1.一種質(zhì)量流量控制裝置，包括：
流量計(jì)；
機(jī)械式調(diào)壓閥，其與所述流量計(jì)相鄰地配置在所述流量計(jì)的上游側(cè)；
流量控制閥，其配置在所述流量計(jì)的下游側(cè)。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的質(zhì)量流量控制裝置，其中，
所述機(jī)械式調(diào)壓閥埋設(shè)于質(zhì)量流量控制裝置的基部中。
3.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的質(zhì)量流量控制裝置，其中，
在所述機(jī)械式調(diào)壓閥的上游側(cè)設(shè)有壓力傳感器(5)。
4.根據(jù)權(quán)利要求1～3中的任一項(xiàng)所述的質(zhì)量流量控制裝置，其中，
所述流量計(jì)為壓力式流量計(jì)。
5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的質(zhì)量流量控制裝置，其中，
所述壓力式流量計(jì)包括上游側(cè)的壓力傳感器(2b)和下游側(cè)的壓力傳感器(2c)。
6.根據(jù)權(quán)利要求4所述的質(zhì)量流量控制裝置，其中，
所述壓力式流量計(jì)包括用于測(cè)量上游側(cè)的壓力和下游側(cè)的壓力之間的差壓的差壓傳感器。
7.根據(jù)權(quán)利要求1～6中的任一項(xiàng)所述的質(zhì)量流量控制裝置，其中，
該質(zhì)量流量控制裝置還包括強(qiáng)制地使所述機(jī)械式調(diào)壓閥開(kāi)閥的強(qiáng)制開(kāi)閥機(jī)構(gòu)。
8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的質(zhì)量流量控制裝置，其中，
所述機(jī)械式調(diào)壓閥包括：
調(diào)壓室，其構(gòu)成所述質(zhì)量流量控制裝置中的流體的流路的一部分；
隔膜，其將所述調(diào)壓室的內(nèi)部區(qū)域和所述流路的外部區(qū)域隔開(kāi)，
所述機(jī)械式調(diào)壓閥構(gòu)成為，當(dāng)所述調(diào)壓室內(nèi)的所述流體的壓力低于規(guī)定的設(shè)定壓力時(shí)，通過(guò)所述隔膜的至少一部分向所述調(diào)壓室側(cè)移位而開(kāi)閥，
所述強(qiáng)制開(kāi)閥機(jī)構(gòu)包括通過(guò)來(lái)自外部的操作使所述隔膜的至少一部分向所述調(diào)壓室側(cè)移位的構(gòu)件。
9.根據(jù)權(quán)利要求8所述的質(zhì)量流量控制裝置，其中，
所述強(qiáng)制開(kāi)閥機(jī)構(gòu)配置在所述流體的所述流路的外部區(qū)域。
10.根據(jù)權(quán)利要求7～9中的任一項(xiàng)所述的質(zhì)量流量控制裝置，其中，
由所述強(qiáng)制開(kāi)閥機(jī)構(gòu)強(qiáng)制地使所述機(jī)械式調(diào)壓閥開(kāi)閥時(shí)的開(kāi)度大于所述質(zhì)量流量控制裝置運(yùn)轉(zhuǎn)時(shí)的所述機(jī)械式調(diào)壓閥的最大開(kāi)度。