專利名稱：相位差式防偽方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明提供一種可以作為機(jī)密文件或物品防偽效果的防偽方法，尤其是指一種利用經(jīng)過特殊處理的相位差片將圖樣隱藏，再利用與偏光片結(jié)合方式可以顯示圖樣的相位差式防偽方法。
目前常用的防偽方法，是利用激光全像片或是衍射光柵的激光防偽結(jié)構(gòu)，再外覆一透明塑料保護(hù)膜，以便將圖樣隱藏在要防偽的物品上。而利用激光全像片或衍射光柵結(jié)構(gòu)將圖樣隱藏，在光線照射下則可以顯示出圖樣，且仿冒者可以將透明塑料保護(hù)膜去除后，利用電鑄的技術(shù)即可將激光全像片或衍射光柵結(jié)構(gòu)予以復(fù)制，且仿冒者可任意制作一相似的標(biāo)簽來取代真正的激光防偽標(biāo)簽，一般非專業(yè)識(shí)別人員在缺乏原版的防偽標(biāo)簽比對(duì)下，也無法正確地予以識(shí)別其真?zhèn)?。另外，在印刷技術(shù)及數(shù)字取樣技術(shù)進(jìn)步的情況下，精密印刷的防偽圖樣也很容易利用高分辨率的掃描儀及印刷設(shè)備復(fù)制到人眼難以分辨的程度。
如現(xiàn)有技術(shù)所揭示的，利用兩片光柵片或全像片，其中一片為判別片，當(dāng)判別片以適當(dāng)角度覆蓋另一片后，其產(chǎn)生的疊紋才可形成可供識(shí)別用的圖樣，以解決上述容易以人眼識(shí)別出防偽物品上的防偽圖樣的問題，但該全像片或是光柵片的制作難度高且成本昂貴。
本發(fā)明的另一目的，在于解決現(xiàn)有技術(shù)利用精密印刷、全像片及光柵的防偽方法，易于偽造復(fù)制的問題，而提出一種以人眼無法直接看出隱藏的圖樣且不易偽造的防偽方法。
為達(dá)到上述的目的，本發(fā)明的相位差式防偽方法，提供利用經(jīng)過特殊處理過后的相位差片以隱藏防偽或是機(jī)密圖樣，該相位差片具有不同相位差的隱藏圖樣區(qū)域與背景區(qū)域，當(dāng)結(jié)合可以產(chǎn)生及過濾偏振光的識(shí)別裝置后，而能在隱藏圖樣區(qū)域與背景區(qū)域產(chǎn)生不同的透光率而顯示出特殊設(shè)計(jì)的隱藏圖樣；本發(fā)明還可以利用相位差可疊加或補(bǔ)償?shù)奶匦?，用一片以上的相位差片來組合出要隱藏的圖案，也可以將帶有部分隱藏圖樣的相位差片與偏光片構(gòu)成識(shí)別裝置，以提高復(fù)制難度的效果而作為高度防偽。
圖2，是本發(fā)明的相位差片的示意圖。
圖3，是本發(fā)明的具有二相位差片的防偽方法示意圖。
圖4，是本發(fā)明的利用條紋圖方式的相位差片示意圖。
圖5，是本發(fā)明的識(shí)別裝置與相位差片結(jié)合的示意圖。
圖6，是本發(fā)明的穿透式識(shí)別裝置與單一相位差片結(jié)合的示意圖。
圖7，是本發(fā)明的穿透式識(shí)別裝置與單一相位差片的光路示意圖。
圖8，是本發(fā)明的穿透式識(shí)別裝置與二相位板結(jié)合的示意圖。
圖9，是本發(fā)明的各種相位差片與穿透式識(shí)別裝置結(jié)合后相對(duì)應(yīng)隱藏圖樣區(qū)域與背景區(qū)域透光率的比較圖。


圖10，是本發(fā)明的另一穿透式識(shí)別裝置的示意圖。
圖11，是本發(fā)明的反射式識(shí)別裝置與單一相位差片的示意圖。
圖12，是本發(fā)明的反射式識(shí)別裝置與二相位板的示意圖。
圖13，是本發(fā)明的另一反射式識(shí)別裝置的示意圖。
