專利名稱：累加斷層分析圖像產(chǎn)生方法和x射線ct設(shè)備的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及累加斷層分析圖像產(chǎn)生方法和X射線CT設(shè)備，尤其涉及這樣的累加斷層分析圖像產(chǎn)生方法和X射線CT設(shè)備，當(dāng)借助于添加多個(gè)斷層分析圖像產(chǎn)生累加斷層分析圖像時(shí)，即使在斷層分析圖像的切片厚度不同時(shí)，所述方法和設(shè)備也可以產(chǎn)生不受局部容積的不利影響的累加斷層分析圖像。
背景技術(shù)：
第一個(gè)例子(現(xiàn)有技術(shù))

圖1是在常規(guī)的X射線CT設(shè)備中常規(guī)的累加斷層分析圖像產(chǎn)生方法的第一個(gè)例子的流程圖，所述X射線CT設(shè)備包括具有多個(gè)檢測(cè)器行的多X射線檢測(cè)器。
在步ST61，圖像下標(biāo)計(jì)數(shù)器j被初始化為1。
在步ST62，從所述多X射線檢測(cè)器中的第j個(gè)檢測(cè)器行讀出行數(shù)據(jù)Ij。
在步ST63，進(jìn)行偏移校正。具體地說，從第j個(gè)檢測(cè)器行的行數(shù)據(jù)Ij中減去一個(gè)偏移。為了使說明簡(jiǎn)明，從中已被減去偏移的行數(shù)據(jù)也被叫做Ij。
在步ST64，進(jìn)行檢測(cè)器靈敏度校正。具體地說，第j個(gè)檢測(cè)器行的行數(shù)據(jù)Ij被除以輸入X射線劑量Tj.Io，其中Tj是第j個(gè)檢測(cè)器行的切片厚度，Io是每單位厚度輸入的X射線劑量。
在步ST65，對(duì)進(jìn)行檢測(cè)器靈敏度校正的行數(shù)據(jù)Ij/(Tj.Io)進(jìn)行第一校正。第一校正是一個(gè)參考校正。為了使說明簡(jiǎn)明，進(jìn)行第一校正的行數(shù)據(jù)也被叫做Ij/(Tj.Io)。
在步ST66，如果在進(jìn)行第一校正的行數(shù)據(jù)Ij/(Tj.Io)中的某個(gè)通道的值不大于預(yù)定的門限，則所述的值由一個(gè)或幾個(gè)相鄰?fù)返钠骄荡?。這個(gè)處理在下面將被稱為對(duì)數(shù)濾波(Log filtering)。
在步ST67，進(jìn)行對(duì)數(shù)處理。具體地說，計(jì)算-Log{Ij/(Tj.Io)}。
在步ST68，對(duì)進(jìn)行過對(duì)數(shù)處理的行數(shù)據(jù)進(jìn)行第二校正。第二校正至少是射線束硬化校正、水校正、人體移動(dòng)校正和螺旋校正之一。
在步ST69，對(duì)進(jìn)行過第二校正的行數(shù)據(jù)進(jìn)行濾波和后投射操作，從而獲得CT圖像Gj。
在步ST70和ST71，步ST62-ST69對(duì)于j＝2－J被重復(fù)。因而，CT圖像G1-GJ被重構(gòu)。
在步ST72，CT圖像G1-GJ被直接相加，從而獲得累加的CT圖像G。
第二例(現(xiàn)有技術(shù))圖2是在包括具有多個(gè)檢測(cè)器行的多X射線檢測(cè)器的常規(guī)的X射線CT設(shè)備中的常規(guī)的累加斷層分析圖像產(chǎn)生方法的第二個(gè)例子的流程圖。
在步ST81，圖像下標(biāo)計(jì)數(shù)器j被初始化為1。
在步ST82，從多X射線檢測(cè)器中的第j檢測(cè)器行讀出行數(shù)據(jù)Ij。
在步ST83，進(jìn)行偏移校正。具體地說，從第j檢測(cè)器行的行數(shù)據(jù)Ij中減去偏移。
在步ST84，進(jìn)行檢測(cè)器靈敏度校正。具體地說，第j檢測(cè)器行的行數(shù)據(jù)Ij除以輸入X射線劑量Tj.io。
在步ST85，對(duì)進(jìn)行過檢測(cè)器靈敏度校正的行數(shù)據(jù)Ij/(Tj.io)進(jìn)行第一校正。所述第一校正是參考校正。為了使說明簡(jiǎn)明，進(jìn)行過第一校正的行數(shù)據(jù)也被表示為Ij/(Tj.Io)。
在步ST86，進(jìn)行對(duì)數(shù)濾波。
在步ST87，進(jìn)行對(duì)數(shù)處理。具體地說，計(jì)算-Log{Ij/(Tj.Io)}。
在步ST88，對(duì)進(jìn)行過對(duì)數(shù)計(jì)算的行數(shù)據(jù)進(jìn)行第二校正。所述第二校正至少是射線束硬化校正、水校正、身體移動(dòng)校正和螺旋校正之一。
在步ST89和ST90，對(duì)于j＝2－J重復(fù)ST82-ST88。這樣，便獲得了進(jìn)行過第二校正的行數(shù)據(jù)I’1-I’J。
在步ST91，進(jìn)行過第二校正的行數(shù)據(jù)I’1-I’J被簡(jiǎn)單地相加，從而獲得累加的數(shù)據(jù)I，即I＝∑I′j在步ST92，對(duì)累加的數(shù)據(jù)I進(jìn)行濾波和后投射操作，從而獲得累加的CT圖像G。
在常規(guī)技術(shù)的第一和第二例子中，當(dāng)檢測(cè)器行的切片厚度相等時(shí)，在獲得的累加CT圖像G中沒有大的問題。
然而，當(dāng)切片厚度不同時(shí)，便在CT圖像G上出現(xiàn)局部體積的副作用。具體地說，不同的切片厚度產(chǎn)生不同的局部體積效應(yīng)，從而使得對(duì)于相同的物質(zhì)，產(chǎn)生不同的CT值。換句話說，在同一個(gè)物質(zhì)的CT值中出現(xiàn)間斷。因而，應(yīng)當(dāng)均勻地出現(xiàn)的對(duì)象的CT值在累加的CT圖像G上發(fā)生了局部改變。
