燃?xì)獗矸浪畤娏芊缐m密封結(jié)構(gòu)的制作方法
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本實(shí)用新型涉及燃?xì)獗聿考夹g(shù)領(lǐng)域，尤其是涉及一種燃?xì)獗砘須んw與外IC卡控制器盒連接的密封結(jié)構(gòu)。
【背景技術(shù)】
[0002]隨著技術(shù)的進(jìn)步，燃?xì)獗戆l(fā)展到了電子式燃?xì)獗黼A段。電子式燃?xì)獗砘須んw與外IC卡控制器盒是分開(kāi)制造，在裝配時(shí)再組裝在一起。由于燃?xì)獗硎褂铆h(huán)境有時(shí)會(huì)比較惡劣，使用環(huán)境中有水或是灰塵是常有的。所以燃?xì)獗砘須んw與外IC卡控制器盒的連接有防水噴淋防塵的密封要求。通常處理是在兩個(gè)被密封件的連接處加裝橡膠圈件，起到防塵防水的效果。燃?xì)獗黹L(zhǎng)期使用，橡膠老化會(huì)影響到密封性。中國(guó)專利授權(quán)公告號(hào)CN203587635U，授權(quán)公告日2014年5月7日，名稱為“一種雙重密封表箱箱蓋結(jié)構(gòu)”的實(shí)用新型專利，提供了一種密封結(jié)構(gòu)。它包括箱蓋和箱體;其中箱蓋整體呈長(zhǎng)方形的盤(pán)狀結(jié)構(gòu)，四周環(huán)繞一圈側(cè)邊，位于箱體前后的側(cè)邊其外側(cè)面向外延伸有外密封邊，同時(shí)在側(cè)邊朝箱蓋內(nèi)開(kāi)有一圈沿側(cè)邊分布的避讓槽;位于箱體前后位置處的圍邊向外延伸有凸出板，在凸出板上，并與之垂直設(shè)有密封板。箱蓋側(cè)邊的內(nèi)部水平尺寸大于箱體圍板的外部對(duì)應(yīng)尺寸;箱體前后的側(cè)邊和外密封邊之間間隔一密封槽，該密封槽的寬度大于密封板的厚度。側(cè)邊的底面和外密封邊的底面與凸出板的上頂面相互接觸。該結(jié)構(gòu)箱蓋設(shè)避讓槽，箱體設(shè)凸出板，凸出板插入避讓槽達(dá)到防塵、防水目的。燃?xì)獗砘須んw與外IC卡控制器盒連接面是垂直的，使用該結(jié)構(gòu)不能達(dá)到防水要求。
【實(shí)用新型內(nèi)容】
[0003]為了解決現(xiàn)有技術(shù)中燃?xì)獗砘須んw與外IC卡控制器盒連接依靠橡膠圈防塵防水，制造環(huán)節(jié)多、裝配工藝復(fù)雜的技術(shù)問(wèn)題，本實(shí)用新型提供一種節(jié)省零件數(shù)量，減少裝配工序的防水噴淋防塵的燃?xì)獗砻芊饨Y(jié)構(gòu)。
[0004]本實(shí)用新型的技術(shù)方案是:一種燃?xì)獗矸浪畤娏芊缐m密封結(jié)構(gòu)，它包括基表殼體和控制器盒，基表殼體在密封處設(shè)有凹槽，控制器盒在密封處設(shè)有第一檔條和第二檔條，第一檔條和第二檔條插入凹槽，第一檔條與凹槽留有間隙，第二檔條端部與凹槽底部壓接?；須んw和控制器盒分開(kāi)加工，在流水線組裝，工藝簡(jiǎn)單減少裝配工人勞動(dòng)強(qiáng)度，提高了生產(chǎn)效率。去除了填裝密封圈，減少了零件數(shù)量，降低產(chǎn)品成本。
[0005]作為優(yōu)選，凹槽底部設(shè)有斜底面，第二檔條端部與斜底面相適應(yīng);阻止噴淋水、灰塵進(jìn)入密封保護(hù)區(qū)域。
[0006]作為優(yōu)選，第一檔條和第二檔條與控制器盒連接橫截面呈倒F形，第一檔條、控制器盒和第二檔條包圍形成排水槽，排水槽設(shè)有排水口 ；噴淋水、灰塵不會(huì)積聚，更好地起到密封保護(hù)作用。
[0007]與現(xiàn)有技術(shù)相比，本實(shí)用新型的有益效果是:基表殼體和控制器盒分開(kāi)加工，在流水線組裝，工藝簡(jiǎn)單減少裝配工人勞動(dòng)強(qiáng)度，適合連續(xù)化生產(chǎn)，提高了生產(chǎn)效率。去除了填裝密封圈，減少了零件數(shù)量，降低產(chǎn)品成本，減少資源需求，保護(hù)環(huán)境。
【附圖說(shuō)明】
[0008]附圖1為本實(shí)用新型連接示意圖；
[0009]附圖2為圖1中A的局部放大圖；
[0010]附圖3為圖2中B向視圖。
[0011]圖中:1-基表殼體;2-控制器盒；11-凹槽;21-第一檔條;22-第二檔條;23-排水槽；111-斜底面;231-排水口。
【具體實(shí)施方式】
[0012]下面通過(guò)實(shí)施例，并結(jié)合附圖，對(duì)本實(shí)用新型的技術(shù)方案作進(jìn)一步具體的說(shuō)明。
[0013]實(shí)施例1:
