一種非線性晶體熱透鏡焦距的測量方法
【專利摘要】本發(fā)明提供了一種測量非線性晶體熱透鏡焦距的方法，此方法包括以下步驟：光學(xué)諧振腔內(nèi)注入少許待測激光，掃描光學(xué)諧振腔腔長，通過透鏡組整形注入光光斑，使其與諧振腔基模模式匹配，并記錄匹配效率；增加注入光功率，鎖定光學(xué)諧振腔，并持續(xù)幾分鐘；解鎖光學(xué)諧振腔，掃描腔長，并記錄注入光與基模的模式匹配效率；對比兩次模式匹配效率，計算非線性晶體的熱透鏡焦距。該方法操作方便、測量精度高，具有很好的實用價值。
【專利說明】
-種非線性晶體熱透鏡焦距的測量方法
技術(shù)領(lǐng)域
[0001] 本發(fā)明設(shè)及一種非線性晶體熱透鏡焦距的測量方法，具體是一種通過測量光學(xué)諧 振腔模式匹配效率的變化，推導(dǎo)非線性晶體熱透鏡焦距大小的方法。
【背景技術(shù)】
[0002] 非線性晶體(如LB0、KTP、BIB0和PPKTP等)是激光技術(shù)領(lǐng)域普遍使用的一種光學(xué)材 料，由于其優(yōu)越的光學(xué)特性被廣泛應(yīng)用于光與物質(zhì)相互作用的研究工作中，例如連續(xù)變量 壓縮態(tài)光場和二次諧波的產(chǎn)生過程等，并且通過壓縮態(tài)光場可進一步制備多組份糾纏態(tài)光 場，進而應(yīng)用于構(gòu)建量子信息網(wǎng)絡(luò)、完成量子密鑰分發(fā)等研究工作。通常，非線性晶體是多 種化合物W-定的配比在高溫環(huán)境下經(jīng)過一定的周期生長而成。然而，在晶體生長的過程 中，各種化合物很難達到理想的化學(xué)配比，并且不可避免地會引入一些雜質(zhì)材料，形成固有 缺陷。運種缺陷對外表現(xiàn)為晶體對注入光的吸收，吸收過程則會導(dǎo)致劇烈的熱效應(yīng)。通常， 晶體表面會采取控溫措施，W散失內(nèi)部吸收產(chǎn)生的大量熱量，運就導(dǎo)致了晶體中由內(nèi)而外 形成一定的溫度梯度，產(chǎn)生熱透鏡效應(yīng)。而晶體的化學(xué)配比偏離理想值越遠，雜質(zhì)越多，貝U 晶體的熱透鏡效應(yīng)越嚴重。熱透鏡效應(yīng)的存在，不僅會改變光學(xué)諧振腔的基模腰斑尺寸、降 低模式匹配效率、縮小諧振腔工作穩(wěn)區(qū)，嚴重時還會導(dǎo)致基模模式發(fā)生崎變，甚至晶體斷 裂。此外，還會降低壓縮光的壓縮度和倍頻過程的轉(zhuǎn)換效率，限制高質(zhì)量非經(jīng)典光場和高效 倍頻光的產(chǎn)生。因此，在實際的應(yīng)用中，我們有必要對晶體的熱透鏡效應(yīng)進行分析。
[0003] 在晶體熱透鏡焦距的測量方面，研究工作者已經(jīng)開展了大量的研究工作，尤其在 激光晶體熱焦距的測量方面，提出多種測量晶體熱焦距的方法。如:利用探針光束直接測量 的法[AP化IED OPTICS，V0^9，P-2548(1970)]，將一束探針光準直注入激光晶體，當(dāng)有累浦 光注入時，晶體即等效為一個薄透鏡，探針光經(jīng)過透鏡被聚焦，直接測量其焦點位置即可獲 得熱透鏡焦距的大小。其中，焦點位置可W采用直接觀察法或光電探測器、光束質(zhì)量分析儀 輔助觀察的辦法進行測量。雖然該方法簡單易行，對所用的非線性晶體熱焦距的測量仍然 適用，但存在W下缺點：（1)光路準直的好壞對測量影響較大，對于二極管累浦的固體激光 器來說，累浦區(qū)域與非累浦區(qū)域溫度分布差異較大，若準直不佳會導(dǎo)致測量誤差加大；（2) 一般探針光與激光腔內(nèi)振蕩光的波長存在一定的偏差，由晶體后端面出射后的光束相位延 遲有差異，從而引入一定的誤差；（3)通過上述觀察辦法，探針光焦點位置的測量存在較大 誤差，從而嚴重影響測量精度；（4)測量并非是在腔內(nèi)諧振條件下完成，無法表征實際情況 下熱焦距的大小。
