驅(qū)動(dòng)系統(tǒng)及驅(qū)動(dòng)方法、曝光裝置及曝光方法以及驅(qū)動(dòng)系統(tǒng)設(shè)計(jì)方法【專利摘要】在相對(duì)于設(shè)置有對(duì)根據(jù)操作量被驅(qū)動(dòng)的平板載臺(tái)（PST）的位置（第1控制量）進(jìn)行測(cè)量的干涉儀（18X）的平臺(tái)（PTB）所表示共振模式表示反相的共振模式的滑架（30），設(shè)置對(duì)平板載臺(tái)（PST）的位置（第2控制量）進(jìn)行測(cè)量的干涉儀（18X1）。通過使用干涉儀（18X）以及干涉儀（18X1），能夠設(shè)計(jì)驅(qū)動(dòng)平板載臺(tái)（PST）的高頻帶、魯棒的驅(qū)動(dòng)系統(tǒng)。【專利說明】驅(qū)動(dòng)系統(tǒng)及驅(qū)動(dòng)方法、曝光裝置及曝光方法以及驅(qū)動(dòng)系統(tǒng)設(shè)計(jì)方法【
技術(shù)領(lǐng)域：
】[0001]本發(fā)明涉及驅(qū)動(dòng)系統(tǒng)及驅(qū)動(dòng)方法、曝光裝置及曝光方法以及驅(qū)動(dòng)系統(tǒng)設(shè)計(jì)方法，由其涉及賦予操作量來驅(qū)動(dòng)控制對(duì)象的驅(qū)動(dòng)系統(tǒng)及驅(qū)動(dòng)方法、具備上述驅(qū)動(dòng)系統(tǒng)的曝光裝置及使用上述驅(qū)動(dòng)方法的曝光方法、和設(shè)計(jì)上述驅(qū)動(dòng)系統(tǒng)的驅(qū)動(dòng)系統(tǒng)設(shè)計(jì)方法?！?br>背景技術(shù)：
】[0002]在制造液晶顯示元件、半導(dǎo)體元件等電子器件(微器件)的光刻工序中，主要使用了分步重復(fù)方式(setpandrepeat)的投影曝光裝置(所謂的步進(jìn)曝光裝置)、步進(jìn)掃描方式(setpandscan)的投影曝光裝置(所謂的掃描型步進(jìn)曝光裝置(也被稱為掃描儀))等。對(duì)于液晶顯示元件用的曝光裝置(液晶曝光裝置)而言，伴隨著基板的大型化，掃描儀等掃描式投影曝光裝置成為主流。[0003]電子器件(微器件)通過在基板(玻璃平板、晶片等)上重疊形成多層圖案而制成。因此，曝光裝置被要求使掩模的圖案與已在基板上的各散粒(shot)區(qū)域形成的圖案準(zhǔn)確地重疊轉(zhuǎn)印、即被要求高的重疊精度。[0004]為了實(shí)現(xiàn)高的重疊精度，需要精密且穩(wěn)定地驅(qū)動(dòng)對(duì)基板進(jìn)行保持并移動(dòng)的基板載臺(tái)的技術(shù)。這里，近年來，作為基板載臺(tái)，主要采用了具備掃描曝光時(shí)的沿基板的掃描方向移動(dòng)的滑架、和被支承在該滑架上來保持基板并沿非掃描方向移動(dòng)的基板載臺(tái)的構(gòu)臺(tái)(gantrystage)。在構(gòu)臺(tái)等中，會(huì)產(chǎn)生障礙基板載臺(tái)的高精度且穩(wěn)定的驅(qū)動(dòng)的重要因素的共振。特別是近來來伴隨基板載臺(tái)的大型化，其共振頻率(固有振動(dòng)數(shù))變低。[0005]公知有一種將是包括這樣的基板載臺(tái)的共振頻帶的高頻帶、且針對(duì)共振頻率的變動(dòng)也具有魯棒性的控制系統(tǒng)作為用于使用陷波濾波器而構(gòu)建的理論框架，利用了以Hc?控制理論為代表的高級(jí)魯棒控制理論的載臺(tái)控制裝置(例如參照專利文獻(xiàn)I)。在高級(jí)魯棒控制理論中，追加傳感器來將控制對(duì)象作為I輸入多輸出系統(tǒng)，但對(duì)所追加的傳感器的配置并沒有制約，另外，對(duì)標(biāo)稱模型的模型化誤差也能夠設(shè)計(jì)穩(wěn)定的反饋控制器。然而，一般由于控制器的設(shè)計(jì)自由度根據(jù)控制對(duì)象的構(gòu)造、權(quán)重函數(shù)的次數(shù)等而增加，所以導(dǎo)致反饋控制器的高頻帶化和魯棒性存在相互制約的關(guān)系。[0006]專利文獻(xiàn)1:日本特開2002-73111號(hào)公報(bào)【
發(fā)明內(nèi)容】[0007]根據(jù)本發(fā)明的第I方式，提供一種驅(qū)動(dòng)系統(tǒng)，該系統(tǒng)是賦予操作量來驅(qū)動(dòng)控制對(duì)象的驅(qū)動(dòng)系統(tǒng)，具備:第I測(cè)量儀，其對(duì)與在上述控制對(duì)象的第I部分設(shè)置的第I測(cè)量點(diǎn)的位置相關(guān)的第I控制量進(jìn)行測(cè)量；第2測(cè)量儀，其對(duì)與在上述控制對(duì)象的第2部分設(shè)置的第2測(cè)量點(diǎn)的位置相關(guān)的第2控制量進(jìn)行測(cè)量；以及控制部，其基于上述第I以及第2測(cè)量儀的測(cè)量結(jié)果和目標(biāo)值進(jìn)行控制運(yùn)算來求出上述操作量，并將該操作量賦予給設(shè)于上述控制對(duì)象的操作點(diǎn)，在將上述控制對(duì)象的上述操作點(diǎn)至上述第I測(cè)量點(diǎn)作為剛體時(shí)出現(xiàn)的規(guī)定的振動(dòng)狀態(tài)下，上述第2部分處于與上述第I部分反相的關(guān)系。[0008]這里，與位置相關(guān)的控制量(第I或者第2控制量)當(dāng)然包括將對(duì)位置進(jìn)行微分而獲得的速度、加速度等作為控制量的情況，還包括將位置本身作為控制量的情況。在本說明書中，也使用與位置相關(guān)的物理量這一用語，但該情況下的物理量當(dāng)然也包括對(duì)位置進(jìn)行微分而獲得的速度、加速度等的量，還包括位置本身。這樣，在本說明書中，作為位置或者對(duì)位置進(jìn)行微分而獲得的速度、加速度等量的總稱，使用了與位置相關(guān)的量(控制量或者物理量)這一表現(xiàn)。[0009]由此，能夠精密且穩(wěn)定地驅(qū)動(dòng)控制對(duì)象。[0010]根據(jù)本發(fā)明的第2方式，提供一種第I曝光裝置，該第I曝光裝置是利用能量束對(duì)物體進(jìn)行曝光來在上述物體上形成圖案曝光裝置，具備將保持上述物體并在規(guī)定面上移動(dòng)的移動(dòng)體作為上述控制對(duì)象的第I方式的驅(qū)動(dòng)系統(tǒng)。[0011]由此，能夠精密且穩(wěn)定地驅(qū)動(dòng)保持物體的移動(dòng)體，進(jìn)而能夠?qū)ξ矬w進(jìn)行高精度的曝光。[0012]根據(jù)本發(fā)明的第3方式，提供一種第2曝光裝置，該第2曝光裝置是利用能量束并經(jīng)由掩模對(duì)物體進(jìn)行曝光的曝光裝置，具備將保持上述掩模并進(jìn)行移動(dòng)的移動(dòng)體作為上述控制對(duì)象的第I實(shí)施方式的驅(qū)動(dòng)系統(tǒng)。[0013]由此，能夠精密且穩(wěn)定地驅(qū)動(dòng)保持掩模的移動(dòng)體，進(jìn)而能夠高精度地在物體上重疊轉(zhuǎn)印掩模的圖案。