專利名稱：現(xiàn)場立體足跡數(shù)字化綜合處理系統(tǒng)的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明是指一種現(xiàn)場立體足跡數(shù)字化綜合處理系統(tǒng)。主要是完成現(xiàn)場立體 足跡信息數(shù)字化采集、立體足跡三維比對及立體足跡雕刻還原。
背景技術(shù)：
立體足跡是在犯罪現(xiàn)場上遺留率最高的一類痕跡，是犯罪現(xiàn)場最常見的痕 跡物證之一。立體足跡檢驗鑒定能夠反映案犯犯罪現(xiàn)場活動的軌跡，以及案犯 的個體信息，因此，立體足跡可以為偵查破案工作提供線索，并且可以作為證 據(jù)揭露和證實罪犯。世界上許多國家的警察機關(guān)對犯罪現(xiàn)場遺留立體足跡的研 究和利用都很重視。傳統(tǒng)的立體足跡檢驗鑒定方法主要依據(jù)立體足跡檢驗專家和學者的經(jīng)驗以及手工操作。通常的立體足跡檢驗鑒定步驟是a.現(xiàn)場提取立體足跡；b.人工 測量比對計算?，F(xiàn)場提取立體足跡提取主要通過石膏制模方法。石膏制模方法雖然可以較 好的反映立體足跡輪廓特性，但是在實際搡作中難度較大。石膏制模方法具有 提取時間長、技術(shù)要求高、以及只能進行一次性有損提取等缺點。石膏立體足 跡檢驗鑒定通常只通過手工測量和經(jīng)驗分析，因此，立體足跡檢驗鑒定難以保 證定量化和科學化。石膏立體足跡易碎、易磨損、不易于攜帶、不易于長期保 存?，F(xiàn)有技術(shù)方案中，我國立體足跡檢驗專家、學者不滿足于傳統(tǒng)的經(jīng)驗型、 手工操作式的立體足跡檢驗手段，開始運用人體運動力學、高等數(shù)學與計算機 技術(shù)，研究和解釋人體行走與足跡形成的機理，以及影響足跡變化的相關(guān)因素， 將步法與形象檢驗相結(jié)合，不僅進一步豐富了我國足跡檢驗理論，也創(chuàng)造了許多新的檢驗方法和手段。現(xiàn)有技術(shù)中，足跡的二維圖像輸入計算機進行分析， 但這類方法忽略了足跡的立體信息，因此分析準確性下降。發(fā)明內(nèi)容有鑒于此，本發(fā)明是一種現(xiàn)場立體足跡數(shù)字化綜合處理系統(tǒng)，實現(xiàn)現(xiàn)場立 體足跡信息數(shù)字化釆集、立體足跡三維比對及立體足跡雕刻還原。 為達到上述目的，本發(fā)明的技術(shù)方案是這樣實現(xiàn)的一種現(xiàn)場立體足跡數(shù)字化綜合處理系統(tǒng)，包括光學投射器、CCD攝像頭、步進電機、支架、計算機；光學投射器、CCD 攝像頭、步進電機裝在支架上；光學投射器用于照射立體足跡，進行光學編碼；CCD攝像頭用于釆集光學編碼圖像；步進電機用于驅(qū)動光學投射器和CCD攝像頭步進；計算機對CCD攝像頭光學編碼后的圖像進行數(shù)字圖像分析，得到立體足跡 三維點云數(shù)據(jù)。所述光學投射器可以是指激光器，用于投射線結(jié)構(gòu)光。所述光學投射器可以是激光器，用于投射點結(jié)構(gòu)光。所述光學投射器可以是指柵光源，用于投射柵結(jié)構(gòu)光。所述CCD攝像頭共有一個或兩個，CCD攝像頭軸線與光學投射器投射方 向間夾角為0度至90度，兩個CCD攝像頭對稱放置于光學投射器兩側(cè)。所述步進電機由計算機控制，驅(qū)動CCD攝像頭和光學投射器作平移運動。所述現(xiàn)場立體足跡數(shù)字化綜合處理系統(tǒng)進一步包括立體足跡雕刻還原裝 置，根據(jù)三維點云數(shù)據(jù)雕刻還原立體足跡。所述現(xiàn)場立體足跡數(shù)字化綜合處理系統(tǒng)進一步包括立體足跡三維比對裝 置用于立體足跡三維比對檢驗。本發(fā)明的現(xiàn)場立體足跡數(shù)字化綜合處理系統(tǒng)，能夠有效克服傳統(tǒng)石膏制模 方法測量不準確，測量速度慢，并且不便于攜帶的缺點。本發(fā)明的現(xiàn)場立體足跡數(shù)字化綜合處理系統(tǒng)，通過現(xiàn)場立體足跡信息數(shù)字化釆集，更科學，精度更 高，提取時不會破壞現(xiàn)場立體足跡，可以實現(xiàn)多次無損提取。立體足跡三維比 對為鑒定人員提供更科學，更方便的鑒定工具。立體足跡雕刻還原可以加工制 作立體足跡模型，可以選用重量輕且質(zhì)地結(jié)實耐用的材料加工還原，很容易制 作多個相同立體足跡模型，克服傳統(tǒng)石膏立體足跡唯一性、精度低等缺陷。