[0004] 另外一種典型的方法是刀口法測量法[光子學(xué)報，V01-34，P-1769(2005)]:在光學(xué) 諧振腔輸出激光光路中放置一片薄的刀片，在至少=個不同的位置，利用刀片測量光束腰 斑半徑，從而計算出輸出激光束的發(fā)散角，由發(fā)散角即可推導(dǎo)出晶體熱透鏡焦距大小。該方 法雖然可W測量激光實際工作條件下，晶體的熱透鏡焦距，但仍然存在W下缺點：（1)利用 刀片遮擋光斑的方法測量光束橫截面尺寸精度較差，從而對熱透鏡焦距的測量引入較大的 系統(tǒng)誤差；（2)利用功率計或探測器測量未被刀片遮擋部分光束的功率，功率計測量精度直 接影響測量結(jié)果。

【發(fā)明內(nèi)容】

[0005] 本發(fā)明的目的是提供一種簡單、精確、直觀、能反映光學(xué)諧振腔實際工作情況的非 線性晶體熱透鏡焦距的測量方法。
[0006] 本發(fā)明的核屯、思想是把對非線性晶體熱透鏡焦距的測量轉(zhuǎn)化為對光學(xué)諧振腔的 模式匹配效率變化的測量。隨著注入功率的變化，熱透鏡焦距隨之發(fā)生變化，進而改變諧振 腔基模腰斑尺寸，當(dāng)注入光腰斑半徑恒定時，即表現(xiàn)為光學(xué)諧振腔模式匹配效率發(fā)生改變。 首先，讓少許激光注入光學(xué)諧振腔，并采用放置于光路中的一組透鏡整形注入光的腰斑尺 寸，使其與光學(xué)諧振腔基模實現(xiàn)模式匹配，并記錄匹配效率;然后，增加注入光光功率，并鎖 定光學(xué)諧振腔腔長;等待數(shù)分鐘后，解鎖諧振腔，并迅速記錄此時振蕩光的模式匹配效率； 對比兩次模式匹配效率，計算熱透鏡焦距的大小。
[0007] 本發(fā)明提供了一種測量非線性晶體熱透鏡焦距的方法，包括W下步驟：
[0008] 1)、通過內(nèi)插入非線性晶體的光學(xué)諧振腔之前的透鏡組整形注入光學(xué)諧振腔中的 光，使注入光腰斑恰好落在光學(xué)諧振腔基模腰斑處，并且與基模大小相等，位置重合；用= 角波信號通過安裝于光學(xué)諧振腔的輸入鏡上的壓電陶瓷掃描腔長，使注入光與光學(xué)諧振腔 基模實現(xiàn)模式匹配，并記錄模式匹配效率。
[0009] 在光學(xué)諧振腔前插入合適焦距的透鏡組，整形注入光的腰斑尺寸，使其腰斑大小 與光學(xué)諧振腔基模腰斑大小相等，且兩者腰斑完全重合。通過粘貼于輸入鏡上的壓電陶瓷 掃描光學(xué)諧振腔的腔長，由第=探測器觀察光學(xué)諧振腔輸出激光的透射峰曲線。第=探測 器輸出的直流信號與示波器連接，可直接觀察一個自由光譜區(qū)內(nèi)的主模與次模模式透射峰 的比例(模式匹配效率二主模透射峰高度/(主模透射峰高度+次模透射峰高度）），從而得到 光學(xué)諧振腔的模式匹配效率，并記錄。
[0010] 在測量中，熱透鏡焦距與諧振腔的模式匹配效率之間的關(guān)系，可由W下表達式建 立。
[0011] 首先，光學(xué)諧振腔基模腰斑半徑可由W下公式計算：
[001。 諧振腔ABCD傳輸矩陣為：
[0013]
(1)
[0014] 其中，1為諧振腔腔長，fth為熱透鏡焦距大小，P為凹面鏡的曲率半徑。由傳輸矩陣 可得，光學(xué)諧振腔的基模腰斑光斑尺寸為：
[0015]
傷
[0016] 其中，A為注入激光波長。注入光與諧振腔基模的模式匹配效率可定義為：
[0017] 0)
[001引 （4)
