使用靜電計(jì)算的涂層表面紋理分析的制作方法
【專利摘要】本發(fā)明涉及一種計(jì)算機(jī)執(zhí)行的方法、系統(tǒng)、設(shè)備和非臨時(shí)性計(jì)算機(jī)可讀介質(zhì)，包括在分光光度分析中的利用根據(jù)反射率數(shù)據(jù)計(jì)算靜電數(shù)據(jù)以用于在未知目標(biāo)涂層中進(jìn)行有效顏料識(shí)別的軟件。本發(fā)明對(duì)于可靠地匹配發(fā)生在未知的目標(biāo)涂層中的紋理和/或隨角異色效應(yīng)特別有用。
【專利說(shuō)明】使用靜電計(jì)算的涂層表面紋理分析 相關(guān)申請(qǐng)的交叉引用
[0001 ]本申請(qǐng)要求于2013年11月8日提交的序號(hào)為61/901,493的美國(guó)臨時(shí)申請(qǐng)的優(yōu)先 權(quán)。
技術(shù)領(lǐng)域
[0002] 本發(fā)明一般而言涉及使用靜電方法來(lái)關(guān)聯(lián)來(lái)自分光光度角度 (spectropho tome trie angle)和/或入射光源的光譜反射率信息或比色信息以識(shí)別適當(dāng)?shù)?顏料，從而匹配發(fā)生在未知的目標(biāo)涂層內(nèi)的紋理和/或隨角異色效應(yīng)（gonioapparent effect)〇
【背景技術(shù)】
[0003] 為了通過配制或者搜索引擎(或者可視過程)來(lái)提供適當(dāng)?shù)念伾ヅ?，理想的是確 定樣本的正確著色。很清楚的是，利用與原始樣本相同的顏料或者與原始樣本的那些顏料 適當(dāng)偏移的顏料，將會(huì)允許配制或搜索過程獲得明顯的最優(yōu)解決方案。同樣清楚的是，有意 或無(wú)意地從可用的顏料中排除那些顏料，將會(huì)導(dǎo)致低于最優(yōu)的配色。
[0004] 幾種配制引擎和方法學(xué)試圖通過不同的算法同時(shí)完成顏料選擇和配制?，F(xiàn)有技術(shù) 中，顏料識(shí)別包和配制引擎廣泛采取"強(qiáng)制"力，猜測(cè)和檢查類型的方法以向其用戶提供配 方和顏料信息。組合的途徑或強(qiáng)制力方法是頻繁使用的方法，在該方法中在給定最終匹配 中想要的顏料的最終數(shù)目的情況下，幾乎所有可用的顏料被以所有各種可用的組合來(lái)組合 起來(lái)。組合的途徑可以利用Kubelka-Munk公式或其衍生物來(lái)產(chǎn)生各個(gè)配方。盡管已經(jīng)存在 一些方法，其中在給定的某些條件下這些方法限制一些顏料的使用以優(yōu)化引擎的速度，最 終結(jié)果是針對(duì)樣本來(lái)驗(yàn)證配方組合并且向用戶提供最接近匹配樣本的配方的選擇(或一個(gè) 配方）。存在各種形式的A E或其它比色評(píng)定算法，用于與樣本相比較確定匹配的準(zhǔn)確性。
[0005] 更好的解決方案要求用戶向配制引擎提交調(diào)色劑的樣本集合，而不太好的方法則 經(jīng)常選擇使用調(diào)色劑的預(yù)定的子集。這些方法都沒有利用逐步的方法，從而經(jīng)常導(dǎo)致非最 優(yōu)的解決方法。通常這些方法對(duì)于用戶是有負(fù)擔(dān)的，并且缺乏適當(dāng)?shù)?直覺"來(lái)為用戶提供 的良好解決方案的簡(jiǎn)化的方法。另外，由于這種方法學(xué)的性質(zhì)，可能會(huì)排除匹配樣品所必要 的適當(dāng)?shù)念伭稀?br>[0006] 在標(biāo)準(zhǔn)可攜帶分光光度計(jì)中，入射光通常設(shè)定為處于與法線成四十五(45)度角。 因而可以被收集到的光譜反射率通常在與入射光相同的平面上，并且位于鏡面反射角的任 一側(cè)(與入射光相等以及相反的角度)上并且較接近于入射光源本身。新的可攜帶分光光度 裝置提供大量的角度色彩響應(yīng)(光譜反射率)數(shù)據(jù)。