長(zhǎng)波紅外成像光譜儀光學(xué)系統(tǒng)的制作方法
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001] 本專(zhuān)利涉及遙感探測(cè)領(lǐng)域中的成像光譜儀,具體是指一種用于機(jī)載或星載的基于 平面光柵色散的長(zhǎng)波紅外成像光譜儀光學(xué)系統(tǒng)。
【背景技術(shù)】
[0002] 近來(lái)一二十年,長(zhǎng)波紅外成像光譜儀,已用來(lái)礦物識(shí)別與勘探、污染氣體排放監(jiān)測(cè) 和高精度目標(biāo)識(shí)別確認(rèn)等,在國(guó)民生產(chǎn)、軍事和科學(xué)研究等領(lǐng)域已開(kāi)展應(yīng)用。
[0003] 早先的代表儀器有:1996年,美國(guó)研制的SEBASS機(jī)載紅外高光譜成像光譜儀, 光譜范圍中含有長(zhǎng)波7. 5~13. 5 μ m,光譜采樣為50nm,瞬時(shí)視場(chǎng)lmrad,TM反射望遠(yuǎn)物 鏡,分色鏡透射長(zhǎng)波紅外,通過(guò)NaCl棱鏡分光,整個(gè)光路用液氦制冷。1997年,美國(guó)研制 的TIRIS-I機(jī)載熱紅外成像光譜儀,工作波段為7. 5~14. 0 μ m,64個(gè)光譜波段,20個(gè)像 元,100 μ m的光譜采樣,空間分辨率3. 6mrad,使用平面光柵分光,定制的線性漸變?yōu)V光片 安裝在焦平面上抑制背景輻射。為進(jìn)一步提升性能和提高信噪比,之后繼續(xù)研制完成了 TIRIS-II和TIRIS-III。1998年,美國(guó)夏威夷大學(xué)研制完成AHI機(jī)載熱紅外高光譜成像儀, 采用光柵分光,面陣探測(cè)器推帚成像。望遠(yuǎn)物鏡是一個(gè)兩元衍射受限傳輸透鏡,口徑35_, 焦距111_。分光系統(tǒng)是一個(gè)f/4的商用非制冷反射式成像光譜儀,鍍金。探測(cè)地雷時(shí),AHI 采用225 μ m寬度的狹縫,即沿軌(垂直狹縫方向)IFOV是2. 02mrad,光譜分辨率125nm。穿 軌的角分辨率是〇.81mrad。探測(cè)器使用256X256元的Rockwell TCM2250HgCdTe焦平面探 測(cè)器,機(jī)械制冷到56K。2003年,美國(guó)NGST研制完成LWHIS長(zhǎng)波紅外高光譜成像光譜儀,推 帚式成像,工作波段8~12. 5 μ m,光譜波段128,瞬時(shí)視場(chǎng)0. 9mrad,全視場(chǎng)6. 6°,可用于 地面和機(jī)載成像,入瞳口徑35mm,三反射鏡望遠(yuǎn)物鏡,F(xiàn)數(shù)2. 5,平面光柵分光,35nm光譜分 辨率,探測(cè)器是256 X 256元,40 μ m焦平面列陣,合并成128 X 128應(yīng)用,整個(gè)系統(tǒng)安裝在內(nèi) 表面鍍金的真空室內(nèi),F(xiàn)PA斯特林機(jī)制冷到63K,光機(jī)子系統(tǒng)制冷到100K以下。早一代的長(zhǎng) 波紅外成像光譜儀特點(diǎn)是:體積比較大,制冷溫度相對(duì)不算低。所獲得圖像的信噪比和光譜 特征進(jìn)一步提尚的空間很大。
[0004] 近來(lái)的代表儀器有:2006年,美國(guó)JPL實(shí)驗(yàn)室研制的QWEST紅外成像光譜儀,工作 波段8~9 μ m,后期將擴(kuò)展到8~12 μ m工作波段。緊湊光學(xué)系統(tǒng)采用透射式物鏡,狹縫為 視場(chǎng)光闌,光譜儀采用Dyson同心設(shè)計(jì),凹面光柵分光,光譜儀光機(jī)整體制冷至40K抑制雜 散熱輻射。狹縫寬度50 μ m,8~12 μ m范圍內(nèi)光譜通道數(shù)256個(gè),總視場(chǎng)40°。2011年, MAKO成像光譜儀工作波段7. 