[0019] 其中，Oa(Z)和《a,e(Z)分別為注入光和光學(xué)諧振腔基模在腔內(nèi)Z處的光斑半徑， O ao和O ao, e分別為兩者的腰斑半徑，Za為腰斑位置，Zao = JT O W2A，Za。, 6 = 31 O。日,e2 A。
[0020] 2)、提高注入光功率，鎖定光學(xué)諧振腔，等待幾分鐘后，解鎖光學(xué)諧振腔，用S角波 信號掃描腔長，并迅速記錄模式匹配效率。
[0021] 鎖定光學(xué)諧振腔后，腔內(nèi)基頻光和倍頻光功率密度恒定，其中，前者可由第一探測 器測量值推導(dǎo)，后者可由第二探測器測量值推導(dǎo)。在相位匹配的條件下，注入光與非線性晶 體發(fā)生相互作用并產(chǎn)生倍頻光，部分注入光及其倍頻光會被晶體吸收產(chǎn)生熱量，形成熱透 鏡，進而改變諧振腔基模尺寸。因晶體對激光的吸收需要一定的響應(yīng)時間，鎖定幾分鐘后， 吸收恒定，晶體內(nèi)形成穩(wěn)定的熱透鏡。一般吸收積累后需要較長的衰減周期，解鎖瞬間，晶 體內(nèi)溫度梯度會維持一段時間，迅速通過壓電陶瓷掃描腔長，記錄此時的模式匹配效率，即 可代表該注入功率下實際的模式匹配效率。
[0022] 3)、依據(jù)步驟1)、2)所測量的模式匹配效率，計算光學(xué)諧振腔基模的腰斑大小。
[0023] 由公式(3)可知模式匹配效率與注入光和基模模式尺寸有關(guān)，在測量中，注入光腰 斑大小恒定不變，于是由公式(3)、（4)和測量到的模式匹配效率方可計算諧振腔基模腰斑 大小。
[0024] 4)、依據(jù)步驟3)得到的基模腰斑值，計算非線性晶體的熱透鏡焦距大小。
[0025] 由公式（1)和(2)可知，熱透鏡焦距與光學(xué)諧振腔基模腰斑半徑相關(guān)，并一一對應(yīng)， 根據(jù)步驟3)計算的基模腰斑半徑，由公式(2)即可反推出與基模腰斑相對應(yīng)的熱透鏡焦距 值。
[0026] 目P，熱透鏡焦距的測量過程為:首先，在特定的注入功率下，測量模式匹配效率KOO， 由公式(3)、（4)、注入光腰斑Oao和KOO計算諧振腔基模腰斑大小Oao,6;然后，由公式（1)、（2) 和《 a日,e推導(dǎo)晶體的熱透鏡焦距fth。
[0027] 所述的光學(xué)諧振腔是兩鏡腔、=鏡腔、四鏡腔或六鏡腔等。
[0028] 所述的光學(xué)諧振腔內(nèi)包含光學(xué)非線性晶體。非線性晶體用于注入光及其倍頻光與 晶體的非線性相互作用，形成熱透鏡。
[0029] 所述的非線性晶體可W是101\1^80、8180、^佩〇3、？?^#日??訂口等。
[0030] 所述的非線性晶體放置于光學(xué)諧振腔基模腰斑的位置。
[0031] 所述的注入光是一束激光或多束激光，激光波長間可W滿足倍頻關(guān)系，也可W是 任意關(guān)系。
[0032] 所述的注入光至少有一束在光學(xué)諧振腔內(nèi)振蕩。
[0033] 所述的步驟1)中諧振腔前所用的透鏡組是一個或者多個透鏡的組合。根據(jù)諧振腔 基模腰斑尺寸和注入光束腰斑尺寸選取合適的透鏡組，保證兩者腰斑位置重合且大小相 等。
[0034] 通過該方法的實施，可W把熱透鏡焦距的測量轉(zhuǎn)化為對光學(xué)諧振腔模式匹配效率 的測量。該方法具有靈敏、簡便和精確等優(yōu)點，對分析晶體的熱效應(yīng)具有重要意義。
[0035] 本發(fā)明所述的利用光學(xué)諧振腔測量非線性晶體熱透鏡焦距的方法與傳統(tǒng)的方法 相比具有W下優(yōu)點：
[0036] (1)能夠測量晶體在實際工作狀態(tài)下的熱透鏡焦距大小，與其它方法相比，測量 時，晶體可W控溫于相位匹配的溫度點。
[0037] (2)可測單一波長注入時的熱透鏡焦距大小，也可測有倍頻光存在時的情況。
