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      機(jī)械密封試驗裝置的制造方法

      文檔序號:10227740閱讀:270來源:國知局
      機(jī)械密封試驗裝置的制造方法
      【技術(shù)領(lǐng)域】
      [0001]本實用新型涉及一種機(jī)械密封試驗裝置,用于機(jī)械密封的密封性試驗。
      【背景技術(shù)】
      [0002]機(jī)械密封的傳統(tǒng)試驗方法,是通過制造機(jī)械密封的裝配工裝,并與機(jī)械密封試驗臺連接,由電機(jī)驅(qū)動,實現(xiàn)機(jī)械密封的運(yùn)轉(zhuǎn)試驗。它的結(jié)構(gòu)由密封體、密封蓋、電機(jī)、芯軸、密封座、套筒,以及試驗用機(jī)械密封等組成。傳統(tǒng)的試驗方法為:
      [0003]從進(jìn)水管輸入壓力水,通過閥門調(diào)節(jié)水壓,達(dá)到試驗的壓力要求。啟動電機(jī),驅(qū)動芯軸旋轉(zhuǎn),安裝在芯軸上的套筒和機(jī)械密封也隨之旋轉(zhuǎn),這樣,達(dá)到模擬機(jī)械密封在水介質(zhì)中,特定壓力下工作的情況。在規(guī)定時間內(nèi),機(jī)械密封運(yùn)轉(zhuǎn)試驗過程中,沒有出現(xiàn)漏水,則判斷機(jī)械密封合格,反之,出現(xiàn)漏水,機(jī)械密封不合格。
      [0004]傳統(tǒng)的試驗方法,主要有如下不足:
      [0005](1)轉(zhuǎn)速恒定
      [0006]機(jī)械密封試驗臺通過電機(jī)直接驅(qū)動,因此,機(jī)械密封的試驗轉(zhuǎn)速與電機(jī)轉(zhuǎn)速一致,其值為電機(jī)的額定轉(zhuǎn)速,是恒定不變的,這樣,容易造成機(jī)械密封的試驗轉(zhuǎn)速與實際使用轉(zhuǎn)速不相符,試驗效果的代表性不強(qiáng)。
      [0007](2)試驗條件單一
      [0008]機(jī)械密封傳統(tǒng)試驗使用的介質(zhì)為常溫清水,密封體的內(nèi)部容積是恒定不變的,因此,冷卻效果也是一樣的,這樣單一的試驗條件,造成試驗結(jié)果也是單一的。機(jī)械密封在實際應(yīng)用時,工作介質(zhì)的溫度一般不是常溫,冷卻的條件隨設(shè)備工作的變化而變化,因此,在試驗條件方面,傳統(tǒng)方法的試驗效果代表性是比較差的。
      [0009](3)試驗過程不直觀
      [0010]傳統(tǒng)方法的試驗過程是在一個密閉、不透明的空間內(nèi)實行,無法對機(jī)械密封試驗的情況進(jìn)行直觀判斷,容易造成機(jī)械密封合格性判定失真。
      【實用新型內(nèi)容】
      [0011]本實用新型所要解決的技術(shù)問題在于提供一種直觀、準(zhǔn)確、可靠的機(jī)械密封試驗
      目.ο
      [0012]本實用新型的技術(shù)方案如下:一種機(jī)械密封試驗裝置,其特征在于:在立式數(shù)控加工中心的芯軸下方設(shè)置工作臺,該工作臺上安裝密封座,密封座位于所述芯軸的正下方,且密封座上設(shè)有容置機(jī)械密封端部的適配槽;在所述芯軸的外圍設(shè)置攝像機(jī)和紅外線溫度傳感器,紅外線溫度傳感器的上方設(shè)有能夠朝著機(jī)械密封噴水的噴嘴,該噴嘴進(jìn)口在上出口在下傾斜布置。
      [0013]為了簡化結(jié)構(gòu),方便加工制作及裝配,使密封座安裝牢靠,所述密封座為上小下大的兩段式臺階結(jié)構(gòu),密封座的底面與工作臺的頂面貼合,密封座通過按圓周均勻分布的螺栓與工作臺相固定;所述密封座中心開設(shè)的通孔為上大下小的兩段式臺階孔,該通孔的上段為適配槽。
      [0014]采用以上技術(shù)方案,從立式數(shù)控加工中心的冷卻噴管輸入冷卻水,啟動設(shè)備,驅(qū)動芯軸旋轉(zhuǎn),安裝在芯軸上的機(jī)械密封也隨之旋轉(zhuǎn),旋轉(zhuǎn)過程中噴嘴持續(xù)向機(jī)械密封噴射冷卻水,這樣,達(dá)到模擬機(jī)械密封在介質(zhì)中工作的情況。本實用新型主要有如下優(yōu)點:
      [0015]變轉(zhuǎn)速試驗
      [0016]芯軸通過立式數(shù)控加工中心驅(qū)動,因此,機(jī)械密封的試驗轉(zhuǎn)速與數(shù)控加工中心轉(zhuǎn)速一致,其值可以根據(jù)要求進(jìn)行調(diào)整,達(dá)到試驗轉(zhuǎn)速與實際使用轉(zhuǎn)速相同的效果;同時,通過編制控制程序,實現(xiàn)不斷變換試驗轉(zhuǎn)速的試驗效果,使得試驗與實際使用更接近,試驗結(jié)果更準(zhǔn)確、可靠,試驗效果更具有代表性。試驗條件多變