發(fā)明概要因此，本發(fā)明的目的在于提供一種累加斷層分析圖像產(chǎn)生方法和X射線CT設(shè)備，所述方法和設(shè)備當(dāng)借助于累加多個(gè)斷層分析圖像而產(chǎn)生累加的斷層分析圖像時(shí)，可以產(chǎn)生這樣的累加斷層分析圖像，所述圖像即使在累加斷層分析圖像的切片厚度不同時(shí)，也不受由局部體積作用導(dǎo)致的不利影響。
按照第1方面，本發(fā)明提供一種累加斷層分析圖像產(chǎn)生方法，包括以下步驟對(duì)數(shù)據(jù)Ij(j＝1－J)實(shí)施偏移校正和靈敏度校正，由所述數(shù)據(jù)可以重構(gòu)各個(gè)斷層分析圖像Gj；通過利用相應(yīng)于切片厚度Tj的權(quán)Tj/∑Tj對(duì)數(shù)據(jù)Ij進(jìn)行加權(quán)相加而產(chǎn)生累加數(shù)據(jù)；對(duì)累加數(shù)據(jù)進(jìn)行對(duì)數(shù)處理；以及對(duì)累加數(shù)據(jù)進(jìn)行重構(gòu)處理，從而產(chǎn)生累加的斷層分析圖像G。
按照第1方面的累加斷層分析圖像產(chǎn)生方法，所述累加數(shù)據(jù)通過利用相應(yīng)于切片厚度Tj的權(quán)Tj/∑Tj對(duì)進(jìn)行過靈敏度校正的數(shù)據(jù)Kj進(jìn)行加權(quán)相加而產(chǎn)生。具體地說，當(dāng)累加數(shù)據(jù)表示為K時(shí)，K＝∑{(Tj/∑Tj)·Kj}。
如后所述，K相當(dāng)于對(duì)于切片厚度為∑Tj的一個(gè)切片的靈敏度校正過的數(shù)據(jù)。因此，在借助于累加具有不同切片厚度的多個(gè)斷層分析圖像Gj而產(chǎn)生的累加斷層分析圖像上不會(huì)出現(xiàn)局部體積的不利影響。
按照第2方面，本發(fā)明提供一種上述配置的累加斷層分析圖像產(chǎn)生方法，其中斷層分析圖像Gj是X射線CT圖像，數(shù)據(jù)Ij是行數(shù)據(jù)。
按照本發(fā)明的第2方面的累加斷層分析圖像產(chǎn)生方法，累加數(shù)據(jù)K通過利用相應(yīng)于切片厚度Tj的權(quán)Tj/∑Tj對(duì)進(jìn)行過靈敏度校正的行數(shù)據(jù)Kj進(jìn)行加權(quán)相加而產(chǎn)生。具體地說，K＝∑{(Tj/∑Tj)·Kj}。
如后所述，K相當(dāng)于對(duì)于切片厚度為∑Tj的一個(gè)切片的靈敏度校正過的行數(shù)據(jù)。因此，在借助于累加具有不同切片厚度的多個(gè)X射線CT圖像Gj而產(chǎn)生的累加斷層分析圖像G上不會(huì)出現(xiàn)局部體積的不利影響。
按照第3方面，本發(fā)明提供一種上述配置的累加斷層分析圖像產(chǎn)生方法，其中行數(shù)據(jù)是通過在多X射線檢測(cè)器中的每個(gè)檢測(cè)器獲得的數(shù)據(jù)。
按照本發(fā)明的第3方面的累加斷層分析圖像產(chǎn)生方法，斷層分析圖像可以由在多X射線檢測(cè)器中的檢測(cè)器行獲得的行數(shù)據(jù)產(chǎn)生，好象由一個(gè)作為這些檢測(cè)器行的組合的一個(gè)檢測(cè)器行獲得的數(shù)據(jù)被重構(gòu)那樣。
按照第4方面，本發(fā)明提供一種上述配置的累加斷層分析圖像產(chǎn)生方法，包括在靈敏度校正前或校正后對(duì)行數(shù)據(jù)進(jìn)行參考校正的步驟，或者在對(duì)數(shù)處理前對(duì)累加數(shù)據(jù)進(jìn)行參考校正的步驟。
按照本發(fā)明的第4方面的累加斷層分析圖像產(chǎn)生方法，當(dāng)在靈敏度校正前或者校正后進(jìn)行參考校正時(shí)，所述參考校正可以用任意的方式進(jìn)行。當(dāng)在對(duì)數(shù)處理前對(duì)累加數(shù)據(jù)進(jìn)行參考校正時(shí)，所述參考校正只需要進(jìn)行一次。
按照第5方面，本發(fā)明提供一種上述配置的累加斷層分析圖像產(chǎn)生方法，包括對(duì)進(jìn)行過對(duì)數(shù)處理的累加數(shù)據(jù)進(jìn)行射線束硬化校正、水校正、身體移動(dòng)校正和螺旋校正至少之一的校正的步驟。
按照本發(fā)明的第5方面的累加斷層分析圖像產(chǎn)生方法，因?yàn)閷?duì)累加數(shù)據(jù)進(jìn)行多種校正，所述校正只需進(jìn)行一次。
按照第6方面，本發(fā)明提供一種上述配置的累加斷層分析圖像產(chǎn)生方法，包括以下步驟，當(dāng)在對(duì)數(shù)處理之前在行數(shù)據(jù)中的某個(gè)通道的值不大于預(yù)定的門限時(shí)，則利用一個(gè)或幾個(gè)相鄰?fù)ǖ赖钠骄荡嫠龅闹怠?br> 按照本發(fā)明的第6方面的累加斷層分析圖像產(chǎn)生方法，當(dāng)在行數(shù)據(jù)中包含異常值時(shí)，可以在對(duì)數(shù)處理之前把異常值除去。
按照第7方面，本發(fā)明提供一種上述配置的累加斷層分析圖像產(chǎn)生方法，其中進(jìn)行重構(gòu)的步驟包括濾波和后投射操作。
按照本發(fā)明的第7方面的累加斷層分析圖像產(chǎn)生方法，斷層分析圖像可以利用濾波的后投射技術(shù)重構(gòu)。