除添加包含方位角或平面外角度的一些 新角度外，諸多儀器還提供具有與標(biāo)準(zhǔn)光源不同的幾何紋理的額外光源。例如，第二照明源 的入射光源可位于與法線成十五（15)度角的位置。入射光與角度響應(yīng)的多個(gè)組合可以同時(shí) 是既太少又太多的待處理的信息，從而會(huì)產(chǎn)生大量的分光光度數(shù)據(jù)。但是，缺少有針對(duì)性地 對(duì)所有這些數(shù)據(jù)進(jìn)行有效處理和分析的方法。另一方面，新的分光光度裝置還僅僅捕捉針 對(duì)所選擇的照明條件的所分析樣本的部分光譜響應(yīng)。最近已經(jīng)提出了利用代表各種紋理的 涂色的或者虛擬的樣本以及將這些樣本與未知的樣本進(jìn)行比較的策略。這些技術(shù)需要大量 的用戶介入，并且非常主觀，這些技術(shù)取決于個(gè)人的技術(shù)而產(chǎn)生不一致的結(jié)果。
[0007] 對(duì)于顏色特性描述和樣本性質(zhì)能夠產(chǎn)生改進(jìn)的和簡(jiǎn)化的結(jié)果的利用有限的多角 度、當(dāng)可得時(shí)的多平面、有或沒有照相機(jī)的光譜數(shù)據(jù)、顏色或其他方面的簡(jiǎn)化途徑對(duì)于速度 和易用性上是更可取的。提供一種簡(jiǎn)化的系統(tǒng)，該系統(tǒng)能夠精確地確定待供給到配制引擎 或者可視配色過程的樣本的著色，極大地改善速度和精度。在相同的靈活系統(tǒng)中包括配制 引擎可進(jìn)一步改善性能、精度和簡(jiǎn)易性。
[0008] 因而，需要一種可用于對(duì)來(lái)自分光光度計(jì)的所有的數(shù)據(jù)和數(shù)據(jù)的特定組合進(jìn)行有 效地估算的系統(tǒng)和方法，特別地允許針對(duì)所分析的未知的目標(biāo)涂層的紋理和/或隨角異色 效應(yīng)進(jìn)行有意義的推斷。因此，本發(fā)明的目的在于提供克服或者至少改進(jìn)上面所提及的現(xiàn) 有技術(shù)的所有的或者至少一些缺陷的方法，以及特別地使得能夠有效使用和估算從現(xiàn)有的 分光光度計(jì)的狀態(tài)獲得的數(shù)據(jù)，用于具有紋理和/或隨角異色效應(yīng)的目標(biāo)涂層的可靠的，更 準(zhǔn)確的配色。這些目標(biāo)通過計(jì)算機(jī)實(shí)現(xiàn)的方法、系統(tǒng)、設(shè)備以及包括如以下描述的軟件的非 臨時(shí)性計(jì)算機(jī)可讀介質(zhì)來(lái)實(shí)現(xiàn)。

【發(fā)明內(nèi)容】

[0009] 在第一方面，本發(fā)明提供一種計(jì)算機(jī)實(shí)施的方法。本方法包括使用處理器從目標(biāo) 涂層獲得反射率數(shù)據(jù)，及使用該處理器，根據(jù)該反射率數(shù)據(jù)和/或比色數(shù)據(jù)來(lái)計(jì)算靜電數(shù) 據(jù)。該方法還包含基于靜電數(shù)據(jù)，使用處理器產(chǎn)生外觀上與該目標(biāo)涂層相同或?qū)嵸|(zhì)上類似 的涂層著色。
[0010] 在另一方面，本發(fā)明涉及一種系統(tǒng)。該系統(tǒng)包括數(shù)據(jù)庫(kù)及與該數(shù)據(jù)庫(kù)通信的處理 器。該處理器被編程以從目標(biāo)涂層獲得反射率數(shù)據(jù)和/或比色數(shù)據(jù)，根據(jù)該反射率數(shù)據(jù)計(jì)算 靜電數(shù)據(jù)，以及該基于靜電數(shù)據(jù)，產(chǎn)生外觀上與該目標(biāo)涂層相同或?qū)嵸|(zhì)上類似的涂層著色。
