一種高精密溫控裝置制造方法
【專(zhuān)利摘要】本發(fā)明公開(kāi)一種高精密溫控裝置，包括雙級(jí)無(wú)接觸磁力攪拌機(jī)構(gòu)、具有桶蓋的外桶、強(qiáng)力磁性攪拌機(jī)臺(tái)、溫度探頭、電加熱棒、PID溫控系統(tǒng)，雙級(jí)無(wú)接觸磁力攪拌機(jī)構(gòu)包括框架、燒杯、磁性攪拌子，燒杯放在框架內(nèi)，燒杯內(nèi)底部放置磁性攪拌子，溫度探頭安裝在燒杯的外壁上，雙級(jí)無(wú)接觸磁力攪拌機(jī)構(gòu)整體放在外桶內(nèi)，外桶整體放在強(qiáng)力磁性攪拌機(jī)臺(tái)上，電加熱棒放置在外桶內(nèi)，電加熱棒及溫度探頭的導(dǎo)線一起接入到PID溫控系統(tǒng)。燒杯內(nèi)和外桶內(nèi)根據(jù)需要可以放入不同的溶液，構(gòu)成雙層油浴結(jié)構(gòu)。本發(fā)明的優(yōu)點(diǎn)在于：采用雙層油浴和雙級(jí)無(wú)接觸磁力攪拌機(jī)構(gòu)，溫控精度和溫度均勻性均能達(dá)到0.02℃，應(yīng)用于對(duì)控溫精度要求高、且對(duì)溶液濃度和溫度梯度要求高的工藝。
【專(zhuān)利說(shuō)明】一種高精密溫控裝置
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001 ] 本發(fā)明涉及溫控裝置，尤其涉及一種高精密的溫控裝置。
【背景技術(shù)】
[0002]目前制作周期極化鈮酸鋰波導(dǎo)芯片的制作工藝相對(duì)比較復(fù)雜，國(guó)內(nèi)具有制作周期極化鈮酸鋰波導(dǎo)芯片完整工藝能力的廠家非常的少，主要原因除了制作成本高之外，其制作工藝也非常的復(fù)雜。而質(zhì)子交換是周期極化鈮酸鋰波導(dǎo)芯片制作工藝的其中的一個(gè)重要制作環(huán)節(jié)。
[0003]鈮酸鋰波導(dǎo)芯片在做質(zhì)子交換時(shí)，需要將芯片放置在120?220°C左右的苯甲酸溶液中，產(chǎn)生質(zhì)子交換過(guò)程的原理是將苯甲酸溶液中的氫離子(質(zhì)子)擴(kuò)散到晶片中，替代晶格中的鋰離子。質(zhì)子交換過(guò)程一般需要24小時(shí)左右才能完成，在此過(guò)程中，苯甲酸溶液的溫度均勻性需要能夠達(dá)到0.02°C，其主要原因是質(zhì)子交換過(guò)程中擴(kuò)散的均勻性將影響和決定最后成品的鈮酸鋰光波導(dǎo)傳輸損耗。溫度的高低主要影響質(zhì)子交換速率的快慢，但溫度的均勻性將直接影響最后成品的光波導(dǎo)的傳輸損耗。
[0004]現(xiàn)有技術(shù)中，如發(fā)明專(zhuān)利《一種質(zhì)子交換工藝隔離控溫裝置》(專(zhuān)利號(hào)為201010259963.5)公開(kāi)了一種控溫裝置，其特點(diǎn)是使用雙層空氣隔熱結(jié)構(gòu)，利用磁力攪拌/旋轉(zhuǎn)及上下抖動(dòng)裝置實(shí)現(xiàn)，僅可滿足溫控精度為rc、溶液溫度梯度小于TC的工藝要求，遠(yuǎn)遠(yuǎn)達(dá)不到溫控精度和溫度均勻性為0.02°C的需求。
【發(fā)明內(nèi)容】
[0005]本發(fā)明的所要解決的技術(shù)問(wèn)題在于提供一種溫控精度和溫度均勻性均能達(dá)到
