Cvs電鍍液有機(jī)添加劑自動(dòng)檢測(cè)裝置的制造方法
【專(zhuān)利摘要】本實(shí)用新型涉及一種CVS電鍍液有機(jī)添加劑自動(dòng)檢測(cè)裝置包括外殼和設(shè)置在外殼右側(cè)的自動(dòng)檢測(cè)單元，所述外殼內(nèi)上部設(shè)置自動(dòng)加液?jiǎn)卧?，外殼?nèi)下部設(shè)置控制系統(tǒng)，所述的自動(dòng)檢測(cè)單元包括電解池、排液管和廢液收集瓶，自動(dòng)加液?jiǎn)卧ㄈ齻€(gè)兩通道高精度分配泵、一個(gè)三通道高精度分配泵和一個(gè)六通道高精度分配泵，本實(shí)用新型采用精度為泵量程/24000的多通道高精度分配泵，控制精準(zhǔn)，能準(zhǔn)確抽取液體的體積范圍寬，既保證了檢測(cè)的準(zhǔn)確性，又降低了配制多個(gè)不同量程注射泵的配制成本,集成化程度高，結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)單，性?xún)r(jià)比高，可連續(xù)自動(dòng)對(duì)批量電鍍液樣品中的有機(jī)添加劑進(jìn)行測(cè)試，提高了分析效率，改善了檢測(cè)精度。
【專(zhuān)利說(shuō)明】
CVS電鍍液有機(jī)添加劑自動(dòng)檢測(cè)裝置
技術(shù)領(lǐng)域
[0001]本實(shí)用新型涉及電鍍液檢測(cè)儀器技術(shù)領(lǐng)域，是一種集成化程度高、控制精準(zhǔn)、可連續(xù)自動(dòng)對(duì)批量電鍍液樣品中的光亮劑、抑制劑和整平劑進(jìn)行測(cè)試的CVS電鍍液有機(jī)添加劑自動(dòng)檢測(cè)裝置。
【背景技術(shù)】
[0002]在電鍍行業(yè)，有機(jī)添加劑是電鍍液的有機(jī)組成成分，其含量甚微，但對(duì)電鍍產(chǎn)品的質(zhì)量和性能改善起重要作用。通常所述的有機(jī)添加劑包括光亮劑、抑制劑和整平劑，其能調(diào)節(jié)鍍層金屬的沉積速率，使鍍層金屬以穩(wěn)定的速率進(jìn)行沉積，獲得均勻光亮的鍍層。因此，在電鍍過(guò)程中，檢測(cè)或?qū)崟r(shí)監(jiān)控電鍍液中有機(jī)添加劑的含量是生產(chǎn)控制的重要環(huán)節(jié)。
[0003]有機(jī)添加劑多為大分子聚合物，其含量難以通過(guò)簡(jiǎn)單的化學(xué)分析的方法進(jìn)行確定。最初的檢測(cè)方法是以一種基于操作經(jīng)驗(yàn)為主的霍爾槽(Hull)實(shí)驗(yàn)法，這種方法僅能提供電鍍液中有機(jī)添加劑整體效果的定性參考，而不能提供定量信息，且此種方法依賴(lài)于操作人員的實(shí)踐經(jīng)驗(yàn)，操作人員不同，結(jié)果可能相差很大，無(wú)法準(zhǔn)確地對(duì)電鍍液中有機(jī)添加劑進(jìn)行檢測(cè)和監(jiān)控?，F(xiàn)有的分析技術(shù)公開(kāi)了一種能夠精確地測(cè)定電鍍液中有機(jī)添加劑含量的方法，即CVS法。