本實用新型涉及鍍膜領域，特指一種真空鍍膜機進氣裝置。

背景技術：

目前真空鍍膜的種類大致可分為蒸發(fā)鍍膜、濺射鍍膜和離子鍍，然而無論是上述的哪種形式的真空鍍膜，其鍍膜過程都需要一個良好的真空環(huán)境；現(xiàn)有技術中依靠抽真空設備，例如機械泵加擴散泵的組合設備，雖然能很好的滿足鍍膜機的真空度要求，并且產(chǎn)品完成鍍膜后，通過打開泄壓閥即可進行泄壓，最終出料，但泄壓過程將會伴隨著較大的吸力，對于環(huán)境較差的廠房，直接打開泄壓閥會使含有大量雜質(zhì)顆粒的外部空氣瞬間進入設備內(nèi)，不僅影響到后續(xù)產(chǎn)品的鍍膜過程，而且可能會導致鍍膜機內(nèi)部的部分精密儀表損壞和堵塞。

技術實現(xiàn)要素：

本實用新型目的是為了克服現(xiàn)有技術的不足而提供一種真空鍍膜機進氣裝置，能凈化鍍膜機泄壓過程中吸入的空氣，并降低空氣的流速，提供一個良好的真空環(huán)境。

為達到上述目的，本實用新型采用的技術方案是：一種真空鍍膜機進氣裝置，包含設置在鍍膜機進氣口的進氣管道、設置有吸氣口和出氣口的水箱、兩端分別連通水箱出氣口和進氣管道且通過電阻絲加熱的加熱管道；所述水箱的吸氣口設置有下端伸直水箱底部的吸氣管道；所述進氣管道上分別設置有過濾器、電磁開關閥和調(diào)速閥。

優(yōu)選的，所述過濾裝器的進氣端與調(diào)速閥的出氣端連通，所述調(diào)速閥的進氣端與電磁開關閥的出氣端連通。

優(yōu)選的，所述吸氣管道的進氣端還設置有過濾網(wǎng)。

優(yōu)選的，所述水箱的底部傾斜設置，且水箱底部的最低處設置有通過閥門控制的排水口。

優(yōu)選的，所述水箱內(nèi)還設置有用于檢測水位的傳感器。

由于上述技術方案的運用，本實用新型與現(xiàn)有技術相比具有下列優(yōu)點：

本實用新型所述的真空鍍膜機進氣裝置通過水為過濾介質(zhì)能過濾空氣中大部分的雜質(zhì)，使雜質(zhì)粘附水中沉淀在水箱的底部，分離過濾效果好，且通過調(diào)速閥能有效控制空氣流速，避免空氣瞬間進入鍍膜機內(nèi)，損壞鍍膜機內(nèi)的精密儀表。

附圖說明

下面結合附圖對本實用新型技術方案作進一步說明：

附圖1為本實用新型所述的真空鍍膜機進氣裝置的結構示意圖。

其中：1、鍍膜機；2、水箱；3、閥門；4、吸氣管道；5、過濾網(wǎng)；6、加熱管道；7、電阻絲；8、電磁開關閥；9、調(diào)速閥；10、進氣管道；11、過濾器；12、傳感器。

具體實施方式

下面結合附圖及具體實施例對本實用新型作進一步的詳細說明。

附圖1為本實用新型所述的真空鍍膜機進氣裝置，包含設置在鍍膜機1進氣口的進氣管道10、設置有吸氣口和出氣口的水箱2、兩端分別連通水箱2出氣口和進氣管道10且通過電阻絲7加熱的加熱管道6；所述水箱2的吸氣口設置有下端伸直水箱2底部的吸氣管道4，通過水為過濾介質(zhì)能過濾空氣中大部分的雜質(zhì)，使雜質(zhì)粘附水中沉淀在水箱2的底部，且加熱管道6能去除空氣中的水份，避免水份進入設備內(nèi)，損害設備；所述進氣管道10上分別設置有過濾器11、電磁開關閥8和調(diào)速閥9；所述過濾裝器的進氣端與調(diào)速閥9的出氣端連通，所述調(diào)速閥9的進氣端與電磁開關閥8的出氣端連通，其中調(diào)速閥9能有效控制空氣流速，最后通過過濾器11實現(xiàn)最終過濾，由于空氣中的雜質(zhì)大部分已經(jīng)被過濾，從而能增加過濾器11的使用壽命；所述吸氣管道4的進氣端還設置有過濾網(wǎng)5，能預先過濾一下體積較大的顆粒，且成本低、便于更換；所述水箱2的底部傾斜設置，且水箱2底部的最低處設置有通過閥門3控制的排水口，便于底部沉淀的雜質(zhì)排出；所述水箱2內(nèi)還設置有用于檢測水位的傳感器12，避免空氣流速過大，水進入加熱管道6；所述電阻絲7、電磁開關閥8、調(diào)速閥9、傳感器12分別與原鍍膜機1上的控制器線連接，實現(xiàn)自動控制。

由于上述技術方案的運用，本實用新型與現(xiàn)有技術相比具有下列優(yōu)點：

本實用新型所述的真空鍍膜機進氣裝置通過水為過濾介質(zhì)能過濾空氣中大部分的雜質(zhì)，使雜質(zhì)粘附水中沉淀在水箱的底部，分離過濾效果好，且通過調(diào)速閥能有效控制空氣流速，避免空氣瞬間進入鍍膜機內(nèi)，損壞鍍膜機內(nèi)的精密儀表。

以上僅是本實用新型的具體應用范例，對本實用新型的保護范圍不構成任何限制。凡采用等同變換或者等效替換而形成的技術方案，均落在本實用新型權利保護范圍之內(nèi)。