0.02 °C的高精密溫控裝置。
[0006]本發(fā)明采用以下技術(shù)方案解決上述技術(shù)問(wèn)題的:一種高精密溫控裝置，包括外桶
(15)、強(qiáng)力磁性攪拌機(jī)臺(tái)(17)、溫度探頭(18)、電加熱棒(20)、PID溫控系統(tǒng)(21)以及桶蓋
(22)，外桶(15)整體放在強(qiáng)力磁性攪拌機(jī)臺(tái)(17)上，電加熱棒(20)放置在外桶(15)內(nèi)，電加熱棒(20)的通電導(dǎo)線及溫度探頭(18)的導(dǎo)線一起接入到PID溫控系統(tǒng)(21)之中，桶蓋(22)蓋在外桶(15)上，其改進(jìn)點(diǎn)在于:還包括雙級(jí)無(wú)接觸磁力攪拌機(jī)構(gòu)，所述雙級(jí)無(wú)接觸磁力攪拌機(jī)構(gòu)包括框架(I)、旋轉(zhuǎn)主軸(2)、一級(jí)磁鐵組(3)、二級(jí)磁鐵組(4)、攪拌葉輪
(5)、墊塊(6)、燒杯(7)、磁性攪拌子(8)，所述框架(I)由一分隔部(101)分成上下兩部分，墊塊(6)固定在框架(I)內(nèi)的分隔部(101)的上方，燒杯(7)放在墊塊(6)上，燒杯(7)內(nèi)底部放置磁性攪拌子(8)，溫度探頭(18)安裝在燒杯(7)的外壁上，所述雙級(jí)無(wú)接觸磁力攪拌機(jī)構(gòu)整體放在外桶(15)內(nèi)，電加熱棒(20)位于雙級(jí)無(wú)接觸磁力攪拌機(jī)構(gòu)的外圍，一級(jí)磁鐵組(3)和二級(jí)磁鐵組(4)分別固定安裝在旋轉(zhuǎn)主軸(2)的下端和上端，攪拌葉輪(5)固定安裝在旋轉(zhuǎn)主軸(2)的中段，且一級(jí)磁鐵組(3)、二級(jí)磁鐵組(4)、攪拌葉輪(5)與磁性攪拌子(8)同軸放置，旋轉(zhuǎn)主軸(2)可轉(zhuǎn)動(dòng)的安裝在分隔部(101)，攪拌葉輪(5)和一級(jí)磁鐵組(3)位于框架(I)內(nèi)的分隔部(101)的下方，二級(jí)磁鐵組(4)位于框架(I)內(nèi)的分隔部(101)的上方，且位于燒杯(7)的正下方，所述燒杯(7)內(nèi)和外桶(15)內(nèi)根據(jù)需要放入溶液，構(gòu)成雙層油浴結(jié)構(gòu)。
[0007]具體的，可以用螺釘將墊塊(6)固定在框架(I)上，也可以采用粘結(jié)、卡扣等現(xiàn)有的各種固定方式。
[0008]為了使燒杯(7)放置的更穩(wěn)固，墊塊(6)最好設(shè)置成三個(gè)或者三個(gè)以上。
[0009]外桶(15)及桶蓋(22)外可以包裹上隔熱保溫材料(16)。
[0010]作為優(yōu)化的方案，所述四個(gè)溫度探頭(18)安裝在燒杯(7)外壁的上下左右四個(gè)位置。
[0011]作為優(yōu)化的方案，所述電加熱棒(20)彎成W形狀，以增加與裝在外桶(15)內(nèi)的溶液的接觸面積，以保證加熱時(shí)溫度在橫向、縱向的均勻分布，可使桶中的溶液的溫度均勻性更好。
[0012]外桶(15)是無(wú)磁性材料。
[0013]當(dāng)本發(fā)明所述的高精密溫控裝置用于質(zhì)子交換時(shí)，可以在所述燒杯(7)內(nèi)放入苯甲酸溶液(14)，燒杯(7)上蓋有密封蓋(11)，裝有鈮酸鋰波導(dǎo)芯片(9)的樣品籃(10)用吊繩吊在密封蓋(11)上，樣品籃(10)底部開(kāi)孔，可使苯甲酸溶液(14)完全滲透到樣品籃