該方法為在電鍍液中的一個(gè)惰性電極上施加周期性電壓以便于鍍層在電極表面交替地進(jìn)行沉積和溶出，所述有機(jī)添加劑對(duì)鍍層金屬的沉積速率會(huì)產(chǎn)生影響。其中，所述周期性電壓處在一個(gè)固定的電壓限制范圍內(nèi)，通過(guò)上述周期性的電壓變化能得到溶出峰，并根據(jù)溶出峰的面積與有機(jī)添加劑濃度的標(biāo)準(zhǔn)曲線(xiàn)來(lái)測(cè)定待測(cè)電鍍液中的有機(jī)添加劑的濃度。一般情況下，電鍍液中同時(shí)存在三種有機(jī)添加劑:光亮劑、抑制劑和整平劑，而這三種添加劑對(duì)鍍層金屬沉積速率的影響不同，在通過(guò)CVS法分析某一種有機(jī)添加劑的濃度時(shí)，必須將其他兩種有機(jī)添加劑進(jìn)行屏蔽。為了提高分析結(jié)果的準(zhǔn)確性，對(duì)這三種有機(jī)添加劑的分析步驟分別采取比較特殊的處理。目前，現(xiàn)存的基于CVS法有機(jī)添加劑分析儀可實(shí)現(xiàn)電鍍液中有機(jī)添加劑的定量檢測(cè)，但也存在不足:采用模塊化設(shè)計(jì)，結(jié)構(gòu)復(fù)雜，造價(jià)高；自動(dòng)化程度不高，某些步驟仍需要人為手動(dòng)操作，費(fèi)時(shí)耗力，人為誤差較大。
【實(shí)用新型內(nèi)容】
[0004]本實(shí)用新型的目的在于提供一種集成化程度高、控制精準(zhǔn)、可連續(xù)自動(dòng)對(duì)批量電鍍液樣品中的光亮劑、抑制劑和整平劑進(jìn)行測(cè)試的CVS電鍍液有機(jī)添加劑自動(dòng)檢測(cè)裝置。
[0005]本實(shí)用新型是這樣實(shí)現(xiàn)的:一種CVS電鍍液有機(jī)添加劑自動(dòng)檢測(cè)裝置包括外殼和設(shè)置在外殼右側(cè)的自動(dòng)檢測(cè)單元，其特征在于:所述外殼內(nèi)上部設(shè)置自動(dòng)加液?jiǎn)卧鈿?nèi)下部設(shè)置控制系統(tǒng)，外殼前壁中部位置設(shè)置樣品瓶架，樣品瓶架內(nèi)從左到右依次設(shè)置試劑瓶A、試劑瓶B、試劑瓶C、超純水瓶、空白鍍液瓶、電鍍液樣品瓶A、電鍍液樣品瓶B、電鍍液樣品瓶C、電鍍液樣品瓶D、電鍍液樣品瓶E，外殼前壁左部靠近底部位置設(shè)置RS232接口，所述的自動(dòng)檢測(cè)單元包括電解池、排液管和廢液收集瓶，所述的外殼右側(cè)壁中部位置設(shè)置平臺(tái)，電解池安置在平臺(tái)上，電解池上部設(shè)置蓋子，蓋子上部設(shè)置套管，套管的左端面與外殼的右側(cè)壁相連接，蓋子中部豎直穿過(guò)設(shè)置工作電極，工作電極左側(cè)設(shè)置參比電極，工作電極右側(cè)設(shè)置輔助電極，工作電極頂部設(shè)置接觸電刷，接觸電刷上部設(shè)置旋轉(zhuǎn)電機(jī)，電解池底部中心位置設(shè)置排液管，排液管穿過(guò)平臺(tái)與廢液收集瓶連通，排液管上設(shè)置電磁閥，所述的工作電極的上部、參比電極的上部、輔助電極的上部和接觸電刷、旋轉(zhuǎn)電機(jī)設(shè)置在套管內(nèi)，所述的自動(dòng)加液?jiǎn)卧ㄈ齻€(gè)兩通道高精度分配栗、一個(gè)