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      激光測距設(shè)備及自動清潔設(shè)備的制造方法

      文檔序號:10623970閱讀:497來源:國知局
      激光測距設(shè)備及自動清潔設(shè)備的制造方法
      【專利摘要】本公開是有關(guān)一種激光測距設(shè)備及自動清潔設(shè)備,所述激光測距設(shè)備包括:編碼底盤,旋轉(zhuǎn)盤,所述旋轉(zhuǎn)盤上的第一阻隔圈和/或所述編碼底盤上的第二阻隔圈;所述編碼底盤包括旋轉(zhuǎn)倉、以及設(shè)置于所述旋轉(zhuǎn)倉外圍且間隔設(shè)置的多個測距齒,所述旋轉(zhuǎn)盤裝配于所述編碼底盤內(nèi)且可被驅(qū)動地在所述旋轉(zhuǎn)倉內(nèi)旋轉(zhuǎn);其中,所述第一阻隔圈設(shè)置于所述旋轉(zhuǎn)盤底面邊緣,所述第二阻隔圈設(shè)置于所述測距齒的外圍;在所述旋轉(zhuǎn)盤裝配于所述編碼底盤后,所述第一阻隔圈位于所述測距齒的外圍。本公開的激光測距設(shè)備通過在其結(jié)構(gòu)上設(shè)置多個防水防塵墻,用以阻擋灰塵以及防水進入,起到保護激光測距設(shè)備內(nèi)的元器件的作用,從而可以增強激光測距設(shè)備的使用壽命。
      【專利說明】
      激光測距設(shè)備及自動清潔設(shè)備
      技術(shù)領(lǐng)域
      [0001]本公開涉及激光測距技術(shù)領(lǐng)域,尤其涉及一種防水防塵的激光測距設(shè)備,尤其涉及自動清潔設(shè)備中的激光測距設(shè)備。
      【背景技術(shù)】
      [0002]度量衡的測量及單位為自古以來隨著朝代更迭而不斷變更演進,最后與世界各國統(tǒng)一標準制訂出的公制單位。以往測量距離以尺為工具,但是對于長距離便有測量上的困難,隨著科技發(fā)展開發(fā)出以激光進行距離測量的設(shè)備。
      [0003]目前,對多方向激光測距需求的日益增長,旋轉(zhuǎn)測距的方式已被普遍使用。然而現(xiàn)有技術(shù)中,激光測距設(shè)備通常并未做防水防塵處理,長期以往隨著灰塵的積累會影響測距組件的測距視角,導致測距組件無法測量或者影響測量數(shù)據(jù)的準確性;或者激光測距設(shè)備進水后,水滴到激光測距設(shè)備中電路板上,容易導致電路短路、燒毀電路板等,從而使激光測距設(shè)備無法正常工作。

      【發(fā)明內(nèi)容】

      [0004]有鑒于此,本公開提出一種具有防塵防水設(shè)計的激光測距設(shè)備及自動清潔設(shè)備以解決上述技術(shù)問題。
      [0005]為了達到上述目的,本公開所采用的技術(shù)方案為:
      [0006]根據(jù)本公開實施例的第一方面,提出了一種激光測距設(shè)備,包括:
      [0007]編碼底盤,包括旋轉(zhuǎn)倉、以及設(shè)置于所述旋轉(zhuǎn)倉外圍且間隔設(shè)置的多個測距齒;
      [0008]旋轉(zhuǎn)盤,裝配于所述編碼底盤內(nèi)且可被驅(qū)動地在所述旋轉(zhuǎn)倉內(nèi)旋轉(zhuǎn);
      [0009]所述旋轉(zhuǎn)盤上的第一阻隔圈和/或所述編碼底盤上的第二阻隔圈;
      [0010]其中,所述第一阻隔圈設(shè)置于所述旋轉(zhuǎn)盤底面邊緣,所述第二阻隔圈設(shè)置于所述測距齒的外圍;在所述旋轉(zhuǎn)盤裝配于所述編碼底盤后,所述第一阻隔圈位于所述測距齒的外圍。
      [0011]本公開激光測距設(shè)備的進一步改進在于,所述激光測距設(shè)備包括第一阻隔圈和第二阻隔圈,在所述旋轉(zhuǎn)盤裝配于所述編碼底盤后,所述第二阻隔圈位于所述第一阻隔圈與所述測距齒之間。