按照第8方面，本發(fā)明提供一種上述配置的累加斷層分析圖像產(chǎn)生方法，包括以下步驟對(duì)數(shù)據(jù)Ij(j＝1－J)實(shí)施偏移校正，由所述數(shù)據(jù)可以重構(gòu)各個(gè)斷層分析圖像Gj；通過對(duì)數(shù)據(jù)Ij進(jìn)行簡(jiǎn)單的相加而產(chǎn)生累加數(shù)據(jù)I；對(duì)累加數(shù)據(jù)I進(jìn)行靈敏度校正處理和對(duì)數(shù)處理；以及對(duì)累加數(shù)據(jù)進(jìn)行重構(gòu)處理，從而產(chǎn)生累加的斷層分析圖像G。
按照本發(fā)明的第8方面的累加斷層分析圖像產(chǎn)生方法，通過在數(shù)據(jù)Ij只進(jìn)行過偏移校正之后，在其被進(jìn)行靈敏度校正之前，借助于簡(jiǎn)單的累加產(chǎn)生累加數(shù)據(jù)I。具體地說，I＝∑Ij。
I相當(dāng)于具有切片厚度為∑Tj的一個(gè)切片的數(shù)據(jù)。因此，在借助于累加具有不同切片厚度的多個(gè)斷層分析圖像Gj而產(chǎn)生的累加斷層分析圖像G上不會(huì)出現(xiàn)局部體積的不利影響。
此外，因?yàn)槠菩Ｕ龑?duì)數(shù)據(jù)Ij(j＝1－J)進(jìn)行，所述處理可以和常規(guī)的處理相同。
按照第9方面，本發(fā)明提供一種累加斷層分析圖像產(chǎn)生方法，包括以下步驟通過簡(jiǎn)單地累加數(shù)據(jù)Ij(j＝1－J)產(chǎn)生累加數(shù)據(jù)I，由所述數(shù)據(jù)可以重構(gòu)各個(gè)斷層分析圖像Gj；對(duì)所述累加數(shù)據(jù)I進(jìn)行偏移校正、靈敏度校正和對(duì)數(shù)處理；以及對(duì)累加數(shù)據(jù)進(jìn)行重構(gòu)處理，從而產(chǎn)生累加的斷層分析圖像G。
按照本發(fā)明的第9方面的累加斷層分析圖像產(chǎn)生方法，通過在數(shù)據(jù)Ij進(jìn)行過偏移校正靈敏度校正之前借助于簡(jiǎn)單的累加產(chǎn)生累加數(shù)據(jù)I。具體地說，
I＝∑Ij。
I相當(dāng)于具有切片厚度為∑Tj的一個(gè)切片的數(shù)據(jù)。因此，在借助于累加具有不同切片厚度的多個(gè)斷層分析圖像Gj而產(chǎn)生的累加斷層分析圖像G上不會(huì)出現(xiàn)局部體積的不利影響。
此外，因?yàn)槠菩Ｕ龑?duì)累加數(shù)據(jù)I進(jìn)行，所以偏移校正只需要進(jìn)行一次，雖然數(shù)據(jù)Ij的偏移值需要預(yù)先相加。
按照第10方面，本發(fā)明提供一種上述配置的累加斷層分析圖像產(chǎn)生方法，其中數(shù)據(jù)Ij是由在多X射線檢測(cè)器中的每個(gè)檢測(cè)器行獲得的行數(shù)據(jù)。
按照本發(fā)明的第10方面的累加斷層分析圖像產(chǎn)生方法，斷層分析圖像可以由在多X射線檢測(cè)器中的檢測(cè)器行獲得的行數(shù)據(jù)產(chǎn)生，好象由作為這些檢測(cè)器行的組合的一個(gè)檢測(cè)器行獲得的數(shù)據(jù)被重構(gòu)那樣。
按照第11方面，本發(fā)明提供一種上述配置的累加斷層分析圖像產(chǎn)生方法，包括以下步驟在靈敏度校正之前，或者在靈敏度校正之后和在對(duì)數(shù)處理之前，對(duì)累加數(shù)據(jù)I進(jìn)行參考校正。
按照本發(fā)明的第11方面的累加斷層分析圖像產(chǎn)生方法，當(dāng)在靈敏度校正之前或之后對(duì)行數(shù)據(jù)進(jìn)行參考校正時(shí)，所述參考校正以通常的方式進(jìn)行。當(dāng)在進(jìn)行對(duì)數(shù)處理之前對(duì)累加數(shù)據(jù)I實(shí)行參考校正時(shí)，所述參考校正只需要進(jìn)行一次。
按照第12方面，本發(fā)明提供一種上述配置的累加斷層分析圖像產(chǎn)生方法，包括對(duì)進(jìn)行過對(duì)數(shù)處理的累加數(shù)據(jù)進(jìn)行射線束硬化校正、水校正、身體移動(dòng)校正和螺旋校正至少之一的校正的步驟。
按照本發(fā)明的第12方面的累加斷層分析圖像產(chǎn)生方法，因?yàn)閷?duì)累加數(shù)據(jù)I進(jìn)行多個(gè)校正，所述校正只需要進(jìn)行一次。
按照第13方面，本發(fā)明提供一種上述配置的累加斷層分析圖像產(chǎn)生方法，包括以下步驟，當(dāng)在對(duì)數(shù)處理之前在累加數(shù)據(jù)中的某個(gè)通道的值不大于預(yù)定的門限時(shí)，則利用一個(gè)或幾個(gè)相鄰?fù)ǖ赖钠骄荡嫠龅闹怠?br> 按照本發(fā)明的第13方面的累加斷層分析圖像產(chǎn)生方法，當(dāng)在行數(shù)據(jù)中包含異常值時(shí)，可以在對(duì)數(shù)處理之前把異常值除去。
按照第14方面，本發(fā)明提供一種上述配置的累加斷層分析圖像產(chǎn)生方法，其中進(jìn)行重構(gòu)的步驟包括濾波和后投射操作。
按照本發(fā)明的第14方面的累加斷層分析圖像產(chǎn)生方法，斷層分析圖像可以利用濾波的后投射技術(shù)重構(gòu)。
按照第15方面，本發(fā)明提供一種包括具有多個(gè)檢測(cè)器行的多X射線檢測(cè)器的X射線CT設(shè)備，包括靈敏度校正裝置，用于對(duì)所述檢測(cè)器行獲得的行數(shù)據(jù)Ij(j＝1－J)進(jìn)行偏移校正和靈敏度校正；累加數(shù)據(jù)產(chǎn)生裝置，用于通過利用相應(yīng)于切片厚度Tj的權(quán)Tj/∑Tj對(duì)進(jìn)行過靈敏度校正處理的行數(shù)據(jù)數(shù)據(jù)進(jìn)行加權(quán)相加而產(chǎn)生累加數(shù)據(jù)I；對(duì)數(shù)處理裝置，用于對(duì)累加數(shù)據(jù)I進(jìn)行對(duì)數(shù)處理；重構(gòu)裝置，用于對(duì)進(jìn)行過對(duì)數(shù)處理的累加數(shù)據(jù)進(jìn)行濾波和后投射操作。