[0011] 在另一方面，本發(fā)明提供一種設(shè)備。該設(shè)備包括用于從目標(biāo)涂層獲得反射率數(shù)據(jù) 和/或比色數(shù)據(jù)的裝置，以及用于根據(jù)該反射率數(shù)據(jù)來(lái)計(jì)算靜電數(shù)據(jù)的裝置。該設(shè)備還包括 用于基于該靜電數(shù)據(jù)產(chǎn)生外觀上與該目標(biāo)涂層相同或?qū)嵸|(zhì)上類似的涂層著色的裝置。在又 一方面，本發(fā)明提供一種非臨時(shí)性計(jì)算機(jī)可讀介質(zhì)，包括用于使得處理器進(jìn)行以下操作的 軟件:從目標(biāo)涂層獲得反射率數(shù)據(jù);根據(jù)該反射率數(shù)據(jù)和/或比色數(shù)據(jù)計(jì)算靜電數(shù)據(jù)；以及 基于靜電數(shù)據(jù)產(chǎn)生外觀上與該目標(biāo)涂層相同或?qū)嵸|(zhì)上類似的涂層著色。
【附圖說(shuō)明】
[0012] 圖1示出利用本發(fā)明計(jì)算目標(biāo)復(fù)雜涂層的著色的過程。
[0013] 圖2和3示出偽電場(chǎng)。
[0014] 圖4示出使用角度的特定組合來(lái)預(yù)測(cè)目標(biāo)涂層是否將包含隨角異色效應(yīng)的靜電場(chǎng) 的使用的例子。
[0015] 圖5示出以成對(duì)方式比較的兩個(gè)不同角度靜電數(shù)據(jù)與目標(biāo)涂層是否包含特定的隨 角異色顏料的經(jīng)驗(yàn)相關(guān)性的例子。
[0016] 圖6示出另一種形式的經(jīng)驗(yàn)相關(guān)性的不同類型的例子。
[0017] 圖7示出根據(jù)本發(fā)明可用于識(shí)別目標(biāo)樣本的涂層混合物的物理性質(zhì)屬性的系統(tǒng)， 該物理性質(zhì)屬性諸如在不同或相同的照明條件下的反射特性，該反射特性是從一種顏料到 另一種顏料視覺上和/或分光光度法測(cè)定的獨(dú)特的或者可區(qū)分的。
【具體實(shí)施方式】
[0018] 雖然本說(shuō)明書中通常涉及涂料和/或涂層，但應(yīng)理解，裝置、系統(tǒng)及方法適用于包 含染色劑及工業(yè)涂層的其它類型的涂層。所述本發(fā)明的實(shí)施例不應(yīng)視為限制性的。與本發(fā) 明一致的方法可在諸如服裝及時(shí)尚產(chǎn)品的匹配和/或協(xié)調(diào)的多個(gè)領(lǐng)域中實(shí)踐。
[0019] 本發(fā)明可與計(jì)算機(jī)系統(tǒng)一起使用或并入于計(jì)算機(jī)系統(tǒng)中，該計(jì)算機(jī)系統(tǒng)可以是獨(dú) 立單元或者是包含經(jīng)由諸如例如因特網(wǎng)或者局域網(wǎng)的網(wǎng)絡(luò)與中央計(jì)算機(jī)通信的一個(gè)或多 個(gè)遠(yuǎn)程終端機(jī)或裝置。如此，計(jì)算機(jī)或"處理器"及本文中所描述的相關(guān)組件可以是本地計(jì) 算機(jī)系統(tǒng)或遠(yuǎn)程計(jì)算機(jī)或在線系統(tǒng)或其組合的一部分。這里所描述的數(shù)據(jù)庫(kù)及軟件可儲(chǔ)存 于計(jì)算機(jī)內(nèi)部存儲(chǔ)器中或非臨時(shí)性計(jì)算機(jī)可讀介質(zhì)中。
[0020] 本發(fā)明一般而言針對(duì)涂層的光譜分析，且更具體地，但并非以限制方式，針對(duì)對(duì)含 有金屬、珠光和/或特殊效用顏料的復(fù)雜涂層混合物進(jìn)行預(yù)測(cè)和著色的裝置、方法及系統(tǒng)。
