干擾性測試的測試室。
【具體實施方式】
[0042]所有附圖未按比例示出本發(fā)明，在此，僅示意性地示出本發(fā)明及其主要組成部分。在此，相同的附圖標記相應于相同功能或相似功能的元件。
[0043]圖1以俯視圖示意性示出根據本發(fā)明的測試室I的一個實施方式。測試室I構造用于實施EMV測量測試。
[0044]在其幾何形狀方面由局部的結構條件預給定的測試室I示例性地具有凸五角形的基本輪廓，該基本輪廓通過如下方式實現:最初矩形的空間的一個角點2向與之相鄰的一個角點3移動，但同時所述空間的連接于該角點2的縱向側4的僅一個區(qū)段斜置，使得產生的空間從第一頂側5出發(fā)首先具有恒定寬度的第一空間區(qū)段6，參見圖1。第二空間區(qū)段7連接于該第一空間區(qū)段6，該第二空間區(qū)段的寬度從第一縱向側4的斜置部開始直至所述空間的對置的第二頂側8地連續(xù)地減小。
[0045]測試室I的壁和頂以已知方式和方法設有適用于電磁波的吸收體9(出于視線的原因僅在圖1中示出)。在測試室I的中央區(qū)域中設置測試體積11、亦即在測量期間設置試件10的區(qū)域。測試體積11還基本位于測試室I的第一空間區(qū)段6中。通常，設置轉盤用于按照標準定位試件。在EMV測量測試中，試件1符合測試標準地定位在測試體積11的中心12。
[0046]在測試室I中實現三個基礎的測量布置結構13、14、15，參見圖2、3和4，各測量布置結構的彼此不同的測量軸線設置成星形的、確切地Y形的并且在測試體積11的中心12中相交。在此，涉及用于測試在第一頻率范圍內的輻射的第一測量軸線16，用于測試在第二頻率范圍內的輻射以及用于測試在第一頻率范圍內的抗干擾性的第二測量軸線17以及用于測試在第二頻率范圍內的抗干擾性的第三測量軸線18。
[0047]為了實現所述測量布置結構，在測試室中設置多個天線31、32、33、34以及底部吸收體區(qū)21、22。如以下還更準確地解釋的那樣，在本發(fā)明的一個優(yōu)選實施方式中僅需要三個天線31、32、34，因為相同的天線32、33可以用于測量相同的頻率范圍。
[0048]在這里示例性論述的測試室I中，第一測量軸線16稍微傾斜地偏離空間的縱向中軸線地大致平分地定位朝第二頂側8那邊漸縮的空間，而第二測量軸線17和第三測量軸線18從測試體積11的中心12出發(fā)向第一空間區(qū)段6的界定第一頂側5的兩個直角角部19、20延伸，參見圖1。
[0049]測量軸線16、17、18的布置結構和進而測量位置和靜止位置的限定這樣進行，使得在遵守用于相應測量測試方法的相關標準的情況下相互影響是最小的并且測試設備的所有部件能夠保持在測試室1的內部中。因此，天線、31、32、33、34和底部吸收體區(qū)21、22的靜止位置在理想情況下分別位于離測試體積11的中心12最遠的測試室I區(qū)域中，在這里亦即位于遠離測試體積11設置的第二頂側8的區(qū)域中或者位于第一空間區(qū)段6的上述兩個角部19、20 中。
[0050]下面舉例描述EMV測量測試的實施。
[0051 ]在圖2中示出用于在30MHz至IGHz的頻率范圍內的輻射測試的測量布置結構13。在測量距離為三米的情況下，對此必需的符合標準的第一天線31位于第一測量軸線16上的離試件10三米遠的第一測量位置24中。為了在十米測量距離中測量，第一天線31位于離試件10十米遠的第二測量位置25中。底部吸收體區(qū)21、22未使用。在輻射測量期間，未激活的天線32、33、34和底部吸收體區(qū)21、22位于其靜止位置42、43、44、53、55中。在輻射測試結束之后，第一天線31沿著第一測量軸線16運動到其靜止位置41中，該靜止位置在第二測量位置25后面位于第一測量軸線16的假想延長部中并且因此盡可能遠離測試體積11的中心12，如在圖3和4中示出的那樣。