按照第15方面的X射線CT設(shè)備，可以正確地實(shí)施按照本發(fā)明第二方面的累加斷層分析圖像產(chǎn)生方法。
按照第16方面，本發(fā)明提供一種上述配置的X射線CT設(shè)備，包括第一校正裝置，用于在靈敏度校正前或校正后對(duì)行數(shù)據(jù)進(jìn)行參考校正，或者在對(duì)數(shù)處理前對(duì)累加數(shù)據(jù)I進(jìn)行參考校正。
按照第16方面的X射線CT設(shè)備，可以正確地實(shí)施按照本發(fā)明第四方面的累加斷層分析圖像產(chǎn)生方法。
按照第17方面，本發(fā)明提供一種上述配置的X射線CT設(shè)備，包括第二校正裝置，用于對(duì)進(jìn)行過對(duì)數(shù)處理的累加數(shù)據(jù)進(jìn)行射線束硬化校正、水校正、身體移動(dòng)校正和螺旋校正至少之一的校正。
按照第17方面的X射線CT設(shè)備，可以正確地實(shí)施按照本發(fā)明第5方面的累加斷層分析圖像產(chǎn)生方法。
按照第18方面，本發(fā)明提供一種包括具有多個(gè)檢測(cè)器行的多X射線檢測(cè)器的X射線CT設(shè)備，包括偏移校正裝置，用于對(duì)由檢測(cè)器行獲得的行數(shù)據(jù)Ij(j＝1－J)實(shí)施偏移校正；累加數(shù)據(jù)產(chǎn)生裝置，用于對(duì)進(jìn)行過偏移處理的行數(shù)據(jù)進(jìn)行簡(jiǎn)單的相加而產(chǎn)生累加數(shù)據(jù)I；靈敏度校正裝置，用于對(duì)累加數(shù)據(jù)I進(jìn)行靈敏度校正處理；對(duì)數(shù)處理裝置，用于對(duì)進(jìn)行過靈敏度校正的累加數(shù)據(jù)進(jìn)行對(duì)數(shù)處理；以及重構(gòu)裝置用于對(duì)進(jìn)行過對(duì)數(shù)處理的累加數(shù)據(jù)進(jìn)行濾波和后投射操作。
按照第18方面的X射線CT設(shè)備，可以正確地實(shí)施按照本發(fā)明第8方面的累加斷層分析圖像產(chǎn)生方法。
按照第19方面，本發(fā)明提供一種包括具有多個(gè)檢測(cè)器行的多X射線檢測(cè)器的X射線CT設(shè)備，包括累加數(shù)據(jù)產(chǎn)生裝置，用于通過簡(jiǎn)單地累加由檢測(cè)器行獲得的行數(shù)據(jù)Ij(j＝1－J)產(chǎn)生累加數(shù)據(jù)I；偏移校正裝置，用于對(duì)所述累加數(shù)據(jù)I進(jìn)行偏移校正；靈敏度校正裝置，用于對(duì)進(jìn)行過偏移處理的累加數(shù)據(jù)進(jìn)行靈敏度校正；對(duì)數(shù)處理裝置，用于對(duì)進(jìn)行過靈敏度校正的累加數(shù)據(jù)進(jìn)行對(duì)數(shù)處理；以及重構(gòu)裝置，用于對(duì)進(jìn)行過對(duì)數(shù)處理的累加數(shù)據(jù)進(jìn)行濾波和后投射操作。
按照第19方面的X射線CT設(shè)備，可以正確地實(shí)施按照本發(fā)明第9方面的累加斷層分析圖像產(chǎn)生方法。
按照第20方面，本發(fā)明提供一種上述配置的X射線CT設(shè)備，包括第一校正裝置，用于在靈敏度校正之前，或者在靈敏度校正之后和在對(duì)數(shù)處理之前，對(duì)累加數(shù)據(jù)I進(jìn)行參考校正。
按照第20方面的X射線CT設(shè)備，可以正確地實(shí)施按照本發(fā)明第11方面的累加斷層分析圖像產(chǎn)生方法。
按照第21方面，本發(fā)明提供一種上述配置的X射線CT設(shè)備，包括第二校正裝置，用于對(duì)進(jìn)行過對(duì)數(shù)處理的累加數(shù)據(jù)進(jìn)行射線束硬化校正、水校正、身體移動(dòng)校正和螺旋校正至少之一的校正。
按照第21方面的X射線CT設(shè)備，可以正確地實(shí)施按照本發(fā)明第12方面的累加斷層分析圖像產(chǎn)生方法。
因而，按照本發(fā)明的累加斷層分析圖像產(chǎn)生方法和X射線CT設(shè)備，當(dāng)通過累加多個(gè)斷層分析圖像產(chǎn)生累加的斷層分析圖像時(shí)，可以產(chǎn)生不受由斷層分析圖像的切片厚度不同而產(chǎn)生的局部體積的影響的累加斷層分析圖像。
本發(fā)明的其它目的和優(yōu)點(diǎn)由下面結(jié)合附圖對(duì)本發(fā)明的優(yōu)選實(shí)施例所作的詳細(xì)說明可以更加清楚地看出。
附圖簡(jiǎn)述圖1是按照常規(guī)技術(shù)的第一個(gè)例子的累加斷層分析圖像產(chǎn)生方法的流程圖；圖2是按照常規(guī)技術(shù)的第二個(gè)例子的累加斷層分析圖像產(chǎn)生方法的流程圖；圖3是按照本發(fā)明的實(shí)施例的X射線CT設(shè)備的方塊圖；圖4是X射線管，準(zhǔn)直器和雙X射線檢測(cè)器的示意圖；
圖5是按照本發(fā)明的第一實(shí)施例的累加斷層分析圖像產(chǎn)生方法的流程圖；圖6是用于說明本發(fā)明的原理的模型圖；圖7是按照本發(fā)明的第二實(shí)施例的累加斷層分析圖像產(chǎn)生方法的流程圖。