[0014]根據(jù)本發(fā)明的第4方式，提供一種驅(qū)動(dòng)方法，該驅(qū)動(dòng)方法具有下述步驟:對(duì)與控制對(duì)象的第I部分的位置相關(guān)的第I控制量進(jìn)行測(cè)量；對(duì)與上述控制對(duì)象的第2部分的位置相關(guān)的第2控制量進(jìn)行測(cè)量；基于上述第I以及第2控制量的測(cè)量結(jié)果與目標(biāo)值進(jìn)行控制運(yùn)算來求出操作量，并將該操作量賦予給上述控制對(duì)象來驅(qū)動(dòng)上述控制對(duì)象，在將上述控制對(duì)象的上述操作點(diǎn)至上述第I測(cè)量點(diǎn)作為剛體時(shí)出現(xiàn)的規(guī)定的振動(dòng)狀態(tài)下，上述第2部分處于與上述第I部分反相的關(guān)系。[0015]由此，能夠精密且穩(wěn)定地驅(qū)動(dòng)控制對(duì)象。[0016]根據(jù)本發(fā)明的第5方式，提供一種第I曝光方法，該第I曝光方法是利用能量束對(duì)物體進(jìn)行曝光而在上述物體上形成圖案的曝光方法，包括利用第4方式的驅(qū)動(dòng)方法將保持上述物體并在規(guī)定面上移動(dòng)的移動(dòng)體作為上述控制對(duì)象來進(jìn)行驅(qū)動(dòng)的步驟。[0017]由此，能夠精密且穩(wěn)定地驅(qū)動(dòng)保持物體的移動(dòng)體，進(jìn)而能夠?qū)ξ矬w進(jìn)行高精度的曝光。[0018]根據(jù)本發(fā)明的第6方式，提供一種第2曝光方法，該第2曝光方法是利用能量束并經(jīng)由掩模對(duì)物體進(jìn)行曝光的曝光方法，包括利用第4方式的驅(qū)動(dòng)方法將保持上述掩模并移動(dòng)的移動(dòng)體作為上述控制對(duì)象來進(jìn)行驅(qū)動(dòng)的步驟。[0019]由此，能夠精密且穩(wěn)定地驅(qū)動(dòng)保持掩模的移動(dòng)體，進(jìn)而，能夠高精度地在物體上重疊轉(zhuǎn)印掩模的圖案。[0020]根據(jù)本發(fā)明的第7方式，提供一種驅(qū)動(dòng)系統(tǒng)設(shè)計(jì)方法，該驅(qū)動(dòng)系統(tǒng)設(shè)計(jì)方法是設(shè)計(jì)對(duì)控制對(duì)象進(jìn)行驅(qū)動(dòng)的驅(qū)動(dòng)系統(tǒng)的驅(qū)動(dòng)系統(tǒng)設(shè)計(jì)方法，包括在相對(duì)于剛體模式的振動(dòng)模式相互反相的上述控制對(duì)象的第I部分以及第2部分別設(shè)置對(duì)與各自的位置相關(guān)的第I控制量以及第2控制量進(jìn)行測(cè)量的第I以及第2測(cè)量儀的步驟。[0021]由此，通過使用第I以及第2測(cè)量儀，能夠設(shè)計(jì)高頻帶、魯棒的驅(qū)動(dòng)系統(tǒng)。【專利附圖】【附圖說明】[0022]圖1是示意性地表示第I實(shí)施方式所涉及的曝光裝置的構(gòu)成的圖。[0023]圖2是表示平板載臺(tái)的立體圖。[0024]圖3是表示與曝光裝置的載臺(tái)控制相關(guān)的構(gòu)成的框圖。[0025]圖4是表示對(duì)I輸入I輸出系統(tǒng)的反饋控制系統(tǒng)中的平板載臺(tái)的輸入輸出響應(yīng)進(jìn)行表現(xiàn)的傳遞函數(shù)(振幅以及相位)的頻率響應(yīng)特性的伯德圖。[0026]圖5(A)以及圖5(B)分別是表不對(duì)第I實(shí)施方式所涉及的I輸入2輸出系統(tǒng)的反饋控制系統(tǒng)中的平板載臺(tái)的滑架、以及平臺(tái)(Platetable)的輸入輸出響應(yīng)進(jìn)行表現(xiàn)的傳遞函數(shù)的頻率響應(yīng)特性的伯德圖。[0027]圖6是表示第I實(shí)施方式所涉及的I輸入2輸出系統(tǒng)的反饋控制系統(tǒng)的框圖。[0028]圖7(A)是表示對(duì)平板載臺(tái)的力學(xué)運(yùn)動(dòng)(并進(jìn)運(yùn)動(dòng))進(jìn)行表現(xiàn)的力學(xué)模型的一個(gè)例子的圖，圖7(B)是表示圖7(A)的力學(xué)模型所包含的力學(xué)參數(shù)的表。[0029]圖8(A)以及圖8(B)是表示I輸入2輸出系統(tǒng)的反饋控制系統(tǒng)中的兩個(gè)控制器的傳遞函數(shù)的頻率響應(yīng)特性的伯德圖。[0030]圖9(A)?圖9(C)是表示分別針對(duì)條件A?C的、I輸入2輸出系統(tǒng)(SM0系統(tǒng))以及I輸入I輸出系統(tǒng)(SIS0系統(tǒng))的反饋控制系統(tǒng)各自的閉環(huán)傳遞函數(shù)的頻率響應(yīng)特性的伯德圖(模擬結(jié)果)。[0031]圖10(A)?圖10(C)是表示分別針對(duì)條件A?C的、I輸入2輸出系統(tǒng)(SM0系統(tǒng))以及I輸入I輸出系統(tǒng)(Siso系統(tǒng))的反饋控制系統(tǒng)各自的開環(huán)傳遞函數(shù)的頻率響應(yīng)特性的伯德圖(模擬結(jié)果)。[0032]圖11(A)?圖11(C)是分別針對(duì)條件A?C的、I輸入2輸出系統(tǒng)(SM0系統(tǒng))以及I輸入I輸出系統(tǒng)(SISO系統(tǒng))的反饋控制系統(tǒng)各自的奈奎斯特圖。[0033]圖12是表示針對(duì)條件A?C的增益容限(Gm)與相位容限(Pm)的表。[0034]圖13(A)?圖13(C)是表示分別針對(duì)條件A?C的、I輸入2輸出系統(tǒng)(SM0系統(tǒng))以及I輸入I輸出系統(tǒng)(Siso系統(tǒng))的反饋控制系統(tǒng)各自的閉環(huán)傳遞函數(shù)的頻率響應(yīng)特性的伯德圖(實(shí)驗(yàn)結(jié)果)。[0035]圖14(A)?圖14(C)是表示分別針對(duì)條件A?C的、I輸入2輸出系統(tǒng)(SM0系統(tǒng))以及I輸入I輸出系統(tǒng)(Siso系統(tǒng))的反饋控制系統(tǒng)各自的開環(huán)傳遞函數(shù)的頻率響應(yīng)特性的伯德圖(實(shí)驗(yàn)結(jié)果)。[0036]圖15(A)?圖15(C)是分別針對(duì)條件A?C的、I輸入2輸出系統(tǒng)(SM0系統(tǒng))以及I輸入I輸出系統(tǒng)(SISO系統(tǒng))的反饋控制系統(tǒng)各自的奈奎斯特圖。[0037]圖16(A)是表示平板載臺(tái)的驅(qū)動(dòng)軌跡的圖，圖16(B)以及圖16(C)是表示平板載臺(tái)的跟蹤誤差的時(shí)間變化的圖。[0038]圖17是表示第I實(shí)施方式所涉及的I輸入2輸出系統(tǒng)的反饋控制系統(tǒng)的變形例的框圖。[0039]圖18(A)是表示一般的二慣性系統(tǒng)的力學(xué)模型的圖，圖18(B)是表示圖18(A)的力學(xué)模型所包含的力學(xué)參數(shù)的表。