[0021] 本發(fā)明一般而言針對(duì)一種方法和裝置，該方法和裝置基于來(lái)自分光光度計(jì)的比色 響應(yīng)和光譜反射率，使用處理器，使用如這里所解釋的所計(jì)算的靜電數(shù)據(jù)來(lái)識(shí)別固化的復(fù) 雜涂層(例如，涂料)混合物的物理性質(zhì)屬性。如下面將要詳細(xì)解釋的，根據(jù)本發(fā)明，在空間 中的所選擇的點(diǎn)處(對(duì)應(yīng)于單個(gè)反射角度)正在被獲得的反射率數(shù)據(jù)的單個(gè)光譜反射率，其 依賴于用于獲得反射率數(shù)據(jù)的裝置的配置，被視為點(diǎn)電荷對(duì)待。相應(yīng)地，本發(fā)明的上下文中 的靜電數(shù)據(jù)表示從所獲得的反射率數(shù)據(jù)，應(yīng)用所述點(diǎn)電荷模擬并結(jié)合已建立的靜電的定律 和概念來(lái)計(jì)算的任何種類的數(shù)據(jù)。這樣計(jì)算的靜電數(shù)據(jù)的例子包括，例如，靜電力數(shù)據(jù)、電 場(chǎng)數(shù)據(jù)和電勢(shì)等。
[0022] 使用靜電方法學(xué)的目的是多重的。首先，為了使用給定系統(tǒng)內(nèi)的所有可用角度，靜 電可用于創(chuàng)建替代的雙向反射率分布函數(shù)（"BRDF"）類型分析。該分析類型不排除任何角 度，而是無(wú)論隨角異色效應(yīng)存在與否，都使用所有角度來(lái)創(chuàng)建特別的涂層、紋理或顏料類型 的半球形"地圖"或"指紋"。第二，靜電可用以僅評(píng)估角度的特定組合以達(dá)到有目的操縱。類 似地，當(dāng)正在尋求包含或不包含于目標(biāo)涂層的特貼紋理或效應(yīng)時(shí)，這包括排除特定單個(gè)角 度或角度組合。第三，靜電可用于適應(yīng)及校正所接收光譜反射率值在某種方面上不正確的 可能假設(shè)。光譜反射率數(shù)據(jù)的不規(guī)則性或異常性的某些可能的原因，即使不重要，可包括入 射光角度位置、入射光波動(dòng)、孔徑尺寸、目標(biāo)涂層表面不均勻性等。
[0023] 圖1示出利用本發(fā)明計(jì)算目標(biāo)復(fù)雜涂層的顏料的過程。在步驟10處，從例如分光光 度計(jì)收集數(shù)據(jù)，在步驟12處，基于相關(guān)信息的次要陣列(array)將數(shù)據(jù)分類。主要陣列來(lái)自 于分光光度計(jì)。次要陣列是分類的信息。在步驟14處，計(jì)算靜電數(shù)據(jù)。這里，在特定物理角度 端處的單個(gè)反射率比色信息，或者連同入射光角度的角度將充當(dāng)點(diǎn)電荷。存在一個(gè)或多個(gè) 入射光，利用一個(gè)或多個(gè)入射光，其被連同入射角度使用以使得用戶能夠檢查和確認(rèn)所產(chǎn) 生的數(shù)據(jù)均對(duì)準(zhǔn)并來(lái)自于正確的源（因而多個(gè)陣列）。每個(gè)如此概念化的點(diǎn)電荷跨各自的測(cè) 量安排的物理布局在其他反射率上施加影響靜電"力"的效應(yīng)，例如，圖2和3中示意性示出 的可攜帶的分光光度計(jì)。可創(chuàng)建偽電場(chǎng)，如圖2("標(biāo)準(zhǔn)"視圖）以及圖3("俯視"圖）中所示出 的?；谠趩我粫r(shí)間內(nèi)期望進(jìn)行比較的點(diǎn)電荷(反射率和/或比色信息）的數(shù)目，可使用庫(kù)侖 定律來(lái)定義由單個(gè)點(diǎn)電荷創(chuàng)建的點(diǎn)電荷之間或多個(gè)點(diǎn)電荷之間的電場(chǎng)或力。在簡(jiǎn)單化形式 中，對(duì)于兩個(gè)點(diǎn)電荷，庫(kù)侖定律如：
公式（1) 其中Ql及Q2是點(diǎn)電荷，或在紋理分析的情形中，在特定角度以及波長(zhǎng)處的反射率或比 色數(shù)據(jù)，r是球體的表面上的兩個(gè)點(diǎn)電荷之間的距離，且ε〇 = 8.854187817 X 10-12。如果反 射率的值被用作點(diǎn)電荷值，則其是依賴于波長(zhǎng)的。因此，針對(duì)每個(gè)波長(zhǎng)單個(gè)地進(jìn)行計(jì)算并且 在數(shù)據(jù)的最終使用點(diǎn)處求積分。