發(fā)明的詳細(xì)說明下面參照在附圖中所示的本發(fā)明的實(shí)施例詳細(xì)說明本發(fā)明。不過應(yīng)當(dāng)注意，本發(fā)明不限于這些實(shí)施例。
圖3是按照本發(fā)明的第一實(shí)施例的X射線CT設(shè)備100的方塊圖。
X射線CT設(shè)備100包括操作面板1，成像臺(tái)10和掃描構(gòu)架20。
操作面板1包括輸入裝置2，用于接收由操作者輸入的指令或信息；中央處理裝置3，用于執(zhí)行掃描處理、圖像重構(gòu)處理、累加斷層分析圖像產(chǎn)生處理等；控制接口4，用于和成像臺(tái)10以及掃描構(gòu)架20交換控制信號(hào)；數(shù)據(jù)采集緩沖器5，用于采集在掃描構(gòu)架20獲得的數(shù)據(jù)；CRT6，用于顯示由數(shù)據(jù)重構(gòu)而成的X射線圖像；以及存儲(chǔ)裝置7，用于存儲(chǔ)程序、數(shù)據(jù)和X射線圖像。
掃描構(gòu)架20包括X射線管21，X射線控制器22，準(zhǔn)直器23，準(zhǔn)直器控制器24，轉(zhuǎn)動(dòng)控制器26，用于使X射線管21圍繞等角點(diǎn)(圖4中用IC表示)轉(zhuǎn)動(dòng)，以及具有兩個(gè)檢測(cè)器行的雙X射線檢測(cè)器27。
圖4是X射線管21、準(zhǔn)直器23和雙X射線檢測(cè)器27的示意圖。
從X射線管21發(fā)出的X射線Io在通過準(zhǔn)直器23的孔S之后形成扁的X射線束Xr，并照射到雙X射線檢測(cè)器27的第一和第二檢測(cè)器行D1和D2上。
準(zhǔn)直器23的孔S的開口的寬度和位置由準(zhǔn)直器控制器24根據(jù)來自中央處理裝置3的指令進(jìn)行調(diào)節(jié)。
參考標(biāo)號(hào)Po代表在投射到第一檢測(cè)器行D1的X射線束Xr的部分和投射到第二檢測(cè)器行D2上的部分之間的虛擬邊界。
在等角點(diǎn)IC的X射線束Xr的寬度被稱為X射線束寬度Xo。投射到第一檢測(cè)器行D1上的X射線束寬度Xo的部分的寬度是第一切片厚度T1，投射到第二檢測(cè)器行D2上的部分的寬度是第二切片厚度T2。
圖5是表示在X射線CT設(shè)備100中進(jìn)行的累加斷層分析圖像產(chǎn)生處理的流程圖。
在步ST1，圖像下標(biāo)計(jì)數(shù)器j被初始化為1。
在步ST2，從多X射線檢測(cè)器中的第j檢測(cè)器行讀出行數(shù)據(jù)Ij。
在步ST3，進(jìn)行偏移校正。具體地說，從第j檢測(cè)器行Dj的行數(shù)據(jù)Ij中減去偏移。為了簡(jiǎn)明，已經(jīng)減去偏移的行數(shù)據(jù)也用Ij表示。
在步ST4，進(jìn)行檢測(cè)器靈敏度校正。具體地說，第j檢測(cè)器行Dj的行數(shù)據(jù)Ij除以輸入X射線劑量Tj.Io，其中Tj是第j個(gè)檢測(cè)器行Dj的切片厚度，Io是每單位厚度輸入的X射線劑量。
在步ST5，對(duì)進(jìn)行過檢測(cè)器靈敏度校正的行數(shù)據(jù)Ij/(Tj.Io)進(jìn)行第一校正。所述第一校正是參考校正。為了使說明簡(jiǎn)明，進(jìn)行過第一校正的行數(shù)據(jù)也被表示為Ij/(Tj.Io)。
在步ST6，進(jìn)行對(duì)數(shù)濾波。具體地說，如果進(jìn)行過第一校正的行數(shù)據(jù)Ij/(Tj.Io)中的某個(gè)通道的值不大于預(yù)定的門限時(shí)，則利用一個(gè)或幾個(gè)相鄰?fù)ǖ赖钠骄荡嫠龅闹?。具體地說，所述的值被相鄰?fù)ǖ赖闹荡?；被在兩?cè)的相鄰?fù)ǖ赖钠骄荡?；被?dāng)前通道之外的平均值代替；或者被兩個(gè)或多個(gè)任意選擇的通道的平均值代替。
在步ST7和ST8，對(duì)于j＝2－J重復(fù)ST2-ST6。這樣，便獲得了進(jìn)行過第一校正的行數(shù)據(jù)I1/(T1.Io)－IJ/(TJ.Io)。
在本實(shí)施例中，J＝2，因而獲得行數(shù)據(jù)I1/(T1.Io)－IJ/(T2.Io)。
在步ST9，利用相應(yīng)于切片厚度Tj的權(quán)Tj/∑Tj對(duì)行數(shù)據(jù)I1/(T1.Io)－IJ/(TJ.Io)進(jìn)行加權(quán)累加，從而產(chǎn)生累加數(shù)據(jù)KK＝∑{(Tj/∑Tj)·(Ij/(Tj·Io))}。
在本實(shí)施例中，J＝2，并且K＝(T1/(T1＋T2))(I1/(T1·Io))＋(T2/(T1＋T2))(I2/(T2·Io))。
在步ST10，進(jìn)行對(duì)數(shù)處理。具體地說，計(jì)算-Log{K}。
在步ST11，對(duì)進(jìn)行過對(duì)數(shù)處理的累加數(shù)據(jù)-Log{K}進(jìn)行第二校正。所述第二校正至少是射線束硬化校正、水校正、身體移動(dòng)校正和螺旋校正之一。為了簡(jiǎn)明，進(jìn)行過第二校正的累加數(shù)據(jù)也用-Log{K}表示。
在步ST12和ST13，對(duì)進(jìn)行過第二校正的累加數(shù)據(jù)-Log{K}進(jìn)行濾波和后投射操作，從而獲得累加的CT圖像G。
圖6是用于說明累加數(shù)據(jù)K的物理意義的模型圖。