[0040]圖19(A)以及圖19(B)分別是表示對(duì)第2實(shí)施方式所涉及的I輸入2輸出系統(tǒng)的反饋控制系統(tǒng)中的平板載臺(tái)PST的滑架、以及平臺(tái)的輸入輸出響應(yīng)進(jìn)行表現(xiàn)的傳遞函數(shù)的頻率響應(yīng)特性的伯德圖。[0041]圖20(A)以及圖20(B)分別是表示第2實(shí)施方式所涉及的I輸入2輸出系統(tǒng)的反饋控制系統(tǒng)中的兩個(gè)控制器的傳遞函數(shù)的頻率響應(yīng)特性的伯德圖。[0042]圖21是表示針對(duì)第2實(shí)施方式所涉及的I輸入2輸出系統(tǒng)(SIM0系統(tǒng))以及以往的I輸入I輸出系統(tǒng)(SIS0系統(tǒng))的反饋控制系統(tǒng)各自的閉環(huán)傳遞函數(shù)的頻率響應(yīng)特性的伯德圖(模擬結(jié)果)。[0043]圖22是表示針對(duì)第2實(shí)施方式所涉及的I輸入2輸出系統(tǒng)(SIM0系統(tǒng))以及以往的I輸入I輸出系統(tǒng)(SIS0系統(tǒng))的反饋控制系統(tǒng)各自的開環(huán)傳遞函數(shù)的頻率響應(yīng)特性的伯德圖(模擬結(jié)果)。[0044]圖23是表示針對(duì)第2實(shí)施方式所涉及的I輸入2輸出系統(tǒng)(SM0系統(tǒng))以及以往的I輸入I輸出系統(tǒng)(SIS0系統(tǒng))的反饋控制系統(tǒng)各自的奈奎斯特圖。[0045]圖24是表示增益容限(Gm)與相位容限(Pm)的表。[0046]圖25是表不掩模載臺(tái)的構(gòu)成的俯視圖。[0047]圖26是表示第3實(shí)施方式所涉及的I輸入2輸出系統(tǒng)的反饋控制系統(tǒng)的框圖。[0048]圖27(A)以及圖27(B)是表示第4實(shí)施方式所涉及的滾珠絲杠式平板載臺(tái)的構(gòu)成的圖。[0049]圖28是表示第4實(shí)施方式所涉及的I輸入2輸出系統(tǒng)的反饋控制系統(tǒng)的框圖。[0050]圖29(A)以及圖29(B)分別是表示對(duì)第4實(shí)施方式所涉及的平板載臺(tái)的進(jìn)給絲杠(及旋轉(zhuǎn)馬達(dá))、以及平臺(tái)的輸入輸出響應(yīng)進(jìn)行表現(xiàn)的傳遞函數(shù)的頻率響應(yīng)特性的伯德圖?！揪唧w實(shí)施方式】[0051]《第I實(shí)施方式》[0052]以下，基于圖1?圖17對(duì)第I實(shí)施方式進(jìn)行說明。[0053]圖1中示意性地表示了平板顯示器、例如液晶顯示裝置(液晶面板)等的制造所使用的第I實(shí)施方式涉及的曝光裝置110的構(gòu)成。曝光裝置110是使形成有液晶顯示元件圖案的掩模M、和被保持在平板載臺(tái)PST上的玻璃平板(以下稱為“平板”)P相對(duì)于投影光學(xué)系統(tǒng)PL沿著規(guī)定的掃描方向(這里為圖1中的紙面內(nèi)左右方向即X軸方向)例如以同一速度在同一方向相對(duì)掃描，來將掩模M的圖案轉(zhuǎn)印到平板P上的掃描型步進(jìn)曝光裝置(掃描儀)。曝光裝置110具備照明系統(tǒng)Ι0Ρ、保持掩模M的掩模載臺(tái)MST、投影光學(xué)系統(tǒng)PL、搭載有掩模載臺(tái)MST以及投影光學(xué)系統(tǒng)PL等的未圖示的主體(body)、經(jīng)由平板支架PH來保持平板P的平板載臺(tái)PST、以及它們的控制系統(tǒng)等。控制系統(tǒng)主要由統(tǒng)一控制曝光裝置110的構(gòu)成各部的主控制裝置(未圖示)以及其屬下的載臺(tái)控制裝置50(參照?qǐng)D3等)構(gòu)成。以下，將曝光時(shí)掩模M與平板P相對(duì)于投影光學(xué)系統(tǒng)PL分別相對(duì)掃描的方向設(shè)為X軸方向(X方向)，將在水平面內(nèi)與X軸方向正交的方向設(shè)為Y軸方向(Y方向)，將與X軸以及Y軸正交的方向設(shè)為Z軸方向(Z方向)，將繞X軸、Y軸以及Z軸的旋轉(zhuǎn)(傾斜)方向分別設(shè)為θχ、0y、以及Θz方向來進(jìn)行說明。[0054]照明系統(tǒng)IOP例如與美國專利第5，729，331號(hào)說明書等中公開的照明系統(tǒng)同樣地構(gòu)成。即，照明系統(tǒng)IOP具有對(duì)在掩模M上交錯(cuò)地配置的多個(gè)、例如5個(gè)照明區(qū)域的各個(gè)進(jìn)行照明的多個(gè)、例如5個(gè)照明系統(tǒng)，各照明系統(tǒng)經(jīng)由未圖示的反射鏡、二向色鏡、遮光器、波長選擇濾波器、各種透鏡等將從未圖示的光源(例如水銀燈)射出的光作為曝光用照明光(照明光)IL照射至掩模M。作為照明光IL，例如可使用i線(波長365nm)、g線(波長436nm)、h線(波長405nm)等光(或者上述i線、g線、h線的合成光)。另外，照明光IL的波長能夠利用波長選擇濾波器，例如根據(jù)被要求的分辨率而適當(dāng)切換。[0055]在掩模載臺(tái)MST上例如通過真空吸附(或者靜電吸附)固定有將電路圖案等形成在其圖案面(圖1中的下面)的掩模M。掩模載臺(tái)MST經(jīng)由未圖示的氣體靜壓軸承(例如空氣軸承)以非接觸狀態(tài)被支承(浮動(dòng)支承)在固定于作為未圖示的主體的一部分的鏡筒定盤的上表面的、沿X軸方向延伸的一對(duì)掩模載臺(tái)導(dǎo)引件(未圖不)上。掩模載臺(tái)MST例如被包括線性馬達(dá)的掩模載臺(tái)驅(qū)動(dòng)系統(tǒng)MSD(圖1中未圖示，參照?qǐng)D3)沿掃描方向(X軸方向)以規(guī)定的行程驅(qū)動(dòng)，并且在Y軸方向以及Θz方向上分別被適當(dāng)?shù)匚Ⅱ?qū)動(dòng)。掩模載臺(tái)MST的XY平面內(nèi)的位置信息(包括Θz方向的旋轉(zhuǎn)信息)由掩模干涉儀系統(tǒng)16測(cè)量。[0056]掩模干涉儀系統(tǒng)16通過對(duì)被固定在掩模載臺(tái)MST的端部的移動(dòng)鏡15照射測(cè)長光束，并接受來自移動(dòng)鏡15的反射光，來測(cè)量掩模載臺(tái)MST的位置。其測(cè)量結(jié)果被提供給載臺(tái)控制裝置50(參照?qǐng)D3)，載臺(tái)控制裝置50基于掩模干涉儀系統(tǒng)16的測(cè)量結(jié)果，借助掩模載臺(tái)驅(qū)動(dòng)系統(tǒng)MSD來驅(qū)動(dòng)掩模載臺(tái)MST。此外，也可以代替移動(dòng)鏡而對(duì)掩模載臺(tái)的端面實(shí)施鏡面加工來形成反射面(相當(dāng)于移動(dòng)鏡的反射面)。另外，還可以代替掩模干涉儀系統(tǒng)16，或者與掩模干涉儀系統(tǒng)16—起使用編碼器(或者由多個(gè)編碼器構(gòu)成的編碼器系統(tǒng))。[0057]投影光學(xué)系統(tǒng)PL在掩模載臺(tái)MST的圖1中的下方，被支承于未圖示的主體的一部分(鏡筒定盤)。投影光學(xué)系統(tǒng)PL例如與美國專利第5，729，331號(hào)說明書所公開的投影光學(xué)系統(tǒng)同樣地構(gòu)成。