溫育裝置的制造方法
【專利摘要】本實用新型公開了一種溫育裝置，屬于化學發(fā)光測定領(lǐng)域。溫育裝置，包括溫育盤、導電滑環(huán)、轉(zhuǎn)盤電機、加熱片、溫度傳感器、支架，所述的溫育盤設(shè)于支架上，所述的溫育盤的背面設(shè)有加熱片和溫度傳感器；所述的導電滑環(huán)設(shè)于溫育盤的中心，加熱片和溫度傳感器的導線均纏繞在導電滑環(huán)上；所述的轉(zhuǎn)盤電機的轉(zhuǎn)動軸和溫育盤的中心相連；所述的溫育盤的圓邊上設(shè)有若干反應(yīng)杯孔。本實用新型溫育盤底部表面有加熱片和溫度傳感器，采用接觸式直接加熱，保持溫育盤為恒溫狀態(tài)，結(jié)構(gòu)簡單，使用方便。
【專利說明】
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技術(shù)領(lǐng)域
[0001]本實用新型涉及測定儀設(shè)備領(lǐng)域，尤其涉及溫育裝置。
【背景技術(shù)】
[0002]現(xiàn)有技術(shù)的溫育裝置多為轉(zhuǎn)盤式的溫育，多采用空氣浴等加熱方式，加熱速度較慢，而且受外界因素影響很大，溫度波動較大，會嚴重影響溫育反應(yīng)，繼而影響測量結(jié)果。
[0003]同時，溫育裝置中與加熱裝置相連的導線較多，在轉(zhuǎn)盤運動過程中容易發(fā)生線路纏繞，造成機器故障，影響工作效率。
【實用新型內(nèi)容】
[0004]所要解決的問題:針對以上問題，本實用新型提供一種接觸式直接加熱溫育效果好的溫育裝置。
[0005]為解決以上技術(shù)問題，本實用新型采用如下技術(shù)方案:
[0006]溫育裝置，包括溫育盤、導電滑環(huán)、轉(zhuǎn)盤電機、加熱片、溫度傳感器、支架，所述的溫育盤設(shè)于支架上，所述的溫育盤的背面設(shè)有加熱片和溫度傳感器；
[0007]所述的導電滑環(huán)設(shè)于溫育盤的中心，加熱片和溫度傳感器的導線均纏繞在導電滑環(huán)上；
[0008]所述的轉(zhuǎn)盤電機的轉(zhuǎn)動軸和溫育盤的中心相連；
[0009]所述的溫育盤的圓邊上設(shè)有若干反應(yīng)杯孔。
[0010]進一步的技術(shù)方案，溫育裝置還包括接水盤，所述的接水盤位于溫育盤的下面，并位于反應(yīng)杯孔的正下方。
[0011]進一步的技術(shù)方案，所述的加熱片通過膠黏貼于溫育盤背面。
[0012]進一步的技術(shù)方案，所述的反應(yīng)杯孔的底部還設(shè)有小圓孔，所述的溫度傳感器固定在溫育盤背面的小圓孔內(nèi)。
[0013]進一步的技術(shù)方案，所述的反應(yīng)杯孔的外側(cè)為鏤空狀。
[0014]進一步的技術(shù)方案，所述的溫育盤采用純鋁材料。
[0015]有益效果
[0016]與現(xiàn)有技術(shù)相比，本實用新型具備如下顯著優(yōu)點:
[0017]1、本實用新型的溫育盤下裝有導電滑環(huán)裝置，加熱片和溫度傳感器的線是接在導電滑環(huán)上，有效解決轉(zhuǎn)盤式導致線路纏繞的問題，并節(jié)約空間，使得加熱片可以直接通過膠黏貼于溫育盤背面，實現(xiàn)快速加熱。
[0018]2、本實用新型通過溫度傳感器控制溫度，保持溫育盤為恒溫狀態(tài)，受外界因素影響很小，使得測量數(shù)據(jù)更準確。
[0019]3、本實用新型的溫育盤為純鋁材料，導熱性好，能夠?qū)崿F(xiàn)快速加熱。
[0020]4、本實用新型的轉(zhuǎn)盤電機帶動溫育盤旋轉(zhuǎn)到相應(yīng)的位置，配合其他操作，例如加樣、混勻、磁分離。
