本申請涉及激光打印，具體涉及一種多光源的校正方法、數(shù)控設(shè)備及計算系統(tǒng)。

背景技術(shù)：

1、目前大多激光加工設(shè)備都采用單一光源。受限于光源，激光加工設(shè)備不能兼容更多的使用場景。在安裝兩種不同波長的光源的激光設(shè)備中，在切換不同波長的光源對圖片進行加工時需要重新定位焦點，重新定位焦點會影響幅面的加工精度。

2、而且，雙波段激光加工設(shè)備多用于增材制造，其中一種光源為輔助加熱作用或者熱加工作用，不能做到兩種光源共焦點對工件進行精細加工。

技術(shù)實現(xiàn)思路

1、本申請的一個目的在于提出一種多光源的校正方法、數(shù)控設(shè)備及計算系統(tǒng)，以提高多光源激光加工的加工效果。

2、根據(jù)本申請實施例的一方面，提供了一種多光源的校正方法，包括：

3、確定第一光源和第二光源的發(fā)射位置，根據(jù)所述發(fā)射位置確定所述第一光路和所述第二光路的反射路徑，所述第一光路為所述第一光源的路徑，所述第二光路為所述第二光源的路徑；

4、調(diào)整所述第一光路和所述第二光路上的第一光學元件使所述第一光路和所述第二光路在所述反射路徑上處于第一狀態(tài)，所述第一狀態(tài)用于表征所述第一光路和所述第二光路處于平行狀態(tài)；

5、調(diào)整所述第一光路和所述第二光路上的第二光學元件使所述第一光路和所述第二光路處于第二狀態(tài)，所述第二狀態(tài)用于表征所述第一光路與所述第二光路的出射光的焦點處于第一平面。

6、根據(jù)本申請實施例的一方面，提供了一種數(shù)控設(shè)備，包括：多個激光器，用于發(fā)射光路；

7、多個擴束鏡，所述擴束鏡設(shè)置在所述激光器的出光口，用于調(diào)整所述激光器射出的光束大??；

8、反射鏡，用于反射所述激光器射出的光路；

9、振鏡，用于將所述反射鏡反射的光路反射至工作幅面；

10、場鏡，所述場鏡位于所述振鏡下方，用于將振鏡反射出的光路聚焦在工作平面上；

11、控制系統(tǒng)，所述控制系統(tǒng)與所述激光器電連接，用于通知所述數(shù)控設(shè)備實現(xiàn)上述的多光源的校正方法。

12、根據(jù)本申請實施例的一方面，提供了一種應(yīng)用于激光加工的計算系統(tǒng)，所述計算系統(tǒng)包括至少一個數(shù)控設(shè)備和至少一個處理器；

13、所述處理器用于執(zhí)行上述權(quán)利要求所述的多光源的矯正方法的步驟；

14、所述數(shù)控機器用于處理所述處理器得到的激光加工信號，將電磁能傳送至布置在所述數(shù)控機器的內(nèi)部的加工材料。

15、根據(jù)本申請實施例的一方面，提供了一種計算機程序介質(zhì)，其上存儲有計算機可讀指令，當所述計算機可讀指令被計算機的處理器執(zhí)行時，使計算機執(zhí)行上述各種可選實現(xiàn)方式中提供的方法。

16、根據(jù)本申請實施例的一個方面，提供了一種計算機程序產(chǎn)品或計算機程序，該計算機程序產(chǎn)品或計算機程序包括計算機指令，該計算機指令存儲在計算機可讀存儲介質(zhì)中。計算機設(shè)備的處理器從計算機可讀存儲介質(zhì)讀取該計算機指令，處理器執(zhí)行該計算機指令，使得該計算機設(shè)備執(zhí)行上述各種可選實現(xiàn)方式中提供的方法。