8~13. 4 μ m,結(jié)構(gòu)與QWEST類(lèi)似,成像光譜儀前方加了一個(gè) 3. 66倍的TMA望遠(yuǎn)鏡提高空間分辨率,光譜儀也采用Dyson同心設(shè)計(jì),凹面光柵分光,分光 計(jì)光機(jī)整體制冷抑制雜散熱輻射。狹縫寬度75 μ m,合并光譜通道數(shù)32個(gè),不含望遠(yuǎn)鏡總視 場(chǎng)14. 7°,空間分辨率2mrad。自QWEST以來(lái),長(zhǎng)波成像光譜儀往緊湊型發(fā)展,更傾向考慮 曲面光柵,使得系統(tǒng)的F#小,體積小,畸變低;相伴而生的是:曲面光柵制造成本高昂,透鏡 元件低溫離焦而造成離焦能量損失,超短后截距使得探測(cè)器選擇范圍更小。
【發(fā)明內(nèi)容】
[0005] 本專(zhuān)利解決的技術(shù)問(wèn)題是:基于上述已有技術(shù)存在的一些問(wèn)題,本發(fā)明的目的是 設(shè)計(jì)一種長(zhǎng)波紅外成像光譜儀光學(xué)系統(tǒng),F(xiàn)數(shù)小于2,視場(chǎng)大于15°,對(duì)8~12. 5 μ m實(shí)現(xiàn) 光譜成像。
[0006] 本發(fā)明的光學(xué)系統(tǒng)如圖1所示。光學(xué)系統(tǒng)由望遠(yuǎn)成像鏡1和低溫光譜儀2組成。 低溫光譜儀2,由低溫窗口 3、視場(chǎng)光闌4和轉(zhuǎn)折鏡5、三鏡6、次鏡7、主鏡8、平面閃耀光柵 9和濾光片10組成。
[0007] 來(lái)自物方的輻射經(jīng)望遠(yuǎn)成像鏡1,穿過(guò)低溫窗口 3,進(jìn)入低溫光譜儀2,會(huì)聚到視場(chǎng) 光闌4上,再發(fā)射至轉(zhuǎn)折鏡5上,之后經(jīng)三反系統(tǒng)的三鏡6、次鏡7、主鏡8,到達(dá)平面閃耀光 柵9上進(jìn)行反射分光,重新經(jīng)三反系統(tǒng)的主鏡8、次鏡7、三鏡6,經(jīng)過(guò)濾光片10后分光成像。
[0008] 所述的望遠(yuǎn)成像鏡1,不制冷,F(xiàn)數(shù)小于1. 9,視場(chǎng)大于15°。望遠(yuǎn)成像鏡1為透射 鏡頭,透鏡材料為鍺和硒化鋅,校正色差,其中第一個(gè)透鏡的第一面為8次非球面用于校正 大視場(chǎng)畸變,其余面為球面。望遠(yuǎn)成像鏡1的出瞳在后方,也是低溫光譜儀2的入瞳所在, 與低溫窗口 4接近,利于系統(tǒng)的冷光學(xué)設(shè)計(jì)以降低背景輻射影響。
[0009] 所述的低溫光譜儀2的放大倍率-1. 05 < β < -0. 95 ;低溫光譜儀2在低溫下工 作,是一個(gè)往返復(fù)用的偏軸反射系統(tǒng),兼具準(zhǔn)直和會(huì)聚的功能,具有長(zhǎng)線視場(chǎng),反射式系統(tǒng) 不會(huì)發(fā)生嚴(yán)重溫變離焦而影響分辨率的現(xiàn)象。三鏡6是8次凹非球面、次鏡7是8次凸非 球面、主鏡8是8次凹非球面,三鏡6、次鏡7和主鏡8相對(duì)于望遠(yuǎn)鏡1的主光線均有離軸 和10°以?xún)?nèi)的傾斜,均為軸對(duì)稱(chēng)偶次非球面,有效校正keystone和smile。長(zhǎng)波段采用金 屬材質(zhì),便于高精度車(chē)削加工。
[0010] 所述的平面閃耀光柵9是一個(gè)反射光柵,刻線密度一般小于20線對(duì)/mm,光線入射 角度較小,-1級(jí)閃耀,表面鍍金,衍射效率在8~12. 5 μπι光譜范圍內(nèi)比較均勻,平均可達(dá) 70 %。相對(duì)于曲面光柵,制造成本較低,也能達(dá)到較好的性能。