[0024] 為計(jì)算兩個(gè)點(diǎn)電荷之間的距離r，一種可能的解決方案是通過采用特殊形式的文 森特公式(Vincenty formula)計(jì)算兩個(gè)點(diǎn)電荷之間的球面角來(lái)使用大圓距離計(jì)算的一部
其中φf(shuō)>λf、φs、λs是球的表面上的點(diǎn)電荷的按弧度的坐標(biāo)位置。距離 r則如下： r = RA σ 公式(3) 其中R是球的半徑。在可攜帶的分光光度計(jì)的情形中，這可假定為等于1或可被準(zhǔn)確地 測(cè)量。R的值不變，這是因?yàn)榭赡軐⑹褂孟嗤蝾愃频姆止夤舛扔?jì)模型，因此R保持恒定。若 預(yù)期R實(shí)際上改變，則R可被適當(dāng)?shù)販y(cè)量并引入公式3。
[0025] 在各種實(shí)施例中，為使用特殊形式的文森特公式，可賦予點(diǎn)電荷(反射率或比色數(shù) 據(jù)）以空間坐標(biāo)或煒度及經(jīng)度?？墒褂梅止夤舛扔?jì)的物理角布局來(lái)創(chuàng)建空間坐標(biāo)賦值。舉例 而言，點(diǎn)電荷的空間坐標(biāo)可以是隨著以下各項(xiàng)中的至少一項(xiàng)改變的坐標(biāo)：（1)角度反射光的 版本(version)，其可取決于入射光角度；（2)平面中或平面外以及該平面內(nèi)的位置的指示； 以及(3)特定波長(zhǎng)處的光譜反射率值和/或比色數(shù)據(jù)。雖然對(duì)于特定形式的庫(kù)侖定律展示了 兩個(gè)點(diǎn)電荷的例子，但是角度點(diǎn)電荷的任意單個(gè)或多個(gè)組合可與各種形式的庫(kù)侖定律一起 使用。此外，諸如電場(chǎng)、電勢(shì)等其他靜電計(jì)算可用于替代或與庫(kù)侖定律的力公式連同使用。 單個(gè)比較、成對(duì)比較、三重比較等的可能性可提供可用以識(shí)別紋理的相當(dāng)大數(shù)量的信息。來(lái) 自法線或來(lái)自平行線的入射光角度可在其他角度數(shù)據(jù)的坐標(biāo)定義內(nèi)使用。當(dāng)與來(lái)自于多個(gè) 入射角度的數(shù)據(jù)協(xié)作時(shí)或者當(dāng)包括與從儀器上的相同物理接收器接收的數(shù)據(jù)進(jìn)行比較時(shí)， 這可能是有用的，但是入射角來(lái)自于多個(gè)角度。
[0026] 在使用光譜反射率數(shù)據(jù)時(shí)，可針對(duì)每個(gè)波長(zhǎng)單個(gè)地進(jìn)行計(jì)算。可使用諸如平均值、 中位數(shù)及總和的統(tǒng)計(jì)量來(lái)從多個(gè)波長(zhǎng)計(jì)算的靜電值中創(chuàng)建單一的值?？稍陟o電分析之間比 較單個(gè)特定或若干個(gè)波長(zhǎng)。這種情況下的值將集中于最大反射率以及潛在的次最大反射率 的一個(gè)或若干個(gè)波長(zhǎng)，其中大部分色彩和/或紋理信息是在可見光譜內(nèi)被可見地感知的。對(duì) 按波長(zhǎng)移位最大反射率的分析也可使用靜電分析來(lái)完成。
[0027] 在圖1的步驟16處，來(lái)自比色數(shù)據(jù)和/或光譜反射率數(shù)據(jù)的所計(jì)算的靜電值可進(jìn)一 步經(jīng)驗(yàn)地關(guān)聯(lián)至已知的特性，以便識(shí)別復(fù)雜涂層混合物中的紋理、主要薄片類型或其它外 觀信息。為采用經(jīng)驗(yàn)方法，靜電數(shù)據(jù)點(diǎn)（力、場(chǎng)、勢(shì)等)是針對(duì)經(jīng)驗(yàn)數(shù)據(jù)集以及所有期望的角 度組合而計(jì)算的，其代表在日常情況中需要待處理的所期望的混合物及色彩。經(jīng)驗(yàn)數(shù)據(jù)集 可用以創(chuàng)建預(yù)測(cè)相關(guān)性:y = f(x)，其中y代表用于關(guān)于目標(biāo)涂層的識(shí)別或定性問題的所期 望的特性，且f(x)是X的某個(gè)函數(shù)，其中X是使用從一個(gè)特定角度考慮集合或多個(gè)角度考慮 集合計(jì)算得到的靜電值的一個(gè)或多個(gè)變量。期望將角度比較集合限制于為針對(duì)正在被識(shí)別 的特別特性的最具特征定義的特定集合。所得函數(shù)可以是線性或非線性的，如由經(jīng)驗(yàn)數(shù)據(jù) 集所定義的。