(10)中，裝有鈮酸鋰波導(dǎo)芯片(9)的樣品籃(10)在苯甲酸溶液(14)中的位置，要使得鈮酸鋰波導(dǎo)芯片(9)完全浸泡在苯甲酸溶液(14)中，所述外桶(15)內(nèi)放入硅油(19)。
[0014]為了使燒杯(7)的密封性更好，密封蓋(11)內(nèi)與燒杯(7)接觸的位置裝有密封圈
(12)。
[0015]為了方便密封蓋(11)的打開(kāi)，密封蓋(11)上部裝有把手(13)。
[0016]磁性攪拌子(8)的攪拌速率維持在140?220RPM，以防止局部液體過(guò)熱，而且不形成渦流，保證液溫均勻分布。
[0017]所述磁性攪拌子(8)外包裹有耐高溫耐腐蝕的塑料，比如特氟龍，避免了由于磁性材料直接接觸苯甲酸溶液(14)而對(duì)苯甲酸溶液(14)產(chǎn)生污染。
[0018]本發(fā)明的優(yōu)點(diǎn)在于:采用本發(fā)明的裝置，溫控精度和溫度均勻性均能達(dá)到
0.02°C，應(yīng)用于對(duì)控溫精度要求高、且對(duì)溶液濃度和溫度梯度要求高的工藝。
[0019]特別適合為生產(chǎn)周期極化鈮酸鋰波導(dǎo)芯片提供質(zhì)子交換工藝及高精密溫控，實(shí)現(xiàn)高精度的同時(shí)無(wú)污染。具體表現(xiàn)為:
[0020]1、利用硅油和苯甲酸雙層油浴結(jié)構(gòu)，其中苯甲酸位于燒杯中，硅油位于外桶中，相對(duì)于現(xiàn)有技術(shù)中使用空氣作為隔熱層，硅油可作為加熱介質(zhì)，且液體導(dǎo)熱性較好，可使內(nèi)層的苯甲酸溶液均勻受熱，同時(shí)為內(nèi)層的苯甲酸溶液達(dá)到保濕的效果；實(shí)驗(yàn)結(jié)果表明，使用雙層油浴結(jié)構(gòu)，溫控精度高，溫度均勻性好，可以達(dá)到0.02V,比現(xiàn)有技術(shù)的溫控精度1°C高出兩個(gè)數(shù)量級(jí)；
[0021]2、采用雙級(jí)無(wú)接觸磁力攪拌機(jī)構(gòu)，且磁性攪拌子外包裹有耐高溫耐腐蝕的塑料(比如特氟龍)，避免了由于直接接觸而對(duì)苯甲酸溶液產(chǎn)生污染；
[0022]3、使用W形狀的電加熱棒，在加熱時(shí)可以增加與硅油的接觸面積，達(dá)到橫向、縱向的均勻加熱；
[0023]4、為保證硅油和苯甲酸溶液的溫度均勻性可以長(zhǎng)時(shí)間維持在±0.02°C的工藝要求，優(yōu)選的，磁性攪拌子的攪拌速率維持在140?220RPM左右，這樣做可以防止局部液體過(guò)熱，而且不形成渦流，保證液溫均勻分布。
【專(zhuān)利附圖】
【附圖說(shuō)明】
[0024]圖1為本發(fā)明高精密溫控裝置中雙級(jí)無(wú)接觸磁力攪拌機(jī)構(gòu)圖；
[0025]圖2是在圖1的基礎(chǔ)上加上外桶及保溫材料、磁性轉(zhuǎn)臺(tái)示意圖；
[0026]圖3是高精密溫控裝置的完整結(jié)構(gòu)示意圖；
[0027]圖4是電加熱棒結(jié)構(gòu)示意圖，其中圖4a是主視圖，圖4b是俯視圖，圖4c是立體結(jié)構(gòu)圖；
[0028]圖5是雙級(jí)磁鐵組和磁性攪拌子示意圖；
[0029]圖6是本發(fā)明中的樣品籃結(jié)構(gòu)示意圖，其中圖6a是主視圖，圖6b是右視圖，圖6c是立體結(jié)構(gòu)圖；