      [0012]本公開激光測距設(shè)備的進一步改進在于,所述第一阻隔圈和所述第二阻隔圈在豎直面上的投影具有部分重合。
      [0013]本公開激光測距設(shè)備的進一步改進在于,所述第一阻隔圈與所述編碼底盤之間存在間距,所述第二阻隔圈與所述旋轉(zhuǎn)盤之間存在間距。
      [0014]本公開激光測距設(shè)備的進一步改進在于,所述編碼底盤還包括設(shè)置于其上的至少一個槽孔,所述槽孔在所述測距齒的外緣。
      [0015]本公開激光測距設(shè)備的進一步改進在于,所述編碼底盤還包括設(shè)置于所述編碼底盤底面且對應(yīng)于所述槽孔的第一導水凸起。
      [0016]本公開激光測距設(shè)備的進一步改進在于,所述編碼底盤還包括靠近所述旋轉(zhuǎn)倉的驅(qū)動倉;其中,所述編碼底盤上還包括設(shè)置于所述旋轉(zhuǎn)倉與所述驅(qū)動倉之間的防水防塵墻。
      [0017]本公開激光測距設(shè)備的進一步改進在于,所述編碼底盤還包括臨近所述防水防塵墻設(shè)置的凹槽,所述凹槽和所述旋轉(zhuǎn)倉位于所述防水防塵墻的兩側(cè),所述凹槽的底面設(shè)置有導孔。
      [0018]本公開激光測距設(shè)備的進一步改進在于,所述編碼底盤還包括設(shè)置于所述編碼底盤底面且對應(yīng)于所述導孔的第二導水凸起。
      [0019]本公開激光測距設(shè)備的進一步改進在于,還包括驅(qū)動裝置,所述驅(qū)動裝置設(shè)置于所述編碼底盤的底面,所述驅(qū)動裝置的驅(qū)動軸貫穿所述編碼底盤,所述編碼底盤上還包括設(shè)置于所述驅(qū)動軸周側(cè)的第三阻隔圈。
      [0020]本公開激光測距設(shè)備的進一步改進在于,所述編碼底盤上還包括供與所述驅(qū)動裝置連接的連接部,所述連接部的周側(cè)設(shè)置有防水凸起。
      [0021]本公開激光測距設(shè)備的進一步改進在于,還包括裝配在所述旋轉(zhuǎn)盤上的測距組件,以及裝配在所述編碼底盤上的上蓋體,所述旋轉(zhuǎn)盤和所述測距組件位于所述上蓋體與所述編碼底盤之間。
      [0022]根據(jù)本公開實施例的第二方面,提出一種自動清潔設(shè)備,包括:機器主體,設(shè)置于所述機器主體內(nèi)的、如上述中任一項所述的激光測距設(shè)備。
      [0023]本公開的實施例提供的技術(shù)方案可以包括以下有益效果:本公開的激光測距設(shè)備及自動清潔設(shè)備通過在激光測距設(shè)備上設(shè)置多個防水防塵墻、灰塵積水容納腔、導流凸起,用以阻擋灰塵以及防水進入,起到保護激光測距設(shè)備內(nèi)的元器件的作用,從而可以增強激光測距設(shè)備的使用壽命。
      [0024]應(yīng)當理解的是,以上的一般描述和后文的細節(jié)描述僅是示例性和解釋性的,并不能限制本公開。
      【附圖說明】
      [0025]此處的附圖被并入說明書中并構(gòu)成本說明書的一部分,示出了符合本公開的實施例,并與說明書一起用于解釋本公開的原理。
      [0026]圖1為本公開激光測距設(shè)備的整體結(jié)構(gòu)示意圖;
      [0027]圖2為本公開激光測距設(shè)備的分解結(jié)構(gòu)示意圖;
      [0028]圖3為本公開激光測距設(shè)備中旋轉(zhuǎn)盤的結(jié)構(gòu)示意圖;
      [0029]圖4為本公開激光測距設(shè)備中編碼底盤的立體圖;
      [0030]圖5為本公開激光測距設(shè)備中編碼底盤的俯視圖。
      【具體實施方式】
      [0031]以下將結(jié)合附圖所示的【具體實施方式】對本公開進行詳細描述。但這些實施方式并不限制本公開,本領(lǐng)域的普通技術(shù)人員根據(jù)這些實施方式所做出的結(jié)構(gòu)、方法、或功能上的變換均包含在本公開的保護范圍內(nèi)。