[0028] 圖4示出使用角度的特定組合來(lái)預(yù)測(cè)目標(biāo)涂層是否將包含隨角異色效應(yīng)的靜電場(chǎng) 的使用的例子。
[0029] 圖5示出以成對(duì)方式比較的兩個(gè)不同角度靜電數(shù)據(jù)與目標(biāo)涂層是否包含特定的隨 角異色顏料的經(jīng)驗(yàn)相關(guān)性的例子。在該例子中，結(jié)果為大約大于5500的值的相同的成對(duì)的 角組合的所計(jì)算的靜電值指示包含隨角異色的可能性相對(duì)于不包含隨角異色顏料的可能 性較高。
[0030] 圖6示出經(jīng)驗(yàn)相關(guān)性的另一種形式的不同類型的例子。在此例情景中，使用計(jì)算的 靜電數(shù)據(jù)的兩組成對(duì)角度比較相對(duì)于彼此繪圖。為使用相關(guān)性，可在靜電計(jì)算中輸入目標(biāo) 涂層的值，并且無(wú)論線性相關(guān)的合成圖形值是什么，更緊密一致地提供該效應(yīng)存在的較高 可能性。在諸多情形中，可能性的程度也可基于從原始經(jīng)驗(yàn)地確定的相關(guān)性的殘差計(jì)算來(lái) 評(píng)估。在該例子中，目標(biāo)涂層的所計(jì)算的靜電值較接近于相關(guān)線60( "真"）指示目標(biāo)涂層包 含特定的隨角異色效應(yīng)的可能性相對(duì)于不包含該效應(yīng)的可能性要高。
[0031] 在圖1的步驟18處，一旦確定了經(jīng)驗(yàn)相關(guān)性，便可使用其來(lái)導(dǎo)出用于目標(biāo)涂層的所 預(yù)測(cè)的值。這可以通過對(duì)X使用目標(biāo)涂層的值(靜電力、場(chǎng)、勢(shì)等）以及對(duì)y(紋理效果)計(jì)算結(jié) 果來(lái)實(shí)現(xiàn)。雖然這里已對(duì)于隨角異色顏料的內(nèi)容給出例子，但本發(fā)明可導(dǎo)出結(jié)果，該結(jié)果具 體為:通過為靜電計(jì)算和經(jīng)驗(yàn)相關(guān)性反復(fù)地選擇最重要的單一角度或角度組合，確定何種 隨角異色顏料以該顏料的何種尺寸的薄片存在。角度比較的選擇以及角度比較組合到何種 程度的選擇可用于創(chuàng)建最有可能的經(jīng)驗(yàn)相關(guān)性。經(jīng)驗(yàn)相關(guān)性還可通過包括其它非靜電信 息，例如，單個(gè)角度比色數(shù)據(jù)，而被改良。
[0032] 全體"地圖"或"指紋"方法的質(zhì)量以及經(jīng)驗(yàn)相關(guān)性方法的質(zhì)量可取決于輸入數(shù)據(jù) 的質(zhì)量。輸入數(shù)據(jù)的質(zhì)量可取決于儀器的質(zhì)量以及用于創(chuàng)建全體的圖或經(jīng)驗(yàn)相關(guān)性的已知 集合的數(shù)據(jù)集的質(zhì)量。雖然來(lái)自儀器或經(jīng)驗(yàn)數(shù)據(jù)集的任意質(zhì)量的數(shù)據(jù)將會(huì)產(chǎn)生答案，但該 答案可借助高質(zhì)量?jī)x器以及廣泛多樣的高質(zhì)量經(jīng)驗(yàn)數(shù)據(jù)集的使用而得以改良。