三通道高精度分配栗和一個(gè)六通道高精度分配栗，所述的兩通道高精度分配栗分別為兩通道高精度分配栗A、兩通道高精度分配栗B、兩通道高精度分配栗C，所述的兩通道高精度分配栗上設(shè)有兩個(gè)接口，兩通道高精度分配栗上方的接口經(jīng)管路與電解池連通，兩通道高精度分配栗A左邊的接口經(jīng)管路穿過(guò)外殼前壁與試劑瓶A連通，兩通道高精度分配栗B左邊的接口經(jīng)管路穿過(guò)外殼前壁與試劑瓶B連通，兩通道高精度分配栗C左邊的接口經(jīng)管路穿過(guò)外殼前壁與試劑瓶C連通，所述的三通道高精度分配栗上設(shè)有三個(gè)接口，三通道高精度分配栗上方的接口經(jīng)管路與電解池連通，三通道高精度分配栗左邊的接口經(jīng)管路穿過(guò)外殼前壁與超純水瓶連通，三通道高精度分配栗右邊的接口經(jīng)管路穿過(guò)外殼前壁與空白鍍液瓶連通，所述的六通道高精度分配栗上設(shè)有六個(gè)接口，六通道高精度分配栗其中一個(gè)的接口經(jīng)管路與電解池連通，六通道高精度分配栗上另外五個(gè)接口分別經(jīng)管路穿過(guò)外殼前壁與電鍍液樣品瓶A、電鍍液樣品瓶B、電鍍液樣品瓶C、電鍍液樣品瓶D、電鍍液樣品瓶E連通，所述的控制系統(tǒng)包括電路板，電路板上設(shè)置單片機(jī)、分配栗的閥步進(jìn)驅(qū)動(dòng)模塊、分配栗的活塞步進(jìn)驅(qū)動(dòng)模塊、循環(huán)伏安電流檢測(cè)模塊、旋轉(zhuǎn)電機(jī)驅(qū)動(dòng)模塊、電源管理模塊、電磁閥驅(qū)動(dòng)模塊。
[0006]所述工作電極為旋轉(zhuǎn)鉑盤(pán)電極。
[0007]所述電解池的底部為圓錐型。
[0008]所述的兩通道高精度分配栗、三通道高精度分配栗、六通道高精度分配栗采用的美國(guó)Kloehn公司的名為NX3 Pump型號(hào)的產(chǎn)品，該產(chǎn)品栗精度為栗量程/24000。
[0009]本實(shí)用新型采用精度為栗量程/24000的多通道高精度分配栗，控制精準(zhǔn)，能準(zhǔn)確抽取液體的體積范圍寬，既保證了檢測(cè)的準(zhǔn)確性，又降低了配制多個(gè)不同量程注射栗的配制成本；同時(shí)，本實(shí)用新型集自動(dòng)換樣、自動(dòng)加液、自動(dòng)檢測(cè)、自動(dòng)沖洗及自動(dòng)處理數(shù)據(jù)于一體，集成化程度高，結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)單，性?xún)r(jià)比高，可連續(xù)自動(dòng)對(duì)批量電鍍液樣品中的有機(jī)添加劑進(jìn)行測(cè)試，提高了分析效率，改善了檢測(cè)精度。
【附圖說(shuō)明】
[0010]圖1是本實(shí)用新型的外觀(guān)圖。
[0011]圖2是本實(shí)用新型的內(nèi)部結(jié)構(gòu)示意圖。
【具體實(shí)施方式】
[0012]下面結(jié)合附圖對(duì)本實(shí)用新型做進(jìn)一步的說(shuō)明。