圖1為本發(fā)明現(xiàn)場立體足跡數(shù)字化綜合處理系統(tǒng)架構(gòu)示意圖； 圖2為本發(fā)明現(xiàn)場立體足跡數(shù)字化綜合處理系統(tǒng)流程圖。
具體實施方式
下面結(jié)合附圖及具體實施例對本發(fā)明再作進一步詳細的說明。如圖1所示為本發(fā)明現(xiàn)場立體足跡數(shù)字化綜合處理系統(tǒng)架構(gòu)示意圖。本發(fā)明現(xiàn)場立體足跡數(shù)字化綜合處理系統(tǒng)包括現(xiàn)場立體足跡信息數(shù)字化釆集101、計算機102中立體足跡三維比對軟件裝置以及立體足跡雕刻還原裝 置103。現(xiàn)場立體足跡信息數(shù)字化采集101用于采集現(xiàn)場立體足跡104信息，包括 支架105、激光器106、 CCD攝像頭108和109、步進電機110、導軌lll、計 算機102。支架105包括四條腿和一個桌板。激光器106、 CCD攝像頭108和109、 步進電機IIO、以及導軌111裝于支架105上。光學投射器將結(jié)構(gòu)光投射到現(xiàn)場足跡上。光學投射器可以釆用激光器106, 或其他光學投射器，放置位置與激光器106位置相同。本發(fā)明的光投射器以激 光器106為例，投射光模式采用線結(jié)構(gòu)光，線結(jié)構(gòu)光模式復雜度低、信息量大， 應用最為廣泛，在實際應用中，可以釆用其他光源投射器，以及投射點結(jié)構(gòu)光 或柵結(jié)構(gòu)光。激光器106投射光線垂直向下，激光器在現(xiàn)場足跡上投射線結(jié)構(gòu) 光形成投射光帶107。CCD攝像頭108和109裝于激光器106兩側(cè)，對稱放置，且CCD攝像頭 108和109軸線與光學投射器投射方向間夾角為0度至90度，用于采集結(jié)構(gòu)光 光學編碼圖像。由于采用了雙CCD攝像頭，可以提高減小盲區(qū)，提高測量精度。 CCD攝像頭108和109前裝有窄帶濾波片，釆集圖像首先進行窄帶濾波，用于 提高圖像質(zhì)量，窄帶濾波片由玻璃多層鍍膜實現(xiàn)。CCD攝像頭釆集的圖像經(jīng)圖 像釆集卡112送入計算機102。計算機102利用編程語言對通訊控制模塊軟件編程，控制步進電機110使 激光器106、 CCD攝像頭108和109、激光器106與CCD攝像頭108和109連 接的橫梁沿導軌111發(fā)生步進位移，投射光帶107投射位置在現(xiàn)場立體足跡上 進行移動，完成激光光帶控制定位掃描，通過步進方式，便于釆集一系列圖像， 編程語言如對0++8^1(161"、匯編語言。投射光帶107每移動一個位移，現(xiàn)場立體足跡光學編碼圖像就由CCD攝像 頭108和109通過圖像采集卡傳入計算機中，由計算機102進行數(shù)字圖像分析 得出三維點云數(shù)據(jù)。計算機102的數(shù)字圖像分析包括數(shù)字圖像處理提高圖像 質(zhì)量；由于CCD攝像頭108和109之間存在角度，需要進行雙攝像頭圖像融合； 并由光學編碼圖像計算三維信息，禾擁快速中心算法提取光帶中心，由于成像 存在空間投影畸變，經(jīng)空間校正得到三維點云數(shù)據(jù)。三維點云數(shù)據(jù)可在計算機102中用于立體足跡三維比對，和/或用于立體足 跡雕刻還原裝置103雕刻還原立體足跡。計算機102中立體足跡三維比對軟件裝置用于立體足跡圖像三維比對，通 過重構(gòu)空間點實現(xiàn)立體足跡三維重構(gòu)，對立體足跡圖像進行三維建模、光線處 理、色彩處理、，紋理映射、多級分辨率圖像顯示、紋理貼圖等搡作?？梢赃M行 雙視場比對，也可以只顯示一個視場。雙視場可以重疊后進行輪廓線比對、等 髙線分析。立體足跡三維點云數(shù)據(jù)根據(jù)計算數(shù)控G代碼算法，生成數(shù)控G代碼。