再參見圖1及圖2所示，其中該相位差片10上的隱藏圖樣區(qū)域12與背景區(qū)域13的制作是針對(duì)某相位延遲的相位差片10經(jīng)過特殊處理(如化學(xué)處理、熱處理等去除部份或全部相位差延遲特性的加工)來形成，而該隱藏圖樣區(qū)域12與背景區(qū)域13未與識(shí)別裝置20結(jié)合前，其隱藏圖樣區(qū)域12與背景區(qū)域13均呈現(xiàn)透明狀態(tài)，因此，觀察者無法直接看到相位差片10的隱藏圖樣11，另外觀察者利用一般的光源照射在該相位差片10上也無法顯示出該隱藏圖樣11，因此，可以達(dá)到防偽的效果。
該相位差片10的隱藏圖樣11可由至少一相位差片10疊合而成，請(qǐng)參見圖3所示，是本發(fā)明具有二相位差片的防偽方法的示意圖，當(dāng)相位差片10由第一相位差片10A及第二相位差片10B兩片相位差片疊合而成時(shí)，則該相位差片10上每一位置的相位差是由該位置相對(duì)應(yīng)于第一相位差片10A及第二相位差片10B上的相位差加和而成；上述方式可將隱藏圖樣11分散在不同的相位差片(如第一相位差片10A或第二相位差片10B)上，再將一相位差片(如第一相位差片10A)置于要防偽的物品上，而另一相位差片(如第二相位差片10B)置于識(shí)別裝置20上，當(dāng)此兩片相位差片準(zhǔn)確的疊合后，才能組合出所隱藏的圖樣。因此，當(dāng)觀察者利用任何特殊方法讀取到欲防偽物品上的圖樣，但由于有部分的圖樣是在該識(shí)別裝置20上，故該觀察者也無法得知完整的隱藏圖樣11而不能進(jìn)行偽造。而且，該第一相位差片10A及第二相位差片10B可以利用亂點(diǎn)圖方式(如圖3所示)或條紋圖方式(如圖4所示)將圖樣隱藏到亂點(diǎn)圖或條紋圖中，使人眼對(duì)于未與識(shí)別裝置結(jié)合的防偽圖樣的識(shí)別更為困難；且該亂點(diǎn)圖的制作并不以二元方式加工相位差(已加工的區(qū)域?yàn)榱阆辔徊?為限，也可利用灰階方式加工亂點(diǎn)圖并配合灰階相位差片制作方式，而以該條紋圖方式其中該條紋的方向可以為任意周期的不規(guī)則條紋；而利用亂點(diǎn)圖方式作為隱藏圖樣時(shí)當(dāng)觀察者讀取到任一片相位差片時(shí)，顯示出來的圖樣是許多亂點(diǎn)，而無法識(shí)別出隱藏圖樣，因此，以亂點(diǎn)圖及條紋圖將防偽圖樣加以調(diào)整改變的方式可提高防偽效果。
當(dāng)識(shí)別裝置20與該相位差片10結(jié)合，請(qǐng)參見圖5所示，是本發(fā)明識(shí)別裝置與相位差片結(jié)合的示意圖，該識(shí)別裝置20的偏振光21入射在相位差片10，后通過該相位差片10上具有不同相位差的隱藏圖樣區(qū)域12與背景區(qū)域13，之后分別在隱藏圖樣區(qū)域12與背景區(qū)域13射出不同偏振化方向的第一偏振光21A及第二偏振光21B，當(dāng)此兩道偏振光通過識(shí)別裝置20，使該隱藏圖樣區(qū)域12與背景區(qū)域13產(chǎn)生不同的透光率而顯示出隱藏圖樣11。
而本發(fā)明的識(shí)別裝置20可依據(jù)要防偽物品的透光或不透光分為穿透式及反射式，下面結(jié)合圖標(biāo)進(jìn)行作詳細(xì)說明穿透式如圖6所示，該穿透式識(shí)別裝置20A可包括設(shè)在相位差片10上方的上偏光片22A及相位差片10下方的下偏光片22B，該上偏光片22A及下偏光片22B可以是線性偏光片、橢圓偏光片或圓偏光片，且該上偏光片22A及下偏光片22B可以結(jié)合其它必要元件組成模塊；請(qǐng)參見圖7所示，當(dāng)穿透式識(shí)