[0013]實(shí)施例1:如圖1、圖2所示，本實(shí)用新型是這樣實(shí)現(xiàn)的:一種CVS電鍍液有機(jī)添加劑自動(dòng)檢測(cè)裝置包括外殼4和設(shè)置在外殼4右側(cè)的自動(dòng)檢測(cè)單元2，所述外殼4內(nèi)上部設(shè)置自動(dòng)加液?jiǎn)卧?，外殼4內(nèi)下部設(shè)置控制系統(tǒng)3，外殼4前壁中部位置設(shè)置樣品瓶架5，樣品瓶架5內(nèi)從左到右依次設(shè)置試劑瓶6A、試劑瓶6B、試劑瓶6C、超純水瓶14、空白鍍液瓶15、電鍍液樣品瓶28A、電鍍液樣品瓶28B、電鍍液樣品瓶28C、電鍍液樣品瓶28D、電鍍液樣品瓶28E，外殼4前壁左部靠近底部位置設(shè)置RS232接口21，所述的自動(dòng)檢測(cè)單元2包括電解池18、排液管19和廢液收集瓶17，所述的外殼4右側(cè)壁中部位置設(shè)置平臺(tái)12，電解池18安置在平臺(tái)12上，電解池18上部設(shè)置蓋子27，蓋子27上部設(shè)置套管11，套管11的左端面與外殼4的右側(cè)壁相連接，蓋子27中部豎直穿過(guò)設(shè)置工作電極25，工作電極25左側(cè)設(shè)置參比電極24，工作電極25右側(cè)設(shè)置輔助電極26，工作電極25頂部設(shè)置接觸電刷23，接觸電刷23上部設(shè)置旋轉(zhuǎn)電機(jī)22，電解池18底部中心位置設(shè)置排液管19，排液管19穿過(guò)平臺(tái)12與廢液收集瓶17連通，排液管19上設(shè)置電磁閥20，所述的工作電極25的上部、參比電極24的上部、輔助電極26的上部和接觸電刷23、旋轉(zhuǎn)電機(jī)22設(shè)置在套管11內(nèi)，所述的自動(dòng)加液?jiǎn)卧狪包括三個(gè)兩通道高精度分配栗7、一個(gè)三通道高精度分配栗8和一個(gè)六通道高精度分配栗9，所述的兩通道高精度分配栗7分別為兩通道高精度分配栗7A、兩通道高精度分配栗7B、兩通道高精度分配栗7C，所述的兩通道高精度分配栗7上設(shè)有兩個(gè)接口 10，兩通道高精度分配栗7上方的接口 10經(jīng)管路16與電解池18連通，兩通道高精度分配栗7A左邊的接口 10經(jīng)管路16穿過(guò)外殼4前壁與試劑瓶6A連通，兩通道高精度分配栗7B左邊的接口 10經(jīng)管路16穿過(guò)外殼4前壁與試劑瓶6B連通，兩通道高精度分配栗7C左邊的接口 10經(jīng)管路16穿過(guò)外殼4前壁與試劑瓶6C連通，所述的三通道高精度分配栗8上設(shè)有三個(gè)接口 10，三通道高精度分配栗8上方的接口 10經(jīng)管路16與電解池18連通，三通道高精度分配栗8左邊的接口 10經(jīng)管路16穿過(guò)外殼4前壁與超純水瓶14連通，三通道高精度分配栗8右邊的接口 10經(jīng)管路16穿過(guò)外殼4前壁與空白鍍液瓶15連通，所述的六通道高精度分配栗9上設(shè)有六個(gè)接口 10，六通道高精度分配栗9其中一個(gè)的接口 10經(jīng)管路16與電解池18連通，六通道高精度分配栗9上另外五個(gè)接口 10分別經(jīng)管路16穿過(guò)外殼4前壁與電鍍液樣品瓶28A、電鍍液樣品瓶28B、電鍍液樣品瓶28C、電鍍液樣品瓶28D、電鍍液樣品瓶28E連通，所述的控制系統(tǒng)3包括電路板13，電路板13上設(shè)置單片機(jī)31、分配栗的閥步進(jìn)驅(qū)動(dòng)模塊32、分配栗的活塞步進(jìn)驅(qū)動(dòng)模塊33、循環(huán)伏安電流檢測(cè)模塊34、旋轉(zhuǎn)電機(jī)驅(qū)動(dòng)模塊35、電源管理模塊30、電磁閥驅(qū)動(dòng)模塊29。