      [0017]在機(jī)械密封新的試驗方法中,試驗介質(zhì)通過數(shù)控加工中心的冷卻系統(tǒng)輸送,可以是常溫清水,也可以更換成高溫水或其它液體,同時,通過控制程序,對輸送介質(zhì)的流量進(jìn)行控制,達(dá)到不同的冷卻試驗效果,這樣,多變的試驗條件,使得試驗的效果更能夠反映機(jī)械密封在實際使用時的效果。
      [0018]試驗過程直觀
      [0019]試驗過程是在立式數(shù)控加工中心的工作臺上實行,整個過程都可以肉眼直接觀察;通過紅外線溫度傳感器,可以對機(jī)械密封各個部位的表面溫度進(jìn)行監(jiān)測,掌握機(jī)械密封試驗時的溫度變化情況。同時,通過攝像機(jī)在試驗過程中錄制影像,能夠?qū)υ囼炦^程進(jìn)行重現(xiàn),這樣,機(jī)械密封合格性判定的依據(jù)更多,也更科學(xué)。
      【附圖說明】
      [0020]圖1為本實用新型的結(jié)構(gòu)示意圖。
      【具體實施方式】
      [0021]下面結(jié)合附圖和實施例對本實用新型作進(jìn)一步說明:
      [0022]如圖1所示,立式數(shù)控加工中心的芯軸1用于安裝機(jī)械密封4,在立式數(shù)控加工中心的芯軸1下方設(shè)置工作臺2,該工作臺2上安裝密封座3,密封座3位于芯軸1的正下方。密封座3為上小下大的兩段式臺階結(jié)構(gòu),密封座3的底面與工作臺2的頂面貼合,密封座3通過按圓周均勻分布的螺栓與工作臺2相固定。在密封座3中心開設(shè)的通孔為上大下小的兩段式臺階孔,該通孔的上段為適配槽,用于容置機(jī)械密封4的端部。
      [0023]如圖1所示,在芯軸1的外圍設(shè)置攝像機(jī)5和紅外線溫度傳感器6,攝像機(jī)5位于芯軸1的一側(cè),距離機(jī)械密封1.5m左右;紅外線溫度傳感器6位于芯軸1的另一側(cè),距離機(jī)械密封1.5m左右。攝像機(jī)5的鏡頭朝向機(jī)械密封4,用于在試驗過程中錄制影像,能夠?qū)υ囼炦^程進(jìn)行重現(xiàn);紅外線溫度傳感器6可以對機(jī)械密封4各個部位的表面溫度進(jìn)行監(jiān)測,掌握機(jī)械密封4試驗時的溫度變化情況。在紅外線溫度傳感器6的上方設(shè)有能夠朝著機(jī)械密封3噴水的噴嘴7,該噴嘴7進(jìn)口在上出口在下傾斜布置,噴嘴7的角度和距離根據(jù)實際需要確定。
      【主權(quán)項】
      1.一種機(jī)械密封試驗裝置,其特征在于:在立式數(shù)控加工中心的芯軸(1)下方設(shè)置工作臺(2),該工作臺(2)上安裝密封座(3),密封座(3)位于所述芯軸(1)的正下方,且密封座(3)上設(shè)有容置機(jī)械密封(4)端部的適配槽;在所述芯軸(1)的外圍設(shè)置攝像機(jī)(5)和紅外線溫度傳感器(6),紅外線溫度傳感器(6)的上方設(shè)有能夠朝著機(jī)械密封(3)噴水的噴嘴(7),該噴嘴(7)進(jìn)口在上出口在下傾斜布置。2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的機(jī)械密封試驗裝置,其特征在于:所述密封座(3)為上小下大的兩段式臺階結(jié)構(gòu),密封座(3)的底面與工作臺(2)的頂面貼合,密封座(3)通過按圓周均勻分布的螺栓與工作臺(2)相固定;所述密封座(3)中心開設(shè)的通孔為上大下小的兩段式臺階孔,該通孔的上段為適配槽。
      【專利摘要】本實用新型公開了一種機(jī)械密封試驗裝置,在立式數(shù)控加工中心的芯軸下方設(shè)置工作臺,該工作臺上安裝密封座,密封座位于所述芯軸的正下方,且密封座上設(shè)有容置機(jī)械密封端部的適配槽;在所述芯軸的外圍設(shè)置攝像機(jī)和紅外線溫度傳感器,紅外線溫度傳感器的上方設(shè)有能夠朝著機(jī)械密封噴水的噴嘴,該噴嘴進(jìn)口在上出口在下傾斜布置。本實用新型通過多變的試驗條件,使得試驗的效果更能夠反映機(jī)械密封在實際使用時的效果,試驗過程直觀,試驗結(jié)果更準(zhǔn)確、可靠。
      【IPC分類】G01M3/04
      【公開號】CN205138730
      【申請?zhí)枴緾N201520874350
      【發(fā)明人】冀慶康, 甘杰瑞, 張樂
      【申請人】重慶躍進(jìn)機(jī)械廠有限公司
      【公開日】2016年4月6日
      【申請日】2015年11月5日
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