[0021]5、本實用新型的接水盤設(shè)于溫育盤的下面，并位于反應(yīng)杯孔的正下方，當反應(yīng)杯發(fā)生漏液情況時，能夠有效防止試劑外流，避免安全事故問題的發(fā)生。
[0022]6、本實用新型的反應(yīng)杯孔的外側(cè)為鏤空狀，有利于配合磁分離操作。
【附圖說明】
[0023]圖1為本實用新型的結(jié)構(gòu)不意圖；
[0024]圖2為本實用新型的剖視圖；
[0025]圖3為本實用新型的溫育盤的背面圖；
[0026]圖中標號說明:1、溫育盤，2、導電滑環(huán)，3、轉(zhuǎn)盤電機，4、加熱片，5、溫度傳感器，6、支架，7、接水盤，8、反應(yīng)杯孔。
【具體實施方式】
[0027]下面結(jié)合附圖和實施例對本實用新型作進一步詳細的說明。
實施例
[0028]如圖1至3所示，溫育裝置，包括溫育盤1、導電滑環(huán)2、轉(zhuǎn)盤電機3、加熱片4、溫度傳感器5、支架6，所述的溫育盤I設(shè)于支架6上，所述的溫育盤I的背面設(shè)有加熱片4和溫度傳感器5;
[0029]所述的導電滑環(huán)2設(shè)于溫育盤的中心，加熱片4和溫度傳感器5的導線均纏繞在導電滑環(huán)2上；
[0030]所述的轉(zhuǎn)盤電機3的轉(zhuǎn)動軸和溫育盤I的中心相連；
[0031]所述的溫育盤I的圓邊上設(shè)有若干反應(yīng)杯孔8。
[0032]溫育裝置還包括接水盤7，所述的接水盤7位于溫育盤I的下面，并位于反應(yīng)杯孔8的正下方。所述的加熱片4通過膠黏貼于溫育盤I背面。所述的反應(yīng)杯孔8的底部還設(shè)有小圓孔，所述的溫度傳感器5固定在溫育盤背面的小圓孔內(nèi)。所述的反應(yīng)杯孔8的外側(cè)為鏤空狀。所述的溫育盤I采用純鋁材料。
【主權(quán)項】
1.溫育裝置，其特征在于，包括溫育盤、導電滑環(huán)、轉(zhuǎn)盤電機、加熱片、溫度傳感器、支架，所述的溫育盤設(shè)于支架上，所述的溫育盤的背面設(shè)有加熱片和溫度傳感器； 所述的導電滑環(huán)設(shè)于溫育盤的中心，加熱片和溫度傳感器的導線均纏繞在導電滑環(huán)上； 所述的轉(zhuǎn)盤電機的轉(zhuǎn)動軸和溫育盤的中心相連； 所述的溫育盤的圓邊上設(shè)有若干反應(yīng)杯孔。2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的溫育裝置，其特征在于，溫育裝置還包括接水盤，所述的接水盤位于溫育盤的下面，并位于反應(yīng)杯孔的正下方。3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的溫育裝置，其特征在于，所述的加熱片通過膠黏貼于溫育盤背面。4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的溫育裝置，其特征在于，所述的反應(yīng)杯孔的底部還設(shè)有小圓孔，所述的溫度傳感器固定在溫育盤背面的小圓孔內(nèi)。5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的溫育裝置，其特征在于，所述的反應(yīng)杯孔的外側(cè)為鏤空狀。6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的溫育裝置，其特征在于，所述的溫育盤采用純鋁材料。
【文檔編號】G01N1/44GK205449642SQ201620142951
【公開日】2016年8月10日
【申請日】2016年2月24日
【發(fā)明人】何仕釗
【申請人】南京諾爾曼生物技術(shù)有限公司