如圖所示，在空氣中具有插入的物質(zhì)H，其具有吸收系數(shù)μ，路徑距離x和長(zhǎng)度(L1＋L2)。插入物質(zhì)H在第一檢測(cè)器行D1的切片厚度T1中長(zhǎng)度為L(zhǎng)1，在第二檢測(cè)器行D2的切片厚度T2中長(zhǎng)度為L(zhǎng)2。每單位厚度插入的X射線劑量用Io表示。
由第一檢測(cè)器行D1獲得的行數(shù)據(jù)I1是Il=∫0Tl{Io·exp{-μ(z)·x(z)}}dz]]>=∫0L1{Io·exp{-μ·x}}dz+∫L1T1{Io·exp{0}}dz]]>＝Io·L1·exp{-μ·x}＋I(xiàn)o(T1－L1)＝Io·T1(L1·exp{-μ·x}/T1＋1－L1/T1)。
I1除以輸入到第一檢測(cè)器行D1的X射線劑量T1.Io，進(jìn)行靈敏度校正得I1/(T1·Io)＝L1exp{-μx}/T1＋1－L1/T1。
同樣，由第二檢測(cè)器行D2獲得的行數(shù)據(jù)I2是I2＝Io·T2(L2exp{-μx}/T2＋1－L2/T2)。
I2除以輸入到第二檢測(cè)器行D2的X射線劑量T2.Io，進(jìn)行靈敏度校正得I2/(T2·Io)＝L2exp{-μx}/T2＋1－L2/T2。
如果第一和第二檢測(cè)器行D1和D2被認(rèn)為是具有切片厚度(T1＋T2)的一個(gè)檢測(cè)器行Ds，則所得行數(shù)據(jù)Is是Is=∫0T1+T2{Io·exp{-μ(z)·x(z)}}dz]]>=∫0L1+L2{Io·exp{-μ·x}}dz+∫L1+L2T1+T2{Io·exp{0}}dz]]>＝Io(L1＋L2)exp{-μ·x}＋I(xiàn)o(T1＋T2－L1－L2)＝Io(T1＋T2)((L1＋L2)exp{-μ·x}/(T1＋T2)＋1－(L1＋L2)/(T1＋T2))。
Is除以輸入到檢測(cè)器行Ds的X射線劑量(T1＋T2)，進(jìn)行靈敏度校正得Is/((T1＋T2)Io)＝(L1＋L2)exp{-μx}/(T1＋T2)＋1－(L1＋L2)/(T1＋T2)。
利用相應(yīng)于切片厚度T1、T2的各個(gè)權(quán)T1/(T1＋T2)和T2/(T1＋T2)對(duì)I1/(T1.Io)和I2/(T2.Io)進(jìn)行加權(quán)相加，得到累加數(shù)據(jù)KK＝(T1/(T1＋T2))(I1/(T1·Io))＋(T2/(T1＋T2))(I2/(T2·Io))＝(T1/(T1＋T2))(L1exp{-μx}/T1＋1－L1/T1)＋(T2/(T1＋T2))(L2exp{-μx}/T2＋1－L2/T2)＝(L1＋L2)exp{-μx}/(T1＋T2)＋1－(L1＋L2)/(T1＋T2)＝Is/((T1＋T2)Io)。
這意味著累加數(shù)據(jù)K相當(dāng)于這樣一個(gè)行數(shù)據(jù)，該數(shù)據(jù)是利用具有切片厚度(T1＋T2)的一個(gè)檢測(cè)器行獲得行數(shù)據(jù)Is，并對(duì)所述行數(shù)據(jù)Is進(jìn)行靈敏度校正導(dǎo)出的。因而，在累加的斷層分析圖像G上不會(huì)出現(xiàn)局部體積的不利影響。
應(yīng)當(dāng)注意，在步ST5的第一校正在靈敏度校正之前(即在步ST3或ST4之前)施加于行數(shù)據(jù)Ij，或者在對(duì)數(shù)處理之前(即在步ST10之前)施加于累加數(shù)據(jù)K。
圖7是表示在按照第二實(shí)施例的X射線CT設(shè)備中進(jìn)行的累加斷層分析圖像處理的流程圖。
在步ST21，圖像下標(biāo)計(jì)數(shù)器j被初始化為1。
在步ST22，從多X射線檢測(cè)器中的第j檢測(cè)器行Dj讀出行數(shù)據(jù)Ij。
在步ST23，進(jìn)行偏移校正。具體地說，從第j檢測(cè)器行Dj的行數(shù)據(jù)Ij中減去偏移。為了簡(jiǎn)明，已經(jīng)減去偏移的行數(shù)據(jù)也用Ij表示。
在步ST24和ST25，對(duì)于j＝2－J重復(fù)ST22-ST23。這樣，便獲得了進(jìn)行過偏移校正的行數(shù)據(jù)I1-IJ。
在本實(shí)施例中，J＝2，因而獲得行數(shù)據(jù)I1-I2。
在步ST26，行數(shù)據(jù)I1-IJ被簡(jiǎn)單相加，從而產(chǎn)生累加數(shù)據(jù)II＝∑{Ij}。
在本發(fā)明中，J＝2，因而I＝I1＋I(xiàn)2。
在步ST27，進(jìn)行檢測(cè)器靈敏度校正。具體地說，累加數(shù)據(jù)I除以輸入X射線劑量∑Tj.Io，其中Tj是第j個(gè)檢測(cè)器行Dj的切片厚度，Io是每單位厚度輸入的X射線劑量。
在步ST28，對(duì)進(jìn)行過檢測(cè)器靈敏度校正的累加數(shù)據(jù)I/∑(Tj.Io)進(jìn)行第一校正。所述第一校正是參考校正。為了使說明簡(jiǎn)明，進(jìn)行過第一校正的累加數(shù)據(jù)也被表示為I/∑(Tj.Io)。
在步ST29，進(jìn)行對(duì)數(shù)濾波。具體地說，如果進(jìn)行過第一校正的累加數(shù)據(jù)I/∑(Tj.Io)中的某個(gè)通道的值不大于預(yù)定的門限時(shí)，則利用最相鄰?fù)ǖ赖囊堰^濾的值代替所述的值。
在步ST30，進(jìn)行對(duì)數(shù)處理。具體地說，計(jì)算-Log {I/∑(Tj.Io)}。
在步ST31，對(duì)進(jìn)行過對(duì)數(shù)處理的累加數(shù)據(jù)-Log{I/∑(Tj.Io)}進(jìn)行第二校正。所述第二校正至少是射線束硬化校正、水校正、身體移動(dòng)校正和螺旋校正之一。為了簡(jiǎn)明，進(jìn)行過第二校正的累加數(shù)據(jù)也用-Log{I/∑(Tj.Io)}表示。