[0033]本文中所闡述的整組計(jì)算可連同處理器一起使用以便促進(jìn)特定角度組合的選擇， 并且適應(yīng)所需的計(jì)算量以便使用靜電數(shù)據(jù)來(lái)導(dǎo)出且然后使用經(jīng)驗(yàn)相關(guān)性。
[0034]圖7示出根據(jù)本發(fā)明的可用于識(shí)別目標(biāo)樣本的涂層混合物的物理性質(zhì)屬性的系統(tǒng) 90,諸如在不同或相同的照明條件下的反射特性，該反射特性是從一種顏料到另一種顏料 視覺上和/或分光光度法測(cè)定的獨(dú)特的或者可區(qū)分的。用戶92可利用諸如圖形用戶接口的 用戶接口 94來(lái)操作分光光度計(jì)96以測(cè)量目標(biāo)樣本98的性質(zhì)。來(lái)自分光光度計(jì)96的數(shù)據(jù)可傳 送至計(jì)算機(jī)100,諸如個(gè)人計(jì)算機(jī)、移動(dòng)裝置或任意類型的處理器。計(jì)算機(jī)100可經(jīng)由網(wǎng)絡(luò) 102與服務(wù)器104通信。網(wǎng)絡(luò)102可以是諸如因特網(wǎng)、局域網(wǎng)、內(nèi)部網(wǎng)或無(wú)線網(wǎng)的任意類型的 網(wǎng)絡(luò)。服務(wù)器104與數(shù)據(jù)庫(kù)106通信，該數(shù)據(jù)庫(kù)可儲(chǔ)存本發(fā)明的方法出于比較目的而使用的 數(shù)據(jù)及信息。數(shù)據(jù)庫(kù)106可用于，例如，客戶服務(wù)器環(huán)境中，或者，例如，基于網(wǎng)絡(luò)的環(huán)境中， 諸如云端計(jì)算環(huán)境。計(jì)算機(jī)100和/或服務(wù)器104可執(zhí)行本發(fā)明的方法的各個(gè)步驟。
[0035] 在另一方面，本發(fā)明可實(shí)施為一種含有用于使得計(jì)算機(jī)或計(jì)算機(jī)系統(tǒng)執(zhí)行上文所 闡述的方法的軟件的非臨時(shí)性計(jì)算機(jī)可讀介質(zhì)。該軟件可包括用以使得處理器以及用戶接 口能夠執(zhí)行本文中所闡述的方法的各個(gè)模塊。
[0036] 對(duì)于本領(lǐng)域技術(shù)人員來(lái)說(shuō)容易理解的是，可在不背離前述說(shuō)明中所公開的概念的 情況下對(duì)本發(fā)明做出修改。相應(yīng)地，這里所詳細(xì)描述的特殊的實(shí)施例僅僅是示例，并不是對(duì) 本發(fā)明的范圍的限制。
【主權(quán)項(xiàng)】
1. 一種計(jì)算機(jī)實(shí)施的方法，包括： 使用處理器從目標(biāo)涂層獲得反射率數(shù)據(jù)； 使用所述處理器，根據(jù)所述反射率數(shù)據(jù)和/或比色數(shù)據(jù)來(lái)計(jì)算靜電數(shù)據(jù)；以及 使用所述處理器，基于所述靜電數(shù)據(jù)，產(chǎn)生外觀上與所述目標(biāo)涂層相同或?qū)嵸|(zhì)上類似 的涂層著色。2. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法，其中獲得所述反射率數(shù)據(jù)包括:獲得在多個(gè)反射角處的 反射率。3. 根據(jù)權(quán)利要求2所述的方法，其中計(jì)算所述靜電數(shù)據(jù)包括:將在單個(gè)反射角度處獲得 的至少一個(gè)、優(yōu)選地至少兩個(gè)、更優(yōu)選地每個(gè)反射率視為點(diǎn)電荷。4. 根據(jù)權(quán)利要求3所述的方法，其中計(jì)算所述靜電數(shù)據(jù)進(jìn)一步包括:應(yīng)用庫(kù)侖定律。5. 根據(jù)前面任一項(xiàng)權(quán)利要求所述的方法，其中產(chǎn)生涂層著色包括:將所述靜電數(shù)據(jù)關(guān) 聯(lián)至多個(gè)已知的數(shù)據(jù)，并基于該關(guān)聯(lián)來(lái)預(yù)測(cè)所述目標(biāo)涂層的至少一個(gè)紋理特征。