[0030]圖7是本發(fā)明中攪拌轉(zhuǎn)速分別在140、160、180、200、220RPM時(shí)，在120分鐘內(nèi)的溫度波動(dòng)圖。
【具體實(shí)施方式】
[0031]以下結(jié)合附圖對(duì)本發(fā)明進(jìn)行詳細(xì)的描述。
[0032]請(qǐng)參閱圖1至圖3所示，本發(fā)明高精密溫控裝置包括雙級(jí)無(wú)接觸磁力攪拌機(jī)構(gòu)、夕卜桶15、隔熱保溫材料16、強(qiáng)力磁性攪拌機(jī)臺(tái)17、溫度探頭18、電加熱棒20、PID溫控系統(tǒng)21以及桶蓋22，所述雙級(jí)無(wú)接觸磁力攪拌機(jī)構(gòu)包括框架1、旋轉(zhuǎn)主軸2、一級(jí)磁鐵組3、二級(jí)磁鐵組4、攪拌葉輪5、墊塊6、燒杯7、磁性攪拌子8、密封蓋11、密封圈12、把手13。
[0033]雙級(jí)無(wú)接觸磁力攪拌機(jī)構(gòu)的具體連接及位置關(guān)系如下:所述框架I由一分隔部101分成上下兩部分，墊塊6固定在框架I內(nèi)的分隔部101的上方，具體的，可以用螺釘將墊塊6固定在框架I上，也可以采用粘結(jié)、卡扣等現(xiàn)有的各種固定方式。燒杯7放在框架I內(nèi)的墊塊6上，為了使燒杯7放置的更穩(wěn)固，墊塊6最好設(shè)置成三個(gè)或者三個(gè)以上。一級(jí)磁鐵組3和二級(jí)磁鐵組4分別固定安裝在旋轉(zhuǎn)主軸2的下端和上端，攪拌葉輪5固定安裝在旋轉(zhuǎn)主軸2的中段。旋轉(zhuǎn)主軸2可轉(zhuǎn)動(dòng)的安裝在分隔部101，攪拌葉輪5和一級(jí)磁鐵組3位于框架I內(nèi)的分隔部101的下方，二級(jí)磁鐵組4位于框架I內(nèi)的分隔部101的上方，且位于燒杯7的正下方。燒杯7內(nèi)底部放置磁性攪拌子8，且與一級(jí)磁鐵組3、二級(jí)磁鐵組4、攪拌葉輪5同軸放置。燒杯7上蓋有密封蓋11,為了使燒杯7的密封性更好,密封蓋11內(nèi)與燒杯7接觸的位置裝有密封圈12，為了方便密封蓋11的打開(kāi)，密封蓋11上部裝有把手13。
[0034]溫度探頭18安裝在燒杯7的外壁上，所述雙級(jí)無(wú)接觸磁力攪拌機(jī)構(gòu)整體放在外桶15內(nèi)，外桶15外可以包裹上隔熱保溫材料16，外桶15整體放在強(qiáng)力磁性攪拌機(jī)臺(tái)17上。電加熱棒20放置在外桶15內(nèi)，位于雙級(jí)無(wú)接觸磁力攪拌機(jī)構(gòu)的外圍，電加熱棒20的通電導(dǎo)線及溫度探頭18的導(dǎo)線一起接入到PID溫控系統(tǒng)21之中，桶蓋22蓋在外桶15上，桶蓋22外可以包裹上隔熱保溫材料16。外桶15是無(wú)磁性材料。
[0035]這里需要說(shuō)明的是，四個(gè)溫度探頭18是安裝在燒杯7外壁的上下左右不同位置的，如圖2所示，而不是把溫度探頭18直接放置在燒杯7內(nèi)的溶液中直接測(cè)量溫度，原因有二:其一，由于溶液大多對(duì)于電子溫度探頭18有腐蝕性，會(huì)造成電子儀器的破壞；其二，如果將溫度探頭18放置在燒杯7內(nèi)部的溶液中，會(huì)對(duì)溶液造成污染，如果該裝置用于質(zhì)子交換，則會(huì)影響質(zhì)子交換的純凈度。由于溫度探頭18緊貼在燒杯7的外壁，且分別放置在燒杯7的上下左右不同位置，當(dāng)四個(gè)溫度探頭18反饋溫度在某一具體溫度(例如125°C )±0.02°C的范圍內(nèi)，則可以認(rèn)為燒杯7內(nèi)部的溶液的溫度也在(125±0.02)°C的范圍內(nèi)。