即，投影光學(xué)系統(tǒng)PL與前述的多個(gè)照明區(qū)域?qū)?yīng)地包括掩模M的圖案像的投影區(qū)域被交錯(cuò)配置的多個(gè)、例如5個(gè)投影光學(xué)系統(tǒng)(多透鏡投影光學(xué)系統(tǒng))，與以Y軸方向?yàn)殚L邊方向的長方形的具有單一的像場(chǎng)的投影光學(xué)系統(tǒng)同等地發(fā)揮作用。這里，3個(gè)投影光學(xué)系統(tǒng)在Y軸方向上被以規(guī)定間隔配置，剩余的2個(gè)投影光學(xué)系統(tǒng)向+X側(cè)遠(yuǎn)離3個(gè)投影光學(xué)系統(tǒng)，并在Y軸方向上以規(guī)定間隔配置。在本實(shí)施方式中，作為多個(gè)(5個(gè))投影光學(xué)系統(tǒng)的每一個(gè)，使用了例如以兩側(cè)遠(yuǎn)心的等倍系統(tǒng)形成正立正像的光學(xué)系統(tǒng)。另外，以下統(tǒng)一將投影光學(xué)系統(tǒng)PL的被配置為交錯(cuò)狀的多個(gè)投影區(qū)域稱為曝光區(qū)域。[0058]若利用來自照明系統(tǒng)IOP的照明光IL對(duì)掩模M上的照明區(qū)域進(jìn)行照明，則基于通過了投影光學(xué)系統(tǒng)PL的第I面(物體面)與圖案面幾乎被配置一致的掩模M的照明光IL，將該照明區(qū)域內(nèi)的掩模M的電路圖案的投影像(部分正立像)經(jīng)由投影光學(xué)系統(tǒng)PL形成到在投影光學(xué)系統(tǒng)PL的第2面(像面)側(cè)配置的、與表面被涂覆抗蝕劑(感應(yīng)劑)的平板P上的照明區(qū)域共軛的照明光IL的照射區(qū)域(曝光區(qū)域)。而且，通過掩模載臺(tái)MST與平板載臺(tái)PST(更準(zhǔn)確而言是后述的平臺(tái)PTB)的同步驅(qū)動(dòng)，使掩模M相對(duì)于照明區(qū)域(照明光IL)沿掃描方向(X軸方向)相對(duì)移動(dòng)，并且，使平板P相對(duì)于曝光區(qū)域(照明光IL)沿掃描方向(X軸方向)相對(duì)移動(dòng)，由此進(jìn)行平板P上的一個(gè)散粒區(qū)域(劃分區(qū)域)的掃描曝光，向該散粒區(qū)域轉(zhuǎn)印掩模M的圖案。即，在本實(shí)施方式中，利用照明系統(tǒng)IOP以及投影光學(xué)系統(tǒng)PL在平板P上生成掩模M的圖案，并通過利用照明光IL對(duì)平板P上的感應(yīng)層(抗蝕劑層)進(jìn)行的曝光來在平板P上形成其圖案。[0059]平板載臺(tái)PST被配置在投影光學(xué)系統(tǒng)PL的下方(-Z側(cè))。平板載臺(tái)PST具備沿X軸方向(掃描方向)移動(dòng)的滑架30、和被支承在該滑架30上來保持平板P并沿Y軸方向(非掃描方向、交叉掃描方向)移動(dòng)的平臺(tái)PTB。[0060]圖2中用立體圖表示了平板載臺(tái)PST和平板干涉儀系統(tǒng)18(ΙδΧ,ΙδΥ,ΙδΧ^ΙδΧ^參照?qǐng)D3)。平臺(tái)PTB如圖2所示，由俯視為矩形板狀的部件構(gòu)成，在其上面的中央固定有對(duì)平板P(圖2中未圖示，參照?qǐng)D1)進(jìn)行吸附保持的平板支架ΡΗ。平臺(tái)PTB經(jīng)由多個(gè)、例如3個(gè)支承機(jī)構(gòu)(未圖示)被支承在Y滑塊32Υ上。各支承機(jī)構(gòu)包括支承平臺(tái)ΡΤΒ，并且在其支承點(diǎn)將平臺(tái)PTB向Z軸方向驅(qū)動(dòng)的致動(dòng)器(例如音圈馬達(dá)等)。平臺(tái)PTB通過3個(gè)支承機(jī)構(gòu)在Y滑塊32Υ上沿三個(gè)自由度方向(Ζ軸、θχ、以及0y的各方向)被微驅(qū)動(dòng)。[0061]Y滑塊32Y是XZ剖面為倒U字狀的部件，經(jīng)由空氣軸承(未圖示)等非接觸地從上方與沿Y軸方向延伸的Y梁(Y導(dǎo)引件)34Y卡合。在Y梁34Y的內(nèi)部例如沿Y軸方向以規(guī)定間隔配置多個(gè)線圈，在Y滑塊32Y的內(nèi)面?zhèn)壤缗渲糜卸鄠€(gè)永磁鐵。由Y梁34Y與Y滑塊32Y構(gòu)成了將作為可動(dòng)件的Y滑塊32Y沿Y軸方向驅(qū)動(dòng)的動(dòng)磁鐵型的Y線性馬達(dá)36Y。平臺(tái)PTB被Y線性馬達(dá)36Y沿著Y梁34Y在Y軸方向驅(qū)動(dòng)。此外，作為Y線性馬達(dá)36Y，并不局限于動(dòng)磁鐵型，也可使用動(dòng)圈型的線性馬達(dá)。[0062]在Y梁34Y的長邊方向的一端與另一端的下面，固定有X滑塊32X^321。X滑塊32Xp32X2分別是YZ剖面為到U字狀的部件，被配置成沿Y軸方向分離，并且經(jīng)由空氣軸承(未圖示)等以非接觸的方式從上方與在X軸方向上分別延伸配置的一對(duì)X導(dǎo)引件34Xp34X2卡合。X導(dǎo)引件34Xp34X2分別經(jīng)由未圖示的防振部件(或直接)被設(shè)置在地面F上。[0063]在X導(dǎo)引件SAX1、34X2各自的內(nèi)部，沿X軸方向以規(guī)定間隔配置例如多個(gè)線圈，在X滑塊32Xp32X2的內(nèi)面?zhèn)确謩e配置有多個(gè)永磁鐵。由X導(dǎo)引件34Xi和X滑塊32Xi構(gòu)成了將作為可動(dòng)件的X滑塊32?沿X軸方向驅(qū)動(dòng)的動(dòng)磁鐵型的X線性馬達(dá)36&。同樣，由X導(dǎo)引件34X2和X滑塊32X2構(gòu)成了將作`為可動(dòng)件的X滑塊32X2沿X軸方向驅(qū)動(dòng)的動(dòng)磁鐵型的X線性馬達(dá)36X2。[0064]這里，滑架30(參照?qǐng)D1)構(gòu)成為包括一對(duì)X滑塊32X^321、和Y梁34Y，滑架30被一對(duì)X線性馬達(dá)36Xp36X2沿X軸方向驅(qū)動(dòng)。另外，通過一對(duì)X線性馬達(dá)36Xp36X2產(chǎn)生不同的推力(驅(qū)動(dòng)力)，使得滑架30被一對(duì)X線性馬達(dá)36&、36&沿θζ方向驅(qū)動(dòng)。此外，作為X線性馬達(dá)36\、36Χ2，并不局限于動(dòng)磁鐵型，也可使用動(dòng)圈型的線性馬達(dá)。[0065]在本實(shí)施方式中，由上述的Y線性馬達(dá)36Y、一對(duì)X線性馬達(dá)36Xp36X2、以及3個(gè)支承機(jī)構(gòu)(未圖示)構(gòu)成將平臺(tái)PTB沿6個(gè)自由度方向(X軸、Y軸、Z軸、θχ、0y、θζ的各方向)驅(qū)動(dòng)的平板載臺(tái)驅(qū)動(dòng)系統(tǒng)PSD(參照?qǐng)D3)。平板載臺(tái)驅(qū)動(dòng)系統(tǒng)PSD(的構(gòu)成各部)被載臺(tái)控制裝置50控制(參照?qǐng)D3)。[0066]返回到圖2，在平臺(tái)PTB的上面，在一X端部以及+Y端部分別固定有具有與X軸正交的反射面的移動(dòng)鏡(平面反射鏡)17X、和具有與Y軸正交的反射面的移動(dòng)鏡(平面反射鏡)17Y。另外，在X滑塊SZX1的上面固定有角形棱鏡(cornercube)HX1，在X滑塊32X2的上面固定有角形棱鏡(未圖不)。