在步ST32和ST33，對(duì)進(jìn)行過第二校正的累加數(shù)據(jù)-Log{I/∑(Tj.Io)}進(jìn)行濾波和后投射操作，從而獲得累加的CT圖像G。
如同參照?qǐng)D6所述的第一實(shí)施例的情況一樣，I1＝Io·T1(L1exp{-μx}/T1＋1－L1/T1)，I2＝Io·T2(L2exp{-μx}/T2＋1－L2/T2)，andIs＝Io(T1＋T2)((L1＋L2)exp{-μx}/(T1＋T2)＋1－(L1＋L2)/(T1＋T2))，因此I＝I1＋I(xiàn)2＝Is。
這意味著累加數(shù)據(jù)I相當(dāng)于由具有切片厚度(T1＋T2)的一個(gè)檢測(cè)器行Ds獲得的行數(shù)據(jù)Is。因此，在累加的斷層分析圖像G上不會(huì)出現(xiàn)局部體積的不利影響。
應(yīng)當(dāng)注意，在步ST23中的偏移校正可以在靈敏度校正之前(即在步ST27之前)施加到累加數(shù)據(jù)I。在這種情況下，對(duì)于行數(shù)據(jù)Ij的各個(gè)偏移值預(yù)先被簡(jiǎn)單地相加，并且可以從累加數(shù)據(jù)I中減去累加的值。
此外，在步28中可以在靈敏度校正之前(在步ST27)對(duì)累加數(shù)據(jù)I進(jìn)行第一校正。
不脫離本發(fā)明的范圍和構(gòu)思，可以作出多種改變和改型。應(yīng)當(dāng)理解，本發(fā)明不限于說明書中所述的特定的實(shí)施例，本發(fā)明的范圍只有所附權(quán)利要求限定。
權(quán)利要求
1.一種累加斷層分析圖像產(chǎn)生方法，包括以下步驟對(duì)數(shù)據(jù)Ij(j＝1－J)實(shí)施偏移校正和靈敏度校正，由所述數(shù)據(jù)可以重構(gòu)各個(gè)斷層分析圖像Gj；通過利用相應(yīng)于切片厚度Tj的權(quán)Tj/∑Tj對(duì)數(shù)據(jù)Ij進(jìn)行加權(quán)相加而產(chǎn)生累加數(shù)據(jù)；對(duì)累加數(shù)據(jù)進(jìn)行對(duì)數(shù)處理；以及對(duì)累加數(shù)據(jù)進(jìn)行重構(gòu)處理，從而產(chǎn)生累加的斷層分析圖像G。
2.如權(quán)利要求1限定的累加斷層分析圖像產(chǎn)生方法，其中斷層分析圖像Gj是X射線CT圖像，數(shù)據(jù)Ij是行數(shù)據(jù)。
3.如權(quán)利要求2限定的累加斷層分析圖像產(chǎn)生方法，其中行數(shù)據(jù)是通過在多X射線檢測(cè)器中的每個(gè)檢測(cè)器行獲得的行數(shù)據(jù)。
4.如權(quán)利要求2或3限定的累加斷層分析圖像產(chǎn)生方法，包括在靈敏度校正前或校正后對(duì)行數(shù)據(jù)進(jìn)行參考校正的步驟，或者在對(duì)數(shù)處理前對(duì)累加數(shù)據(jù)進(jìn)行參考校正的步驟。
5.如權(quán)利要求2-4任何一個(gè)限定的累加斷層分析圖像產(chǎn)生方法，包括對(duì)進(jìn)行過對(duì)數(shù)處理的累加數(shù)據(jù)進(jìn)行射線束硬化校正、水校正、身體移動(dòng)校正和螺旋校正至少之一的校正的步驟。
6.如權(quán)利要求2-5任何一個(gè)限定的累加斷層分析圖像產(chǎn)生方法，包括以下步驟當(dāng)在對(duì)數(shù)處理之前在行數(shù)據(jù)中的某個(gè)通道的值不大于預(yù)定的門限時(shí)，則利用一個(gè)或幾個(gè)相鄰?fù)ǖ赖钠骄荡嫠龅闹怠?br> 7.如權(quán)利要求1-6任何一個(gè)限定的累加斷層分析圖像產(chǎn)生方法，其中進(jìn)行重構(gòu)的步驟包括濾波和后投射操作。
8.一種累加斷層分析圖像產(chǎn)生方法，包括以下步驟對(duì)數(shù)據(jù)Ij(j＝1－J)實(shí)施偏移校正，由所述數(shù)據(jù)可以重構(gòu)各個(gè)斷層分析圖像Gj；通過對(duì)數(shù)據(jù)Ij進(jìn)行簡(jiǎn)單的相加而產(chǎn)生累加數(shù)據(jù)I；對(duì)累加數(shù)據(jù)I進(jìn)行靈敏度校正處理和對(duì)數(shù)處理；以及對(duì)累加數(shù)據(jù)進(jìn)行重構(gòu)處理，從而產(chǎn)生累加的斷層分析圖像G。
9.一種累加斷層分析圖像產(chǎn)生方法，包括以下步驟通過簡(jiǎn)單地累加數(shù)據(jù)Ij(j＝1－J)產(chǎn)生累加數(shù)據(jù)I，由所述數(shù)據(jù)可以重構(gòu)各個(gè)斷層分析圖像Gj；對(duì)所述累加數(shù)據(jù)I進(jìn)行偏移校正、靈敏度校正和對(duì)數(shù)處理；以及對(duì)累加數(shù)據(jù)進(jìn)行重構(gòu)處理，從而產(chǎn)生累加的斷層分析圖像G。
10.如權(quán)利要求8或9限定的累加斷層分析圖像產(chǎn)生方法，其中數(shù)據(jù)Ij是由在多X射線檢測(cè)器中的每個(gè)檢測(cè)器行獲得的行數(shù)據(jù)。
11.如權(quán)利要求8-10任何一個(gè)限定的累加斷層分析圖像產(chǎn)生方法，包括以下步驟在靈敏度校正之前，或者在靈敏度校正之后和在對(duì)數(shù)處理之前，對(duì)累加數(shù)據(jù)I進(jìn)行參考校正。