[0052]在圖3中示出用于在IGHz至18GHz的頻率范圍內的輻射測試的測量布置結構14。對此必需的符合標準的第二天線32位于其在第二測量軸線17上的測量位置26中。構造用于該測試的第一底部吸收體區(qū)21位于其測量位置51中，此時第一底部吸收體的前邊緣緊靠在試件10上。第二天線32直至試件10的距離為三米。在輻射測試期間，未激活的天線31、33、34和第二底部吸收體區(qū)22位于其靜止位置41、43、44、55中。在測試結束之后，第二天線32沿著第二測量軸線17運動到其靜止位置42中，該靜止位置在其測量位置26后面位于第二測量軸線17的假想延長部中并且因此盡可能遠離測試體積11的中心12，如在圖2和4中示出的那樣。
[0053]第二天線32在其靜止位置42中設置在設有常見吸收體9的且為此設置的附加壁23后面。附加壁23用于遮蓋靜止位置并且具有用于使天線32、33和底部吸收體區(qū)22移入和移出的開口。同樣地，第一底部吸收體21沿著第二測量軸線17運動到其靜止位置53中，該靜止位置在其測量位置51后面位于第二測量軸線17的假想延長部中并且因此盡可能遠離測試體積11的中心12，如在圖2和4中示出的那樣。第一底部吸收體區(qū)21位于其同樣至少部分地在附加壁23后面的靜止位置53中。
[0054 ]在圖3中示出的相同的測量布置結構14用于在I GHz至18GHz的頻率范圍內的抗干擾性測試。要強調的是，在此優(yōu)選使用相同的天線32。但是，也可以使用其他合適的第三天線33。在此，第三天線33的測量位置和靜止位置27、43相應于第二天線32的測量位置和靜止位置26、42。在實現該測量布置結構14時，重新使用第一底部吸收體區(qū)21。該第一底部吸收體區(qū)的測量位置和靜止位置51、53保持不變。
[0055]在圖4中示出用于在80MHz至IGHz的頻率范圍內的抗干擾性測試的測量布置結構
15。對此必需的符合標準的第四天線34位于其在第三測量軸線18上的離試件三米遠的測量位置28中。構造用于在該測量時使用的第二底部吸收體區(qū)22同時位于其測量位置54中，此時該第二底部吸收體區(qū)的前邊緣緊靠在試件10上。在該抗干擾性測試中，未激活的天線31、32、33和第一底部吸收體區(qū)21位于其靜止位置41、42、43、53中。在測量結束之后，第四天線34沿著第三測量軸線18運動到其靜止位置44中，該靜止位置在其測量位置28后面位于第三測量軸線18的假想延長部中并且因此盡可能遠離測試體積11的中心12，如在圖2和3中示出的那樣。同樣地，第二底部吸收體區(qū)22沿著第三測量軸線18運動到其靜止位置55中，該靜止位置在其測量位置54后面位于第三測量軸線18的假想延長部中并且因此盡可能遠離測試體積11的中心12，如在圖2和3中示出的那樣。
[0056]就EMV測量測試的描述而言，雖然在圖2、3和4中示出的測量布置結構13、14、15首先關于在測試室I內部的EMV測量測試進行描述，但該結構基本上相應于在實施相應校驗測量以校驗測試室I時的測量布置結構。同樣的情況適用于天線31、32、33、34和底部吸收體21、22的上述測量位置和靜止位置。因此，第一測量布置結構13可以在實施NSA測試法時使用，第二測量布置結構14可以在實施SVSWR測試法時和在測量在第一頻率范圍內的場均勻性時使用，并且第三測量布置結構15可以在測量在第二頻率范圍內的場均勻性時使用。
[0057]天線31、32、33、34通常是可高度調節(jié)的且并且在一個實施例中能在導軌(未示出)上沿著其測量軸線移動。為了使天線31、32、33、34和底部吸收體21、22運動，可以使用設有相應控制裝置的電動驅動裝置或其他合適的器件。
[0058]在說明書和隨后的權利要求書和附圖中示出的所有特征能夠不僅單獨地、而且在任意的相互組合中對本發(fā)明是重要的。
[0059]附圖標記列表
[0060]I測試室
[0061]2角點
[0062]3角點
[0063]4包括斜置區(qū)段的縱向側
[0064]5第一頂側
[0065]6第一空間區(qū)段
[0066]7第二空間區(qū)段
[0067]8第二頂側
[0068]9吸收體
[0069]10試件
[0070]11測試體積
[0071]12測試體積的中心