      [0032]在本公開使用的術(shù)語是僅僅出于描述特定實施例的目的,而非旨在限制本公開。在本公開和所附權(quán)利要求書中所使用的單數(shù)形式的“一種”、“所述”和“該”也旨在包括多數(shù)形式,除非上下文清楚地表示其他含義。還應(yīng)當理解,本文中使用的術(shù)語“和/或”是指并包含一個或多個相關(guān)聯(lián)的列出項目的任何或所有可能組合。
      [0033]如圖1和圖2所示,圖1為本公開激光測距設(shè)備的整體結(jié)構(gòu)示意圖;圖2為本公開激光測距設(shè)備的分解結(jié)構(gòu)示意圖。本公開激光測距設(shè)備100包括:編碼底盤11、旋轉(zhuǎn)盤12、測距組件13、以及上蓋體14。其中,該編碼底盤11包括其上的旋轉(zhuǎn)倉111、以及設(shè)置于旋轉(zhuǎn)倉111外圍且間隔設(shè)置的多個測距齒112,該測距齒112結(jié)合測距組件13中的一對光耦元件測量該旋轉(zhuǎn)盤12的轉(zhuǎn)速,旋轉(zhuǎn)的光耦元件若被灰塵遮擋,會導致LDS(半導體激光器)的角速度無法測量,直接影響測量的距離數(shù)據(jù)不準確,自主清潔設(shè)備(也稱為掃地機器人)無法確定障礙物位置,導致無法正常工作。旋轉(zhuǎn)盤12則裝配于編碼底盤11內(nèi),具體地裝配在編碼底盤11的旋轉(zhuǎn)倉111內(nèi),并且可被驅(qū)動地在旋轉(zhuǎn)倉111內(nèi)旋轉(zhuǎn)。測距組件13裝配在該旋轉(zhuǎn)盤12上,并跟隨旋轉(zhuǎn)盤12旋轉(zhuǎn)盤12,該上蓋體14裝配在編碼底盤11上,以使旋轉(zhuǎn)盤12、測距組件13、旋轉(zhuǎn)倉111等位于上蓋體14與編碼底盤11之間,從而可以保護激光測距設(shè)備100內(nèi)的元器件,并且可以起到輔助防塵防水的作用。
      [0034]其中,編碼底盤11和旋轉(zhuǎn)盤12的中心圓孔下方為LDS的無線供電電路板,LDS下方為風機電路板,如果有水滴到電路板上,很有可能直接造成電路板損壞,需要更換電路板。如圖1和圖5所示,在本公開的一較佳實施例中,為了保護LDS中的電路板,該激光測距設(shè)備100包括設(shè)置于旋轉(zhuǎn)盤12上的第一阻隔圈121和/或編碼底盤11上的第二阻隔圈113。具體地,在旋轉(zhuǎn)盤12上具有第一阻隔圈121時,第一阻隔圈121設(shè)置于旋轉(zhuǎn)盤12底面邊緣,在編碼底盤11上具有第二阻隔圈113時,該第二阻隔圈113位于測距齒112的外圍。
      [0035]進一步地,如圖1至圖5所示,該第一阻隔圈121為旋轉(zhuǎn)盤12朝向編碼底盤11 一側(cè)面上的凸起,該第一阻隔圈121可以與旋轉(zhuǎn)盤12—體成型構(gòu)成。其中,在旋轉(zhuǎn)盤12裝配于編碼底盤11后,該第一阻隔圈121位于測距齒112的外圍,該第一阻隔圈121與編碼底盤11之間存在間隙,以使該旋轉(zhuǎn)盤12在轉(zhuǎn)動時不會與編碼底盤11之間產(chǎn)生摩擦。優(yōu)選地,該第一阻隔圈121與編碼底盤11之間的間隙可以盡可能的小,從而可以增大防塵面積。另外,該第一阻隔圈121從旋轉(zhuǎn)盤12延伸向編碼底盤11可以避免水從旋轉(zhuǎn)盤12引流入編碼底盤11內(nèi),由該第一阻隔圈121引流向編碼底盤11的外圍,從而起到防水的作用。
      [0036]該第二阻隔圈113為編碼底盤11朝向旋轉(zhuǎn)盤12—側(cè)面上的凸起,該凸起可以與編碼底盤11 一體成型構(gòu)成。該第二阻隔圈113與旋轉(zhuǎn)盤12之間存在間距,優(yōu)選地,該第二阻隔圈113與旋轉(zhuǎn)盤12之間的間距可以盡可能的小,只需滿足在旋轉(zhuǎn)盤12轉(zhuǎn)動時,該第二阻隔圈113不會與旋轉(zhuǎn)盤12之間產(chǎn)生摩擦。