[0014]如圖1、2和3所不，一種燃?xì)獗矸浪畤娏芊缐m密封結(jié)構(gòu)，它包括基表殼體I和控制器盒2。基表殼體I正面上部與控制器盒2背部連接，連接處為環(huán)形密封處?；須んwI在密封處設(shè)有凹槽11。凹槽11為環(huán)形繞連接處一周。凹槽11底部設(shè)有斜底面111。與凹槽11外槽面連接的底面與槽面垂直，與凹槽11的內(nèi)槽面連接的底面為斜底面111。凹槽11內(nèi)槽面比外槽面深度淺?？刂破骱?在密封處設(shè)有第一檔條21和第二檔條22。第一檔條21和第二檔條22為環(huán)形與凹槽11相對(duì)應(yīng)。第一檔條21和第二檔條22與控制器盒2連接橫截面呈倒F形。第一檔條21和第二檔條22高出控制器盒2背面，第二檔條22端部到控制器盒2背面比第一檔條21端部到控制器盒2背面高。第一檔條21和第二檔條22插入凹槽11。第一檔條21與凹槽11留有間隙。基表殼體I與控制器盒2連接處有垂直間隙，第一檔條21與凹槽11外槽面連接有水平間隙，垂直間隙與水平間隙連通為連接間隙C(圖2所示)。第二檔條22端部為斜面，該斜面壓緊凹槽11底部斜底面111上無(wú)間隙。第一檔條21、控制器盒2和第二檔條22包圍形成排水槽23。排水槽23設(shè)有排水口 231，本實(shí)施例為兩個(gè)排水口 231。排水口 231—端與排水槽23連通另一端伸出控制器盒2外。
[0015]基表殼體I與控制器盒2連接，第二檔條22壓在凹槽11底部斜底面111上形成微量變形，使得第二檔條22有一個(gè)有利于水滴落到排水槽23的傾斜度。同時(shí)也防止了灰塵侵入密封保護(hù)區(qū)域。當(dāng)雨水或是積水噴淋到基表殼體I與控制器盒2連接處，順著連接間隙C進(jìn)入凹槽11。由于連接間隙C是直角，水流遇到直角受到阻礙，一則改變流動(dòng)方向，另則消耗水流的能量而變緩。在轉(zhuǎn)過(guò)直角之后，水的動(dòng)能消耗，變成緩慢的紊流形式。微量水會(huì)形成水滴，滴落在第二檔條22與第一檔條21鄰近的表面并流入排水槽23。積聚在排水槽23中的水帶走積聚在排水槽23中的灰塵通過(guò)排水口 231排出到控制器盒2外。
【主權(quán)項(xiàng)】
1.一種燃?xì)獗矸浪畤娏芊缐m密封結(jié)構(gòu)，它包括基表殼體(I)和控制器盒(2)，其特征在于:所述基表殼體(I)在密封處設(shè)有凹槽(11)，所述控制器盒(2)在密封處設(shè)有第一檔條(21)和第二檔條(22)，第一檔條(21)和第二檔條(22)插入凹槽(11)，所述第一檔條(21)與凹槽(11)留有間隙，所述第二檔條(22)端部與凹槽(11)底部壓接。2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的燃?xì)獗矸浪畤娏芊缐m密封結(jié)構(gòu)，其特征在于:所述凹槽(11)底部設(shè)有斜底面(111)，第二檔條(22)端部與斜底面(111)相適應(yīng)。3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的燃?xì)獗矸浪畤娏芊缐m密封結(jié)構(gòu)，其特征在于:所述第一檔條(21)和第二檔條(22)與控制器盒(2)連接橫截面呈倒F形，第一檔條(21)、控制器盒(2)和第二檔條(22)包圍形成排水槽(23)，排水槽(23)設(shè)有排水口(231)。
【專利摘要】本實(shí)用新型提供一種燃?xì)獗矸浪畤娏芊缐m密封結(jié)構(gòu)，涉及燃?xì)獗聿考夹g(shù)領(lǐng)域。它包括基表殼體和控制器盒，基表殼體在密封處設(shè)有凹槽，控制器盒在密封處設(shè)有第一檔條和第二檔條，第一檔條和第二檔條插入凹槽，第一檔條與凹槽留有間隙，第二檔條端部與凹槽底部壓接。本實(shí)用新型解決了現(xiàn)有技術(shù)中燃?xì)獗砘須んw與外IC卡控制器盒連接依靠橡膠圈防塵防水制造環(huán)節(jié)多、裝配工藝復(fù)雜的技術(shù)問(wèn)題。本實(shí)用新型有益效果為：基表殼體和控制器盒分開(kāi)加工，在流水線組裝，工藝簡(jiǎn)單減少、裝配工人勞動(dòng)強(qiáng)度，適合連續(xù)化生產(chǎn)，提高了生產(chǎn)效率。去除了填裝密封圈，減少了零件數(shù)量，降低產(chǎn)品成本，減少資源需求，保護(hù)環(huán)境。
【IPC分類】G01F15/00
【公開(kāi)號(hào)】CN205280164
【申請(qǐng)?zhí)枴緾N201521093745
【發(fā)明人】白劍國(guó), 張恩滿
【申請(qǐng)人】金卡高科技股份有限公司
【公開(kāi)日】2016年6月1日
【申請(qǐng)日】2015年12月25日