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      反射型點(diǎn)狀參考目標(biāo)陣列裝置的控制方法、裝置、控制器和反射型點(diǎn)狀參考目標(biāo)陣列裝置

      文檔序號(hào):40046021發(fā)布日期:2024-11-19 14:28閱讀:17來源:國知局
      反射型點(diǎn)狀參考目標(biāo)陣列裝置的控制方法、裝置、控制器和反射型點(diǎn)狀參考目標(biāo)陣列裝置

      本申請(qǐng)涉及點(diǎn)光源靶標(biāo),特別是涉及一種反射型點(diǎn)狀參考目標(biāo)陣列裝置的控制方法、裝置、控制器和反射型點(diǎn)狀參考目標(biāo)陣列裝置。


      背景技術(shù):

      1、在航天航空遙感技術(shù)領(lǐng)域中,反射型點(diǎn)狀參考目標(biāo)陣列裝置通常應(yīng)用于光學(xué)遙感衛(wèi)星相機(jī)在軌運(yùn)行期間的定標(biāo)與質(zhì)評(píng),為了保證定標(biāo)和質(zhì)評(píng)的準(zhǔn)確性,需要對(duì)太陽等天體的運(yùn)動(dòng)軌跡進(jìn)行高精度的跟蹤控制。

      2、傳統(tǒng)的反射型點(diǎn)狀參考目標(biāo)陣列裝置往往難以直接處理太陽運(yùn)行軌跡這種復(fù)雜的非線性變化,導(dǎo)致跟蹤精度受限。

      3、因此,亟需提供一種新的反射型點(diǎn)狀參考目標(biāo)陣列裝置的控制方法,以提高跟蹤精度。


      技術(shù)實(shí)現(xiàn)思路

      1、基于此,有必要針對(duì)上述技術(shù)問題,提供一種能夠提高跟蹤精度的反射型點(diǎn)狀參考目標(biāo)陣列裝置的控制方法、裝置、控制器和反射型點(diǎn)狀參考目標(biāo)陣列裝置。

      2、第一方面,本申請(qǐng)?zhí)峁┝艘环N反射型點(diǎn)狀參考目標(biāo)陣列裝置的控制方法,該方法包括:

      3、獲取目標(biāo)角度參數(shù)和反射型點(diǎn)狀參考目標(biāo)陣列裝置的當(dāng)前角度參數(shù);

      4、確定目標(biāo)角度參數(shù)和當(dāng)前角度參數(shù)的角度差值;

      5、若角度差值大于預(yù)設(shè)角度差值閾值,則根據(jù)角度差值和預(yù)設(shè)分段規(guī)則,確定對(duì)應(yīng)的分段轉(zhuǎn)動(dòng)軌跡,并控制反射型點(diǎn)狀參考目標(biāo)陣列裝置的反射鏡組件沿分段轉(zhuǎn)動(dòng)軌跡進(jìn)行轉(zhuǎn)動(dòng),以使當(dāng)前角度參數(shù)對(duì)應(yīng)的角度差值小于等于預(yù)設(shè)角度差值閾值;其中,不同分段轉(zhuǎn)動(dòng)軌跡對(duì)應(yīng)的轉(zhuǎn)動(dòng)速度時(shí)間曲線不同。

      6、在其中一個(gè)實(shí)施例中,角度差值的大小與分段轉(zhuǎn)動(dòng)軌跡的數(shù)量呈正相關(guān)關(guān)系。

      7、在其中一個(gè)實(shí)施例中,每段轉(zhuǎn)動(dòng)軌跡均依次包括勻加速階段、勻速階段和勻減速階段,勻加速階段和勻減速階段所對(duì)應(yīng)的加速度大小和時(shí)間均相同。

      8、在其中一個(gè)實(shí)施例中,當(dāng)存在多個(gè)分段轉(zhuǎn)動(dòng)軌跡的情況下,不同分段轉(zhuǎn)動(dòng)軌跡對(duì)應(yīng)的勻速階段的轉(zhuǎn)動(dòng)速度與當(dāng)前角度差值呈正相關(guān)關(guān)系。

      9、在其中一個(gè)實(shí)施例中,控制反射型點(diǎn)狀參考目標(biāo)陣列裝置的反射鏡組件沿分段轉(zhuǎn)動(dòng)軌跡進(jìn)行轉(zhuǎn)動(dòng),包括:

      10、根據(jù)角度差值以及預(yù)設(shè)目標(biāo)轉(zhuǎn)動(dòng)時(shí)間,確定當(dāng)前分段轉(zhuǎn)動(dòng)軌跡中勻加速階段、勻速階段和勻減速階段的脈沖信號(hào);

      11、提供每個(gè)階段對(duì)應(yīng)的脈沖信號(hào)至反射型點(diǎn)狀參考目標(biāo)陣列裝置的電機(jī),以使反射鏡組件在預(yù)設(shè)運(yùn)行目標(biāo)時(shí)間內(nèi)完成在當(dāng)前分段轉(zhuǎn)動(dòng)軌跡的轉(zhuǎn)動(dòng)。