12.如權(quán)利要求8-11任何一個(gè)限定的累加斷層分析圖像產(chǎn)生方法，包括對(duì)進(jìn)行過對(duì)數(shù)處理的累加數(shù)據(jù)進(jìn)行射線束硬化校正、水校正、身體移動(dòng)校正和螺旋校正至少之一的校正的步驟。
13.如權(quán)利要求8-12任何一個(gè)限定的累加斷層分析圖像產(chǎn)生方法，包括以下步驟，當(dāng)在對(duì)數(shù)處理之前在累加數(shù)據(jù)中的某個(gè)通道的值不大于預(yù)定的門限時(shí)，則利用一個(gè)或幾個(gè)相鄰?fù)ǖ赖钠骄荡嫠龅闹怠?br> 14.如權(quán)利要求8-13任何一個(gè)限定的累加斷層分析圖像產(chǎn)生方法，其中進(jìn)行重構(gòu)的步驟包括濾波和后投射操作。
15.一種包括具有多個(gè)檢測(cè)器行的多X射線檢測(cè)器的X射線CT設(shè)備，包括靈敏度校正裝置，用于對(duì)所述檢測(cè)器行獲得的行數(shù)據(jù)Ij進(jìn)行偏移校正和靈敏度校正；累加數(shù)據(jù)產(chǎn)生裝置，用于通過利用相應(yīng)于切片厚度Tj的權(quán)Tj/∑Tj對(duì)進(jìn)行過靈敏度校正處理的行數(shù)據(jù)數(shù)據(jù)進(jìn)行加權(quán)相加而產(chǎn)生累加數(shù)據(jù)I；對(duì)數(shù)處理裝置，用于對(duì)累加數(shù)據(jù)I進(jìn)行對(duì)數(shù)處理；重構(gòu)裝置，用于對(duì)進(jìn)行過對(duì)數(shù)處理的累加數(shù)據(jù)進(jìn)行濾波和后投射操作。
16.按照權(quán)利要求15所述的X射線CT設(shè)備，包括第一校正裝置，用于在靈敏度校正前或校正后對(duì)行數(shù)據(jù)進(jìn)行參考校正，或者在對(duì)數(shù)處理前對(duì)累加數(shù)據(jù)進(jìn)行參考校正。
17.按照權(quán)利要求15或16所述的X射線CT設(shè)備，包括第二校正裝置，用于對(duì)進(jìn)行過對(duì)數(shù)處理的累加數(shù)據(jù)進(jìn)行射線束硬化校正、水校正、身體移動(dòng)校正和螺旋校正至少之一的校正。
18.一種包括具有多個(gè)檢測(cè)器行的多X射線檢測(cè)器的X射線CT設(shè)備，包括偏移校正裝置，用于對(duì)由檢測(cè)器行獲得的行數(shù)據(jù)Ij實(shí)施偏移校正；累加數(shù)據(jù)產(chǎn)生裝置，用于對(duì)進(jìn)行過偏移處理的行數(shù)據(jù)進(jìn)行簡(jiǎn)單的相加而產(chǎn)生累加數(shù)據(jù)I；靈敏度校正裝置，用于對(duì)累加數(shù)據(jù)I進(jìn)行靈敏度校正處理；對(duì)數(shù)處理裝置，用于對(duì)進(jìn)行過靈敏度校正的累加數(shù)據(jù)進(jìn)行對(duì)數(shù)處理；以及重構(gòu)裝置用于對(duì)進(jìn)行過對(duì)數(shù)處理的累加數(shù)據(jù)進(jìn)行濾波和后投射操作。
19.一種包括具有多個(gè)檢測(cè)器行的多X射線檢測(cè)器的X射線CT設(shè)備，包括累加數(shù)據(jù)產(chǎn)生裝置，用于通過簡(jiǎn)單地累加由檢測(cè)器行獲得的行數(shù)據(jù)Ij產(chǎn)生累加數(shù)據(jù)I；偏移校正裝置，用于對(duì)所述累加數(shù)據(jù)I進(jìn)行偏移校正；靈敏度校正裝置，用于對(duì)進(jìn)行過偏移處理的累加數(shù)據(jù)進(jìn)行靈敏度校正；對(duì)數(shù)處理裝置，用于對(duì)進(jìn)行過靈敏度校正的累加數(shù)據(jù)進(jìn)行對(duì)數(shù)處理；以及重構(gòu)裝置，用于對(duì)進(jìn)行過對(duì)數(shù)處理的累加數(shù)據(jù)進(jìn)行濾波和后投射操作。
20.按照權(quán)利要求18或19所述的X射線CT設(shè)備，包括第一校正裝置，用于在靈敏度校正之前，或者在靈敏度校正之后和在對(duì)數(shù)處理之前，對(duì)累加數(shù)據(jù)進(jìn)行參考校正。
21.按照權(quán)利要求18或20任何一個(gè)所述的X射線CT設(shè)備，包括第二校正裝置，用于對(duì)進(jìn)行過對(duì)數(shù)處理的累加數(shù)據(jù)進(jìn)行射線束硬化校正、水校正、身體移動(dòng)校正和螺旋校正至少之一的校正。
全文摘要
為了消除局部體積對(duì)通過累加具有不同切片厚度的多個(gè)斷層分析圖像而產(chǎn)生累加斷層分析圖像的影響,對(duì)行數(shù)據(jù)Ij(j=1－J)實(shí)施偏移校正和靈敏度校正,由所述數(shù)據(jù)可以重構(gòu)各個(gè)斷層分析圖像Gj;通過利用相應(yīng)于切片厚度Tj的權(quán)Tj/∑Tj對(duì)數(shù)據(jù)Ij進(jìn)行加權(quán)相加而產(chǎn)生累加數(shù)據(jù)K;對(duì)累加數(shù)據(jù)進(jìn)行對(duì)數(shù)處理;以及然后對(duì)累加數(shù)據(jù)進(jìn)行重構(gòu)處理,從而產(chǎn)生累加的斷層分析圖像G。
文檔編號(hào)G06T11/00GK1340329SQ0113251
公開日2002年3月20日 申請(qǐng)日期2001年8月31日 優(yōu)先權(quán)日2000年8月31日
發(fā)明者貫井正健, 西出明彥 申請(qǐng)人:Ge醫(yī)療系統(tǒng)環(huán)球技術(shù)有限公司