[0014]所述工作電極20優(yōu)選為旋轉(zhuǎn)鉑盤(pán)電極，直徑為2?3mm，消除擴(kuò)散層等因素的影響，提高靈敏度，減小測(cè)試誤差。
[0015]所述電解池18為玻璃材質(zhì)，直徑為5cm，容量為120 mL，其底部為圓錐型，排液口設(shè)在錐尖處，以便在重力作用下排盡電解池內(nèi)的液體。
[0016]所述參比電極24為雙鹽橋Ag/AgCl參比電極，內(nèi)參比溶液為3 mo I/L KCL溶液，夕卜參比溶液為10% H2S04溶液;所述輔助電極為鉑柱電極，直徑為Imm，長(zhǎng)度為I Cm。
[0017]所述的兩通道高精度分配栗7、三通道高精度分配栗8、六通道高精度分配栗9采用的美國(guó)Kloehn公司的名為NX3 Pump型號(hào)的產(chǎn)品，該產(chǎn)品栗精度為栗量程/24000。
[0018]所述的單片機(jī)31經(jīng)分配栗的活塞步進(jìn)驅(qū)動(dòng)模塊33和分配栗的閥步進(jìn)驅(qū)動(dòng)32模塊分別與六通道高精度分配栗9、三通道高精度分配栗8、兩通道高精度分配栗7A、兩通道高精度分配栗7B、兩通道高精度分配栗7C連接構(gòu)成控制回路，單片機(jī)31經(jīng)循環(huán)伏安電流檢測(cè)模塊34與工作電極25、參比電極23、輔助電極26連接構(gòu)成測(cè)試控制回路，單片機(jī)31通過(guò)循環(huán)伏安電流檢測(cè)模塊34按設(shè)定的掃描方式控制工作電極25與參比電極24之間的電位，測(cè)量通過(guò)工作電極25的電流并將檢測(cè)的信號(hào)傳輸?shù)酵ㄟ^(guò)RS232接口 21連接的電腦，單片機(jī)31經(jīng)旋轉(zhuǎn)電機(jī)驅(qū)動(dòng)模塊35與旋轉(zhuǎn)電機(jī)22連接構(gòu)成控制回路，單片機(jī)31經(jīng)電磁閥驅(qū)動(dòng)模塊35與電磁閥20連接構(gòu)成控制回路，單片機(jī)31經(jīng)RS232接口 21與電腦連接。
[0019]所述的試劑瓶A內(nèi)加入光亮劑藥水，試劑瓶B內(nèi)加入抑制劑藥水，試劑瓶C內(nèi)加入整平劑藥水，空白鍍液瓶?jī)?nèi)加入空白鍍液，超純水瓶?jī)?nèi)加入超純水。
[0020]結(jié)合實(shí)施例對(duì)本實(shí)用新型的工作流程作進(jìn)一步說(shuō)明。
[0021](I)取樣:分別取酸性鍍銅液樣品A、酸性鍍銅液樣品B、酸性鍍銅液樣品C、酸性鍍銅液樣品D、酸性鍍銅液樣品E于電鍍液樣品瓶A、電鍍液樣品瓶B、電鍍液樣品瓶C、電鍍液樣品瓶D、電鍍液樣品瓶E中。