      12、在其中一個(gè)實(shí)施例中,在反射型點(diǎn)狀參考目標(biāo)陣列裝置包括俯仰伺服電機(jī)的情況下,目標(biāo)角度參數(shù)包括太陽高度角,反射型點(diǎn)狀參考目標(biāo)陣列裝置的當(dāng)前角度參數(shù)包括反射型點(diǎn)狀參考目標(biāo)陣列裝置的當(dāng)前俯仰角,且目標(biāo)角度參數(shù)和當(dāng)前角度參數(shù)的角度差值包括太陽高度角和當(dāng)前俯仰角的俯仰角度差值;和/或,

      13、在反射型點(diǎn)狀參考目標(biāo)陣列裝置包括方位伺服電機(jī)的情況下,目標(biāo)角度參數(shù)包括太陽方位角,反射型點(diǎn)狀參考目標(biāo)陣列裝置的當(dāng)前角度參數(shù)包括反射型點(diǎn)狀參考目標(biāo)陣列裝置的當(dāng)前方位角,且目標(biāo)角度參數(shù)和當(dāng)前角度參數(shù)的角度差值包括太陽方位角和當(dāng)前方位角的方位角度差值。

      14、在其中一個(gè)實(shí)施例中,該方法還包括:

      15、獲取反射型點(diǎn)狀參考目標(biāo)陣列裝置所處的經(jīng)緯度和海拔高度;

      16、根據(jù)經(jīng)緯度和海拔高度,以及太陽軌跡算法,確定太陽高度角與太陽方位角;

      17、將太陽高度角和太陽方位角,確定為目標(biāo)角度參數(shù)。

      18、第二方面,本申請(qǐng)還提供了一種反射型點(diǎn)狀參考目標(biāo)陣列裝置的控制裝置,控制裝置包括:

      19、角度參數(shù)獲取模塊,用于獲取目標(biāo)角度參數(shù)和反射型點(diǎn)狀參考目標(biāo)陣列裝置的當(dāng)前角度參數(shù);

      20、角度差值確定模塊,用于確定目標(biāo)角度參數(shù)和當(dāng)前角度參數(shù)的角度差值;

      21、轉(zhuǎn)動(dòng)控制模塊,用于在角度差值大于預(yù)設(shè)角度差值閾值的情況下,根據(jù)角度差值和預(yù)設(shè)分段規(guī)則,確定對(duì)應(yīng)的分段轉(zhuǎn)動(dòng)軌跡,并控制反射型點(diǎn)狀參考目標(biāo)陣列裝置的反射鏡組件沿分段轉(zhuǎn)動(dòng)軌跡進(jìn)行轉(zhuǎn)動(dòng),以使當(dāng)前角度參數(shù)對(duì)應(yīng)的角度差值小于等于預(yù)設(shè)角度差值閾值;其中,不同分段轉(zhuǎn)動(dòng)軌跡對(duì)應(yīng)的轉(zhuǎn)動(dòng)速度時(shí)間曲線不同。

      22、第三方面,本申請(qǐng)還提供了一種控制器,包括存儲(chǔ)器和處理器,存儲(chǔ)器存儲(chǔ)有計(jì)算機(jī)程序,處理器執(zhí)行計(jì)算機(jī)程序時(shí)實(shí)現(xiàn)上述實(shí)施例中的方法的步驟。

      23、第四方面,本申請(qǐng)還提供了一種反射型點(diǎn)狀參考目標(biāo)陣列裝置,反射型點(diǎn)狀參考目標(biāo)陣列裝置包括:

      24、反射型點(diǎn)狀參考目標(biāo)陣列裝置本體;

      25、以及如上述實(shí)施例中的控制器。

      26、上述反射型點(diǎn)狀參考目標(biāo)陣列裝置的控制方法、裝置、控制器和反射型點(diǎn)狀參考目標(biāo)陣列裝置,至少具有以下有益效果:

      27、通過實(shí)時(shí)獲取反射型點(diǎn)狀參考目標(biāo)陣列裝置的當(dāng)前角度參數(shù)與目標(biāo)角度參數(shù),并據(jù)此計(jì)算角度差值,能夠確保反射型點(diǎn)狀參考目標(biāo)陣列裝置精確跟蹤太陽等空間光源;當(dāng)角度差值超過預(yù)設(shè)閾值時(shí),通過分解為多個(gè)分段轉(zhuǎn)動(dòng)軌跡并采用不同的轉(zhuǎn)動(dòng)速度時(shí)間曲線,實(shí)現(xiàn)了對(duì)反射鏡組件平滑、精確且高效的控制,進(jìn)而保證了光學(xué)遙感衛(wèi)星相機(jī)在軌運(yùn)行期間的定標(biāo)與質(zhì)評(píng)工作的準(zhǔn)確性及穩(wěn)定性,有效減少了誤差累積,提高了整個(gè)系統(tǒng)的性能表現(xiàn)。