[0036]所述電加熱棒20的結(jié)構(gòu)圖如圖4所示，彎成W形狀，以增加與裝在外桶15內(nèi)的溶液19的接觸面積，以保證加熱時(shí)溫度在橫向、縱向的均勻分布，可使溶液19中的溫度均勻性更好。
[0037]所述外桶15可以是不銹鋼或者鋁等無(wú)磁性材料，但不銹鋼導(dǎo)熱系數(shù)較低，散熱慢，保溫性能會(huì)更好，所以?xún)?yōu)選的，外桶15采用不銹鋼材料。
[0038]所述框架I可以是鋁制的，也可以是不銹鋼或者鈦合金等金屬制品。
[0039]所述攪拌葉輪5可以是鋁制的，也可以是不銹鋼或者耐高溫的塑料，比如特氟龍。
[0040]所述墊塊6可以是不銹鋼材料的，或者是耐高溫的塑料，比如特氟龍。
[0041]所述密封蓋11采用耐高溫耐腐蝕的塑料或者絕熱材料，比如特氟龍或者陶瓷。
[0042]該高精密溫控裝置的安裝過(guò)程如下所述。
[0043]如圖1所示，首先將框架I搭建好，將墊塊6固定在框架I上，將旋轉(zhuǎn)主軸2與一級(jí)磁鐵組3、二級(jí)磁鐵組4、攪拌葉輪5 —起安裝到框架I上；然后將裝好溶液14的燒杯7放在框架I內(nèi)，直接接觸到墊塊6，并將磁性攪拌子8放入溶液14內(nèi)，磁性攪拌子8與旋轉(zhuǎn)主軸2、一級(jí)磁鐵組3、二級(jí)磁鐵組4、攪拌葉輪5同軸放置，直接接觸燒杯7的底端，如圖5所示；再將需要控溫的產(chǎn)品放置在燒杯7之中，蓋上密封蓋11。參閱圖2，將裝好的雙級(jí)無(wú)接觸磁力攪拌機(jī)構(gòu)(如圖1所示)安裝上溫度探頭18，然后將整個(gè)雙級(jí)無(wú)接觸磁力攪拌機(jī)構(gòu)部分放入到外桶15中，桶外包裹上隔熱保溫材料16，將外桶15整體放在強(qiáng)力磁性攪拌機(jī)臺(tái)17上。繼續(xù)參閱圖3，在外桶15內(nèi)加入溶液19，然后將電加熱棒20放置在外桶15內(nèi)，浸沒(méi)在溶液19中，位于雙級(jí)無(wú)接觸磁力攪拌機(jī)構(gòu)的外圍，將電加熱棒20的通電導(dǎo)線及溫度探頭18的導(dǎo)線一起接入到PID溫控系統(tǒng)21之中，蓋上桶蓋22，桶蓋22外包裹上隔熱保溫材料16。
[0044]PID溫控系統(tǒng)21可通過(guò)“探測(cè)-反饋-調(diào)節(jié)-再探測(cè)”的方法，使得雙層油浴結(jié)構(gòu)中的溶液19的溫度均勻性保持在±0.02°C，進(jìn)而保持燒杯7內(nèi)的溶液14的溫度均勻性控制在 ±0.02。。。
[0045]本發(fā)明所述的高精密溫控裝置，在開(kāi)啟強(qiáng)力磁性攪拌機(jī)臺(tái)17后，將帶動(dòng)固定在外桶15上的旋轉(zhuǎn)主軸2轉(zhuǎn)動(dòng)，與旋轉(zhuǎn)主軸2連帶的一級(jí)磁鐵組3、二級(jí)磁鐵組4及攪拌葉輪5同軸轉(zhuǎn)動(dòng)，二級(jí)磁鐵組4利用旋轉(zhuǎn)磁場(chǎng),進(jìn)一步帶動(dòng)位于盛放溶液14的燒杯7內(nèi)的磁性攪拌子8同軸轉(zhuǎn)動(dòng)。