[0022](2)啟動(dòng)測(cè)試程序:打開(kāi)測(cè)試軟件，設(shè)定測(cè)試程序，點(diǎn)擊軟件中“運(yùn)行”，開(kāi)始測(cè)試。
[0023](3)自動(dòng)清洗電解池:三通道高精度分配栗選擇從超純水瓶中抽取超純水llOmL，注入電解池中，然后電磁閥打開(kāi)，排出電解池內(nèi)的液體于廢液收集瓶中。
[0024](4)建立抑制劑標(biāo)準(zhǔn)曲線(xiàn):①三通道高精度分配栗選擇從空白鍍液瓶中抽取空白鍍液100 mL，注入到電解池中，進(jìn)行CV掃描測(cè)試，記錄溶出峰面積PO;②兩通道高精度分配栗B從試劑瓶B中抽取抑制劑藥水I yL，注入到電解池中，進(jìn)行CV掃描測(cè)試，記錄溶出峰面積PI;③重復(fù)②η次，直到滿(mǎn)足抑制劑標(biāo)準(zhǔn)曲線(xiàn)的要求為止;④電磁閥打開(kāi)，排出電解池內(nèi)的液體于廢液收集瓶中；⑤電腦根據(jù)設(shè)定的數(shù)據(jù)處理方法作出抑制劑的標(biāo)準(zhǔn)曲線(xiàn)，該標(biāo)準(zhǔn)曲線(xiàn)不需每次分析前建立，可根據(jù)實(shí)際需要I?2周建立一次即可。
[0025](5)重復(fù)步驟(3)。
[0026](6)建立整平劑標(biāo)準(zhǔn)曲線(xiàn):①三通道高精度分配栗選擇從空白鍍液瓶中抽取空白鍍液94 mL，注入到電解池中，兩通道高精度分配栗A從試劑瓶A中抽取光亮劑藥水I mL，注入到電解池中，兩通道高精度分配栗B從試劑瓶B瓶17中抽取抑制劑藥水5 mL，注入到電解池中，進(jìn)行CV掃描測(cè)試，記錄溶出峰面積QO;②兩通道高精度分配栗C從試劑瓶C中抽取整平劑藥水15 yL，注入到電解池中，進(jìn)行CV掃描測(cè)試，記錄溶出峰面積Ql;③重復(fù)②η次，直到滿(mǎn)足整平劑標(biāo)準(zhǔn)曲線(xiàn)的要求為止;④電磁閥打開(kāi)，排出電解池內(nèi)的液體于廢液收集瓶中；⑤電腦根據(jù)設(shè)定的數(shù)據(jù)處理方法作出整平劑的標(biāo)準(zhǔn)曲線(xiàn)，該標(biāo)準(zhǔn)曲線(xiàn)不需每次分析前建立，可根據(jù)實(shí)際需要I?2周建立一次即可。
[0027](7)自動(dòng)潤(rùn)洗取樣通道:六通道高精度分配栗選擇從電鍍液樣品瓶A中抽取酸性鍍銅液樣品A I mL，注入到電解池中，然后電磁閥打開(kāi)，排出電解池內(nèi)的液體于廢液收集瓶中。
[0028](8)重復(fù)步驟(3)。
[0029](9)光亮劑測(cè)試:①三通道高精度分配栗選擇從空白鍍液瓶中抽取空白鍍液85mL，注入到電解池中，兩通道高精度分配栗B從試劑瓶B中抽取抑制劑藥水5 mL，注入到電解池中，進(jìn)行CV掃描測(cè)試，記錄溶出峰面積AO;②六通道高精度分配栗選擇從電鍍液樣品瓶A中抽取酸性鍍銅液樣品A 10 mL，注入到電解池中，進(jìn)行CV掃描測(cè)試，記錄溶出峰面積Ax;③兩通道高精度分配栗A從試劑瓶中抽取光亮劑藥水10yL，注入到電解池中，進(jìn)行CV掃描測(cè)試，記錄溶出峰面積Al;④兩通道高精度分配栗A從試劑瓶中抽取光亮劑藥水10 yL，注入到電解池中，進(jìn)行CV掃描測(cè)試，記錄溶出峰面積A2;⑤電磁閥打開(kāi)，排出電解池內(nèi)的液體于廢液收集瓶中；⑥電腦根據(jù)設(shè)定的光亮劑濃度計(jì)算方法算出電鍍液樣品A中光亮劑的濃度。