[0011] 所述的濾光片10是一個(gè)分區(qū)濾光片,光譜要求低溫100Κ左右,非陰影區(qū) 8-11. 6 μπι透過(guò),7. 4 μπι之前截止深度〈10% ;透過(guò)率下降沿50 %透過(guò)率點(diǎn)出現(xiàn)在 11. 6 μ m(公差0/+0· 2 μ m),透過(guò)率下降沿盡量陡;5 μ m之前、14 μ m之后不用考慮。陰影區(qū) 11. 6-12. 5 μ m透過(guò),透過(guò)率上升沿50 %透過(guò)率點(diǎn)出現(xiàn)在11. 6 μ m (公差-0. 3/0 μ m) ; 13 μ m 之后盡量截止;5μηι之前、14μηι之后不用考慮。
[0012] 本專(zhuān)利光學(xué)系統(tǒng)的優(yōu)點(diǎn)是:系統(tǒng)較為緊湊,望遠(yuǎn)成像鏡1的出瞳在低溫窗口 4附 近,低溫窗口 4可作為冷光闌,系統(tǒng)只需制冷后方光譜儀;全反射式光譜儀,均為軸對(duì)稱(chēng)面 型,光機(jī)件采用相同材質(zhì),采用金剛石車(chē)削技術(shù)能極大降低光加成本,提高低溫光學(xué)熱適配 性,減小低溫光校難度,且易于保持系統(tǒng)性能;采用平面閃耀反射光柵,獲取容易;濾光片 使長(zhǎng)波背景抑制能力更強(qiáng);適合在航空遙感領(lǐng)域應(yīng)用。
【附圖說(shuō)明】
[0013] 圖1為光學(xué)系統(tǒng)結(jié)構(gòu)示意圖。
[0014] 圖中:1為望遠(yuǎn)成像鏡;2為低溫光譜儀;3為低溫窗口;4為視場(chǎng)光闌;
[0015] 5為轉(zhuǎn)折鏡;6為三鏡;7為次鏡;8為主鏡;9為平面閃耀光柵;
[0016] 10為濾光片。
[0017] 圖2為濾光片示意圖。
【具體實(shí)施方式】
[0018] 根據(jù)圖1的光學(xué)結(jié)構(gòu)圖,設(shè)計(jì)了一個(gè)長(zhǎng)波紅外成像光譜儀光學(xué)系統(tǒng),可用于機(jī)載 航空遙感對(duì)地探測(cè),推掃成像,光學(xué)系統(tǒng)指標(biāo)列于表1。望遠(yuǎn)成像鏡設(shè)計(jì)數(shù)據(jù)列于表2,光柵 具體設(shè)計(jì)參數(shù)列于表3,光譜儀反射系統(tǒng)設(shè)計(jì)數(shù)據(jù)列于表4。濾光片長(zhǎng)10. 7mm,寬14mm,陰 影區(qū)偏離中心I. 5mm〇
[0019] 表1光學(xué)系統(tǒng)的技術(shù)指標(biāo)
【主權(quán)項(xiàng)】
1. 一種長(zhǎng)波紅外成像光譜儀光學(xué)系統(tǒng),由望遠(yuǎn)成像鏡⑴和低溫光譜儀⑵組成;其 特征在于: 所述的低溫光譜儀(2)由低溫窗口(3)、視場(chǎng)光闌(4)、轉(zhuǎn)折鏡(5)、三鏡(6)、次鏡(7)、 主鏡(8)、平面閃耀光柵(9)和濾光片(10)組成;來(lái)自物方的輻射經(jīng)望遠(yuǎn)成像鏡(1),穿過(guò) 低溫窗口(3),會(huì)聚到低溫光譜儀(2)中的視場(chǎng)光闌(4)上,經(jīng)轉(zhuǎn)折鏡(5)轉(zhuǎn)折之后,再經(jīng)往 返復(fù)用三反系統(tǒng)的三鏡(6)、次鏡(7)、主鏡(8),到達(dá)平面閃耀光柵(9)上進(jìn)行反射分光,重 新經(jīng)往返復(fù)用三反系統(tǒng)的主鏡(8)、次鏡(7)、三鏡(6),最后經(jīng)過(guò)濾光片(10)實(shí)現(xiàn)分光成 像。2. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種長(zhǎng)波紅外成像光譜儀光學(xué)系統(tǒng),其特征在于:所述的望 遠(yuǎn)成像鏡(1)的F數(shù)小于1. 