[0067]平板載臺(tái)PST的位置由平板干涉儀系統(tǒng)18(參照?qǐng)D3)測(cè)量。平板干涉儀系統(tǒng)18包括圖2所示的4個(gè)干涉儀18XU8YU8X:以及18X2。[0068]干涉儀18X向被固定在平臺(tái)PTB上的移動(dòng)鏡17X照射與X軸平行的至少3條測(cè)長光束，并接受各自的反射光，由此測(cè)量平臺(tái)PTB的X軸方向、θζ方向、以及0y方向的位置。干涉儀18Y向被固定在平臺(tái)PTB上的移動(dòng)鏡17Y照射與Y軸平行的至少2條測(cè)長光束，并接受各自的反射光，由此測(cè)量平臺(tái)PTB的Y軸方向以及θX方向的位置。[0069]干涉儀WX1向被固定在X滑塊32Xi上的角形棱鏡HX1照射與X軸平行的測(cè)長光束，并接受其反射光，由此測(cè)量滑架30的X軸方向的位置(X位置)。同樣，干涉儀ISX2向被固定在X滑塊32X2上的角形棱鏡(未圖示)照射與X軸平行的測(cè)長光束，并接受其反射光，由此測(cè)量滑架30的X軸方向的位置(X位置)。[0070]平板干涉儀系統(tǒng)18的各干涉儀的測(cè)量結(jié)果被提供給載臺(tái)控制裝置50(參照?qǐng)D3)。載臺(tái)控制裝置50基于平板干涉儀系統(tǒng)18的各干涉儀的測(cè)量結(jié)果，借助平板載臺(tái)驅(qū)動(dòng)系統(tǒng)PSD(更準(zhǔn)確而言，借助一對(duì)X線性馬達(dá)36Χρ36Χ2以及Y線性馬達(dá)36Y)在XY平面內(nèi)驅(qū)動(dòng)平板載臺(tái)PST(平臺(tái)PTB)。在本實(shí)施方式中，當(dāng)沿X軸方向驅(qū)動(dòng)平板載臺(tái)PST(平臺(tái)PTB)時(shí)，如后所述，使用了干涉儀18X的測(cè)量結(jié)果、和干涉儀ISX1以及ISX2中至少一方的測(cè)量結(jié)果O[0071]其中，載臺(tái)控制裝置50在曝光時(shí)等基于未圖示的焦點(diǎn)檢測(cè)系統(tǒng)的檢測(cè)結(jié)果，借助平板載臺(tái)驅(qū)動(dòng)系統(tǒng)PSD(更準(zhǔn)確而言，借助3個(gè)支承機(jī)構(gòu)(未圖示))將平臺(tái)PTB沿Z軸、0y以及θζ的至少I個(gè)方向微驅(qū)動(dòng)。[0072]圖3中表示了與曝光裝置110的載臺(tái)控制相關(guān)的控制系統(tǒng)的構(gòu)成。圖3的控制系統(tǒng)以例如包括微型計(jì)算機(jī)等的載臺(tái)控制裝置50為中心構(gòu)成。[0073]在曝光裝置110中，基于預(yù)先進(jìn)行的平板的對(duì)準(zhǔn)測(cè)量(例如EGA等)的結(jié)果，按以下的步驟對(duì)平板P的多個(gè)散粒區(qū)域進(jìn)行曝光。即，載臺(tái)控制裝置50根據(jù)主控制裝置(未圖示)的指示對(duì)掩模干涉儀系統(tǒng)16以及平板干涉儀系統(tǒng)18的測(cè)量結(jié)果進(jìn)行監(jiān)視，使掩模載臺(tái)MST和平板載臺(tái)PST沿著用于對(duì)平板P上的一個(gè)散粒區(qū)域進(jìn)行曝光的各個(gè)掃描開始位置(力口速開始位置)移動(dòng)。而且，沿X軸方向向同一方向同步驅(qū)動(dòng)載臺(tái)MST、PST。由此，如前所述，掩模M的圖案被轉(zhuǎn)印到平板P上的一個(gè)散粒區(qū)域。在掃描曝光中，載臺(tái)控制裝置50例如根據(jù)修正參數(shù)來微調(diào)掩模載臺(tái)MST與平板載臺(tái)PST的同步驅(qū)動(dòng)(相對(duì)位置以及相對(duì)速度)。由此，以與在前工序?qū)有纬傻膱D案重疊的方式對(duì)掩模M的圖案的投影像進(jìn)行對(duì)位。[0074]若針對(duì)一個(gè)散粒區(qū)域的掃描曝光結(jié)束，則載臺(tái)控制裝置50使平板載臺(tái)PST向用于對(duì)下一個(gè)散粒區(qū)域進(jìn)行曝光的掃描開始位置(加速開始位置)移動(dòng)(步進(jìn))。而且，進(jìn)行針對(duì)下一個(gè)散粒區(qū)域的掃描曝光。這樣，通過反復(fù)進(jìn)行平板P的散粒區(qū)域間的步進(jìn)和針對(duì)散粒區(qū)域的掃描曝光，將掩模M的圖案轉(zhuǎn)印到平板P上的全部散粒區(qū)域。[0075]接下來，對(duì)驅(qū)動(dòng)平板載臺(tái)PST的驅(qū)動(dòng)系統(tǒng)(控制平板載臺(tái)PST的驅(qū)動(dòng)的控制系統(tǒng))的設(shè)計(jì)進(jìn)行說明。[0076]在本實(shí)施方式中，對(duì)沿并進(jìn)方向、作為一個(gè)例子沿X軸方向驅(qū)動(dòng)平板載臺(tái)PST的驅(qū)動(dòng)系統(tǒng)進(jìn)行說明。另外，為了比較，針對(duì)現(xiàn)有技術(shù)也簡單地進(jìn)行說明。[0077]在現(xiàn)有技術(shù)中，構(gòu)建了I輸入I輸出系統(tǒng)(SIS0系統(tǒng))的反饋控制系統(tǒng)(閉環(huán)控制系統(tǒng))?？紤]將該I輸入I輸出系統(tǒng)(SIS0系統(tǒng))的反饋控制系統(tǒng)應(yīng)用于曝光裝置110的情況。該情況下，利用干涉儀18X來測(cè)量作為控制對(duì)象的平板載臺(tái)PST(平臺(tái)PTB)的X位置(控制量)。其測(cè)量結(jié)果X被提供給載臺(tái)控制裝置50。載臺(tái)控制裝置50使用測(cè)量結(jié)果X來求出操作量U(X線性馬達(dá)36X1、36X2所產(chǎn)生驅(qū)動(dòng)力F，或者在X線性馬達(dá)36X1、36X2的線圈中流動(dòng)的電流量I等)，并將求出的操作量U發(fā)送給平板載臺(tái)驅(qū)動(dòng)系統(tǒng)PSD。平板載臺(tái)驅(qū)動(dòng)系統(tǒng)PSD根據(jù)接收到的操作量U，例如產(chǎn)生與驅(qū)動(dòng)力F相等的驅(qū)動(dòng)力，或者向X線性馬達(dá)36Χρ36Χ2的線圈中流動(dòng)與電流量I相等的量的電流。由此，平板載臺(tái)PST被驅(qū)動(dòng)(控制)。[0078]圖4中表不了對(duì)表現(xiàn)上述I輸入I輸出系統(tǒng)(SIS0系統(tǒng))的反饋控制系統(tǒng)中的平板載臺(tái)PST(平臺(tái)PTB)的輸入輸出響應(yīng)(控制量X相對(duì)于操作量U的響應(yīng))的傳遞函數(shù)P(=X/U)的頻率響應(yīng)特性加以表示的伯德圖(振幅(增益)IP(s)I以及相位arg(P(S)))、即增益線圖(上側(cè)的圖)以及相位線圖(下側(cè)的圖)。這里，s=JW=J2πF,為頻率。圖中，實(shí)線表示例如基于后述的力學(xué)模型求出的理論結(jié)果，單點(diǎn)劃線表示實(shí)驗(yàn)結(jié)果(使用實(shí)驗(yàn)機(jī)測(cè)定出的結(jié)果)。