[0046]當(dāng)本發(fā)明所述的高精密溫控裝置用于質(zhì)子交換時(shí)，所述燒杯7內(nèi)放入苯甲酸溶液14，裝有鈮酸鋰波導(dǎo)芯片9的樣品籃10用吊繩吊在密封蓋11上，樣品籃10底部有細(xì)小圓孔102，如圖6所示，可使苯甲酸溶液14完全滲透到樣品籃10中，裝有鈮酸鋰波導(dǎo)芯片9的樣品籃10在苯甲酸溶液14中的位置，要使得鈮酸鋰波導(dǎo)芯片9完全浸泡在苯甲酸溶液14中。所述外桶15內(nèi)放入硅油19。
[0047]因?yàn)楸郊姿崛芤?4的升華溫度小于110°C,而加工中使用的溫度在120?220°C范圍內(nèi)，所以盛放苯甲酸溶液14的燒杯7必須使用密封蓋11進(jìn)行密封，避免苯甲酸升華滲出。
[0048]硅油19即使在120?220°C左右也有一定的粘性，所以用攪拌葉輪5進(jìn)行攪拌；燒杯7中的苯甲酸溶液14中則使用一個(gè)磁性攪拌子8進(jìn)行攪拌。磁性攪拌子8的攪拌速率優(yōu)選的可維持在140?220RPM左右，這樣做可以防止局部溶液過(guò)熱，而且不形成渦流，保證液溫均勻分布。
[0049]所述樣品籃10和吊繩可以是耐高溫耐腐蝕的塑料或者絕熱材料，比如特氟龍或者陶瓷。
[0050]所述磁性攪拌子8外包裹有耐高溫耐腐蝕的塑料，比如特氟龍，避免了由于磁性材料直接接觸苯甲酸溶液14而對(duì)苯甲酸溶液14產(chǎn)生污染。
[0051]圖7為本發(fā)明所述的溫控裝置應(yīng)用在質(zhì)子交換時(shí)在轉(zhuǎn)速分別為140、160、180、200、220RPM時(shí)，120分鐘以?xún)?nèi)的溫度波動(dòng)圖，其數(shù)據(jù)從圖2中四個(gè)溫度探頭18得出。從圖7中可以明顯看出，苯甲酸溶液14的溫控精度完全控制在0.02°C以?xún)?nèi)，因此本溫控裝置完全可以達(dá)到在質(zhì)子交換過(guò)程中所需的高溫控精度、低溶液溫度梯度的工藝要求。
[0052]以上所述僅為本發(fā)明創(chuàng)造的較佳實(shí)施例而已，并不用以限制本發(fā)明創(chuàng)造，凡在本發(fā)明創(chuàng)造的精神和原則之內(nèi)所作的任何修改、等同替換和改進(jìn)等，均應(yīng)包含在本發(fā)明創(chuàng)造的保護(hù)范圍之內(nèi)。
【權(quán)利要求】
1.一種高精密溫控裝置，包括外桶(15)、強(qiáng)力磁性攪拌機(jī)臺(tái)(17)、溫度探頭(18)、電加熱棒(20)、PID溫控系統(tǒng)(21)以及桶蓋(22)，外桶(15)整體放在強(qiáng)力磁性攪拌機(jī)臺(tái)(17)上，電加熱棒(20)放置在外桶(15)內(nèi)，電加熱棒(20)的通電導(dǎo)線及溫度探頭(18)的導(dǎo)線一起接入到PID溫控系統(tǒng)(21)之中，桶蓋(22)蓋在外桶(15)上，其特征在于:還包括雙級(jí)無(wú)接觸磁力攪拌機(jī)構(gòu)，所述雙級(jí)無(wú)接觸磁力攪拌機(jī)構(gòu)包括框架(1)、旋轉(zhuǎn)主軸(2)、一級(jí)磁鐵組(3)、二級(jí)磁鐵組(4)、攪拌葉輪(5)、墊塊(6)、燒杯(7)、磁性攪拌子(8)