[0030](10)重復(fù)步驟(3)。
[0031 ] (11)抑制劑測(cè)試:①三通道高精度分配栗選擇從空白鍍液瓶中抽取空白鍍液10mL，注入到電解池中，進(jìn)行CV掃描測(cè)試，記錄溶出峰面積BO;②六通道高精度分配栗選擇從電鍍液樣品瓶A中抽取酸性鍍銅液樣品A 100 yL，注入到電解池中，進(jìn)行CV掃描測(cè)試，記錄溶出峰面積BI;③重復(fù)②η次，直到滿(mǎn)足抑制劑的測(cè)試要求為止;④電磁閥打開(kāi)，排出電解池內(nèi)的液體于廢液收集瓶中；⑤電腦根據(jù)設(shè)定的抑制劑濃度計(jì)算方法算出電鍍液樣品A中抑制劑的濃度。
[0032](12)重復(fù)步驟(3)。
[0033](13)整平劑測(cè)試:①三通道高精度分配栗選擇從空白鍍液瓶中抽取空白鍍液84mL，注入到電解池中，兩通道高精度分配栗A從試劑瓶A抽取光亮劑藥水I mL，注入到電解池中，兩通道高精度分配栗B從試劑瓶B抽取抑制劑藥水5 mL，注入到電解池中，進(jìn)行CV掃描測(cè)試，記錄溶出峰面積CO;②六通道高精度分配栗選擇從電鍍液樣品瓶A中抽取酸性鍍銅液樣品A 10 mL，注入到電解池中，進(jìn)行CV掃描測(cè)試，記錄溶出峰面積Cx;③電磁閥打開(kāi)，排出電解池內(nèi)的液體于廢液收集瓶中；④電腦根據(jù)設(shè)定的整平劑濃度計(jì)算方法算出電鍍液樣品A中整平劑的濃度。
[0034](14)自動(dòng)換樣:六通道高精度分配栗選擇從試劑瓶B中抽取酸性鍍銅液樣品B，重復(fù)步驟(7)~(13)，直到酸性鍍銅液樣品E分析完畢，程序運(yùn)行結(jié)束。
[0035](15)最后電腦給出這五個(gè)樣品的檢測(cè)報(bào)告。
[0036]以上所述，僅為本實(shí)用新型較佳實(shí)施例而已，故不能以此限定本實(shí)用新型實(shí)施的范圍，即依本實(shí)用新型申請(qǐng)專(zhuān)利范圍及說(shuō)明書(shū)內(nèi)容所作的等效變化和修飾，皆應(yīng)仍屬本實(shí)用新型專(zhuān)利涵蓋的范圍內(nèi)。
【主權(quán)項(xiàng)】
1.一種CVS電鍍液有機(jī)添加劑自動(dòng)檢測(cè)裝置，包括外殼和設(shè)置在外殼右側(cè)的自動(dòng)檢測(cè)單元，其特征在于:所述外殼內(nèi)上部設(shè)置自動(dòng)加液?jiǎn)卧?，外殼?nèi)下部設(shè)置控制系統(tǒng)，外殼前壁中部位置設(shè)置樣品瓶架，樣品瓶架內(nèi)從左到右依次設(shè)置試劑瓶A、試劑瓶B、試劑瓶C、超純水瓶、空白鍍液瓶、電鍍液樣品瓶A、電鍍液樣品瓶B、電鍍液樣品瓶C、電鍍液樣品瓶D、電鍍液樣品瓶E，外殼前壁左部靠近底部位置設(shè)置RS232接口，所述的自動(dòng)檢測(cè)單元包括電解池、排液管和廢液收集瓶，所述的外殼右側(cè)壁中部位置設(shè)置平臺(tái)，電解池安置在平臺(tái)上，電解池上部設(shè)置蓋