別裝置20A與該相位差片10結(jié)合后，以一光源23照射在下偏光片22B，后產(chǎn)生偏振光21入射在相位差片10上具有不同相位差的隱藏圖樣區(qū)域12與背景區(qū)域13，之后分別在隱藏圖樣區(qū)域12與背景區(qū)域13射出不同偏振化方向的第一偏振光21A及第二偏振光21B，之后通過上偏光片22A，由于該上偏光片22A上具有一定的偏振性，因此該第一偏振光21A及第二偏振光21B通過上偏光片22A后，會(huì)產(chǎn)生光被吸收及穿透的現(xiàn)象，而使該隱藏圖樣區(qū)域12與背景區(qū)域13產(chǎn)生不同的透光率，通過上述的透光率不同的對(duì)比而顯示出隱藏圖樣11，當(dāng)該隱藏圖樣區(qū)域12與背景區(qū)域13的對(duì)比越大則顯示出的隱藏圖樣越明顯；而當(dāng)光源23照射在上偏光片22A，再經(jīng)過相位差片10，后由下偏光片22B射出，也可顯示出隱藏圖樣11。
再參見圖6所示，當(dāng)上偏光片22A及下偏光片22B分別為水平線偏光片及垂直線偏光片，該相位差片10為1/2λ(半波長(zhǎng)相位延遲)片，并通過特殊處理(如化學(xué)處理、熱處理、激光處理等)使其隱藏圖樣區(qū)域的相位差為1/2λ而該背景區(qū)域13的相位差為0λ，且該下偏光片22B為垂直方向的偏光片，相位差片10的拉伸方向與下偏光片22B的偏光成45度角貼合，當(dāng)光線照射在下偏光片22B，而產(chǎn)生垂直偏振光，后通過相位差片10的隱藏圖樣區(qū)域12的垂直偏振光變?yōu)樗狡窆?，及通過背景區(qū)域13的垂直偏振光不變，后來，該隱藏圖樣區(qū)域12的水平偏振光入射在水平方向的上偏光片22A而穿透，使該隱藏圖樣區(qū)域12完全透光，而該垂直偏振光則被上偏光片22A吸收，使該背景區(qū)域13呈現(xiàn)黑色，由于該隱藏圖樣區(qū)域12(呈現(xiàn)完全透光)與背景區(qū)域13(呈現(xiàn)黑色)的色澤呈現(xiàn)最高對(duì)比，因此，可清楚顯示該隱藏圖樣。而其它可達(dá)到上述對(duì)比效果的情況，請(qǐng)參見圖9的本發(fā)明各種相位差片與穿透式識(shí)別裝置結(jié)合后相對(duì)應(yīng)隱藏圖樣區(qū)域與背景區(qū)域穿透率的比較圖。
穿透式識(shí)別裝置20A也配合二片相位差片使用，請(qǐng)參見圖8所示，其中該第一相位差片10A可貼在該一偏光片(如上偏光片22A)上，并且第二相位差片10B貼在另一偏光片(如下偏光片22B)上，再將貼在第一相位差片10A上的上偏光片22A貼在要防偽的可透光物品上，以便將一部分圖樣隱藏在可透光物品上，其它部分圖樣隱藏在識(shí)別裝置20A上，當(dāng)?shù)谝幌辔徊钇?0A與第二相位差片10B準(zhǔn)確疊合后，并由一光源23入射在下偏光片22B，才可顯示出隱藏圖樣，因此，當(dāng)僅具有透光物品或穿透式識(shí)別裝置20A均無法得知隱藏圖樣，因此，可以達(dá)到更好的防偽效果。
另外，穿透式識(shí)別裝置20A可采用一可發(fā)射偏振光之偏振光發(fā)射器來取代圖7中的一光源23及下偏光片22B，請(qǐng)參見圖10所示，該穿透式識(shí)別裝置20A均包括一偏振光發(fā)射器25及設(shè)在相位差片10下表面的下偏光片22B，該穿透式識(shí)別裝置20A與相位差片10結(jié)合后，該偏振光發(fā)射器25發(fā)出一偏振光21照射在該相位差片10的上表面，則顯示出隱藏圖樣。當(dāng)該相位差片10的下表面與下偏光片22B的一面貼合后，再將該下偏光片22B的另一面貼在要防偽的可透光物品上，則可以將圖樣隱藏在該物品上。