[0038] (3)與其它方法相比，測量時，無需移動鏡片測量距離，僅僅觀察模式匹配
[0039] 效率即可，從而提高了測量精度，降低了測量誤差。
[0040] (4)熱透鏡測量時，模式匹配效率的測量不受初始模式匹配效率的影響，更便于實 施。
[0041] 本發(fā)明提出一種非線性晶體熱透鏡焦距的測量方法，可W在光學(xué)諧振腔實際工作 的條件下，通過對注入光與諧振腔的基模模式匹配效率變化的測量，計算非線性晶體熱透 鏡焦距的大小。具有簡單、精確、直觀、能反映光學(xué)諧振腔實際工作狀況等優(yōu)點，并有著重要 的應(yīng)用價值。
【附圖說明】
[0042] 圖1是晶體處于相位匹配情況下，熱透鏡焦距測量裝置；
[0043] 圖中：1-基頻光，2-倍頻光，3-50/50分束鏡，4-透鏡組，5-第一探測器，6-光學(xué)諧振 腔，7-雙色分束鏡，8-第二探測器，9-第S探測器，63-第S腔鏡，64-第四腔鏡，65-非線性晶 體，66-壓電陶瓷；
[0044] 圖2是晶體在非相位匹配情況下，兩束光同時注入時，熱透鏡焦距測量裝置；
[0045] 圖中：1-基頻光，2-倍頻光，3-50/50分束鏡，4-透鏡組，5-第一探測器，6-光學(xué)諧振 腔，7-雙色分束鏡，8-第二探測器，9-第S探測器，63-第S腔鏡，65-非線性晶體，66-壓電陶 瓷；
[0046] 圖3是晶體在非相位匹配情況下，一束光注入時，熱透鏡焦距測量裝置；
[0047] 圖中：1-基頻光，3-50/50分束鏡，4-透鏡組，5-第一探測器，6-光學(xué)諧振腔，9-第= 探測器，61-第一腔鏡，62-第二腔鏡，63-第S腔鏡，64-第四腔鏡，65-非線性晶體，66-壓電 陶瓷；
[0048] 圖4a是低功率注入條件下，光學(xué)諧振腔透射峰曲線；
[0049] 圖4b是高功率注入條件下，光學(xué)諧振腔透射峰曲線；
[0050] 圖5a是熱透鏡焦距與模式匹配效率理論計算對應(yīng)關(guān)系圖；
[0051] 圖化是熱透鏡焦距的實驗測量結(jié)果；
[0052] 圖中：點是實驗測量結(jié)果，實線是理論擬合結(jié)果。
【具體實施方式】
[0053] 下面結(jié)合附圖和實施例，對本發(fā)明【具體實施方式】做進一步詳細說明。W下實施例 用于說明本發(fā)明，但不限制本發(fā)明的適用范圍。
[0054] 實施例1.在非線性晶體工作于相位匹配情況下，利用兩個凹面鏡構(gòu)成的光學(xué)諧振 腔測量熱透鏡焦距的實驗裝置，如圖I所示。
[0055] 波長為795皿的基頻光1通過50/50分束鏡3后，反射光經(jīng)過透鏡組4整形后，注入光 學(xué)諧振腔6中。光學(xué)諧振腔6由第S腔鏡63、第四腔鏡64、PPKTP晶體65和壓電陶瓷66組成。其 中，第=腔鏡63和第四腔鏡64曲率半徑均為30mm，前者曲面對795nm基頻光1的透射率為 5%，對397.5nm倍頻光2高反，平面對兩個波長激光雙減反;后者曲面對基頻光1高反，對倍 頻光2高透，平面對兩束光雙減反。經(jīng)第=腔鏡63反射的基頻光1通過50/50分束器后，有一 半進入第一探測器5,用來推導(dǎo)腔內(nèi)基頻光1的循環(huán)功率；諧振腔腰斑處插入尺寸為1*2* IOmm3的PPKTP晶體65，其兩個端面鍛膜均為795nm和397.5nm雙減反。測量時，首先，通過控 溫儀將PPKTP晶體65溫度偏離其位相匹配的溫度點（55°C左右），當(dāng)注入光功率為5mW時，通 過壓電陶瓷66掃描腔長得到一個自由光譜區(qū)內(nèi)的透射峰曲線如圖4a所示，由第S探測器9 測得基頻光1與諧振腔6基模的模式匹配效率為99.2%。