[0072]13第一測量布置結構
[0073]14第二測量布置結構
[0074]15第三測量布置結構
[0075]16第一測量軸線
[0076]17第二測量軸線
[0077]18第三測量軸線
[0078]19角部
[0079]20角部
[0080]21第一底部吸收體、第一底部吸收體區(qū)[0081 ] 22 第二底部吸收體、第二底部吸收體區(qū)
[0082]23附加壁
[0083]24第一測量位置(直至IGHz的輻射測量)
[0084]25第二測量位置(直至IGHz的輻射測量)
[0085]26測量位置(高于IGHz的輻射測量)
[0086]27測量位置(高于IGHz的抗擾性測量)
[0087]28測量位置(直至IGHz的抗擾性測量)
[0088]29(未占用)
[0089]30(未占用)
[0090]31第一天線
[0091]32第二天線
[0092]33第三天線
[0093]34第四天線
[0094]41第一天線的靜止位置
[0095]42第二天線的靜止位置
[0096]43第三天線的靜止位置
[0097]44第四天線的靜止位置
[0098]51第一底部吸收體的測量位置
[0099]52(未占用)
[0100]53第一底部吸收體靜止位置
[0101]54第二底部吸收體測量位置
[0102]55第二底部吸收體的靜止位置
【主權項】
1.一種用于EMV測量測試的測試室(I)，該測試室構造用于通過提供具有不同測量軸線(16、17、18)的多個測量布置結構(13、14、15)實施不同的EMV測量測試方法，其中，在該測試室(1)中同時設置多個天線(31、32、33、34)，每個所述天線(31、32、33、34)分別配設給所述測量測試方法中的至少一種測量測試方法，并且為了提供用于相應測量測試方法的測量布置結構(13、14、15)，每個所述天線(31、32、33、34)從靜止位置(41、42、43、44)可運動到配設給該測量布置結構(13、14、15)的測量位置(24、25、26、27、28)中并且返回。2.根據權利要求1所述的測試室(I)，其中，在所述測試室(I)中設置有至少三個不同的天線(31、32、33、34)，所述天線構造用于通過提供至少三個測量布置結構(13、14、15)實施多種不同的EMV測量測試方法。3.根據權利要求1或2所述的測試室(I)，其中，所述天線(31、32、33、34)的測量位置(24、25、26、27、28)和靜止位置(41、42、43、44)在考慮所述測試室(I)內可供使用的空間的性能的情況下選擇成，使得分別在一方面位于其靜止位置(41、42、43、44)中的天線(31、32、33、34)和另一方面位于其測量位置(24、25、26、27、28)中的天線(31、32、33、34)及試件(10)之間存在適用于滿足標準的角度間距和/或間距。4.根據權利要求1至3中任一項所述的測試室(1)，其中，所述天線(31、32、33、34)的測量位置(24、25、26、27、28)選擇成，使得產生的測量布置結構(13、14、15)的測量軸線(16、17、18)相互設置成產生Y形。5.根據權利要求1至4中任一項所述的測試室(I)，所述測試室包括多個設置在所述測試室(I)中的、分別配設給所述測量測試方法中的至少一種測量測試方法的底部吸收體或底部吸收體區(qū)(21、22)，其中，為了提供用于相應測量測試方法的測量布置結構(14、15)，每個所述底部吸收體或每個所述底部吸收體區(qū)(21、22)從靜止位置(53、55)可運動到配設給該測量布置結構(14、15)的測量位置(51、54)中并且返回。6.根據權利要求1至5中任一項所述的測試室(1)，其中，每個所述天線(31、32、33、34)和/或每個所述底部吸收體或每個所述底部吸收體區(qū)(21、22)沿著相應的測量測試方法的測量布置結構(13、14、15)的測量軸線(16、17、18)可運動。7.根據權利要求1至6中任一項所述的測試室(I)，其中，分別配設給所述測量測試方法中的一種測量測試方法的天線(31、32、33、34)和底部吸收體或底部吸收體區(qū)(21、22)能相互獨立地運動。