      [0037]在本公開的一較佳實施例中,同時包括有第一阻隔圈121和第二阻隔圈113,在旋轉(zhuǎn)盤12裝配于編碼底盤11后,第二阻隔圈113位于第一阻隔圈121與測距齒112之間。在本實施例中,第一阻隔圈121和第二阻隔圈113在豎直面上的投影具有部分重合,簡單的說,即該第一阻隔圈121與第二阻隔圈113具有部分重合,以使該第一阻隔圈121與第二阻隔圈113之間的空間形成一個S型空間,如此設(shè)置徹底解決了潑水的問題,且可以增強防塵的效果。具體的,由于第一阻隔圈121與編碼底盤11之間具有間距,因此多多少少會有部分灰塵或者水進入到該編碼底盤11的旋轉(zhuǎn)倉111內(nèi),由此增加了第二阻隔圈113,第二阻隔圈113則可以彌補第一阻隔圈121與編碼底盤11之間的間距這一不足之處。
      [0038]優(yōu)選地,編碼底盤11還包括設(shè)置于其上的至少一個槽孔114,該槽孔114設(shè)置在測距齒112的外側(cè),優(yōu)選地,該槽孔114對應(yīng)在第一阻隔圈121的外緣延伸至編碼底盤11的位置,如此設(shè)置以使該第一阻隔圈121所阻擋的灰塵或者水滑落向該槽孔114,并最終通過該槽孔114從編碼底盤11的底面滑落出去,避免灰塵積余及水的積余。一較佳實施例中,編碼底盤11上設(shè)置多個槽孔114且均勻分布在第一阻隔圈121的外緣延伸至編碼底盤11的位置上。一較佳實施例中,編碼底盤11的背面槽孔114的位置(即編碼底盤11的底面對應(yīng)槽孔114的位置)設(shè)有第一導水凸起(未圖示),該第一引導凸起用于引導水和灰塵向下流出,避免水漫流到其他地方引起電路板漏水。
      [0039]該激光測距設(shè)備100還包括驅(qū)動裝置15,該驅(qū)動裝置15臨近旋轉(zhuǎn)盤12設(shè)置以驅(qū)動該旋轉(zhuǎn)盤12轉(zhuǎn)動。在本公開的一實施例中,該驅(qū)動裝置15為伺服電機,伺服電機裝配在編碼底盤11的底面,該驅(qū)動裝置15的驅(qū)動軸貫穿編碼底盤11。在編碼底盤11的上方,驅(qū)動軸上裝配有傳動輪151,并通過傳送帶裝配在傳動輪151及旋轉(zhuǎn)盤12上,從而驅(qū)動旋轉(zhuǎn)盤12轉(zhuǎn)動。該編碼底盤11還包括靠近旋轉(zhuǎn)倉111的驅(qū)動倉,該傳動輪151位于驅(qū)動倉內(nèi),伺服電機裝配在驅(qū)動倉下方,從而可以合理利用該激光測距設(shè)備100內(nèi)的空間。其中,編碼底盤11上還包括設(shè)置于旋轉(zhuǎn)倉111與驅(qū)動倉之間的防水防塵墻115,該防水防塵墻115將旋轉(zhuǎn)倉111和驅(qū)動倉分隔開,以避免滴入驅(qū)動倉的水流向旋轉(zhuǎn)倉111內(nèi),同時該防水防塵墻115也可以起到防止灰塵從驅(qū)動倉轉(zhuǎn)移向旋轉(zhuǎn)倉111,該防水防塵墻115為由編碼底盤11的表面上向上延伸出的凸起。進一步地,編碼底盤11還包括臨近防水防塵墻115的凹槽116,凹槽116與旋轉(zhuǎn)倉111分別位于防水防塵墻115的兩側(cè),在本公開中,凹槽116為兩個分別位于編碼底盤11中旋轉(zhuǎn)倉111和驅(qū)動倉之間的底盤腰部,凹槽116的底面設(shè)置有導孔1161,該凹槽116用于儲存灰塵,該凹槽116周圍的灰塵都可以被引導入該凹槽116內(nèi),以減少進入到旋轉(zhuǎn)倉111內(nèi),該凹槽116的底面的導孔1161可以使一部分的灰塵從導孔1161內(nèi)排出。另外,該凹槽116同樣可以用于積水防塵及排水,其積水功能主要體現(xiàn)在第一阻隔圈121和防水防塵墻115形成一個積水空間,防塵功能主要體現(xiàn)在第一阻隔圈121的外沿和防水防塵墻115的上沿夾的狹縫將隨風進入的進灰被第一阻隔圈121改變了路徑向下,可以大大較少灰塵的進入。之后再加入第二阻隔圈113將帶灰塵的風又增加了由下向上的路徑,進一步減少灰塵。在其他部件的引導下,滴在激光測距設(shè)備100上的部分水被引導入該凹槽116內(nèi),該凹槽116通過導孔1161使水流出該激光測距設(shè)備100,在水流出的同時還可以帶著灰塵一同流出激光測距設(shè)備100。