然后，將注入光的功率提高至60mW， 并將晶體65的溫度控制在55°C，由光學(xué)諧振腔6輸出的基頻光經(jīng)過雙色鏡7進入第=探測器 9,利用該探測器輸出的交流信號采用PDH穩(wěn)頻的方法鎖定光學(xué)諧振腔6,此時由第二探測器 8探測到的倍頻光2的功率為3.2mW。維持鎖定狀態(tài)10分鐘后，解鎖光學(xué)諧振腔6,掃描其腔 長，并迅速記錄此時的模式匹配效率為98.9%，利用公式2)、3)和4)計算該功率下的熱透鏡 焦距大小為1226mm，模式匹配與熱透鏡焦距對應(yīng)關(guān)系理論計算結(jié)果如圖5a所示。改變注入 光功率，當(dāng)注入光功率分別為85mW、105mW、125mW、145mW和165mW時，重復(fù)鎖定-解鎖-掃描的 步驟，則模式匹配效率逐漸變差。如圖4b所示，注入光功率為165mW時，模式匹配效率的測試 結(jié)果。計算運些功率點對應(yīng)的熱透鏡焦距大小，結(jié)果如表1和圖化所示。
[0056] 表1不同注入功率下，熱透鏡焦距的測量結(jié)果
LUUDOJ 頭她例化非線巧巧悴丄化T非和化化肥情化h，利用平盤巧兀子諧派股，測重 熱透鏡焦距大小的實驗裝置，如圖2所示。
[0059]波長為1064皿的基頻光1和532皿的倍頻光2,通過50/50分束鏡3反射并由透鏡組4 整形后，注入光學(xué)諧振腔6中。光學(xué)諧振腔6由第S腔鏡63、PPKTP晶體65和壓電陶瓷66組成。 其中，第S腔鏡63曲率半徑為50mm，曲面對基頻光1的透射率為8%，對53化mnm倍頻光2高 透，平面對1064皿和532皿雙減反。經(jīng)第S腔鏡63反射的基頻光通過50/50分束器后，有一半 進入第一探測器5,用來推導(dǎo)腔內(nèi)基頻光的循環(huán)功率;腔內(nèi)腰斑處插入尺寸為1*巧IOmm3的 PPKTP晶體65，其中一個端面鍛膜為1064nm和53化m雙減反，另一端面鍛膜為1064nm高反， 53化m高透，作為諧振腔6的一個腔鏡使用。測量時，通過控溫儀將PPKTP晶體溫度偏離其位 相匹配的溫度點（35°C左右）。首先，當(dāng)注入光功率為5mW時，通過壓電陶瓷66掃描光學(xué)諧振 腔6的腔長，由第=探測器9測量基頻光1與諧振腔6基模的模式匹配效率，并記錄此時的模 式匹配效率。然后，提高注入基頻光I的功率，同時注入倍頻光2,并調(diào)節(jié)兩束光完全重合。由 光學(xué)諧振腔6輸出的基頻光經(jīng)過雙色鏡7進入第=探測器9,利用該探測器輸出的交流信號 采用PDH穩(wěn)頻的方法鎖定光學(xué)諧振腔6,并記錄由第二探測器8探測到的倍頻光2經(jīng)過雙色鏡 7反射的功率。維持鎖定狀態(tài)10分鐘后，解鎖光學(xué)諧振腔6,掃描其腔長，并迅速記錄此時的 模式匹配效率，利用公式2)、3)和4)計算該功率下的熱透鏡焦距大小。改變注入光功率，重 復(fù)鎖定-解鎖-掃描的步驟，計算不同注入功率下熱透鏡焦距的大小。
[0060] 實施例3.非線性晶體在非相位匹配的情況下，利用四鏡環(huán)形諧振腔觀察其模式匹 配效率并推算熱透鏡焦距大小的實驗裝置，如圖3所示。
[0061] 注入光是波長為1342皿的基頻光1，該光束通過50/50分束鏡3的反射光經(jīng)過透鏡 組4整形后，注入光學(xué)諧振腔6中。光學(xué)諧振腔6由第一腔鏡61、第二腔鏡62、第=腔鏡63、第 四腔鏡64、PPKTP晶體65和壓電陶瓷66組成。其中，第一腔鏡61和第二腔鏡62為平面鏡，前者 對基頻光1透射率為10%，后者對基頻光1高反，第=腔鏡63和第四腔鏡64曲率半徑為50mm， 其曲面均對基頻光1高反。