      技術(shù)特征:

      1.一種反射型點(diǎn)狀參考目標(biāo)陣列裝置的控制方法,其特征在于,所述方法包括:

      2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的反射型點(diǎn)狀參考目標(biāo)陣列裝置的控制方法,其特征在于,所述角度差值的大小與所述分段轉(zhuǎn)動(dòng)軌跡的數(shù)量呈正相關(guān)關(guān)系。

      3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的反射型點(diǎn)狀參考目標(biāo)陣列裝置的控制方法,其特征在于,每段所述轉(zhuǎn)動(dòng)軌跡均依次包括勻加速階段、勻速階段和勻減速階段,所述勻加速階段和所述勻減速階段所對(duì)應(yīng)的加速度大小和時(shí)間均相同。

      4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的反射型點(diǎn)狀參考目標(biāo)陣列裝置的控制方法,其特征在于,當(dāng)存在多個(gè)所述分段轉(zhuǎn)動(dòng)軌跡的情況下,不同所述分段轉(zhuǎn)動(dòng)軌跡對(duì)應(yīng)的勻速階段的轉(zhuǎn)動(dòng)速度與所述當(dāng)前角度差值呈正相關(guān)關(guān)系。

      5.根據(jù)權(quán)利要求3所述的反射型點(diǎn)狀參考目標(biāo)陣列裝置的控制方法,其特征在于,所述控制反射型點(diǎn)狀參考目標(biāo)陣列裝置的反射鏡組件沿所述分段轉(zhuǎn)動(dòng)軌跡進(jìn)行轉(zhuǎn)動(dòng),包括:

      6.根據(jù)權(quán)利要求1-5任一項(xiàng)所述的反射型點(diǎn)狀參考目標(biāo)陣列裝置的控制方法,其特征在于,在所述反射型點(diǎn)狀參考目標(biāo)陣列裝置包括俯仰伺服電機(jī)的情況下,所述目標(biāo)角度參數(shù)包括太陽高度角,所述反射型點(diǎn)狀參考目標(biāo)陣列裝置的當(dāng)前角度參數(shù)包括所述反射型點(diǎn)狀參考目標(biāo)陣列裝置的當(dāng)前俯仰角,且所述目標(biāo)角度參數(shù)和所述當(dāng)前角度參數(shù)的角度差值包括所述太陽高度角和所述當(dāng)前俯仰角的俯仰角度差值;和/或,

      7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的反射型點(diǎn)狀參考目標(biāo)陣列裝置的控制方法,其特征在于,所述方法還包括:

      8.一種反射型點(diǎn)狀參考目標(biāo)陣列裝置的控制裝置,其特征在于,所述控制裝置包括:

      9.一種控制器,包括存儲(chǔ)器和處理器,所述存儲(chǔ)器存儲(chǔ)有計(jì)算機(jī)程序,其特征在于,所述處理器執(zhí)行所述計(jì)算機(jī)程序時(shí)實(shí)現(xiàn)權(quán)利要求1至7中任一項(xiàng)所述的方法的步驟。

      10.一種反射型點(diǎn)狀參考目標(biāo)陣列裝置,其特征在于,所述反射型點(diǎn)狀參考目標(biāo)陣列裝置包括:


      技術(shù)總結(jié)
      本申請(qǐng)涉及一種反射型點(diǎn)狀參考目標(biāo)陣列裝置的控制方法、裝置、控制器和反射型點(diǎn)狀參考目標(biāo)陣列裝置。該方法包括獲取目標(biāo)角度參數(shù)和反射型點(diǎn)狀參考目標(biāo)陣列裝置的當(dāng)前角度參數(shù);確定目標(biāo)角度參數(shù)和當(dāng)前角度參數(shù)的角度差值;若角度差值大于預(yù)設(shè)角度差值閾值,則根據(jù)角度差值和預(yù)設(shè)分段規(guī)則,確定對(duì)應(yīng)的分段轉(zhuǎn)動(dòng)軌跡,并控制反射型點(diǎn)狀參考目標(biāo)陣列裝置的反射鏡組件沿分段轉(zhuǎn)動(dòng)軌跡進(jìn)行轉(zhuǎn)動(dòng),以使當(dāng)前角度參數(shù)對(duì)應(yīng)的角度差值小于等于預(yù)設(shè)角度差值閾值;其中,不同分段轉(zhuǎn)動(dòng)軌跡對(duì)應(yīng)的轉(zhuǎn)動(dòng)速度時(shí)間曲線不同。采用本方法,能夠提高跟蹤精度。

      技術(shù)研發(fā)人員:徐偉偉,司孝龍,楊寶云,李鑫,李佳偉
      受保護(hù)的技術(shù)使用者:中國科學(xué)院合肥物質(zhì)科學(xué)研究院
      技術(shù)研發(fā)日:
      技術(shù)公布日:2024/11/18
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