反射式如圖11所示，該反射式識(shí)別裝置20B包括一設(shè)在相位差片10上方的偏光片22及一設(shè)在相位差片10下方的偏振態(tài)保留性質(zhì)的反射層24；其中該偏光片22可以是線性偏光片、橢圓偏光片或圓偏光片，該反射層24可以是金屬反射層，且該偏光片22及反射層24可以結(jié)合其它必要元件組成模塊；當(dāng)反射式識(shí)別裝置20B與該相位差片10結(jié)合后，以一光源23照射在偏光片22上，后產(chǎn)生偏振光21入射在相位差片10上具有不同相位差的隱藏圖樣區(qū)域12與背景區(qū)域13，之后分別經(jīng)過隱藏圖樣區(qū)域12與背景區(qū)域13產(chǎn)生不同極化方向的偏振光，之后經(jīng)過反射層24反射后，再通過隱藏圖樣區(qū)域12與背景區(qū)域13射出形成第一偏振光21A及第二偏振光21B，再到達(dá)偏光片22，由于該偏光片22上具有一定的偏振性，因此該第一偏振光21A及第二偏振光21B通過偏光片22后，會(huì)產(chǎn)生光被吸收或穿透的現(xiàn)象，而使該隱藏圖樣區(qū)域12與背景區(qū)域13產(chǎn)生不同的反射率，通過上述的反射率不同的對(duì)比而顯示出隱藏圖樣11，當(dāng)該隱藏圖樣區(qū)域12與背景區(qū)域13的對(duì)比越大則顯示出的隱藏圖樣越明顯。
再參見圖11所示，當(dāng)偏光片22為水平線偏光片，且該相位差片10為1/4λ片，并通過特殊處理(如化學(xué)處理、熱處理、激光處理等)使其隱藏圖樣區(qū)域12的相位差為1/4λ而該背景區(qū)域13的相位差為0λ，且該偏光片22的極化方向與該相位差片10的拉伸方向成45度角貼合后；當(dāng)光線照射在偏光片22，而產(chǎn)生水平偏振光，后通過相位差片10的隱藏圖樣區(qū)域12的水平偏振光變?yōu)閳A偏振光，而通過背景區(qū)域13的水平偏振光不變，后來，該圓偏振光經(jīng)過偏振態(tài)保留性質(zhì)的反射層24的反射，再次通過隱藏圖樣區(qū)域12的相位差1/4λ而成為垂直偏光，使該隱藏圖樣區(qū)域12呈現(xiàn)黑色，而通過背景區(qū)域13的水平偏振光則經(jīng)由反射層24反射，再通過背景區(qū)域13時(shí)仍為水平偏光，使該背景區(qū)域13完全透光，由于該隱藏圖樣區(qū)域12(呈現(xiàn)黑色)與背景區(qū)域13(呈現(xiàn)反光)的色澤呈現(xiàn)最高對(duì)比，因此，可清楚顯示該隱藏圖樣。
該反射式識(shí)別裝置20B也配合二片相位差片使用，請(qǐng)參見圖12所示，該第一相位差片10A可以貼在該偏光片22上，并且第二相位差片10B貼在反射層24上，再將反射層24貼在要防偽的不透光物品上，以將一部分圖樣隱藏在不透光物品上，其它部分圖樣隱藏在反射式識(shí)別裝置20B上，當(dāng)?shù)谝幌辔徊钇?0A與第二相位差片10B疊合，并由一光源23入射在該偏光片22上，才可顯示出隱藏圖樣，因此，當(dāng)僅具有不透光物品或反射式識(shí)別裝置20B均無法得知隱藏圖樣，因此，可達(dá)到更好的防偽效果。