      [0040]優(yōu)選地,編碼底盤11還包括設(shè)置于編碼底盤11底面且對應(yīng)于導孔1161的第二導水凸起(未圖示),該導水凸起是為了起到引導排水的作用,避免編碼底盤11上方流下來的水隨編碼底盤11的底面引流到主機內(nèi)的位于LDS下方的電路主板上,造成電路主板損壞,以及避免引流到驅(qū)動裝置15上,造成驅(qū)動裝置15的損壞。該導水凸起由編碼底盤11底面向下延伸所形成,導水凸起與驅(qū)動裝置15之間具有一定的間距,以使從導水凸起流出的水不會滴到驅(qū)動裝置15上。在本實施例中,編碼底盤11上方的水經(jīng)導孔1161流到編碼底盤11的底面,再經(jīng)該導水凸起滴出,從而使滴水不會流到其他位置。
      [0041]進一步地,編碼底盤11上還包括設(shè)置于驅(qū)動軸周側(cè)的第三阻隔圈117,該第三阻隔圈117位于傳動輪的下方,其目的是為了保護驅(qū)動裝置15,為了避免水從編碼底盤11上供貫穿驅(qū)動軸的孔中流下去而滴到驅(qū)動裝置15上,進而造成驅(qū)動裝置15的損壞。另外,編碼底盤11上還包括供與驅(qū)動裝置15連接的連接部118,連接部118的周側(cè)設(shè)置有防水凸起119。例如:在本公開一實施例中,驅(qū)動裝置15通過螺釘固定在編碼底盤11上,該編碼底盤11上對應(yīng)地設(shè)置有螺紋孔,因此在激光測距設(shè)備100內(nèi)進水后,螺紋孔處會有水向下滴,且直接滴在驅(qū)動裝置15上,具有使驅(qū)動裝置15短路的風險,因此在螺紋孔的周側(cè)設(shè)置有防水凸起119,當然,本公開中連接部并不限于僅為螺紋孔,也可以是其他結(jié)構(gòu)的連接部,該防水凸起119的目的即為了使連接部118處不會有水進入。
      [0042]在本公開實施例的又一方面,還提出了一種自動清潔設(shè)備,該自動清潔設(shè)備包括:機器主體,以及上述中的激光測距設(shè)備,該激光測距設(shè)備設(shè)置在機器主體內(nèi),通過該激光測距設(shè)備具有防塵防水的效果以使該自動清潔設(shè)備具有防塵防水的效果。
      [0043]本公開的激光測距設(shè)備及自動清潔設(shè)備通過在激光測距設(shè)備上設(shè)置多個防水防塵墻、灰塵積水容納腔、導流凸起,用以阻擋灰塵以及防水進入,起到保護激光測距設(shè)備內(nèi)的元器件的作用,從而可以增強激光測距設(shè)備的使用壽命,且可以避免因灰塵的積累而造成影響測量數(shù)據(jù)的準確性。
      [0044]本領(lǐng)域技術(shù)人員在考慮說明書及實踐這里公開的公開后,將容易想到本公開的其它實施方案。本申請旨在涵蓋本公開的任何變型、用途或者適應(yīng)性變化,這些變型、用途或者適應(yīng)性變化遵循本公開的一般性原理并包括本公開未公開的本技術(shù)領(lǐng)域中的公知常識或慣用技術(shù)手段。說明書和實施例僅被視為示例性的,本公開的真正范圍和精神由本申請的權(quán)利要求指出。
      [0045]應(yīng)當理解的是,本公開并不局限于上面已經(jīng)描述并在附圖中示出的精確結(jié)構(gòu),并且可以在不脫離其范圍進行各種修改和改變。本公開的范圍僅由所附的權(quán)利要求來限制。
      【主權(quán)項】
