專利名稱：基板處理系統(tǒng)及其控制方法、控制程序、存儲介質(zhì)的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及對半導體晶片等的基板的曝光處理前后進行處理的基板處理系統(tǒng)及其控制方法、以及控制程序、存儲有該控制程序的存儲介質(zhì)。
背景技術(shù)：
例如在半導體器件的制造工藝中，將保護液供給半導體晶片(以下稱為“晶片”)的表面，提供保護液并形成保護膜，在對涂敷保護層后的晶片，進行預定圖案的曝光處理之后，使該晶片的保護膜上形成的曝光圖案顯影，通過這種所謂的光刻技術(shù)，作為用于形成預定的圖案的掩模，形成保護層圖形。
在這種光刻工序中，眾所周知，將曝光裝置與基板處理系統(tǒng)連接，可以節(jié)省空間、提高生產(chǎn)率，其中該基板處理系統(tǒng)為如下結(jié)構(gòu)將曝光裝置和前后進行保護涂敷或顯影、烘焙等工序的多個模塊集中為一體(例如，特開平2001-345241號公報)。
但是，如上所述，在將多個模塊集中為一體而構(gòu)成的基板處理系統(tǒng)中，設(shè)置有使基板在各模塊之間移動的傳送機構(gòu)，但曝光的前處理和后處理(即，模塊)的組合和處理順序多種多樣，使基板在這些模塊之間移動的傳送機構(gòu)的有效控制，就成為決定基板處理系統(tǒng)性能的重要因素。
目前，在這種基板處理系統(tǒng)內(nèi)的傳送機構(gòu)的控制方法中，作為傳送機構(gòu)的管理信息，將當前的基板位置信息(基板在哪一個模塊內(nèi))預先存儲在存儲器內(nèi)，然后，基于傳送方案(由模塊的組合，和模塊間的一系列傳送順序構(gòu)成的信息)每次決定傳送的位置。因此，在采用多個模塊的復雜的傳送方案的處理中，存在不能預測基板的傳送時間，而發(fā)生傳送時間多會混亂的情況的問題。這一問題在順序執(zhí)行的多個組間傳送方案不同時更加顯著。
另外，如上所述，由于這種基板的傳送時間不能預測，所以不會產(chǎn)生組間的基板超越等不合適的情況，使多個組并列的處理困難，在連續(xù)處理傳送方案不同的多個組時，需要在先行的組處理完全結(jié)束的時候使后續(xù)的組開始，整體處理時間就是各個組所需時間的簡單之和，也存在生產(chǎn)率的提高不理想這一問題。
另外，由于不能預先決定基板通過的模塊，所以，在組處理過程中，預測、控制以后基板的傳送時間的前饋控制也困難。
而且，由于每次決定基板的傳送位置，故例如，系統(tǒng)管理者難于在視覺上把握在組之間的基板整體的傳送情況，從優(yōu)化操作的觀點看，還有改善的余地。

發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明是鑒于這種情況而進行的，其目的在于，提供一種基板處理系統(tǒng)及其控制方法，在連續(xù)執(zhí)行多種多樣的傳送方案時抑制傳送時間的混亂，可以實現(xiàn)穩(wěn)定的基板傳送處理。
另外，本發(fā)明的目的在于，提供一種基板處理系統(tǒng)及其控制方法，在連續(xù)地處理多種傳送方案的多個組時，可以實現(xiàn)由于處理時間縮短而產(chǎn)生的生產(chǎn)率的提高。
另外，本發(fā)明的目的在于，提供一種基板處理系統(tǒng)及其控制方法，可以實現(xiàn)由基板傳送處理的前饋控制形成的多種傳送控制。
而且，本發(fā)明的目的在于，提供一種基板處理系統(tǒng)及其控制方法，可以提高基板傳送控制的操作性。
而且，本發(fā)明的目的在于，提供一種存儲介質(zhì)，存儲有可以實現(xiàn)以上那種控制的控制程序以及那種的程序。
為了解決所述課題，本發(fā)明的第1觀點是提供一種基板處理系統(tǒng)，其具有基板送入送出的多個模塊和使所述基板在所述模塊間移動的基板移動機構(gòu)，其包括傳送控制表，存儲表示所述基板傳送時間與該基板被送入、送出的所述模塊的關(guān)系的傳送時間表；控制單元，具有在所述傳送控制表上生成組單位的多個所述基板的所述傳送時間表的功能，以及基于從所述傳送控制表讀出的所述傳送時間表，來控制所述基板移動機構(gòu)的功能。
本發(fā)明的第2觀點是提供一種基板處理系統(tǒng)，具有基板送入送出的多個模塊，和使所述基板在所述模塊間移動的基板移動機構(gòu)，其包括傳送控制表，其存儲表示所述基板傳送時間與該基板被送入、送出的所述模塊的關(guān)系的傳送時間表；控制單元，其具有，將組單位的多個所述基板的所述傳送時間表在所述傳送控制表上生成的功能；在不干擾多個所述組的各個所述傳送時間表的范圍內(nèi)，將后續(xù)的所述組的所述傳送時間表的開始時間，設(shè)定在先行的所述組的結(jié)束時間之前的功能；以及，基于從所述傳送控制表讀出的所述傳送時間表來控制所述基板移動機構(gòu)的功能。
本發(fā)明的第3觀點是提供一種基板處理系統(tǒng)，具有基板送入送出的多個模塊，和使所述基板在所述模塊間移動的基板移動機構(gòu)，其包括傳送控制表，其由設(shè)定在預定的周期內(nèi)進行所述基板傳送動作的傳送時間的時間軸以及排列所述基板被送入送出的所述模塊的傳送流程軸構(gòu)成；控制單元，具有，在所述傳送控制表中，對于指定特定的所述傳送時間及所述模塊而被特定的單元，設(shè)定進、出所述模塊的各個所述基板的識別信息，由此，生成組單位的多個所述基板的所述傳送時間表的功能；在不干擾被包含在設(shè)定于所述傳送控制表上的多個所述組的各個所述傳送時間表中的所述單元群構(gòu)成的圖形的輪廓的范圍內(nèi)，使被包含于后續(xù)的所述組的所述傳送時間表的所述單元群整體，沿所述時間軸方向一直向前移動的功能；基于從所述傳送控制表在每個所述傳送時間讀出的所述傳送時間表，來控制所述基板移動機構(gòu)的功能。
本發(fā)明的第4觀點是提供一種基板處理系統(tǒng)，具有對半導體基板進行保護涂敷的涂敷模塊，將涂敷在所述半導體基板的保護層進行顯影的顯影模塊，對所述半導體基板進行疏水處理、加熱處理、冷卻處理、保持處理中的任一處理的處理模塊，使所述半導體基板在所述模塊之間移動的基板移動機構(gòu)，包括傳送控制表，其由設(shè)定在預定的周期內(nèi)進行所述半導體基板傳送動作的傳送時間的時間軸以及排列所述基板被送入送出的所述模塊的傳送流程軸構(gòu)成；控制單元，包含以下功能在所述傳送控制表中，對于指定特定的所述傳送時間及所述模塊而被特定的單元，設(shè)定進、出所述模塊的在各個所述半導體基板的識別信息，由此，生成組單位的多個所述半導體基板的所述傳送時間表的功能；在不干擾被包含在在所述傳送控制表上設(shè)定的多個所述組的各個所述傳送時間表中的所述單元群構(gòu)成的圖形的輪廓的范圍內(nèi)，使被包含于后續(xù)的所述組的所述傳送時間表的所述單元群整體，沿所述時間軸方向一直向前移動的功能；基于從所述傳送控制表在每個所述傳送時間讀出的所述傳送時間表，來控制所述基板移動機構(gòu)的功能。