另外，請(qǐng)參見圖13所示，是本發(fā)明的另一反射式識(shí)別裝置示意圖，反射式識(shí)別裝置20B也可由一可發(fā)射偏振光的偏振光發(fā)射器25及設(shè)在相位差片10下表面的反射式偏光片26所組成；其中該反射式偏光片26是一具有反射層的偏光片，而該反射式偏光片26的偏光片只反射特定偏振方向的偏振光，其余偏振方向的光線會(huì)加以吸收或穿透；當(dāng)該反射式識(shí)別裝置20B與相位差片10結(jié)合后，該偏振光發(fā)射器25發(fā)出一偏振光照射在該相位差片10上，后經(jīng)過反射式偏光片26，使與反射式偏光片26相同偏振方向的偏振光反射，而其它方向的偏振光則經(jīng)由反射式偏光片26穿透或被其吸收；由于該隱藏圖樣區(qū)域12與背景區(qū)域13的相位差不同，故通過隱藏圖樣區(qū)域12與背景區(qū)域13所產(chǎn)生的偏振光方向也不同，故入射在反射式偏光片26時(shí)，會(huì)產(chǎn)生不同的反射現(xiàn)象，而具有不同的反射率，因而顯示出隱藏圖樣。而當(dāng)該相位差片10的下表面與反射式偏光片26的一面貼合后，再將該反射式偏光片26的另一面貼在要防偽的不透光物品上，則可將圖樣隱藏在該物品上。如圖13所示，當(dāng)偏振光發(fā)射器25產(chǎn)生的偏振光方向?yàn)樗剑瓷涫狡馄?6的偏振方向也為水平，相位差片10為1/2λ片，并通過特殊處理(如化學(xué)處理、熱處理、激光處理等)使其隱藏圖樣區(qū)域12的相位差為1/2λ而該背景區(qū)域13的相位差為0λ，而反射式偏光片26的極化方向與該相位差片10的拉伸方向成45度角貼合；當(dāng)由偏振光發(fā)射器25所產(chǎn)生的水平偏振光通過相位差片10的隱藏圖樣區(qū)域12的水平偏振光變?yōu)榇怪逼窆?，而通過背景區(qū)域13的水平偏振光不變；當(dāng)兩偏振光行進(jìn)到水平偏振方向的反射式偏光片26，通過隱藏圖樣區(qū)域12的垂直偏振光被完全吸收或穿透，從上方觀察位置觀看則成為黑色區(qū)域；通過背景區(qū)域13的水平偏振光則被反射式偏光片26完全反射，從上方觀察位置觀看則成為反光區(qū)域，此一方式的搭配可以達(dá)到最高的對(duì)比。
以上所述，只是本發(fā)明的優(yōu)選實(shí)施例而已，不能用以限定本發(fā)明實(shí)施的范圍，即大凡依照本發(fā)明申請(qǐng)專利范圍所作的等效物變化與修改，都應(yīng)仍屬本發(fā)明所涵蓋的范圍內(nèi)。
權(quán)利要求
1.一種相位差式防偽方法，其特征在于其提供具有隱藏圖樣(11)的相位差片(10)，所述相位差片(10)的隱藏圖樣區(qū)域(12)與背景區(qū)域(13)具有不同的相位差，當(dāng)可以產(chǎn)生偏振光(21)的識(shí)別裝置(20)與所述相位差片(10)結(jié)合，可使隱藏圖樣區(qū)域(12)與背景區(qū)域(13)產(chǎn)生不同的透光率而顯示出隱藏圖樣(11)。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的相位差式防偽方法，其中所述相位差片(10)未與識(shí)別裝置(20)結(jié)合前，其隱藏圖樣區(qū)域(12)與背景區(qū)域(13)均呈現(xiàn)透明狀態(tài)；且結(jié)合識(shí)別裝置(20)后所顯示出的隱藏圖樣(11)可以用人眼或機(jī)器識(shí)別的方式加以判別其真?zhèn)巍?br> 3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的相位差式防偽方法，其中所述隱藏圖樣區(qū)域(12)與背景區(qū)域(13)具有不同的相位差，使由入射在相位差片(10)的偏振光(21)由隱藏圖樣區(qū)域(12)與背景區(qū)域(13)射出不同極化方向的第一偏振光(21A)及第二片偏振光(21B)。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的相位差式防偽方法，其中所述相位差片(10)的隱藏圖樣(11)可由至少一相位差片(10)疊合而成。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的相位差式防偽方法，其中所述相位差片(10)可由第一相位差片(10A)及第二相位差片(10B)疊合而成，且所述相位差片(10)的相位差可以由第一相位差片(10A)相對(duì)應(yīng)第二相位差片(10B)位置的相位差加和而成。