，所述框架(1)由一分隔部(101)分成上下兩部分，墊塊(6)固定在框架(1)內(nèi)的分隔部(101)的上方，燒杯(7)放在墊塊(6)上，燒杯(7)內(nèi)底部放置磁性攪拌子(8)，溫度探頭(18)安裝在燒杯(7)的外壁上，所述雙級(jí)無(wú)接觸磁力攪拌機(jī)構(gòu)整體放在外桶(15)內(nèi)，電加熱棒(20)位于雙級(jí)無(wú)接觸磁力攪拌機(jī)構(gòu)的外圍，一級(jí)磁鐵組(3)和二級(jí)磁鐵組(4)分別固定安裝在旋轉(zhuǎn)主軸(2)的下端和上端，攪拌葉輪(5)固定安裝在旋轉(zhuǎn)主軸(2)的中段，且一級(jí)磁鐵組(3)、二級(jí)磁鐵組(4)、攪拌葉輪(5)與磁性攪拌子(8)同軸放置，旋轉(zhuǎn)主軸(2)可轉(zhuǎn)動(dòng)的安裝在分隔部(101)，攪拌葉輪(5)和一級(jí)磁鐵組(3)位于框架(1)內(nèi)的分隔部(101)的下方，二級(jí)磁鐵組(4)位于框架(1)內(nèi)的分隔部(101)的上方，且位于燒杯(7)的正下方，所述燒杯(7)內(nèi)和外桶(15)內(nèi)根據(jù)需要放入溶液，構(gòu)成雙層油浴結(jié)構(gòu)。
2.如權(quán)利要求1所述的一種高精密溫控裝置，其特征在于:所述墊塊(6)為至少三個(gè)。
3.如權(quán)利要求1所述的一種高精密溫控裝置，其特征在于:所述外桶(15)及桶蓋(22)外包裹上隔熱保溫材料(16)。
4.如權(quán)利要求1所述的一種高精密溫控裝置，其特征在于:所述溫度探頭(18)有四個(gè)，分別安裝在燒杯(7)外壁的上下左右四個(gè)位置。
5.如權(quán)利要求1所述的一種高精密溫控裝置，其特征在于:所述電加熱棒(20)彎成W形狀。
6.如權(quán)利要求1所述的一種高精密溫控裝置，其特征在于:所述外桶(15)是無(wú)磁性材料。
7.如權(quán)利要求1至6任一項(xiàng)所述的一種高精密溫控裝置，其特征在于:所述燒杯(7)內(nèi)放入苯甲酸溶液(14)，燒杯(7)上蓋有密封蓋(11)，裝有鈮酸鋰波導(dǎo)芯片(9)的樣品籃(10)用吊繩吊在密封蓋(11)上，樣品籃(10)底部開(kāi)孔，裝有鈮酸鋰波導(dǎo)芯片(9)的樣品籃(10)在苯甲酸溶液(14)中的位置是使得鈮酸鋰波導(dǎo)芯片(9)完全浸泡在苯甲酸溶液(14)中，所述外桶(15)內(nèi)放入硅油(19)。
8.如權(quán)利要求7所述的一種高精密溫控裝置，其特征在于:磁性攪拌子(8)的攪拌速率維持在140~220RPM。
9.如權(quán)利要求7所述的一種高精密溫控裝置，其特征在于:所述磁性攪拌子(8)外包裹有耐高溫耐腐蝕的塑料。
10.如權(quán)利要求9所述的一種高精密溫控裝置，其特征在于:所述磁性攪拌子(8)外包裹有特氟龍。
【文檔編號(hào)】G05D23/30GK104076841SQ201410359207
【公開(kāi)日】2014年10月1日 申請(qǐng)日期:2014年7月25日 優(yōu)先權(quán)日:2014年7月25日
【發(fā)明者】謝秀平, 張海亭, 鄭名揚(yáng), 代云啟, 申屠國(guó)樑, 周飛, 張強(qiáng) 申請(qǐng)人:山東量子科學(xué)技術(shù)研究院有限公司, 濟(jì)南量子技術(shù)研究院, 張強(qiáng)