本發(fā)明的第5觀點是提供一種基板處理系統(tǒng)的控制方法，該基板處理系統(tǒng)具有基板被送入送出的多個模塊，和使所述基板在所述模塊間移動的基板移動機構(gòu)；該方法包括在存儲表示所述基板傳送時間和該基板被送入、送出的所述模塊之間關(guān)系的傳送時間表的傳送控制表上，生成組單位的多個所述基板的所述傳送時間表的步驟；基于從所述傳送控制表讀出的所述傳送時間表，來控制所述基板移動機構(gòu)的步驟。
本發(fā)明的第6觀點是提供一種基板處理系統(tǒng)的控制方法，該基板處理系統(tǒng)具有基板送入送出的多個模塊，和使所述基板在所述模塊間移動的基板移動機構(gòu)；該方法包括在存儲表示所述基板傳送時間和該基板被送入、送出的所述模塊之間關(guān)系的傳送時間表的傳送控制表上，生成組單位的多個所述基板的所述傳送時間表的步驟；在不干擾設(shè)定于所述傳送控制表上的多個所述組的各個所述傳送時間表的范圍內(nèi)，將后續(xù)的所述組的所述傳送時間表的開始時間，移動到先行的所述組的結(jié)束時間之前的步驟；基于從所述傳送控制表讀出的所述傳送時間表，來控制所述基板移動機構(gòu)的步驟。
本發(fā)明的第7觀點是提供一種基板處理系統(tǒng)的控制方法，該基板處理系統(tǒng)具有基板送入送出的多個模塊，和使所述基板在模塊間移動的基板移動機構(gòu)；該方法包括在由設(shè)定在預定的周期內(nèi)進行所述基板的傳送動作的傳送時間的時間軸與排列所述基板被送入送出的所述模塊的傳送流程軸構(gòu)成的傳送控制表上，對于指定特定的所述傳送時間及所述模塊而被特定的單元，設(shè)定進、出所述模塊的在各個所述基板的識別信息，由此，生成組單位的多個所述基板的所述傳送時間表的步驟；在不干擾被包含在設(shè)定于所述傳送控制表上的多個所述組的各個所述傳送時間表中的所述單元群構(gòu)成的圖形的輪廓的范圍內(nèi)，使被包含于后續(xù)的所述組的所述傳送時間表的所述單元群整體，沿所述時間軸方向一直向前移動的步驟；基于從所述傳送控制表在每個所述傳送時間讀出的所述傳送時間表，來控制所述基板移動機構(gòu)的步驟。
本發(fā)明的第8觀點是提供一種基板處理系統(tǒng)的控制方法，該基板處理系統(tǒng)具有對半導體基板進行保護涂敷的涂敷模塊；將涂敷在所述半導體基板的保護層進行顯影的顯影模塊；對所述半導體基板進行疏水處理、加熱處理、冷卻處理、保持處理中任一處理的處理模塊；使所述半導體基板在所述模塊之間移動的基板移動機構(gòu)；該方法包括在由設(shè)定在預定的周期內(nèi)進行所述半導體基板的傳送動作的傳送時間的時間軸與排列所述基板被送入送出的所述模塊的傳送流程軸構(gòu)成的傳送控制表上，對于指定特定的所述傳送時間及所述模塊而被特定的單元，設(shè)定進、出所述模塊的在各個所述半導體基板的識別信息，由此，生成組單位的多個所述半導體基板的所述傳送時間表的步驟；在不干擾被包含在設(shè)于所述傳送控制表上的多個所述組的各個所述傳送時間表中的所述單元群構(gòu)成的圖形的輪廓的范圍內(nèi)，使被包含于后續(xù)的所述組的所述傳送時間表的所述單元群整體，沿所述時間軸方向一直向前移動的步驟；基于從所述傳送控制表在每個所述傳送時間讀出的所述傳送時間表，來控制所述基板移動機構(gòu)的步驟。
本發(fā)明的第9觀點是提供一種基板處理系統(tǒng)的控制程序，該基板處理系統(tǒng)具有送入、送出基板的多個模塊，使所述基板在所述模塊之間移動的基板移動機構(gòu)，控制所述模塊及所述基板移動機構(gòu)的計算機；該控制程序在所述計算機中執(zhí)行如下步驟在存儲表示所述基板傳送時間與該基板被送入、送出的所述模塊之間關(guān)系的傳送時間表的傳送控制表上，生成組單位的多個所述基板的所述傳送時間表的步驟；
基于從所述傳送控制表讀出的所述傳送時間表，來控制所述基板移動機構(gòu)的步驟。
本發(fā)明的第10觀點是提供一種基板處理系統(tǒng)的控制程序，該基板處理系統(tǒng)具有基板被送入、送出的多個模塊，和將所述基板在所述模塊之間移動的基板移動機構(gòu)，和控制所述模塊及所述基板移動機構(gòu)的計算機；該控制程序在所述計算機中執(zhí)行如下步驟在存儲表示所述基板傳送時間與該基板被送入、送出的所述模塊之間關(guān)系的傳送時間表的傳送控制表上，生成組單位的多個所述基板的所述傳送時間表的步驟；在不干擾在所述傳送控制表上被設(shè)定的多個所述組的各個所述傳送時間表的范圍內(nèi)，將后續(xù)的所述組的所述傳送時間表的開始時間，移動到先行的所述組的結(jié)束時間之前的步驟；基于從所述傳送控制表讀出的所述傳送時間表，來控制所述基板移動機構(gòu)的步驟。
本發(fā)明的第11觀點是提供一種計算機可讀取的存儲介質(zhì)，其存儲有基板處理系統(tǒng)的控制程序，該基板處理系統(tǒng)具有基板被送入、送出的多個模塊、將所述基板在所述模塊之間移動的基板移動機構(gòu)、以及控制所述模塊及所述基板移動機構(gòu)的計算機，該控制程序，在所述計算機中，可以執(zhí)行以下步驟在存儲表示所述基板傳送時間與該基板被送入、送出的所述模塊之間關(guān)系的傳送時間表的傳送控制表上，生成組單位的多個所述基板的所述傳送時間表的步驟；基于從所述傳送控制表讀出的所述傳送時間表，來控制所述基板移動機構(gòu)的步驟。
本發(fā)明的第12觀點是提供一種計算機可以讀取的存儲介質(zhì)，其存儲基板處理系統(tǒng)的控制程序，該基板處理系統(tǒng)具有基板被送入、送出的多個模塊、將所述基板在所述模塊之間移動的基板移動機構(gòu)、以及控制所述模塊及所述基板移動機構(gòu)的計算機，該控制程序在所述計算機中執(zhí)行以下步驟在存儲表示所述基板傳送時間與該基板被送入、送出的所述模塊之間關(guān)系的傳送時間表的傳送控制表上，生成組單位的多個所述基板的所述傳送時間表的步驟；
在不干擾在所述傳送控制表上設(shè)定的所述多個組的各個所述傳送時間表的范圍內(nèi)，將后續(xù)的所述組的所述傳送時間表的開始時間，移動到先行的所述組的結(jié)束時間之前的步驟；基于從所述傳送控制表讀出的所述傳送時間表，來控制所述基板移動機構(gòu)的步驟。