6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的相位差式防偽方法，其中所述第一相位差片(10A)及第二相位差片(10B)可以用亂點(diǎn)圖方式隱藏圖樣(11)。
7.根據(jù)權(quán)利要求5所述的相位差式防偽方法，其中所述第一相位差片(10A)及第二相位差片(10B)可以用條紋圖方式隱藏圖樣(11)。
8.根據(jù)權(quán)利要求1所述的相位差式防偽方法，其中所述識(shí)別裝置(20)可以包括設(shè)在相位差片(10)上方及下方的一對(duì)偏光片(22A、22B)。
9.根據(jù)權(quán)利要求8所述的相位差式防偽方法，其中所述識(shí)別裝置(20)與相位差片(10)結(jié)合后，提供一光源(23)入射在一偏光片(22)上，則可以顯示出隱藏圖樣(11)。
10.根據(jù)權(quán)利要求8所述的相位差式防偽方法，其中所述相位差片(10)可以是1/2λ片，且通過特殊處理使所述隱藏圖樣區(qū)域(12)與背景區(qū)域(13)的相位差分別為1/2λ及0λ或0λ及1/2λ為最佳。
11.根據(jù)權(quán)利要求8所述的相位差式防偽方法，其中所述識(shí)別裝置(20)的偏光片(22)可以是線性偏光片、橢圓偏光片或圓偏光片。
12.根據(jù)權(quán)利要求8所述的相位差式防偽方法，其中所述第一相位差片(10A)可以貼在所述的一偏光片(22A)上，并且第二相位差片(10B)貼在另一偏光片(22B)上，再將已貼合在偏光片(22A)上的第一相位差片(10A)貼在要防偽的可透光物品上，以便將圖樣隱藏在所述物品上。
13.根據(jù)權(quán)利要求12所述的相位差式防偽方法，其中所述當(dāng)已經(jīng)貼合在偏光片(22A)上的第一相位差片(10A)與已經(jīng)貼合在偏光片(22B)上的第二相位差片(10B)兩者相位差片部分準(zhǔn)確疊合后，并由一光源(23)入射在其中一偏光片(22A)上，則可以在另一片偏光片(22B)上顯示出隱藏圖樣(11)。
14.根據(jù)權(quán)利要求1所述的相位差式防偽方法，其中所述識(shí)別裝置(20)可以包括分別設(shè)在相位差片(10)上方的一偏光片(22)及下方的一偏振態(tài)保留性質(zhì)的反射層(24)。
15.根據(jù)權(quán)利要求14所述的相位差式防偽方法，其中所述識(shí)別裝置(20)與相位差片(10)結(jié)合后，提供一光源(23)入射所述偏光片(22)，通過反射后則可以顯示出隱藏圖樣(11)。
16.根據(jù)權(quán)利要求14所述的相位差式防偽方法，其中所述相位差片(10)可以是1/4λ片，且通過特殊處理使所述隱藏圖樣區(qū)域(12)與背景區(qū)域(13)的相位差分別為1/4λ及0λ或0λ及1/4λ為最佳。
17.根據(jù)權(quán)利要求14所述的相位差式防偽方法，其中所述識(shí)別裝置(20)的偏光片(22)可以是線性偏光片、橢圓偏光片或圓偏光片。