17、在本申請中，通過確定第一光源和第二光源的發(fā)射位置，根據(jù)所述發(fā)射位置確定所述第一光路和所述第二光路的反射路徑，控制第一光路和第二光路在反射路徑上處于第一狀態(tài)后，調(diào)整所述第一光路和所述第二光路的反射路徑上的第二光學元件使第一光路和第二光路處于第二狀態(tài)，各個光源的工作范圍相同，能夠使用多種光源對工作對象進行加工，而不會出現(xiàn)重影的現(xiàn)象，在切換不同光源時，可根據(jù)對應(yīng)的參數(shù)進行幅面校正，而不用重新校正焦點，進而不會影響加工精度，一定程度上提高了多光源加工的加工效果。

18、本申請的其他特性和優(yōu)點將通過下面的詳細描述變得顯然，或部分地通過本申請的實踐而習得。

19、應(yīng)當理解的是，以上的一般描述和后文的細節(jié)描述僅是示例性的，并不能限制本申請。

技術(shù)特征：

1.一種多光源的校正方法，其特征在于，包括：

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的多光源的校正方法，其特征在于，所述反射路徑包括振鏡，在所述控制所述第一光路和所述第二光路在所述反射路徑上處于第一狀態(tài)或第二狀態(tài)之后，所述方法還包括:

3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的多光源的校正方法，其特征在于，所述第一光學元件為反射鏡，所述調(diào)整所述第一光路和所述第二光路上的第一光學元件使所述第一光路和所述第二光路在所述反射路徑上處于第一狀態(tài)，包括：

4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的多光源的校正方法，其特征在于，在所述反射路徑上，所述第一位置與所述第一光源與所述第二光源的發(fā)射位置的距離小于所述第二位置與所述第一光源與所述第二光源的發(fā)射位置的距離。

5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的多光源的校正方法，其特征在于，所述第二光學元件為擴束鏡，所述調(diào)整所述第一光路和所述第二光路上的第二光學元件使所述第一光路和所述第二光路處于第二狀態(tài)，包括：

6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的多光源的校正方法，其特征在于，所述通過調(diào)整所述第一光路上的第一擴束鏡的發(fā)散角，改變所述第一光路經(jīng)過所述振鏡的光束大小包括：

7.根據(jù)權(quán)利要求5-6任一項所述的多光源的校正方法，其特征在于，所述第一擴束鏡的光學參數(shù)與所述第二擴束鏡的光學參數(shù)不同。

8.根據(jù)權(quán)利要求2所述的多光源的校正方法，其特征在于，所述將所述第一光路在所述第一平面上的掃描范圍確定為基準幅面，基于所述基準幅面調(diào)整所述振鏡的振鏡參數(shù)，使所述第二光路在所述第一平面上的掃描范圍與所述基準幅面重合，包括：

9.根據(jù)權(quán)利要求8所述的多光源的校正方法，其特征在于，所述第一光源的波長小于所述第二光源的波長，所述基于所述基準幅面，根據(jù)所述第二光源的波長調(diào)整所述振鏡參數(shù)，使所述第二光路在所述第一平面上的掃描范圍與所述基準幅面重合，包括：

10.一種數(shù)控設(shè)備，其特征在于，包括：

11.一種應(yīng)用于激光加工的計算系統(tǒng)，其特征在于，所述計算系統(tǒng)包括至少一個數(shù)控設(shè)備和至少一個處理器；

技術(shù)總結(jié)
本申請?zhí)峁┝艘环N多光源的校正方法、數(shù)控設(shè)備及計算系統(tǒng)。該方法包括：確定第一光源和第二光源的發(fā)射位置，根據(jù)所述發(fā)射位置確定所述第一光路和所述第二光路的反射路徑；調(diào)整所述第一光路和所述第二光路上的第一光學元件使所述第一光路和所述第二光路在所述反射路徑上處于第一狀態(tài)，所述第一狀態(tài)用于表征所述第一光路和所述第二光路處于平行狀態(tài)；調(diào)整所述第一光路和所述第二光路上的第二光學元件使所述第一光路和所述第二光路處于第二狀態(tài)，所述第二狀態(tài)用于表征所述第一光路與所述第二光路的出射光的焦點處于第一平面。本申請用于提高多光源激光加工的加工效果。

技術(shù)研發(fā)人員：戴勤彬
受保護的技術(shù)使用者：深圳市創(chuàng)客工場科技有限公司
技術(shù)研發(fā)日：
技術(shù)公布日：2024/11/26