根據(jù)所述的本發(fā)明，基板的傳送時間與通過模塊的關(guān)系，就組內(nèi)的整晶片來說，被設(shè)定在傳送控制表上，將該設(shè)定在時間軸方向以預定的周期依次讀出，并控制基板移動機構(gòu)，由此進行基板的傳送，因此，與每次傳送、決定基板傳送位置的情況相比，能夠抑制傳送時間產(chǎn)生混亂。另外，在連續(xù)處理復雜的傳送方案的組時，不會發(fā)生在組間的晶片產(chǎn)生超越等不良現(xiàn)象，使各個組的傳送開始的時間最佳，在先行組的處理完全結(jié)束之前，就可使后續(xù)組的傳送開始，通過縮短由多個組并行傳送處理引起的處理時間，來提高生產(chǎn)率。
另外，由于預先決定在各傳送時間通過的模塊，所以通過前饋控制，可進行加進了各模塊的處理特性的控制。
另外，通過使傳送控制表可視化顯示，系統(tǒng)管理者能夠把握各個模塊或傳送機構(gòu)的工作狀況，提高操作性。


圖1是表示適用本發(fā)明的一實施方式的基板處理系統(tǒng)的半導體晶片的保護涂敷顯影處理系統(tǒng)整體結(jié)構(gòu)的平面圖。
圖2是表示圖1所示的保護涂敷顯影處理系統(tǒng)的前視圖。
圖3是表示圖1所示的保護涂敷顯影處理系統(tǒng)的后視圖。
圖4表示圖1的保護涂敷顯影處理系統(tǒng)的控制系統(tǒng)結(jié)構(gòu)之一例的概圖。
圖5是用于說明在本發(fā)明一實施方式的基板處理系統(tǒng)中使用的傳送控制表的概圖。
圖6是表示圖1的保護涂敷顯影處理系統(tǒng)的主晶片傳送機構(gòu)22的控制動作的控制流程的流程圖。
圖7是表示圖1的保護涂敷顯影處理系統(tǒng)的晶片傳送機構(gòu)24的控制動作的控制流程的流程圖。
圖8是表示用于圖6、7的控制的傳送控制表之一例的圖。
圖9A是表示適用于連續(xù)處理不同的多個組時的實施方式的傳送流程的圖。
圖9B、9C是表示用于實施圖9A的傳送流程的傳送時間表的概圖。
圖10是用于實現(xiàn)圖9B、9C的傳送時間表的流程圖。
圖11A是表示將圖9A的傳送流程具體化的傳送流程的圖。
圖11B、11C表示基于圖11A的傳送流程，使圖9B、9C的概圖實體化了的傳送臺之一例的圖。
圖12A是表示將圖9A的傳送流程具體化了的傳送流程的圖。
圖12B、12C是表示基于圖12A的傳送流程，使圖9B、9C的概圖實體化了的傳送臺的其他例的圖。
圖13A是表示使圖9A的傳送流程具體化了的傳送流程的圖。
圖13B是表示基于圖13A的傳送流程，使圖9B、9C的概圖實體化了的傳送臺的另外其他例的圖。
具體實施例方式
下面，參照附圖詳細說明本發(fā)明的實施方式。
圖1是表示本發(fā)明的基板處理系統(tǒng)的一實施方式的保護涂敷顯影處理系統(tǒng)的概略平面圖，圖2是其前視圖，圖3是其后視圖。在這些圖中，將在平面內(nèi)互相正交的方向表示為X-Y，垂直方向表示為Z。
另外，圖4是表示本實施方式的保護涂敷顯影處理系統(tǒng)的控制系統(tǒng)的結(jié)構(gòu)之一例的概圖，圖5是表示適用于本實施方式的傳送控制表的一例的概圖。
該保護涂敷顯影處理系統(tǒng)1具有，作為傳送站的盒站10；具有多個模塊的處理站11；用于在鄰接處理站11設(shè)置的沒有圖示的曝光裝置之間接受晶片W的接口部12。
上述盒站10是用于在將作為被處理體的晶片W以多片例如25片為單位裝載在晶片箱CR上的狀態(tài)下，由其他系統(tǒng)傳送到該系統(tǒng)，或由該系統(tǒng)傳送到其他系統(tǒng)，或在晶片箱CR與處理站11之間，進行晶片W的傳送的。
在該盒站10中，如圖1所示，在載置晶片箱CR的載置臺20上，沿圖中X方向，形成多個(圖中4個)定位突起20a，可在該定位突起20a的位置，晶片箱CR將各晶片出入口面對處理站11側(cè)，載置為一排。在晶片箱CR中，晶片W沿垂直方向(Z方向)排列。另外，盒站10具有位于載置臺20與處理站11之間的晶片傳送機構(gòu)21。該晶片傳送機構(gòu)21可以沿箱排列方向(X方向)以及其中的晶片W的晶片排列方向(Z方向)移動，并且具有可以沿Y方向進退的晶片傳送用臂21a，通過該晶片傳送用臂21a，可對任一晶片箱CR進行選擇性訪問。另外，晶片傳送用臂21a可沿θ方向旋轉(zhuǎn)而構(gòu)成，也可以訪問屬于后述的處理站11側(cè)的第3模塊群G3的擴展單元(EXT)。
上述處理站11，具有用于實施對晶片W進行涂敷、顯影時的一系列工序的多個模塊，這些被多級配置在預定位置，由此，一片片處理晶片W。該處理站11如圖1所示，中心部具有傳送路22a，其中間設(shè)置有主晶片傳送機構(gòu)22，繞傳送路22a的周圍配置全部的模塊。這些多個模塊被分為多個模塊群，沿各模塊群垂直方向多級配置多個模塊。
如圖3所示，主晶片傳送機構(gòu)22在筒狀支承體49的內(nèi)側(cè)沿上下方向(Z方向)升降自如地裝備晶片傳送裝置46。筒狀支承體49可以通過電動機(未圖示)的旋轉(zhuǎn)驅(qū)動力而旋轉(zhuǎn)，同時，晶片傳送裝置46也隨之可以一體旋轉(zhuǎn)。
晶片傳送裝置46具有沿傳送基臺47的前后方向自由移動的多個保持部件48，通過這些保持部件48實現(xiàn)晶片W在各模塊間傳遞。
另外，如圖1所示，在該實施方式中，4個模塊群G1、G2、G3、G4配置在傳送路22a的周圍，模塊群G5可以根據(jù)需要配置。
其中，第1以及第2模塊群G1、G2并列配置在系統(tǒng)正面?zhèn)龋?模塊群G3與盒站10鄰接配置，第4模塊群G4與接口部12鄰接配置。另外，模塊群G5可以配置在背面部。
在第1模塊群G1中，將在杯CP內(nèi)將晶片W載置在旋轉(zhuǎn)卡盤(沒有圖示)，將保護層涂敷于晶片W的保護涂敷模塊(COT)，以及同樣在杯CP內(nèi)使保護層的圖案顯影的顯影模塊(DEV)，從下邊依次重疊為2級。第2模塊群G2也一樣，作為2級旋轉(zhuǎn)型模塊，將保護涂敷模塊(COT)及顯影模塊(DEV)從下邊依次重疊為2級。
在第3模塊群G3中，如圖3所示，將晶片W載置在載置臺SP上并進行預定的處理的爐式模塊重疊為多級。即，將用于提高保護層的固定性的所謂的疏水處理的附著單元(AD)、進行晶片W送入送出的2個擴展單元(EXE)，進行冷卻處理的冷卻單元(COL)、曝光處理前或曝光處理后進而在顯影處理后對晶片W進行加熱處理的4個加熱板單元(HP)，從下邊依次重疊為8級。再有，也可設(shè)置冷卻單元(COL)，在冷卻單元(COL)令其具有校準功能。