第一腔鏡63反射的基頻光1直接進入第一探測器5,用來推導(dǎo)腔內(nèi) 基頻光的循環(huán)功率；腔內(nèi)插入尺寸為3*3*18mm3的LBO晶體65,其中兩個端面鍛膜均為 1342nm和671nm雙減反。測量時，通過控溫儀將LBO晶體的溫度偏離其位相匹配的溫度點。首 先，當(dāng)注入光功率為5mW時，通過壓電陶瓷66掃描光學(xué)諧振腔6的腔長，由第=探測器9測量 基頻光1與諧振腔6基模的模式匹配效率并記錄。然后，提高注入基頻光1的功率，并調(diào)節(jié)其 腰斑與諧振腔基模完全重合。由光學(xué)諧振腔6輸出的基頻光直接注入第=探測器9,利用該 探測器輸出的交流信號采用PDH穩(wěn)頻的方法鎖定光學(xué)諧振腔6。維持鎖定狀態(tài)10分鐘后，解 鎖光學(xué)諧振腔6,掃描其腔長，并迅速記錄此時的模式匹配效率，利用公式2)、3)和4)計算該 功率下的熱透鏡焦距大小。改變注入光功率，重復(fù)鎖定-解鎖-掃描的步驟，計算不同注入功 率下熱透鏡焦距的大小。
[0062] 上述實施例只是給出了最簡單的利用兩鏡和四鏡光學(xué)諧振腔模式匹配效率測量 熱透鏡焦距的方法，并沒有描述所有的可能實施方法。實際上，還可W用其它腔形或者有多 束光注入情況下熱透鏡焦距的測量。
[0063] W上所述僅為本發(fā)明的優(yōu)選實施方式，應(yīng)當(dāng)指出，對于本技術(shù)領(lǐng)域的技術(shù)人員來 說，在不脫離本發(fā)明技術(shù)原理的前提下，還可W做出若干改進和替換，運些改進和替換也應(yīng) 視為本發(fā)明的保護范圍。
【主權(quán)項】
1. 一種測量非線性晶體熱透鏡焦距的方法，其特征在于，包括以下步驟： 1) 、通過內(nèi)插入非線性晶體(65)的光學(xué)諧振腔(6)之前的透鏡組(4)整形注入光學(xué)諧振 腔(6)中的光，使注入光腰斑恰好落在光學(xué)諧振腔(6)基模腰斑處，并且與基模大小相等，位 置重合；用三角波信號通過安裝于光學(xué)諧振腔(6)的輸入鏡上的壓電陶瓷(66)掃描腔長，使 注入光與光學(xué)諧振腔(6)基模實現(xiàn)模式匹配，并記錄模式匹配效率； 2) 、提高注入光功率，鎖定光學(xué)諧振腔(6)，等待5~10分鐘后，解鎖光學(xué)諧振腔(6)，用三 角波信號再次掃描腔長，并迅速記錄模式匹配效率； 3) 、依據(jù)步驟1)、2)所測量的模式匹配效率，計算光學(xué)諧振腔(6)基模的腰斑大??； 4) 、依據(jù)步驟3)得到的基模腰斑大小，計算非線性晶體(65)的熱透鏡焦距大小。2. 如權(quán)利要求1所述的一種測量非線性晶體熱透鏡焦距的方法，其特征在于，所述的光 學(xué)諧振腔(6)是兩鏡腔、三鏡腔、四鏡腔或者其它多鏡腔。3. 如權(quán)利要求1或2所述的一種測量非線性晶體熱透鏡焦距的方法，其特征在于，在步 驟1)模式匹配所采用的透鏡組(4)是一個或者多個透鏡的組合。4. 如權(quán)利要求1或2所述的一種測量非線性晶體熱透鏡焦距的方法，其特征在于，所述 的注入光可以是一束激光，也可以是多束激光。5. 如權(quán)利要求4所述的一種測量非線性晶體熱透鏡焦距的方法，其特征在于所述的注 入光至少有一束在光學(xué)諧振腔(6)內(nèi)振蕩。6. 如權(quán)利要求1或2所述的一種測量非線性晶體熱透鏡焦距的方法，其特征在于，所述 的非線性晶體(65)可以工作于位相匹配條件下，也可以工作于非位相匹配條件下。
【文檔編號】G01M11/02GK105954010SQ201610328103
【公開日】2016年9月21日
【申請日】2016年5月17日
【發(fā)明人】王雅君, 鄭耀輝, 彭堃墀
【申請人】山西大學(xué)