在實(shí)驗(yàn)中，針對(duì)操作量U測(cè)定控制量X，通過將其結(jié)果應(yīng)用于定義式(P=X/U)，來求出傳遞函數(shù)P的頻率響應(yīng)特性。[0079]在傳遞函數(shù)P的頻率響應(yīng)特性中，能夠確認(rèn)在10幾Hz附近出現(xiàn)共振模式(共振行為)。作為基本的行為，傳遞函數(shù)P針對(duì)頻率f的增加，單調(diào)地減少其振幅，將相位保持為恒定。這些在增益線圖以及相位線圖中，分別表示右下的直線以及傾斜為零的直線。而且，作為共振行為，傳遞函數(shù)P在10幾Hz附近急劇地增加然后減少振幅，急劇地減少然后增加相位。這些在增益線圖以及相位線圖中，分別表示連續(xù)的峰與谷的形以及谷的形。即，傳遞函數(shù)P在10幾Hz附近，相對(duì)剛體模式表示反相的共振模式。[0080]因近年來的曝光裝置的大型化，上述的共振模式(共振行為)進(jìn)一步出現(xiàn)在低頻域，大大妨礙了平板載臺(tái)PST的驅(qū)動(dòng)的精密且穩(wěn)定的控制。此外，在圖4的頻率響應(yīng)特性的實(shí)驗(yàn)結(jié)果中，在高頻域(10幾Hz以上)出現(xiàn)激烈的振動(dòng)行為，但在此并不是特別的問題。[0081]為了抵消上述的共振模式(共振行為)，精密且穩(wěn)定地控制平板載臺(tái)PST的驅(qū)動(dòng)，通過除了平板干涉儀系統(tǒng)18的干涉儀18X(第I測(cè)量儀)之外還使用干涉儀ISX1(第2測(cè)量儀)來構(gòu)建I輸入2輸出系統(tǒng)(SIMO系統(tǒng))的反饋控制系統(tǒng)。這里，干涉儀18\、18Χ2均能夠測(cè)量滑架30的X位置，也可通過兩者的測(cè)量值的平均來獲得X位置，但這里為了便于說明，作為測(cè)量滑架30的X位置的第2測(cè)量儀，使用干涉儀18&。[0082]在該1輸入2輸出系統(tǒng)(SM0系統(tǒng))的反饋控制系統(tǒng)中，利用干涉儀【權(quán)利要求】1.一種驅(qū)動(dòng)系統(tǒng)，是賦予操作量來驅(qū)動(dòng)控制對(duì)象的驅(qū)動(dòng)系統(tǒng)，其特征在于，具備:第I測(cè)量儀，其對(duì)與在所述控制對(duì)象的第I部分設(shè)置的第I測(cè)量點(diǎn)的位置相關(guān)的第I控制量進(jìn)行測(cè)量；第2測(cè)量儀，其對(duì)與在所述控制對(duì)象的第2部分設(shè)置的第2測(cè)量點(diǎn)的位置相關(guān)的第2控制量進(jìn)行測(cè)量；以及控制部，其基于所述第I以及第2測(cè)量儀的測(cè)量結(jié)果和目標(biāo)值進(jìn)行控制運(yùn)算來求出所述操作量，并將該操作量賦予給設(shè)于所述控制對(duì)象的操作點(diǎn)，在將所述控制對(duì)象的所述操作點(diǎn)至所述第I測(cè)量點(diǎn)作為剛體時(shí)出現(xiàn)的規(guī)定的振動(dòng)狀態(tài)下，所述第2部分處于與所述第I部分反相的關(guān)系。2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的驅(qū)動(dòng)系統(tǒng)，其特征在于，所述第I控制量包括與所述第I部分的位置相關(guān)的至少一種物理量，所述第2控制量包括與所述第2部分的位置相關(guān)的至少一種物理量。3.根據(jù)權(quán)利要求1或者2所述的驅(qū)動(dòng)系統(tǒng)，其特征在于，所述控制部包括:第1、第2控制器，使用所述第I以及第2控制量各自與所述目標(biāo)值的偏差來分別進(jìn)行控制運(yùn)算，求出第I以及第2量；和加法器，計(jì)算出所述第I量與第2量的和，將該和作為所述操作量賦予給所述控制對(duì)象。4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的驅(qū)動(dòng)系統(tǒng)，其特征在于，所述控制部與所述控制對(duì)象一起構(gòu)成下述的閉環(huán)控制系統(tǒng):被輸入所述目標(biāo)值，使用與所述第I控制量以及所述第2控制量的拉普拉斯變換XpX2和與所述第1、第2控制器各自對(duì)應(yīng)的傳遞函數(shù)Q、C2，按照由拉普拉斯變換形U(X1,X2)=C1X1+C2X2表現(xiàn)的運(yùn)算式來求出所述操作量U(XijX2),所述傳遞函數(shù)CpC2被決定成與所述第I以及第2部分對(duì)應(yīng)的傳遞函數(shù)PpP2各自所包含的與所述共振模式對(duì)應(yīng)的極在傳遞函數(shù)C1P1+C2P2中被抵消。5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的驅(qū)動(dòng)系統(tǒng)，其特征在于，使用將所述第I以及第2部分的運(yùn)動(dòng)表現(xiàn)為通過彈簧連結(jié)的兩個(gè)剛體的運(yùn)動(dòng)的力學(xué)模型來賦予所述傳遞函數(shù)P1、P2的具體形。6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的驅(qū)動(dòng)系統(tǒng)，其特征在于，所述傳遞函數(shù)P1、P2通過使用所述操作量與所述第I以及第2控制量的拉普拉斯變換(U,X1,X2)而被定義為P1=X1ZUP2=x2/u，所述力學(xué)模型所包含的各種參數(shù)被決定成:所述傳遞函數(shù)P1、P2的具體形再現(xiàn)通過在所述定義式P1=Xi/U、P2=X2/U中應(yīng)用針對(duì)所述操作量的所述第I以及第2控制量的實(shí)測(cè)結(jié)果而求出的所述傳遞函數(shù)P1、P2的頻率響應(yīng)特性。7.根據(jù)權(quán)利要求4~6中任意一項(xiàng)所述的驅(qū)動(dòng)系統(tǒng)，其特征在于，所述傳遞函數(shù)P1、P2使用分別表現(xiàn)所述剛體模式以及所述共振模式的特性的函數(shù)Dp、De,由分?jǐn)?shù)式P1=Npi/DpDe>P2=NP2/DpDe表示，所述傳遞函數(shù)C。C2由分?jǐn)?shù)式C1=Nci/Dc>C2=NC2/DC表示，所述傳遞函數(shù)CpC2的分母部分D。被決定成DJ)P+α具有任意的穩(wěn)定的極，其中，α是任意的解析函數(shù)。8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的驅(qū)動(dòng)系統(tǒng)，其特征在于，所述傳遞函數(shù)C1X2的分子部分Να、Νκ以所述閉環(huán)控制系統(tǒng)的傳遞函數(shù)的特性方程式Acl=DcDpDe+NciNpi+Nc2Np2滿足Aa=(DcDp+a)DE的方式,使用僅由所述任意的解析函數(shù)α以及所述剛體模式所涉及的參數(shù)賦予的常數(shù)a、b而被決定為Na=aα、Nffi=bα。9.根據(jù)權(quán)利要求1~8中任意一項(xiàng)所述的驅(qū)動(dòng)系統(tǒng)，其特征在于，所述控制對(duì)象沿并進(jìn)方向被驅(qū)動(dòng)，所述第I以及第2控制量包含與所述第I以及第2部分各自的與所述并進(jìn)方向有關(guān)的位置相關(guān)的物理量的至少一個(gè)。