第4模塊群G4也將爐式模塊重疊為多級。即，將冷卻單元(COL)、具有冷卻板的晶片送入送出部的擴展冷卻單元(EXTCOL)、擴展單元(EXT)、冷卻單元(COL)、以及4個加熱板單元(HP)從下邊依次重疊為8級。
在主晶片傳送機構(gòu)22的背部側(cè)設(shè)置第5模塊群G5時，從主晶片傳送機構(gòu)22看，能沿導軌25向側(cè)面移動。因此，即使在設(shè)置了第5模塊群G5的情況，也可以通過將其沿導軌25滑動來確?？臻g部，所以，可容易地對主晶片傳送機構(gòu)22從背后進行維護操作。
上述接口部12中，內(nèi)行方向(X方向)的長度與處理站11一樣，如圖1、圖2所示，可在該接口部12的正面部2級配置可移動的發(fā)送器箱CR與固定安置型的緩沖器箱BR，在背面部配置周邊曝光裝置23，在中央部配置晶片傳送機構(gòu)24。該晶片傳送機構(gòu)24具有晶片傳送用臂24a，該晶片傳送用臂24a可以沿X方向、Y方向、Z方向移動并訪問兩個箱CR、BR及周邊曝光裝置23。另外，該晶片傳送用臂24a可沿θ方向旋轉(zhuǎn)，可訪問屬于處理站11的第4模塊群G4的擴展單元(EXT)，或可進一步訪問在鄰接的曝光裝置側(cè)的晶片傳遞臺(沒有圖示)。
其次，說明如上所述的本實施方式的保護涂敷顯影處理系統(tǒng)的控制系統(tǒng)的一例。
如圖4所示，本實施方式的保護涂敷顯影處理系統(tǒng)具有，控制整個系統(tǒng)的控制器50，和控制存儲器51，控制存儲器51存儲使該控制器50動作的程序60或后述的傳送控制表70等的控制信息?？刂破?0由計算機系統(tǒng)構(gòu)成，通過輸入、輸出接口52連接于上述的G1～G4的多個單元(模塊)，利用程序60控制在各個單元的上述各種處理。
另外，晶片傳送機構(gòu)21、主晶片傳送機構(gòu)22、晶片傳送機構(gòu)24也通過輸入輸出接口52連接于控制器50，在依靠程序60的控制器50的控制下，進行如后述的晶片傳送動作。
操作盤53與控制器50相連接，操作板53具有顯示器53a和鍵盤53b等用戶接口，系統(tǒng)管理者從外部給與指令控制該控制器50的動作，或可以輸入用于控制信息的設(shè)定或更新的信息。
參照圖5說明傳送控制表70的一例。本實施方式的傳送控制表70由具有傳送流程軸71和具有傳送時間軸72的二維表構(gòu)成，其中，傳送流程軸71為了實現(xiàn)對晶片W的一系列處理(以下稱為處理方案)，而排列有特定使用的多個單元的模塊信息73，傳送時間軸72在各個單元之間以預定的順序表示移動晶片W的傳送循環(huán)74。
在傳送流程軸71的各個模塊信息73中存儲有，規(guī)定各個模塊的模塊名稱等模塊ID73a，和設(shè)定在其處理方案的該模塊的默認的動作條件等的信息的處理參數(shù)73b。
在傳送時間軸72的各傳送循環(huán)74的記錄中存儲有，表示實施順序的傳送循環(huán)編號74a、表示各傳送循環(huán)的實施周期的循環(huán)時間74b、以及表示在與傳送處理有關(guān)的各個傳送機構(gòu)的該傳送循環(huán)的動作結(jié)束的實施中的標志74c。
而且，在排列在傳送時間軸72的多個傳送循環(huán)的每一個，和傳送流程軸71的模塊信息73的交點的單元(以縱橫網(wǎng)線切割的欄)上，設(shè)定關(guān)于在其傳送循環(huán)應該送入其單元的晶片W的晶片識別信息75(傳送JOB)。在每一個晶片識別信息75中存儲有以下信息各組內(nèi)的晶片編號等晶片ID75a；表示對該模塊的該晶片傳送結(jié)束(表示當前在其模塊內(nèi)是否有晶片，ON有，OFF無)的傳送結(jié)束標志75b；替換所述默認的處理參數(shù)，在該模塊中，將固有參數(shù)設(shè)定于該單元時使用的處理參數(shù)75c。
在傳送控制表70的所述模塊信息73、傳送循環(huán)74、晶片識別信息75等信息，隨時顯示在顯示器53a上，操作者可以用鍵盤53b等進行編輯。
其次，說明本實施方式的處理動作的一例。在本實施方式的保護涂敷顯影處理系統(tǒng)1中，利用晶片傳送機構(gòu)21分別將處理前的晶片W一片一片地從晶片箱CR取出，送入處理站11的擴展單元(EXT)。接著，將這里載置的晶片W由主晶片傳送機構(gòu)22送出，送入附著單元(AD)，實施附著處理。該附著處理結(jié)束后，由主晶片傳送機構(gòu)22將晶片W送出，送入冷卻單元(COL)內(nèi)，在此進行冷卻。隨后，將晶片W送入保護涂敷單元(COT)，進行保護涂敷，而且，在加熱板單元(HP)內(nèi)進行預烘焙處理，通過擴展·冷卻單元(EXT COL)送入接口部(EIS)12，由此，利用晶片傳送機構(gòu)24經(jīng)周邊曝光裝置23(WEE)送到鄰接的沒有圖示的曝光裝置。
另外，利用晶片傳送機構(gòu)24，通過接口部(EIS)12、擴展單元(EXT)將以曝光裝置進行曝光處理了的晶片W送入處理站11。在處理站11中，將晶片W利用主晶片傳送機構(gòu)22送入加熱板單元(HP)，實施快速曝光處理，進而送入顯影單元(DEV)實施顯影處理，然后，在加熱板單元(HP)進行后烘焙處理，在冷卻單元(COL)冷卻之后，通過擴展單元(EXT)送入盒站10。這樣，晶片傳送機構(gòu)21將進行預定的處理后的晶片W收入晶片箱CR。
參照圖6～圖8說明這種一系列處理的晶片W的傳送動作中的主晶片傳送機構(gòu)22以及晶片傳送機構(gòu)24的控制動作的一例。圖6是表示主晶片傳送機構(gòu)22傳送動作的控制流程的流程圖，圖7是表示晶片傳送機構(gòu)24傳送動作的控制流程的流程圖，圖8是表示用于圖6、7的控制的傳送控制表的一例的圖。在以下的說明中，用如下這種表達進行說明，即在模塊間的晶片傳送中，傳送機構(gòu)將晶片W取出的模塊叫做“From模塊”，傳送機構(gòu)將保持的晶片W放入的模塊叫做“To模塊”。另外，晶片傳送機構(gòu)21是進行用于將晶片W從箱CR中取出，以及處理結(jié)束后將晶片W收入的簡單動作，所以省略說明。
首先，如圖6的流程圖所示，控制器50在組開始(傳送流程X(傳送方案))(步驟101)時，基于預先指定的該組的處理方案以及組內(nèi)的晶片W的片數(shù)，如圖8所例示的那樣，在傳送控制表70上展開、生成傳送時間表SX，管理每個晶片W按哪一個傳送循環(huán)的時間傳送到哪一個模塊等的信息(步驟102)。即，在各傳送流程軸71的M1、M2...上，在上述例中，配置(設(shè)定)模塊(在本實施方式中，僅晶片W通過的緩沖器也作為模塊處理)，該模塊與一直到CR、EXT、AD、COL、COT、HP、EXTCOL、EIS、WEE、EIS的曝光前處理，和一直到EXT、HP、DEV、COL、EXT、CR曝光后的每一個處理有關(guān)，在傳送時間軸72上展開傳送循環(huán)74，展開、制作傳送時間表SX，該時間表SX由該二維空間內(nèi)的晶片識別信息75(單元)的每一個，在各傳送循環(huán)中，指定了組內(nèi)的每一個晶片W應該位于的模塊的單元群(圖8的雙線包圍的圖形區(qū)域)構(gòu)成。