8.用于校驗用于EMV測量測試的測試室(I)的方法，該測試室(I)構造用于通過提供具有不同測量軸線(16、17、18)的多個測量布置結構(13、14、15)實施不同的EMV測量測試方法，其中，在所述測試室(1)中同時設置多個天線(31、32、33、34)，其中，每個所述天線(31、32、33、34)配設給所述測量測試方法中的至少一種測量測試方法，并且在校驗所述測試室(1)期間，為了提供待校驗的測量布置結構(13、14、15)，所述天線(31、32、33、34)中的相應一個天線位于配設給該測量布置結構(13、14、15)的測量位置(24、25、26、27、28)中，而相應另外的天線(31、32、33、34)位于不同于其測量位置的其靜止位置(41、42、43、44)中。9.根據權利要求8所述的方法，其中，在所述測試室(I)中設置多個底部吸收體或底部吸收體區(qū)(21、22)，其中，每個所述底部吸收體或每個底部吸收體區(qū)(21、22)分別配設給所述測量測試方法中的至少一種測量測試方法，并且出于校驗所述測試室(I)的目的，為了提供待校驗的測量布置結構(13、14、15)，所述底部吸收體中的相應一個底部吸收體或所述底部吸收體區(qū)(21、22)中的相應一個底部吸收體區(qū)運動到配設給該測量布置結構(13、14、15)的測量位置(51、54)中。10.根據權利要求8或9所述的方法，其中，在所述測試室(I)中同時設置多個底部吸收體或底部吸收體區(qū)(21、22)，其中，每個所述底部吸收體或每個所述底部吸收體區(qū)(21、22)分別配設給所述測量測試方法中的至少一種測量測試方法，并且在校驗所述測試室(I)期間，為了提供待校驗的測量布置結構(13、14、15)所述底部吸收體中的相應一個底部吸收體或所述底部吸收體區(qū)(21、22)中的相應一個底部吸收體區(qū)位于配設給該測量布置結構(13、14、15)的測量位置(51、54)中，而相應另外的底部吸收體或底部吸收體區(qū)(21、22)位于不同于其測量位置的其靜止位置(53、55)中。11.一種用于運行用于EMV測量測試的測試室(I)的方法，其中，在該測試室(I)中實施不同的EMV測量測試方法，其方式是，依次提供具有不同測量軸線(16、17、18)的多個測量布置結構(13、14、15)，其中，在所述測試室(I)中同時設置多個天線(31、32、33、34)，其中，每個所述天線(31、32、33、34)分別配設給所述測量測試方法中的至少一種測量測試方法，并且為了提供用于相應測量測試方法的測量布置結構(13、14、15)，所述天線(31、32、33、34)中的相應一個天線從靜止位置(41、42、43、44)運動到配設給該測量布置結構(13、14、15)的測量位置(24、25、26、27、28)中。12.根據權利要求11所述的方法，其中，相應地對于提供用于相應測量測試方法的測量布置結構(13、14、15)不需要的天線(31、32、33、34)位于其靜止位置(41、42、43、44)中或運動到其靜止位置(41、42、43、44)中。13.根據權利要求11或12所述的方法，其中，設置多個在所述測試室(I)中設置的、分別配設給所述測量測試方法中的至少一種測量測試方法的底部吸收體或底部吸收體區(qū)(21、22)，為了提供用于相應測量測試方法的測量布置結構(14、15)，所述底部吸收體或所述底部吸收體區(qū)從靜止位置(53、55)運動到配設給該測量布置結構(14、15)的測量位置(51、54)中。14.根據權利要求13所述的方法，其中，相應地對于提供用于相應測量測試方法的測量布置結構(14、15)不需要的底部吸收體或底部吸收體區(qū)(21、22)位于其靜止位置(53、55)中或運動到其靜止位置(53、55)中。
【文檔編號】G01R31/00GK105911393SQ201610308747
【公開日】2016年8月31日
【申請日】2016年2月24日
【發(fā)明人】沃爾夫岡·奧皮茨
【申請人】沃爾夫岡·奧皮茨