一種用于全極化雷達(dá)散射截面測(cè)量的低散射校準(zhǔn)支架的制作方法
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本實(shí)用新型涉及一種雷達(dá)散射截面測(cè)量系統(tǒng)校準(zhǔn)用低散射支架。更具體地，涉及一種用于全極化雷達(dá)散射截面測(cè)量系統(tǒng)校準(zhǔn)用的低散射支架。
【背景技術(shù)】
[0002]我國(guó)已頒布的國(guó)家標(biāo)準(zhǔn)GJB 5022《室內(nèi)場(chǎng)縮比目標(biāo)雷達(dá)散射截面測(cè)試方法》和GJB5027《室外場(chǎng)雷達(dá)目標(biāo)散射特性測(cè)試方法》中明確規(guī)定每次測(cè)量至少要對(duì)雷達(dá)散射截面測(cè)量系統(tǒng)進(jìn)行前后兩次定標(biāo)校準(zhǔn)，不過(guò)上述標(biāo)準(zhǔn)對(duì)校準(zhǔn)裝置并沒(méi)有明確規(guī)定。以往國(guó)內(nèi)外在雷達(dá)散射截面測(cè)量中使用相對(duì)定標(biāo)的方法對(duì)目標(biāo)主極化雷達(dá)散射截面進(jìn)行校準(zhǔn)，校準(zhǔn)定標(biāo)體一般使用球和圓柱體。隨著低散射目標(biāo)和隱身目標(biāo)測(cè)試需求的日益增強(qiáng)，為了能夠?qū)δ繕?biāo)交叉極化雷達(dá)散射截面進(jìn)行準(zhǔn)確測(cè)量，需要進(jìn)行全極化(包括主極化和交叉極化)校準(zhǔn)，由于球和圓柱定標(biāo)體的交叉極化特性不明顯，故全極化校準(zhǔn)一般使用具有顯著交叉極化特性的二面角，利用理想二面角橫滾角(以二面角棱線中點(diǎn)處的角平分線為旋轉(zhuǎn)軸，二面角棱線順時(shí)針旋轉(zhuǎn)的角度)0°時(shí)只有主極化散射場(chǎng)，對(duì)雷達(dá)散射截面測(cè)量系統(tǒng)的主極化測(cè)量性能進(jìn)行校準(zhǔn)；利用理想二面角橫滾角22.5°時(shí)主極化散射場(chǎng)與交叉極化散射場(chǎng)相等的定量關(guān)系，對(duì)雷達(dá)散射截面測(cè)量系統(tǒng)的交叉極化測(cè)量性能進(jìn)行校準(zhǔn)。
[0003]目前，國(guó)內(nèi)外常用的二面角支撐支架主要有以下幾種形式:1)非金屬支架:直接將二面角放在泡沫柱上，用泡沫支撐二面角形成橫滾角22.5°，這種方法的優(yōu)點(diǎn)是支架不會(huì)引入干擾散射場(chǎng)，但是由于泡沫容易變形，因而該支撐方法定位精度不高，影響雷達(dá)散射截面測(cè)量系統(tǒng)校準(zhǔn)的準(zhǔn)確度；2)金屬支架:采用金屬支架將二面角架高，并通過(guò)金屬旋轉(zhuǎn)臂對(duì)二面角的橫滾角進(jìn)行精確定位，但是由于支架是金屬的，容易引入與二面角無(wú)關(guān)的散射場(chǎng)，影響雷達(dá)散射截面測(cè)量系統(tǒng)校準(zhǔn)的準(zhǔn)確度。針對(duì)現(xiàn)有雷達(dá)散射截面測(cè)量系統(tǒng)全極化校準(zhǔn)支架的缺點(diǎn)，
[0004]本實(shí)用新型設(shè)計(jì)的全極化雷達(dá)散射截面測(cè)量用校準(zhǔn)支架主要采用非金屬材料，只在決定二面角旋轉(zhuǎn)角度精度的關(guān)鍵部位使用了金屬旋轉(zhuǎn)軸承，并通過(guò)距離隔離和吸波材料遮擋等方法降低金屬旋轉(zhuǎn)軸承的散射場(chǎng)，能夠在引入盡量小散射場(chǎng)干擾的條件下保證二面角旋轉(zhuǎn)角的精度，因此能夠提高雷達(dá)散射截面測(cè)量系統(tǒng)全極化校準(zhǔn)的準(zhǔn)確性。
【實(shí)用新型內(nèi)容】
[0005]本實(shí)用新型要解決的技術(shù)問(wèn)題是提供一種低散射的用于全極化雷達(dá)散射截面測(cè)量系統(tǒng)的支架。