此時，前組與下一個組生成傳送時間表的圖案(單元群)，以在前組最后的晶片W處理了之后，下一個組最初的晶片W處理開始的方式，并進行后述的各組開始時間的最優(yōu)化。
另外，如上所述，自動生成的傳送時間表SX根據(jù)需要可在操作板53的顯示器53a可視化顯示，系統(tǒng)管理者也可以視覺性把握整個晶片的傳送情況，同時，用鍵盤53b等編輯傳送時間表。
而且，將如上所述生成的傳送時間表的最初的傳送循環(huán)74設(shè)為實施中的狀態(tài)(將主晶片傳送機構(gòu)22以及晶片傳送機構(gòu)24的實施中的標志都設(shè)置為ON)(步驟103)，開始傳送動作。
而且，在圖6的流程圖所例示的主晶片傳送機構(gòu)22的控制中，在傳送控制表70的當前的傳送循環(huán)(行方向)中，按傳送順序檢索從各模塊依次應該取出的晶片W(步驟104)。具體地說，在屬于當前傳送循環(huán)的晶片識別信息75中，沿傳送流程軸71檢索傳送結(jié)束標志75b是ON的From模塊(在傳送循環(huán)中處理結(jié)束，可以進行晶片付出的狀態(tài))，根據(jù)檢索結(jié)果，從From模塊取出晶片W，將取出了的模塊的傳送結(jié)束標志75b設(shè)為OFF(步驟105)。
而且，檢查在取出的該晶片W的傳送目標的To模塊中是否有別的晶片W(檢查To模塊的晶片識別信息75中，傳送結(jié)束標志75b是否為ON)，在To模塊有晶片(ON)時，在晶片傳送順時針方向的模塊間反復進行以下動作調(diào)換主晶片傳送機構(gòu)22持有的晶片與該模塊內(nèi)的晶片(步驟106、步驟108)，在To模塊沒有晶片時，將晶片送入To模塊(步驟107)。
然后，檢查該傳送循環(huán)內(nèi)是否留有未實施的傳送處理(步驟109)，在留有時，反復進行步驟104以后的步驟，當沒有留有時，在當前的傳送循環(huán)中，將本晶片傳送機構(gòu)的實施中標志74c設(shè)為OFF狀態(tài)，同時，等待該傳送循環(huán)內(nèi)全部的晶片傳送機構(gòu)的傳送結(jié)束(傳送循環(huán)74的實施中標志74c全部為OFF)(步驟110)，之后，將當前實施中的傳送循環(huán)設(shè)為結(jié)束狀態(tài)(步驟111)，檢查是否有未實施的傳送循環(huán)(步驟112)，在有未實施的傳送循環(huán)時，將下邊的傳送循環(huán)變更為實施中的狀態(tài)(步驟113)，反復進行步驟104以后的步驟。另外，在所述步驟112中，在沒有未實施的傳送循環(huán)時，結(jié)束傳送控制。
另一方面，在未圖示的曝光裝置與進行晶片傳遞的晶片傳送機構(gòu)24中，如圖7的流程圖所示，直到步驟101～103都是共同的，而晶片流程，從WEE到付出，是一個方向的傳送動作，因此，不會產(chǎn)生晶片的調(diào)換處理，成為省略所述圖6中的步驟106～108的動作。
即，在傳送控制表70的當前的傳送循環(huán)(行方向)中，按傳送順序檢索從各模塊依次應該取出的晶片W(步驟121)，根據(jù)檢索結(jié)果，從From模塊取出晶片W，設(shè)取出了的模塊的傳送結(jié)束標志75b為OFF，將晶片送入To模塊(步驟122)。
之后，檢查該傳送循環(huán)內(nèi)是否留有傳送JOB(步驟123)，在留有時，反復進行步驟121以后的步驟，在沒有留有時，在當前的傳送循環(huán)中，將本晶片傳送機構(gòu)的實施中標志74c設(shè)為OFF狀態(tài)，并且，等待該傳送循環(huán)內(nèi)的全部的晶片傳送機構(gòu)的傳送結(jié)束(傳送循環(huán)74的實施中標志74c全部為OFF)(步驟124)，之后，設(shè)當前實施中的傳送循環(huán)為結(jié)束狀態(tài)(步驟125)，檢查是否有未實施的傳送循環(huán)(步驟126)，在有未實施的傳送循環(huán)時，將下一個傳送循環(huán)變更為實施中的狀態(tài)(步驟127)，反復進行步驟121以后的步驟。另外，在所述步驟126中，在沒有未實施的傳送循環(huán)時，結(jié)束傳送控制。
這樣，將傳送時間表設(shè)定在傳送控制表70上，每個時間軸方向的傳送循環(huán)讀出該設(shè)定結(jié)果來控制傳送動作，由此，在采用多個模塊的復雜的傳送方案(傳送流程)中，也可以在組的開始時，對組內(nèi)的所有晶片確定每個晶片W的傳送時間，因此，不會發(fā)生傳送時間混亂等不合適的情況，在保護涂敷顯影系統(tǒng)內(nèi)，可實現(xiàn)穩(wěn)定的晶片傳送。
另外，即使在傳送處理開始后，如果還是其傳送循環(huán)的開始前，則也可進行適當變更在傳送控制表70上設(shè)定好的傳送時間表的前饋控制，可進行各種各樣的傳送時間表的設(shè)定或傳送時間表的變更。
另外，各晶片傳送機構(gòu)在傳送循環(huán)中以一定周期動作，所以，不會發(fā)生隨著一系列的在模塊中的移動的處理過程的混亂，可對組內(nèi)全部的晶片W實施均勻處理。
一個組的處理如上所述的那樣，但如圖9A所示，連續(xù)處理多個組(傳送流程A的A組，傳送流程B的B組)時，步驟102的傳送時間表非生成處理，作為一例如圖10所示。即，首先指定晶片處理的方案(傳送方案)(步驟102a)，對所有組反復進行(步驟102c)在傳送控制表70上自動生成其組的傳送時間表的處理(步驟102b)。即，對傳送流程A、傳送流程B依次進行如上述圖8所說明的向傳送控制表70上的傳送時間表的生成。這時，如圖9B所示，前組與下一個組，以在前組最后的晶片W處理了之后，下一個組最初的晶片W處理開始的方式，生成傳送時間表的圖案。
而且，如圖9C所示，使傳送控制表70內(nèi)的傳送時間表SB的單元群全體相對于生成的前邊的組的傳送時間表SA移動，以使后續(xù)的傳送時間表SB在該傳送時間表SB(以晶片識別信息75的單元群構(gòu)成的圖形輪廓)不干擾該傳送時間表SA(以晶片識別信息75的單元群構(gòu)成的圖形輪廓)的范圍內(nèi)，接近時間軸方向(步驟102d)。由此，后續(xù)的傳送時間表SB的開始時間提前，整體的處理時間，比在A組處理結(jié)束后開始B組的處理的各個處理時間的簡單和要短。