子，蓋子上部設(shè)置套管，套管的左端面與外殼的右側(cè)壁相連接，蓋子中部豎直穿過(guò)設(shè)置工作電極，工作電極左側(cè)設(shè)置參比電極，工作電極右側(cè)設(shè)置輔助電極，工作電極頂部設(shè)置接觸電刷，接觸電刷上部設(shè)置旋轉(zhuǎn)電機(jī)，電解池底部中心位置設(shè)置排液管，排液管穿過(guò)平臺(tái)與廢液收集瓶連通，排液管上設(shè)置電磁閥，所述的工作電極的上部、參比電極的上部、輔助電極的上部和接觸電刷、旋轉(zhuǎn)電機(jī)設(shè)置在套管內(nèi)，所述的自動(dòng)加液?jiǎn)卧ㄈ齻€(gè)兩通道高精度分配栗、一個(gè)三通道高精度分配栗和一個(gè)六通道高精度分配栗，所述的兩通道高精度分配栗分別為兩通道高精度分配栗A、兩通道高精度分配栗B、兩通道高精度分配栗C，所述的兩通道高精度分配栗上設(shè)有兩個(gè)接口，兩通道高精度分配栗上方的接口經(jīng)管路與電解池連通，兩通道高精度分配栗A左邊的接口經(jīng)管路穿過(guò)外殼前壁與試劑瓶A連通，兩通道高精度分配栗B左邊的接口經(jīng)管路穿過(guò)外殼前壁與試劑瓶B連通，兩通道高精度分配栗C左邊的接口經(jīng)管路穿過(guò)外殼前壁與試劑瓶C連通，所述的三通道高精度分配栗上設(shè)有三個(gè)接口，三通道高精度分配栗上方的接口經(jīng)管路與電解池連通，三通道高精度分配栗左邊的接口經(jīng)管路穿過(guò)外殼前壁與超純水瓶連通，三通道高精度分配栗右邊的接口經(jīng)管路穿過(guò)外殼前壁與空白鍍液瓶連通，所述的六通道高精度分配栗上設(shè)有六個(gè)接口，六通道高精度分配栗其中一個(gè)的接口經(jīng)管路與電解池連通，六通道高精度分配栗上另外五個(gè)接口分別經(jīng)管路穿過(guò)外殼前壁與電鍍液樣品瓶A、電鍍液樣品瓶B、電鍍液樣品瓶C、電鍍液樣品瓶D、電鍍液樣品瓶E連通，所述的控制系統(tǒng)包括電路板，電路板上設(shè)置單片機(jī)、分配栗的閥步進(jìn)驅(qū)動(dòng)模塊、分配栗的活塞步進(jìn)驅(qū)動(dòng)模塊、循環(huán)伏安電流檢測(cè)模塊、旋轉(zhuǎn)電機(jī)驅(qū)動(dòng)模塊、電源管理模塊。2.根據(jù)權(quán)利要求1中所述的一種CVS電鍍液有機(jī)添加劑自動(dòng)檢測(cè)裝置，其特征在于:所述工作電極為旋轉(zhuǎn)鉑盤(pán)電極。3.根據(jù)權(quán)利要求1中所述的一種CVS電鍍液有機(jī)添加劑自動(dòng)檢測(cè)裝置，其特征在于:所述電解池的底部為圓錐型。4.根據(jù)權(quán)利要求1中所述的一種CVS電鍍液有機(jī)添加劑自動(dòng)檢測(cè)裝置，其特征在于:所述的兩通道高精度分配栗、三通道高精度分配栗、六通道高精度分配栗的栗精度均為栗量程/24000。
【文檔編號(hào)】G01N35/00GK205594015SQ201620299338
【公開(kāi)日】2016年9月21日
【申請(qǐng)日】2016年4月12日
【發(fā)明人】胡浩, 鞠青, 曾翠平
【申請(qǐng)人】廈門(mén)納精分析儀器有限公司