      1.一種激光測距設(shè)備,其特征在于,包括: 編碼底盤,包括旋轉(zhuǎn)倉、以及設(shè)置于所述旋轉(zhuǎn)倉外圍且間隔設(shè)置的多個測距齒; 旋轉(zhuǎn)盤,裝配于所述編碼底盤內(nèi)且可被驅(qū)動地在所述旋轉(zhuǎn)倉內(nèi)旋轉(zhuǎn); 所述旋轉(zhuǎn)盤上的第一阻隔圈和/或所述編碼底盤上的第二阻隔圈; 其中,所述第一阻隔圈設(shè)置于所述旋轉(zhuǎn)盤底面邊緣,所述第二阻隔圈設(shè)置于所述測距齒的外圍;在所述旋轉(zhuǎn)盤裝配于所述編碼底盤后,所述第一阻隔圈位于所述測距齒的外圍。2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的激光測距設(shè)備,其特征在于,所述激光測距設(shè)備包括第一阻隔圈和第二阻隔圈,在所述旋轉(zhuǎn)盤裝配于所述編碼底盤后,所述第二阻隔圈位于所述第一阻隔圈與所述測距齒之間。3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的激光測距設(shè)備,其特征在于,所述第一阻隔圈和所述第二阻隔圈在豎直面上的投影具有部分重合。4.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的激光測距設(shè)備,其特征在于,所述第一阻隔圈與所述編碼底盤之間存在間距,所述第二阻隔圈與所述旋轉(zhuǎn)盤之間存在間距。5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的激光測距設(shè)備,其特征在于,所述編碼底盤還包括設(shè)置于其上的至少一個槽孔,所述槽孔在所述測距齒的外側(cè)。6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的激光測距設(shè)備,其特征在于,所述編碼底盤還包括設(shè)置于所述編碼底盤底面且對應(yīng)于所述槽孔的第一導水凸起。7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的激光測距設(shè)備,其特征在于,所述編碼底盤還包括靠近所述旋轉(zhuǎn)倉的驅(qū)動倉;其中,所述編碼底盤上還包括設(shè)置于所述旋轉(zhuǎn)倉與所述驅(qū)動倉之間的防水防塵墻。8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的激光測距設(shè)備,其特征在于,所述編碼底盤還包括臨近所述防水防塵墻設(shè)置的凹槽,所述凹槽和所述旋轉(zhuǎn)倉位于所述防水防塵墻的兩側(cè),所述凹槽的底面設(shè)置有導孔。9.根據(jù)權(quán)利要求8所述的激光測距設(shè)備,其特征在于,所述編碼底盤還包括設(shè)置于所述編碼底盤底面且對應(yīng)于所述導孔的第二導水凸起。10.根據(jù)權(quán)利要求1所述的激光測距設(shè)備,其特征在于,還包括驅(qū)動裝置,所述驅(qū)動裝置設(shè)置于所述編碼底盤的底面,所述驅(qū)動裝置的驅(qū)動軸貫穿所述編碼底盤,所述編碼底盤上還包括設(shè)置于所述驅(qū)動軸周側(cè)的第三阻隔圈。11.根據(jù)權(quán)利要求10所述的激光測距設(shè)備,其特征在于,所述編碼底盤上還包括供與所述驅(qū)動裝置連接的連接部,所述連接部的周側(cè)設(shè)置有防水凸起。12.根據(jù)權(quán)利要求1所述的激光測距設(shè)備,其特征在于,還包括裝配在所述旋轉(zhuǎn)盤上的測距組件,以及裝配在所述編碼底盤上的上蓋體,所述旋轉(zhuǎn)盤和所述測距組件位于所述上蓋體與所述編碼底盤之間。13.—種自動清潔設(shè)備,其特征在于,包括:機器主體,設(shè)置于所述機器主體內(nèi)的、如權(quán)利要求I至12中任一項所述的激光測距設(shè)備。
      【文檔編號】G01S17/48GK105988120SQ201511021200
      【公開日】2016年10月5日
      【申請日】2015年12月30日
      【發(fā)明人】萬云鵬, 夏勇峰
      【申請人】小米科技有限責任公司, 北京石頭世紀科技有限公司
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