6. 根據(jù)權(quán)利要求5所述的方法，其中將所述靜電數(shù)據(jù)關(guān)聯(lián)至多個(gè)已知的數(shù)據(jù)包括:將所 述靜電數(shù)據(jù)經(jīng)驗(yàn)地關(guān)聯(lián)至多個(gè)已知的數(shù)據(jù)。7. 根據(jù)權(quán)利要求5或6所述的方法，其中基于該關(guān)聯(lián)來(lái)預(yù)測(cè)所述目標(biāo)涂層的至少一個(gè)紋 理特征包括:基于所述關(guān)聯(lián)，使用至少一個(gè)經(jīng)驗(yàn)計(jì)算來(lái)預(yù)測(cè)所述目標(biāo)涂層的至少一個(gè)紋理 特征。8. 一種系統(tǒng)，包括： 數(shù)據(jù)庫(kù)；以及 處理器，與所述數(shù)據(jù)庫(kù)通信并被編程為： 從目標(biāo)涂層獲得反射率數(shù)據(jù)； 根據(jù)所述反射率數(shù)據(jù)和/或比色數(shù)據(jù)來(lái)計(jì)算靜電數(shù)據(jù)；以及 基于所述靜電數(shù)據(jù)，產(chǎn)生外觀上與所述目標(biāo)涂層相同或?qū)嵸|(zhì)上類似的涂層著色。9. 根據(jù)權(quán)利要求8所述的系統(tǒng)，進(jìn)一步包括:與所述處理器通信的分光光度計(jì)。10. -種設(shè)備，包括： 用于從目標(biāo)涂層獲得反射率數(shù)據(jù)的裝置； 用于根據(jù)所述反射率數(shù)據(jù)和/或比色數(shù)據(jù)來(lái)計(jì)算靜電數(shù)據(jù)的裝置；以及 用于基于所述靜電數(shù)據(jù)產(chǎn)生外觀上與所述目標(biāo)涂層相同或?qū)嵸|(zhì)上類似的涂層著色的 裝置。11. 根據(jù)權(quán)利要求10所述的設(shè)備，其中用于產(chǎn)生涂層著色的裝置包括將所述靜電數(shù)據(jù) 關(guān)聯(lián)至多個(gè)已知的數(shù)據(jù)的裝置，以及用于基于該關(guān)聯(lián)來(lái)預(yù)測(cè)所述目標(biāo)涂層的至少一個(gè)紋理 特征的裝置。12. 根據(jù)權(quán)利要求11所述的設(shè)備，其中用于將所述靜電數(shù)據(jù)關(guān)聯(lián)至多個(gè)已知的數(shù)據(jù)的 裝置包括:用于將所述靜電數(shù)據(jù)經(jīng)驗(yàn)地關(guān)聯(lián)至多個(gè)已知的數(shù)據(jù)的裝置。13. 根據(jù)權(quán)利要求11或12所述的設(shè)備，其中用于基于該關(guān)聯(lián)來(lái)預(yù)測(cè)所述目標(biāo)涂層的至 少一個(gè)紋理特征的裝置包括:用于基于所述關(guān)聯(lián)使用至少一個(gè)經(jīng)驗(yàn)計(jì)算來(lái)預(yù)測(cè)所述目標(biāo)涂 層的至少一個(gè)紋理特征的裝置。14. 一種非臨時(shí)性計(jì)算機(jī)可讀介質(zhì)，包括用于使得處理器進(jìn)行以下操作的軟件： 從目標(biāo)涂層獲得反射率數(shù)據(jù)； 根據(jù)所述反射率數(shù)據(jù)和/或比色數(shù)據(jù)來(lái)計(jì)算靜電數(shù)據(jù)；以及 基于所述靜電數(shù)據(jù)，產(chǎn)生外觀上與所述目標(biāo)涂層相同或?qū)嵸|(zhì)上類似的涂層著色。
【文檔編號(hào)】G01J3/46GK106062523SQ201480070098
【公開日】2016年10月26日
【申請(qǐng)日】2014年11月10日
【發(fā)明人】A·M·諾里斯
【申請(qǐng)人】Ppg工業(yè)俄亥俄公司