[0006]為解決上述技術(shù)問(wèn)題，本實(shí)用新型采用下述技術(shù)方案:
[0007]一種用于全極化雷達(dá)散射截面測(cè)量系統(tǒng)校準(zhǔn)用的低散射支架，包括支撐柱、安裝平臺(tái)和二面角支撐臂，所述安裝平臺(tái)水平地設(shè)置在所述支撐柱的頂端；所述安裝平臺(tái)上設(shè)有安裝座，所述二面角支撐臂可轉(zhuǎn)動(dòng)地設(shè)置在安裝座內(nèi)，且二面角支撐臂與所述安裝平臺(tái)平行。
[0008]優(yōu)選地，所述支撐柱上設(shè)有用吸波材料制成的擋板，所述擋板設(shè)置在支撐柱的電磁波入射方向。
[0009]優(yōu)選地，所述安裝座設(shè)置在安裝平臺(tái)的一端，所述二面角支撐臂的一端通過(guò)軸承固設(shè)在安裝座內(nèi)，所述軸承上設(shè)有可測(cè)量所述二面角支撐臂旋轉(zhuǎn)角度的刻度讀數(shù)，所述安裝平臺(tái)的另一端設(shè)有支撐所述二面角支撐臂的支撐座，所述二面角支撐臂的另一端伸出所述安裝平臺(tái)用來(lái)連接二面角。
[0010]優(yōu)選地，所述刻度讀數(shù)的最小刻度為0.5度。
[0011]優(yōu)選地，所述安裝平臺(tái)上還設(shè)置有水平儀。
[0012]優(yōu)選地，所述安裝平臺(tái)在電磁波入射方向的棱線均采用切角結(jié)構(gòu)。
[0013]優(yōu)選地，所述支撐柱、安裝平臺(tái)和二面角支撐臂均為非金屬材料。
[0014]本實(shí)用新型的有益效果如下:
[0015]除遠(yuǎn)離二面角的鋼制旋轉(zhuǎn)軸承外，本支架全部采用非金屬材料，且在電磁場(chǎng)入射方向采用切角設(shè)計(jì)或圓柱形設(shè)計(jì)，并采用吸波材料制成的擋板遮擋支撐柱以減少支撐柱散射場(chǎng)的作用，這些特點(diǎn)降低了支架對(duì)二面角散射場(chǎng)測(cè)量的影響。通過(guò)水平儀達(dá)到調(diào)整二面角角平分線水平的目的。通過(guò)鋼制旋轉(zhuǎn)軸承，可以在360°范圍內(nèi)任意調(diào)整二面角的橫滾角，角度準(zhǔn)確度為0.5度。
【附圖說(shuō)明】
[0016]下面結(jié)合附圖對(duì)本實(shí)用新型的【具體實(shí)施方式】作進(jìn)一步詳細(xì)的說(shuō)明。
[0017]圖1示出本實(shí)用新型的正視圖。
[0018]圖2示出本實(shí)用新型的左視圖。
[0019]圖3示出本實(shí)用新型的俯視圖。
【具體實(shí)施方式】
[0020]為了更清楚地說(shuō)明本實(shí)用新型，下面結(jié)合優(yōu)選實(shí)施例和附圖對(duì)本實(shí)用新型做進(jìn)一步的說(shuō)明。附圖中相似的部件以相同的附圖標(biāo)記進(jìn)行表示。本領(lǐng)域技術(shù)人員應(yīng)當(dāng)理解，下面所具體描述的內(nèi)容是說(shuō)明性的而非限制性的，不應(yīng)以此限制本實(shí)用新型的保護(hù)范圍。
[0021]如圖1?3所示，一種用于全極化雷達(dá)散射截面測(cè)量系統(tǒng)校準(zhǔn)用的低散射支架包括支撐柱1、安裝平臺(tái)2和二面角支撐臂3，支撐柱I的底端設(shè)有底座11，支撐柱I在電磁波入射方向上還設(shè)置有用吸波材料制成的擋板12。安裝平臺(tái)2水平的設(shè)置在支撐柱I的頂端，其一端設(shè)有安裝座21，二面角支撐臂3的一端通過(guò)軸承與安裝座21轉(zhuǎn)動(dòng)連接，安裝座21上設(shè)有測(cè)量二面角支撐臂3旋轉(zhuǎn)角度的刻度讀數(shù)，該刻度讀數(shù)的最小刻度為0.5度。二面角支撐臂3呈水平設(shè)置，安裝平臺(tái)2的另一端設(shè)置有用于支撐二面角支撐臂3的支撐座22，二面角支撐臂3的另一端延伸出安裝平臺(tái)2用于固定連接二面角。安裝平臺(tái)2上設(shè)有水平儀23。底座11、安裝平臺(tái)2和支撐座22在電磁波入射方向采用切角的結(jié)構(gòu)。除軸承夕卜，支撐柱1、安裝平臺(tái)2和二面角支撐臂3均為非金屬材料。