更具體地例示它們的是圖11A～圖11C。如圖11A所示，在進行由A1～A5的多個晶片W構(gòu)成的A組(傳送流程A模塊M1～M8的連續(xù)處理)，和由B1～B5多個晶片W構(gòu)成的B組(傳送流程B模塊M1～M4以及M7、M8的連續(xù)處理)的連續(xù)處理時的傳送控制表70中，在依次處理了A組及B組時，如圖11B所示，整體的處理時間變成A組與B組的和的合計處理時間。
對此，在本實施方式中，如圖11C所例示，在不干擾先行的A組的傳送時間表SA的范圍內(nèi)使B組傳送時間表SB沿時間軸方向移動，所以，B組的晶片B1與A組結(jié)束的傳送循環(huán)11相比從前邊的傳送循環(huán)7開始，在同一傳送循環(huán)內(nèi)與先行的A組并列開始傳送處理。這樣，在本實施方式中，就不會發(fā)生組之間的晶片W的超越等不良現(xiàn)象，將后續(xù)的B組的開始時間提前，將A組與B組的合計處理時間大大縮短，提高生產(chǎn)率。
在圖11A～11C的例中，作為一例，在1個傳送循環(huán)為50秒時，在圖11B的現(xiàn)有的情況下，整體的處理時間＝21×50秒＝1050秒，與此相對，在圖11C的本實施方式中，整體的處理時間＝16×50秒＝800秒，也可以使處理時間縮短25％。
在此，如圖12A所例示，在連續(xù)處理同一傳送流程A、B的多個組時，如圖12B所例示，使在前后的A組以及B組中通用的模塊的傳送開始時間一直向前，以使不產(chǎn)生傳送循環(huán)間隙，也可以提高各個模塊的工作效率。
但是，如同圖，使晶片通過曝光裝置等外部模塊(EIS)以及其前級的緩沖器(BUF)的傳送處理中，受緩沖器中的先行的晶片的滯留狀態(tài)的影響，在后續(xù)的B組內(nèi)的晶片間，從保護涂敷等的曝光前處理到曝光裝置內(nèi)的曝光處理的經(jīng)過時間產(chǎn)生混亂，也有這種不理想的現(xiàn)象。在這種情況，如圖12C所例示，在保持在B組的傳送時間表SB的時間軸方向的晶片識別信息75(單元群)的排列狀態(tài)的位置關(guān)系(單元群的圖形輪廓)的狀態(tài)下，在不干擾先行的A組范圍，一直向前(這時，從傳送循環(huán)16一直向前到傳送循環(huán)9)設(shè)定傳送開始時間。由此，使多個組的整體的處理時間縮短，并且可防止后續(xù)組內(nèi)晶片間的傳送時間受先行的組的傳送狀態(tài)的影響而混亂。
在圖13A所示的先行的A組與后續(xù)的B組中，使用的模塊的種類相同，圖13B表示本實施方式應用于使用方法不同的傳送流程的一例。即，雙方都使用模塊M1～M8是共同的，而在傳送流程A中進行以下多流程在包含所需時間比循環(huán)時間長的特定處理的方案中，使用分別具有相同功能的多個模塊M4以及M5，將晶片分配給該M4以及M5并且并行進行所述特定的處理；在傳送流程B中進行以下單流程前后分配給具有所需時間比循環(huán)時間長的所述特定處理的功能的2個模塊M4和M5，并進行串行處理。在該圖13A的流程中，亦如圖13B所例示，通過將后續(xù)的B組的傳送開始時間一直向前(這時從傳送循環(huán)13一直向前到傳送循環(huán)7)設(shè)定，可期待提高生產(chǎn)率。
另外，本發(fā)明不限于上述實施方式，可以有多種變形。例如作為基板，不限于半導體晶片，可廣泛適用于光掩膜基板、液晶顯示器基板等一般的基板傳送處理。
產(chǎn)業(yè)上的可利用性如上說明，根據(jù)本發(fā)明，可抑制連續(xù)實施多種傳送方案時的傳送時間的混亂，能夠?qū)崿F(xiàn)穩(wěn)定的基板傳送處理。
另外，在連續(xù)進行多種傳送方案的多個組的處理中，能夠?qū)崿F(xiàn)由于縮短時間而產(chǎn)生的生產(chǎn)率的提高。
另外，能夠?qū)崿F(xiàn)在基板處理中的依靠前饋控制的多樣的傳送控制。
另外，能夠提高基板的傳送控制的操作性。
權(quán)利要求
1.一種基板處理系統(tǒng)，其包含基板被送入、送出的多個模塊和使所述基板在所述模塊之間移動的基板移動機構(gòu)，其包括傳送控制表，存儲表示所述基板傳送時間與該基板被送入、送出的所述模塊的關(guān)系的傳送時間表；控制單元，具有在所述傳送控制表上生成組單位的多個所述基板的所述傳送時間表的的功能，以及基于從所述傳送控制表讀出的所述傳送時間表，來控制所述基板移動機構(gòu)的功能。
2.如權(quán)利要求1記載的基板處理系統(tǒng)，其中所述傳送控制表由二維表構(gòu)成，該二維表由設(shè)定在預定的周期內(nèi)進行所述基板傳送動作傳送時間的時間軸與排列有所述基板被送入送出的所述模塊的傳送流程軸構(gòu)成。所述運送時間表如下生成，在所述二維表中，對于指定特定的所述傳送時間及所述模塊而特定的單位存儲區(qū)域，設(shè)定進、出所述模塊的各個所述基板的識別信息。
3.如權(quán)利要求1記載的基板處理系統(tǒng)，其中所述控制單元還具有如下功能，將與由所述模塊的組合及該模塊間的所述基板的移動順序構(gòu)成的傳送方案彼此相等的多個所述組的所述傳送時間表設(shè)定在所述傳送控制表中時，按每個所述傳送方案內(nèi)的各個所述模塊，一直向前地設(shè)定所述傳送時間表。
4.如權(quán)利要求1記載的基板處理系統(tǒng)，其中所述控制單元還具有如下功能，將與由所述模塊的組合及該模塊間的所述基板的移動順序構(gòu)成的傳送方案彼此相等的多個所述組的所述傳送時間表設(shè)定在所述傳送控制表中時，為使對于特定的所述模塊的進、出時間在全部后續(xù)組的所述基板相等，從最佳的開始時間有目地的時間進行延遲使后續(xù)該組的所述傳送時間表的開始時間。
5.如權(quán)利要求1記載的基板處理系統(tǒng)，其中包括可視化顯示所述傳送控制表的設(shè)定內(nèi)容的顯示單元。
6.一種基板處理系統(tǒng)，具有基板被送入、送出的多個模塊和使所述基板在所述模塊之間移動的基板移動機構(gòu)，包括傳送控制表，其存儲表示所述基板的傳送時間和該基板被送入、送出的所述模塊的關(guān)系的傳送時間表；控制單元，具有，將組單位的多個所述基板的所述傳送時間表生成在傳送控制表上的功能；在不干擾多個所述組的各個所述傳送時間表的范圍內(nèi)，將后續(xù)的所述組的所述傳送時間表的開始時間設(shè)定在先行的所述組的結(jié)束時間之前的功能；以及，基于從所述傳送控制表讀出的所述傳送時間表來控制所述基板移動機構(gòu)的功能。