18.根據(jù)權(quán)利要求14所述的相位差式防偽方法，其中所述第一相位差片(10A)可以貼在所述偏光片(22)上，并且第二相位差片(10B)貼在反射層(24)上，再將反射層(24)貼在要防偽的不透光物品上，以便將圖樣隱藏在所述物品上。
19.根據(jù)權(quán)利要求18所述的相位差式防偽方法，其中所述當(dāng)?shù)谝幌辔徊钇?10A)與第二相位差片(10B)準(zhǔn)確疊合后，并由一光源(23)入射在所述偏光片(22)上，則顯示出隱藏圖樣(11)。
20.根據(jù)權(quán)利要求1所述的相位差式防偽方法，其中所述識(shí)別裝置(20)可以包括一偏振光發(fā)射器(25)及設(shè)在相位差片(10)下表面的下偏光片(22B)。
21.根據(jù)權(quán)利要求20所述的相位差式防偽方法，其中所述識(shí)別裝置(20)與相位差片(10)結(jié)合后，所述偏振光發(fā)射器(25)發(fā)出一偏振光(21)照射在所述相位差片(10)的上表面，則顯示出隱藏圖樣(11)。
22.根據(jù)權(quán)利要求20所述的相位差式防偽方法，其中所述相位差片(10)的下表面與下偏光片(22B)的一面貼合后，再將所述下偏光片(22B)的另一面貼在要防偽的可透光物品上，以便將圖樣隱藏在所述物品上。
23.根據(jù)權(quán)利要求20所述的相位差式防偽方法，其中所述相位差片(10)可以是1/2λ片，且通過特殊處理使所述隱藏圖樣區(qū)域(12)與背景區(qū)域(13)的相位差分別為1/2λ及0λ或0λ及1/2λ為最佳。
24.根據(jù)權(quán)利要求1所述的相位差式防偽方法，其中所述識(shí)別裝置(20)可以包括一偏振光發(fā)射器(25)及設(shè)在相位差片(10)下表面的反射式偏光片(26)。
25.根據(jù)權(quán)利要求24所述的相位差式防偽方法，其中所述識(shí)別裝置(20)與相位差片(10)結(jié)合后，所述偏振光發(fā)射器(25)發(fā)出一偏振光(21)照射在所述相位差片(10)的上表面，則顯示出隱藏圖樣(11)。
26.根據(jù)權(quán)利要求24所述的相位差式防偽方法，其中所述相位差片(10)的下表面與反射式偏光片(26)的一面貼合后，再將所述反射式偏光片(26)的另一面貼在要防偽的不透光物品，以便將圖樣隱藏在所述物品上。
27.根據(jù)權(quán)利要求24所述的相位差式防偽方法，其中所述反射式偏光片(26)包括一偏光片(22)及設(shè)在偏光片(22)下方的反射層，以產(chǎn)生反射的偏振光。
28.根據(jù)權(quán)利要求24所述的相位差式防偽方法，其中所述相位差片(10)可以是1/2λ片，且通過特殊處理使所述隱藏圖樣區(qū)域(12)與背景區(qū)域(13)的相位差分別為1/2λ及0λ或0λ及1/2λ為最佳。
全文摘要
本發(fā)明涉及一種相位差式防偽方法，其提供利用經(jīng)過特殊處理過后的相位差片以隱藏防偽或者是機(jī)密圖樣，結(jié)合可以產(chǎn)生及過濾偏振光的識(shí)別裝置后，而能顯示出特殊設(shè)計(jì)的隱藏圖樣；可進(jìn)一步利用相位差可疊加或補(bǔ)償?shù)奶匦裕捎靡黄陨系南辔徊钇瑏斫M合出要隱藏的圖案，也可以結(jié)合帶有特殊圖樣的相位差片與偏光片構(gòu)成識(shí)別裝置，以提高復(fù)制難度的效果而作為高度防偽。
文檔編號(hào)G06K9/58GK1448887SQ0210816
公開日2003年10月15日 申請(qǐng)日期2002年3月28日 優(yōu)先權(quán)日2002年3月28日
發(fā)明者王迺岳, 蔡朝旭 申請(qǐng)人:財(cái)團(tuán)法人工業(yè)技術(shù)研究院