[0022]顯然，本實(shí)用新型的上述實(shí)施例僅僅是為清楚地說(shuō)明本實(shí)用新型所作的舉例，而并非是對(duì)本實(shí)用新型的實(shí)施方式的限定，對(duì)于所屬領(lǐng)域的普通技術(shù)人員來(lái)說(shuō)，在上述說(shuō)明的基礎(chǔ)上還可以做出其它不同形式的變化或變動(dòng)，這里無(wú)法對(duì)所有的實(shí)施方式予以窮舉，凡是屬于本實(shí)用新型的技術(shù)方案所引伸出的顯而易見(jiàn)的變化或變動(dòng)仍處于本實(shí)用新型的保護(hù)范圍之列。
【主權(quán)項(xiàng)】
1.一種用于全極化雷達(dá)散射截面測(cè)量系統(tǒng)校準(zhǔn)用的低散射支架，其特征在于:包括支撐柱、安裝平臺(tái)和二面角支撐臂，所述安裝平臺(tái)水平地設(shè)置在所述支撐柱的頂端；所述安裝平臺(tái)上設(shè)有安裝座，所述二面角支撐臂可轉(zhuǎn)動(dòng)地設(shè)置在安裝座內(nèi)，且二面角支撐臂與所述安裝平臺(tái)平行。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的低散射支架，其特征在:所述支撐柱上設(shè)有用吸波材料制成的擋板，所述擋板設(shè)置在支撐柱的電磁波入射方向。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的低散射支架，其特征在于:所述安裝座設(shè)置在安裝平臺(tái)的一端，所述二面角支撐臂的一端通過(guò)軸承固設(shè)在安裝座內(nèi)，所述軸承上設(shè)有可測(cè)量所述二面角支撐臂旋轉(zhuǎn)角度的刻度讀數(shù)，所述安裝平臺(tái)的另一端設(shè)有支撐所述二面角支撐臂的支撐座，所述二面角支撐臂的另一端伸出所述安裝平臺(tái)用來(lái)連接二面角。
4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的低散射支架，其特征在于:所述刻度讀數(shù)的最小刻度為0.5度。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的低散射支架，其特征在于:所述安裝平臺(tái)上還設(shè)置有水平儀。
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的低散射支架，其特征在于:所述安裝平臺(tái)在電磁波入射方向的棱線均采用切角結(jié)構(gòu)。
7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的低散射支架，其特征在于:所述支撐柱、安裝平臺(tái)和二面角支撐臂均為非金屬材料。
【專利摘要】本實(shí)用新型公開(kāi)一種用于全極化雷達(dá)散射截面測(cè)量系統(tǒng)校準(zhǔn)用的低散射支架，包括支撐柱、安裝平臺(tái)和二面角支撐臂，所述安裝平臺(tái)水平地設(shè)置在所述支撐柱的頂端；所述安裝平臺(tái)上設(shè)有安裝座，所述二面角支撐臂可轉(zhuǎn)動(dòng)地設(shè)置在安裝座內(nèi)，且二面角支撐臂與所述安裝平臺(tái)平行。采用上述結(jié)構(gòu)后降低了支架對(duì)二面角散射場(chǎng)測(cè)量的影響，提高了雷達(dá)散射截面測(cè)量系統(tǒng)校準(zhǔn)的準(zhǔn)確度。
【IPC分類】G01S7-40
【公開(kāi)號(hào)】CN204269819
【申請(qǐng)?zhí)枴緾N201420827863
【發(fā)明人】李貴蘭, 馬蔚宇, 馬永光, 黃建領(lǐng)
【申請(qǐng)人】北京無(wú)線電計(jì)量測(cè)試研究所
【公開(kāi)日】2015年4月15日
【申請(qǐng)日】2014年12月23日