7.如權(quán)利要求6記載的基板處理系統(tǒng)，其中所述傳送控制表由二維表構(gòu)成，該二維表由設(shè)定在預定的周期內(nèi)進行所述基板傳送動作傳送時間的時間軸與排列有所述基板被送入送出的所述模塊的傳送流程軸構(gòu)成。所述傳送時間表如下生成，在所述二維表中，對于指定特定的所述傳送時間及所述模塊而特定的單位存儲區(qū)域，設(shè)定進、出所述模塊的各個所述基板的識別信息。
8.如權(quán)利要求6記載的基板處理系統(tǒng)，其中所述控制單元還具有如下功能，將與由所述模塊的組合及該模塊間的所述基板的移動順序構(gòu)成的傳送方案彼此相等的多個所述組的所述傳送時間表設(shè)定在所述傳送控制表中時，按每個所述傳送方案內(nèi)的各個所述模塊，一直向前地設(shè)定所述傳送時間表。
9.如權(quán)利要求6記載的處理系統(tǒng)，其中所述控制單元還具有如下功能，將與由所述模塊的組合及該模塊間的所述基板的移動順序構(gòu)成的傳送方案彼此相等的多個所述組的所述傳送時間表設(shè)定在所述傳送控制表中時，為使對于特定的所述模塊的進、出時間在全部后續(xù)的所述組的所述基板相等，讓由最佳開始時間有目的地延遲后續(xù)的該組的所述傳送時間表的開始時間。
1O.如權(quán)利要求6記載的基板處理系統(tǒng)，其中包括可視化顯示所述傳送控制表的設(shè)定內(nèi)容的顯示單元。
11.一種基板處理系統(tǒng)，具有基板被送入、送出的多個模塊和使所述基板在所述模塊之間移動的基板移動機構(gòu)，其包括傳送控制表，由設(shè)定在預定的周期內(nèi)進行所述基板的傳送動作的傳送時間的時間軸以及排列所述基板被送入送出的所述模塊的傳送流程軸構(gòu)成；控制單元，其具有，在所述傳送控制表上，對于指定特定的所述傳送時間及所述模塊而特定的單元，設(shè)定進、出所述模塊的各個所述基板的識別信息，由此，生成組單位的多個所述基板的所述傳送時間表的功能；在不干擾被包含在設(shè)定于所述傳送控制表上的多個所述組的各個所述傳送時間表的所述單元群構(gòu)成的圖形的輪廓的范圍內(nèi)，使包含于后續(xù)的所述組的所述傳送時間表的所述單元群整體，沿所述時間軸方向一直向前移動的功能；基于從所述傳送控制表在每個所述傳送時間讀出的所述傳送時間表，來控制所述基板移動機構(gòu)的功能。
12.一種基板處理系統(tǒng)，其具有對半導體基板進行保護涂敷的涂敷模塊，將涂敷在所述半導體基板的保護層進行顯影的顯影模塊，對所述半導體基板進行疏水處理、加熱處理、冷卻處理、保持處理中任一處理的處理模塊，使所述半導體基板在所述模塊之間移動的基板移動機構(gòu)，其包括傳送控制表，由設(shè)定在預定的周期內(nèi)進行所述基板的傳送動作的傳送時間的時間軸以及排列所述基板被送入送出的所述模塊的傳送流程軸構(gòu)成；控制單元，具有，在所述傳送控制表上，對于指定特定的所述傳送時間及所述模塊而特定的單元設(shè)定進、出所述模塊的各個所述半導體基板的識別信息，由此，生成組單位的多個所述半導體基板的所述傳送時間表的功能；在不干擾被包含在設(shè)定于所述傳送控制表上的多個所述組的各個所述傳送時間表的所述單元群構(gòu)成的圖形的輪廓的范圍內(nèi)，使包含于后續(xù)的所述組的所述傳送時間表的所述單元群整體，沿所述時間軸方向一直向前移動的功能；以及基于從所述傳送控制表在每個所述傳送時間讀出的所述傳送時間表，來控制所述基板移動機構(gòu)的功能。
13.一種基板處理系統(tǒng)的控制方法，該基板處理系統(tǒng)具有基板被送入、送出的多個模塊和使所述基板在所述模塊間移動的移動機構(gòu)，該控制方法包括在存儲表示所述基板傳送時間與該基板被送入、送出的所述模塊的關(guān)系的傳送時間表的傳送控制表上，生成組單位的多個所述基板的所述傳送時間表的步驟；基于從所述傳送控制表讀出的所述傳送時間表，來控制所述基板移動機構(gòu)的步驟。
14.如權(quán)利要求13記載的基板處理系統(tǒng)的控制方法，其中所述傳送控制表由二維表構(gòu)成，該二維表由設(shè)定在預定的周期內(nèi)進行所述基板的傳送動作的傳送時間的時間軸和排列有基板被送入送出的所述模塊的傳送流程軸構(gòu)成；在所述二維表中，對于指定特定的所述傳送時間及所述模塊而特定的單位存儲區(qū)域，設(shè)定進、出所述模塊的各個所述基板的識別信息，由此，生成所述傳送時間表。
15.如權(quán)利要求13記載的基板處理系統(tǒng)的控制方法，其中將與由所述模塊的組合及該模塊間的所述基板的移動順序構(gòu)成的傳送方案彼此相等的多個所述組的所述傳送時間表設(shè)定在所述傳送控制表中時，在每個所述傳送方案內(nèi)的各個所述模塊，一直向前地設(shè)定所述傳送時間表。
16.如權(quán)利要求13記載的基板處理系統(tǒng)的控制方法，其中將與由所述模塊的組合及該模塊間的所述基板的移動順序構(gòu)成的傳送方案彼此相等的多個所述組的所述傳送時間表設(shè)定在所述傳送控制表中時，為使相對于特定的所述模塊的進、出時間在全部后續(xù)的所述組的所述基板相等，由最佳的開始時間有目的地延遲后續(xù)的該組的所述傳送時間表的開始時間。
17.如權(quán)利要求13記載的基板處理系統(tǒng)的控制方法，其中將所述傳送控制表的內(nèi)容可視化顯示。
18.一種基板處理系統(tǒng)的控制方法，該基板處理系統(tǒng)具有基板被送入、送出的多個模塊和將所述基板在所述模塊之間移動的基板移動機構(gòu)，該方法包括在存儲表示所述基板的傳送時間與該基板被送入、送出的所述模塊的關(guān)系的傳送時間表的傳送控制表上，生成組單位的多個所述基板的所述傳送時間表的步驟；在不干擾設(shè)定在所述傳送控制表上的多個所述組的各個所述傳送時間表的范圍內(nèi)，將后續(xù)的所述組的所述傳送時間表的開始時間，移動到先行的所述組的結(jié)束時間之前的步驟；基于從所述傳送控制表讀出的所述傳送時間表，來控制所述基板移動機構(gòu)的步驟。
19.如權(quán)利要求18記載的基板處理系統(tǒng)的控制方法，其中所述傳送控制表由二維表構(gòu)成，該二維表由設(shè)定在預定時間地周期內(nèi)進行所述基板地傳送動作地時間軸與排列所述基板被送入送出的所述模塊地傳送流程軸構(gòu)成；在所述二維表中，對于指定特定的所述傳送時間及所述模塊而特定的單位存儲區(qū)域設(shè)定進、出所述模塊的各個所述基板的識別信息，由此，生成所述傳送時間表。