10.根據(jù)權(quán)利要求1~9中任意一項(xiàng)所述的驅(qū)動(dòng)系統(tǒng)，其特征在于，所述控制對(duì)象沿旋轉(zhuǎn)方向被驅(qū)動(dòng)，所述第I以及第2控制量包括與所述第I以及第2部分各自的與所述旋轉(zhuǎn)方向有關(guān)的位置相關(guān)的物理量的至少一個(gè)。11.根據(jù)權(quán)利要求1~8中任意一項(xiàng)所述的驅(qū)動(dòng)系統(tǒng)，其特征在于，所述控制對(duì)象的所述第I以及第2部分分別沿并進(jìn)以及旋轉(zhuǎn)方向被驅(qū)動(dòng)，所述第I控制量包含與所述第I部分的與所述并進(jìn)方向有關(guān)的位置相關(guān)的物理量的至少一個(gè)，所述第2控制量包含與所述第2部分的與所述旋轉(zhuǎn)方向有關(guān)的位置相關(guān)的物理量的至少一個(gè)。12.—種曝光裝置，利用能量束對(duì)物體進(jìn)行曝光來在所述物體上形成圖案，其特征在于，`具備將保持所述物體并在規(guī)定面上移動(dòng)的移動(dòng)體作為所述控制對(duì)象的權(quán)利要求1~11中任意一項(xiàng)所述的驅(qū)動(dòng)系統(tǒng)。13.根據(jù)權(quán)利要求12所述的曝光裝置，其特征在于，所述移動(dòng)體具有在所述規(guī)定面上移動(dòng)的第I移動(dòng)體、和在該第I移動(dòng)體上保持所述物體并移動(dòng)的第2移動(dòng)體，所述控制對(duì)象的所述第I以及第2部分分別包含于所述第I以及第2移動(dòng)體。14.根據(jù)權(quán)利要求12所述的曝光裝置，其特征在于，所述移動(dòng)體具有:第I移動(dòng)體，保持所述物體并在規(guī)定面上移動(dòng)；以及第2移動(dòng)體，包括與構(gòu)成該第I移動(dòng)體的一部分的螺母部一起構(gòu)成進(jìn)給絲杠機(jī)構(gòu)的絲杠部，所述控制對(duì)象的所述第I以及第2部分分別包含于所述第I以及第2移動(dòng)體。15.一種曝光裝置，利用能量束并經(jīng)由掩模對(duì)物體進(jìn)行曝光，其特征在于，具備將保持所述掩模并移動(dòng)的移動(dòng)體作為所述控制對(duì)象的權(quán)利要求1~11中任意一項(xiàng)所述的驅(qū)動(dòng)系統(tǒng)。16.一種驅(qū)動(dòng)方法，具有:對(duì)與控制對(duì)象的第I部分的位置相關(guān)的第I控制量進(jìn)行測(cè)量的步驟；對(duì)與所述控制對(duì)象的第2部分的位置相關(guān)的第2控制量進(jìn)行測(cè)量的步驟；和基于所述第I以及第2控制量的測(cè)量結(jié)果與目標(biāo)值進(jìn)行控制運(yùn)算來求出操作量，并將該操作量賦予給所述控制對(duì)象來驅(qū)動(dòng)所述控制對(duì)象的步驟，該驅(qū)動(dòng)方法的特征在于，在將所述控制對(duì)象的所述操作點(diǎn)至所述第I測(cè)量點(diǎn)作為剛體時(shí)出現(xiàn)的規(guī)定的振動(dòng)狀態(tài)下，所述第2部分處于與所述第I部分反相的關(guān)系。17.根據(jù)權(quán)利要求16所述的驅(qū)動(dòng)方法，其特征在于，所述第I控制量是與所述第I部分的位置相關(guān)的至少一種物理量，所述第2控制量是與所述第2部分的位置相關(guān)的至少一種物理量。18.根據(jù)權(quán)利要求16或者17所述的驅(qū)動(dòng)方法，其特征在于，在所述驅(qū)動(dòng)中，使用所述第I以及第2控制量各自與所述目標(biāo)值的偏差來分別進(jìn)行控制運(yùn)算，求出第I以及第2量，并計(jì)算所述第I量與第2量的和，將該和作為所述操作量賦予給所述控制對(duì)象。19.根據(jù)權(quán)利要求18所述的驅(qū)動(dòng)方法，其特征在于，在所述驅(qū)動(dòng)中，使用所述第I以及第2控制量的拉普拉斯變換XpX2和與用于求出所述第I以及第2量的控制運(yùn)算分別對(duì)應(yīng)的傳遞函數(shù)CpC2，按照由拉普拉斯變換形U(X1,X2)=C1X1+C2X2賦予的運(yùn)算式來求出所述操作量U(X1,X2),所述傳遞函數(shù)CpC2被決定成與所述第I以及第2部分對(duì)應(yīng)的傳遞函數(shù)PpP2各自所包含的與所述共振模式對(duì)應(yīng)的極在傳遞函數(shù)C1P1+C2P2中被抵消。20.根據(jù)權(quán)利要求19所述的驅(qū)動(dòng)方法，其特征在于，使用將所述第I以及第2部分的運(yùn)動(dòng)表現(xiàn)為通過彈簧連結(jié)的兩個(gè)剛體的運(yùn)動(dòng)的力學(xué)模型來賦予所述傳遞函數(shù)P1、P2的具體形。21.根據(jù)權(quán)利要求20所述的驅(qū)動(dòng)方法，其特征在于，所述傳遞函數(shù)P:、P2通過使用所述操作量和所述第I以及第2控制量的拉普拉斯變換(U,X1,X2)而被定義為P1=X1ZUP2=X2/U，所述力學(xué)模型所包含的各種參數(shù)被決定成:所述傳遞函數(shù)P1、P2的具體形再現(xiàn)通過在所述定義式P1=Xi/U、P2=X2/U中應(yīng)用針對(duì)所述操作量的所述第I以及第2控制量的實(shí)測(cè)結(jié)果而求出的所述傳遞函數(shù)P1、P2的頻率響應(yīng)特性。22.根據(jù)權(quán)利要求19~21中任意一項(xiàng)所述的驅(qū)動(dòng)方法，其特征在于，所述傳遞函數(shù)P:、P2通過使用分別表現(xiàn)所述剛體模式以及所述共振模式的特性的函數(shù)DP、De而由分?jǐn)?shù)式P1=Npi/DpDe>P2=NP2/DpDe表示，所述傳遞函數(shù)C。C2由分?jǐn)?shù)式C1=Nci/Dc>C2=NC2/DC表示，所述傳遞函數(shù)CpC2的分母部分D。被決定成DJ)P+α具有任意的穩(wěn)定的極，其中，α是任意的解析函數(shù)。23.根據(jù)權(quán)利要求22所述的驅(qū)動(dòng)方法，其特征在于，所述傳遞函數(shù)C1X2的分子部分Να、Νκ以所述閉環(huán)控制系統(tǒng)的傳遞函數(shù)的特性方程式Acl=DcDpDe+NciNpi+Nc2Np2滿足Aa=(DcDp+a)DE的方式,使用僅由所述任意的解析函數(shù)α以及所述剛體模式所涉及的參數(shù)賦予的常數(shù)a、b而被決定為Na=aα、Nffi=bα。24.根據(jù)權(quán)利要求16~23中任意一項(xiàng)所述的驅(qū)動(dòng)方法，其特征在于，在所述測(cè)量中，測(cè)量與所述第I以及第2部分各自的與并進(jìn)方向有關(guān)的位置相關(guān)的物理量的至少一個(gè)，作為所述第I以及第2控制量，在所述驅(qū)動(dòng)中，沿所述并進(jìn)方向驅(qū)動(dòng)所述控制對(duì)象。