一種塞規(guī)的制作方法
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本實(shí)用新型涉及一種塞規(guī)，屬于測(cè)量的技術(shù)領(lǐng)域。
【背景技術(shù)】
[0002]對(duì)于一些精度要求較高的測(cè)量，對(duì)量規(guī)的要求非常高，但是，對(duì)于鋼制的量規(guī)而言，在實(shí)際應(yīng)用過程中，耐磨性能降低，在使用一段時(shí)間后，容易產(chǎn)生磨損，使用壽命短，致使失去測(cè)量功能。

【發(fā)明內(nèi)容】

[0003]為克服現(xiàn)有技術(shù)的缺陷，本實(shí)用新型提供一種環(huán)規(guī)，本實(shí)用新型的技術(shù)方案是:一種塞規(guī)，包括主體，所述的主體包括支撐桿和設(shè)置在支撐桿端部的圓盤，所述的圓盤的內(nèi)周面設(shè)置有鍵槽，支撐桿上的凸起置入鍵槽內(nèi)；所述的圓盤由陶瓷材料制作而成，在所述圓盤的圓周方向的外表面包覆有一層石英晶體層。
[0004]所述石英晶體層的厚度為1.5-5mm。
[0005]本實(shí)用新型的優(yōu)點(diǎn)是:陶瓷層和石英晶體層的設(shè)置，延長(zhǎng)了使用壽命。
【附圖說明】
[0006]圖1是本實(shí)用新型的第一種實(shí)施例的結(jié)構(gòu)示意圖。
【具體實(shí)施方式】
[0007]下面結(jié)合具體實(shí)施例來進(jìn)一步描述本實(shí)用新型，本實(shí)用新型的優(yōu)點(diǎn)和特點(diǎn)將會(huì)隨著描述而更為清楚。但這些實(shí)施例僅是范例性的，并不對(duì)本實(shí)用新型的范圍構(gòu)成任何限制。本領(lǐng)域技術(shù)人員應(yīng)該理解的是，在不偏離本實(shí)用新型的精神和范圍下可以對(duì)本實(shí)用新型技術(shù)方案的細(xì)節(jié)和形式進(jìn)行修改或替換，但這些修改和替換均落入本實(shí)用新型的保護(hù)范圍內(nèi)。
[0008]參見圖1，本實(shí)用新型涉及一種塞規(guī)，包括主體，所述的主體包括支撐桿I和設(shè)置在支撐桿I端部的圓盤2，所述的圓盤2的內(nèi)周面設(shè)置有鍵槽，支撐桿I上的凸起置入鍵槽內(nèi)；所述的圓盤2由陶瓷材料制作而成，在所述圓盤2的圓周方向的外表面包覆有一層石英晶體層3。
[0009]所述石英晶體層3的厚度為1.5-5mm。
【主權(quán)項(xiàng)】
1.一種塞規(guī)，包括主體，其特征在于，所述的主體包括支撐桿和設(shè)置在支撐桿端部的圓盤，所述的圓盤的內(nèi)周面設(shè)置有鍵槽，支撐桿上的凸起置入鍵槽內(nèi)；所述的圓盤由陶瓷材料制作而成，在所述圓盤的圓周方向的外表面包覆有一層石英晶體層。2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種塞規(guī)，其特征在于，所述石英晶體層的厚度為1.5-5mm。
【專利摘要】本實(shí)用新型涉及一種塞規(guī)，包括主體，所述的主體包括支撐桿和設(shè)置在支撐桿端部的圓盤，所述的圓盤的內(nèi)周面設(shè)置有鍵槽，支撐桿上的凸起置入鍵槽內(nèi)；所述的圓盤由陶瓷材料制作而成，在所述圓盤的圓周方向的外表面包覆有一層石英晶體層。所述石英晶體層的厚度為1.5-5mm。本實(shí)用新型的優(yōu)點(diǎn)是：陶瓷層和石英晶體層的設(shè)置，延長(zhǎng)了使用壽命。
【IPC分類】G01B1/00, G01B3/00
【公開號(hào)】CN204944334
【申請(qǐng)?zhí)枴緾N201520548512
【發(fā)明人】趙永海
【申請(qǐng)人】蘇州國量量具科技有限公司
【公開日】2016年1月6日
【申請(qǐng)日】2015年7月27日