20.如權(quán)利要求18記載的基板處理系統(tǒng)的控制方法，其中將與由所述模塊的組合及該模塊間的所述基板的移動順序構(gòu)成的傳送方案彼此相等的多個所述組的所述傳送時間表設(shè)定在所述傳送控制表中時，在每個所述傳送方案內(nèi)的各個所述模塊，將所述傳送時間表一直向前設(shè)定。
21.如權(quán)利要求18所述的基板處理系統(tǒng)的控制方法，其中將與由所述模塊的組合及該模塊間的所述基板的移動順序構(gòu)成的傳送方案彼此相等的多個所述組的所述傳送時間表設(shè)定在所述傳送控制表中時，為使對特定的所述模塊的進、出時間在全部后續(xù)的所述組的所述基板上相等，由最佳的開始時間有目的地延遲后續(xù)的該組的所述傳送時間表的開始時間。
22.如權(quán)利要求18所述的基板處理系統(tǒng)的控制方法，其中將所述傳送控制表的內(nèi)容可視化顯示。
23.一種基板處理系統(tǒng)的控制方法，該基板處理系統(tǒng)具有基板被送入、送出的多個模塊和使所述基板在所述模塊之間移動的基板移動機構(gòu)，該方法包括在由設(shè)定在預定的周期內(nèi)進行所述基板的傳送動作的傳送時間的時間軸與排列所述基板被送入送出的所述模塊的傳送流程軸構(gòu)成的傳送控制表上，對于指定特定的所述傳送時間及所述模塊而特定的單元設(shè)定進、出所述模塊的各個所述基板的識別信息，由此，生成組單位的多個所述基板的所述傳送時間表的步驟；在不干擾被包含在設(shè)定于所述傳送拉制表上的多個所述組的各個所述傳送時間表的所述單元群構(gòu)成的圖形的輪廓的范圍內(nèi)，使包含于后續(xù)的所述組的所述傳送時間表的所述單元群整體沿所述時間軸方向一直向前移動的步驟；以及，基于從所述傳送控制表在每個所述傳送時間讀出的所述傳送時間表，來控制所述基板移動機構(gòu)的步驟。
24.一種基板處理系統(tǒng)的控制方法，該基板處理系統(tǒng)具有對半導體基板進行保護涂敷的保護涂敷模塊；對涂敷在所述半導體基板的保護層進行顯影的顯影模塊；對所述半導體基板進行疏水處理、加熱處理、冷卻處理、保持處理中任一處理的處理模塊；使所述半導體基板在所述模塊之間移動的移動機構(gòu)，該控制方法包括在由設(shè)定在預定的周期內(nèi)進行所述半導體基板的傳送動作的傳送時間時間軸及排列半導體基板被送入送出的所述模塊的傳送流程軸構(gòu)成的所述傳送控制表上，對于指定特定的所述傳送時間及所述模塊而被特定的單元，設(shè)定進、出所述模塊的各個所述基板的識別信息，由此，生成組單位的多個所述半導體基板的所述傳送時間表的步驟；在不干擾被包含在設(shè)定于所述傳送控制表上的多個所述組的各個所述傳送時間表的所述單元群構(gòu)成的圖形的輪廓的范圍內(nèi)，使包含于后續(xù)的所述組的所述傳送時間表的所述單元群整體，沿所述時間軸方向一直向前移動的步驟；以及，基于從所述傳送控制表在每個所述傳送時間讀出的所述傳送時間表，來控制所述基板移動機構(gòu)的步驟。
25.一種控制程序，該控制程序是基板處理系統(tǒng)的控制程序，該基板處理系統(tǒng)具有基板被送入、送出的多個模塊，使所述基板在所述模塊之間移動的基板移動機構(gòu)以及控制所述模塊及所述基板移動機構(gòu)的計算機，其中在所述計算機中，執(zhí)行以下步驟，在存儲表示所述基板傳送時間與該基板被送入、送出的所述模塊的關(guān)系的傳送時間表的傳送控制表上，生成組單位的多個所述基板的所述傳送時間表的步驟；基于從所述傳送控制表讀出的所述傳送時間表，來控制所述基板移動機構(gòu)的步驟。
26.一種控制程序，該控制程序是基板處理系統(tǒng)的控制程序，該基板處理系統(tǒng)其具有基板被送入、送出的多個模塊，使所述基板在所述模塊之間移動的基板移動機構(gòu)以及控制所述模塊及所述基板移動結(jié)構(gòu)的計算機，其中在所述計算機中，執(zhí)行如下步驟，在存儲表示所述基板傳送時間與該基板被送入、送出的所述模塊的關(guān)系的傳送時間表的傳送控制表上，生成組單位的多個所述基板的所述傳送時間表的步驟；在不干擾設(shè)定在所述傳送控制表上的所述多個組的各個所述傳送時間表的范圍內(nèi)，將后續(xù)的所述組的所述傳送時間表的開始時間移動到先行的所述組的結(jié)束時間之前的步驟；以及，基于從所述傳送控制表讀出的所述傳送時間表，來控制所述基板移動機構(gòu)的步驟。
27.一種存儲控制程序的存儲介質(zhì)，該存儲介質(zhì)是計算機可讀取的存儲介質(zhì)，其存儲基板處理系統(tǒng)的控制程序，該基板處理系統(tǒng)具有基板被送入、送出的多個模塊，使所述基板在所述模塊之間移動的基板移動機構(gòu)，以及控制所述模塊及所述基板移動機構(gòu)的計算機，其中在所述計算機中，執(zhí)行如下步驟，在存儲表示所述基板傳送時間與該基板被送入、送出的所述模塊的關(guān)系的傳送時間表的傳送控制表上，生成組單位的多個所述基板的所述傳送時間表的步驟；基于從所述傳送控制表讀出的所述傳送時間表，來控制所述基板移動機構(gòu)的步驟。
28.一種存儲控制程序的存儲介質(zhì)，該存儲介質(zhì)是計算機可以讀取的存儲介質(zhì)，其存儲基板處理系統(tǒng)的控制程序，該基板處理系統(tǒng)具有基板被送入、送出的多個模塊，使所述基板在所述模塊之間移動的基板移動結(jié)構(gòu)，以及控制所述模塊及所述基板移動機構(gòu)的計算機，其中在所述計算機中，執(zhí)行如下步驟，在存儲表示所述基板傳送時間與該基板被送入、送出的所述模塊的關(guān)系的傳送時間表的傳送控制表上，生成組單位的多個所述基板的所述傳送時間表的步驟；在不干擾設(shè)定在所述傳送控制表上的所述多個組的各個所述傳送時間表的范圍內(nèi)，將后續(xù)的所述組的所述傳送時間表的開始時間，移動到先前所述組的結(jié)束時間之前的步驟；以及，基于從所述傳送控制表讀出的所述傳送時間表，來控制所述基板移動機構(gòu)的步驟。
全文摘要
在傳送控制表上，生成不同的A組、B組的傳送時間表SA及傳送時間表SB，在不與先行的A組的傳送時間表SA產(chǎn)生干擾的范圍內(nèi)，使后續(xù)的傳送時間表SB沿所述時間軸方向一直向前移動，使后續(xù)的傳送時間表SB的開始時間比先行的A組的傳送時間表SA的結(jié)束時間早，使傳送時間表SA與傳送時間表SB并行實施，由此可提高晶片的傳送處理的生產(chǎn)率。
文檔編號G05B19/418GK1799135SQ200480015398
公開日2006年7月5日 申請日期2004年3月26日 優(yōu)先權(quán)日2003年4月2日
發(fā)明者林田安, 原圭孝 申請人:東京毅力科創(chuàng)株式會社