25.根據(jù)權(quán)利要求16~24中任意一項(xiàng)所述的驅(qū)動(dòng)方法，其特征在于，在所述測(cè)量中，關(guān)于所述第I以及第2控制量，測(cè)量與所述第I以及第2部分各自的與旋轉(zhuǎn)方向有關(guān)的位置相關(guān)的物理量的至少一個(gè)，在所述驅(qū)動(dòng)中，沿所述旋轉(zhuǎn)方向驅(qū)動(dòng)所述控制對(duì)象。26.根據(jù)權(quán)利要求16~23中任意一項(xiàng)所述的驅(qū)動(dòng)方法，其特征在于，在所述測(cè)量中，測(cè)量與所述第I部分的與并進(jìn)方向有關(guān)的位置相關(guān)的物理量的至少一個(gè)作為所述第I控制量，測(cè)量與所述第2部分的與旋轉(zhuǎn)方向有關(guān)的位置相關(guān)的物理量的至少一個(gè)作為所述第2控制量，在所述驅(qū)動(dòng)中，沿所述并進(jìn)以及所述旋轉(zhuǎn)方向分別驅(qū)動(dòng)所述控制對(duì)象的所述第I以及第2部分。27.一種曝光方法，利用能量束對(duì)物體進(jìn)行曝光而在所述物體上形成圖案，其特征在于，包括利用權(quán)利要求16~26中任意一項(xiàng)所述的驅(qū)動(dòng)方法將保持所述物體并在規(guī)定面上移動(dòng)的移動(dòng)體作為所述控制對(duì)象來進(jìn)行驅(qū)動(dòng)。28.根據(jù)權(quán)利要求27所述的曝光方法，其特征在于，具有在所述規(guī)定面上移動(dòng)的第I移動(dòng)體、和在該第I移動(dòng)體上保持所述物體并移動(dòng)的第2移動(dòng)體的所述移動(dòng)體成為所述控制對(duì)象，在驅(qū)動(dòng)所述移動(dòng)體時(shí)，測(cè)量與所述第I移動(dòng)體的位置相關(guān)的第I控制量、以及與相對(duì)于所述剛體模式表示和所述第I移動(dòng)體反相的共振模式的所述第2移動(dòng)體的位置相關(guān)的第2控制量。29.根據(jù)權(quán)利要求27所述的曝光方法，其特征在于，具有保持所述物體并在規(guī)定面上移動(dòng)的第I移動(dòng)體、以及包括與構(gòu)成該第I移動(dòng)體的一部分的螺母部一起構(gòu)成進(jìn)給絲杠機(jī)構(gòu)的絲杠部的第2移動(dòng)體的所述移動(dòng)體成為所述控制對(duì)象，在驅(qū)動(dòng)所述移動(dòng)體時(shí)，測(cè)量與所述第I移動(dòng)體的位置相關(guān)的第I控制量、以及與相對(duì)于所述剛體模式表示和所述第I移動(dòng)體反相的共振模式的所述第2移動(dòng)體的位置相關(guān)的第2控制量。30.一種曝光方法，利用能量束并經(jīng)由掩模對(duì)物體進(jìn)行曝光，其特征在于，包括利用權(quán)利要求16~26中任意一項(xiàng)所述的驅(qū)動(dòng)方法將保持所述掩模并移動(dòng)的移動(dòng)體作為所述控制對(duì)象進(jìn)行驅(qū)動(dòng)。31.一種驅(qū)動(dòng)系統(tǒng)設(shè)計(jì)方法，設(shè)計(jì)對(duì)控制對(duì)象進(jìn)行驅(qū)動(dòng)的驅(qū)動(dòng)系統(tǒng)，其特征在于，包括下述步驟:在相對(duì)于剛體模式的振動(dòng)模式為相互反相的所述控制對(duì)象的第I部分以及第2部分別設(shè)置對(duì)與各自的位置相關(guān)的第I控制量以及第2控制量進(jìn)行測(cè)量的第I以及第2測(cè)量儀。32.根據(jù)權(quán)利要求31所述的驅(qū)動(dòng)系統(tǒng)設(shè)計(jì)方法，其特征在于，還包括下述步驟:使用所述第I以及第2控制量的拉普拉斯變換XpX2、和用于使用所述第I以及第2控制量各自與目標(biāo)值的偏差來分別求出第I以及第2量的控制運(yùn)算分別所對(duì)應(yīng)的傳遞函數(shù)QX2，由拉普拉斯變換形U(XijX2)=C1X1+C2X2賦予用于求出對(duì)所述控制對(duì)象賦予的操作量的運(yùn)算式，并將所述傳遞函數(shù)C1X2決定成與所述第I以及第2部分對(duì)應(yīng)的傳遞函數(shù)PpP2各自所包含的與所述共振模式對(duì)應(yīng)的極在傳遞函數(shù)C1P1+C2P2中被抵消。33.根據(jù)權(quán)利要求32所述的驅(qū)動(dòng)系統(tǒng)設(shè)計(jì)方法，其特征在于，在所述決定中，使用將所述第I以及第2部分的運(yùn)動(dòng)表現(xiàn)為通過彈簧連結(jié)的兩個(gè)剛體的運(yùn)動(dòng)的力學(xué)模型來賦予所述傳遞函數(shù)P1、P2的具體形。34.根據(jù)權(quán)利要求33所述的驅(qū)動(dòng)系統(tǒng)設(shè)計(jì)方法，其特征在于，所述傳遞函數(shù)P:、P2通過使用所述操作量與所述第I以及第2控制量的拉普拉斯變換(U,X1,X2)而被定義為P1=X1ZUP2=X2/U，將所述力學(xué)模型所包含的各種參數(shù)決定成所述傳遞函數(shù)P1、P2的具體形再現(xiàn)通過測(cè)量針對(duì)所述操作量的所述第I以及第2控制量，并將該測(cè)量結(jié)果應(yīng)用于所述定義SP1=X1/U、P2=X2/U而求出的所述傳遞函數(shù)PpP2的頻率響應(yīng)特性。35.根據(jù)權(quán)利要求32~34中任意一項(xiàng)所述的驅(qū)動(dòng)系統(tǒng)設(shè)計(jì)方法，其特征在于，所述傳遞函數(shù)P1、P2通過使用分別表現(xiàn)所述剛體模式以及所述共振模式的特性的函數(shù)DP、De而由分?jǐn)?shù)式P1=Npi/DpDe>P2=NP2/DpDe表示，所述傳遞函數(shù)C。C2由分?jǐn)?shù)式C1=Nci/Dc>C2=NC2/DC表示，在所述決定中，將所述傳遞函數(shù)C1X2的分母部分D。決定成DJ)P+α具有任意的穩(wěn)定的極，其中，α是任意的解析函數(shù)。36.根據(jù)權(quán)利要求35所述的驅(qū)動(dòng)系統(tǒng)設(shè)計(jì)方法，其特征在于，在所述決定中，以所述閉環(huán)控制系統(tǒng)的傳遞函數(shù)的特性方程式Aa=DcDpDe+NciNpi+Nc2Np2滿足Aa=(DJ)p+a)?的方式，使用僅由所述任意的解析函數(shù)α以及所述剛體模式所涉及的參數(shù)賦予的常數(shù)a、b，將所述傳遞函數(shù)C1X2的分子部分Na、Nffi決定為Na=aa、Nc2=bα0【文檔編號(hào)】G05B11/36GK103620737SQ201280006512【公開日】2014年3月5日申請(qǐng)日期:2012年1月27日優(yōu)先權(quán)日:2011年1月28日【發(fā)明者】藤本博志,佐伯和明,坂田晃一申請(qǐng)人:國立大學(xué)法人東京大學(xué),株式會(huì)社尼康