9,視場(chǎng)大于15° ;所述的望遠(yuǎn)成像鏡(1)為透射鏡頭,透鏡材 料為鍺和硒化鋅,校正色差,其中第一個(gè)透鏡的第一面為8次非球面用于校正大視場(chǎng)畸變, 其余面為球面,望遠(yuǎn)成像鏡(1)的出瞳在后方,也是低溫光譜儀(2)的入瞳所在,與低溫窗 口(4)接近,望遠(yuǎn)成像鏡(1)不制冷。3. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種長(zhǎng)波紅外成像光譜儀光學(xué)系統(tǒng),其特征在于:所述的低 溫光譜儀(2)的放大倍率-1. 05 < 0 < -0. 95 ;低溫光譜儀(2)是一個(gè)往返復(fù)用的偏軸反 射系統(tǒng),其中:三鏡(6)是8次凹非球面、次鏡(7)是8次凸非球面、主鏡(8)是8次凹非球 面,三鏡(6)、次鏡(7)和主鏡(8)相對(duì)于望遠(yuǎn)成像鏡(1)的主光線均有離軸和10°以?xún)?nèi)的 傾斜,均為軸對(duì)稱(chēng)偶次非球面,三鏡(6)、次鏡(7)和主鏡(8)采用便于高精度車(chē)削加工的金 屬材質(zhì)。4. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種長(zhǎng)波紅外成像光譜儀光學(xué)系統(tǒng),其特征在于:所述的平 面閃耀光柵(9)是一個(gè)反射光柵,刻線密度一般小于20線對(duì)/mm,光線入射角度較小,-1級(jí) 閃耀,表面鍍金,衍射效率在8~12. 5 y m光譜范圍內(nèi)均勻,平均達(dá)70%。5. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種長(zhǎng)波紅外成像光譜儀光學(xué)系統(tǒng),其特征在于:所述的濾 光片(10)是一個(gè)分區(qū)濾光片,光譜要求低溫100K左右,非陰影區(qū)8-11. 6 ym透過(guò),7.4 ym 之前截止深度〈10 % ;透過(guò)率下降沿50 %透過(guò)率點(diǎn)出現(xiàn)在11. 6 y m,公差0/+0? 2 y m,透過(guò) 率下降沿陡直;5 y m之前、14 y m之后不用考慮;陰影區(qū)11. 6-12. 5 y m透過(guò),透過(guò)率上升沿 50 %透過(guò)率點(diǎn)出現(xiàn)在11. 6 ym,公差-0. 3/0 ym ; 13 ym之后截止;5 ym之前、14 ym之后不 用考慮。
【專(zhuān)利摘要】本專(zhuān)利公開(kāi)了一種長(zhǎng)波紅外成像光譜儀光學(xué)系統(tǒng),它用于對(duì)8~12.5μm波段實(shí)現(xiàn)精細(xì)分光光譜成像。其特征在于:系統(tǒng)由結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)單的透射式望遠(yuǎn)成像鏡、全反射式低溫光譜儀組成。光譜儀中的準(zhǔn)直和會(huì)聚功能通過(guò)一個(gè)往返復(fù)用偏軸三反完成,利于像差校正、引入平面光柵、光學(xué)制造和低溫光校。本專(zhuān)利解決了現(xiàn)有技術(shù)中采用曲面光柵分光的系統(tǒng)制造成本高昂、采用棱鏡或平面光柵分光的系統(tǒng)制冷功耗大、透射鏡頭離焦、低溫光校困難的問(wèn)題。采用本專(zhuān)利所述的長(zhǎng)波紅外成像光譜儀光學(xué)系統(tǒng),F(xiàn)數(shù)可小于1.9,視場(chǎng)大于15°,可應(yīng)用于航空遙感領(lǐng)域。
【IPC分類(lèi)】G01J3/28
【公開(kāi)號(hào)】CN204964019
【申請(qǐng)?zhí)枴緾N201520371870
【發(fā)明人】袁立銀, 何志平, 李春來(lái), 王躍明, 舒嶸, 王建宇
【申請(qǐng)人】中國(guó)科學(xué)院上海技術(shù)物理研究所
【公開(kāi)日】2016年1月13日
【申請(qǐng)日】2015年6月2日