數(shù)控 G代碼輸入立體足跡雕刻還原裝置103進行雕刻還原，本發(fā)明的立體足跡雕刻 還原裝置是指數(shù)控機床，數(shù)控機床根據(jù)數(shù)控G代碼加工還原立體足跡。如圖2所示，本發(fā)明現(xiàn)場立體足跡數(shù)字化綜合處理系統(tǒng)包括四個部分現(xiàn)場立體足跡信息效字化采集202、數(shù)字圖像分析208、立體足跡三維比對214 以及立體足跡雕刻還原217。本發(fā)明現(xiàn)場立體足跡數(shù)字化綜合處理系統(tǒng)的工作流程為現(xiàn)場立體足跡 201經(jīng)結(jié)構(gòu)光光學編碼照明，由CCD攝像頭采集由結(jié)構(gòu)光光學編碼的現(xiàn)場立體 足跡圖像，經(jīng)過數(shù)字圖像分析208得到三維點云數(shù)據(jù)，立體足跡三維比對214 利用三維點云數(shù)據(jù)重構(gòu)立體足跡并進行雙視場三維比對，三維點云數(shù)據(jù)生成數(shù) 控機床加工代碼，利用數(shù)控機床進行立體足跡雕刻還原217?，F(xiàn)場立體足跡201在刑偵領(lǐng)域是指犯罪現(xiàn)場留下的腳印痕跡。 現(xiàn)場立體足跡信息數(shù)字化采集202是指從實際場景中提取立體足跡的數(shù)字 圖像信息。光學投射器將結(jié)構(gòu)光投射到現(xiàn)場立體足跡表面，在表面形成反映現(xiàn) 場立體足跡表面形狀特性的點或線，稱為結(jié)構(gòu)光光學編碼照明203。光學投射 器可以是激光器。結(jié)構(gòu)光分為點結(jié)構(gòu)光模式204、線結(jié)構(gòu)光模式205以及柵結(jié) 構(gòu)光模式206。點結(jié)構(gòu)光模式204是指光投射到現(xiàn)場足跡上的圖案形狀為點， 線結(jié)構(gòu)光模式205是指光投射到現(xiàn)場足跡上的圖案形狀為一條線，柵結(jié)構(gòu)光模 式206是指光投射到被測物體上的圖案形狀為一組柵線。CCD攝像頭采集圖 像207，可以采用一個或兩個CCD攝像頭，因為單一攝像頭的方法存在缺點 且實現(xiàn)效果不佳，本實施例以采用兩個成一定角度的CCD攝像頭作為最佳實 施例。CCD攝像頭軸線與光學投射器投射方向間夾角為0度至90度，兩個 CCD攝像頭對稱放置于光學投射器兩側(cè)。釆集圖像，通過對圖像疊加及處理、 可以擴大測量范圍、縮小盲區(qū)、減少測量數(shù)據(jù)缺失、提高測量精度。CCD攝像頭采集圖像207，運用了窄帶濾波技術(shù)，由窄帶濾波片實現(xiàn)，窄 帶濾波片裝于CCD攝像頭前，采集圖像首先進行窄帶濾波。窄帶濾波技術(shù)根據(jù) 光的干涉原理，僅允許一定波長范圍的光通過，采用玻璃多層鍍膜實現(xiàn)。CCD 攝像頭前裝有窄帶濾波片，用于降低環(huán)境光對圖像質(zhì)量的影響、提高圖像信噪 比。如果使用點結(jié)構(gòu)光模式204或線結(jié)構(gòu)光模式205，計算機根據(jù)精度要求，驅(qū)動步進電機，再采集一系列光學編碼圖像。點結(jié)構(gòu)光模式204采用雙軸步進電機，進行x， y軸兩個方向的步進掃描；線結(jié)構(gòu)光模式205釆用單軸步進電機， 只進行x軸方向步進掃描；柵結(jié)構(gòu)光模式206，可以采用單軸步進電機進行x 軸方向步進掃描，也可以采用雙軸步進電機進行x, y軸兩個方向步進掃描，也 可以不采用步進電機直接將采集結(jié)構(gòu)光光學編碼圖像，本實例如果釆用柵結(jié)構(gòu) 光模式，將使用雙軸掃描系統(tǒng)，利于提高精度。數(shù)字圖像分析208是指將CCD攝像頭采集的圖像進行處理，得到立體足跡 三維點云數(shù)據(jù)。由CCD攝像頭采集的立體足跡光學編碼圖像在計算機中進行數(shù)字圖像處 理，去除噪聲，提高圖像質(zhì)量。釆用兩個CCD攝像頭釆集足跡光學編碼圖像， 由于兩個CCD攝像頭之間存在一定角度，則需要對采集的兩幅圖像進行圖像融 合。數(shù)字圖像處理和圖像融合后，由光學編碼圖像計算三維信息209。點結(jié)構(gòu) 光光學編碼圖像計算點中心210;線結(jié)構(gòu)光光學編碼圖像計算光帶中心211;柵 結(jié)構(gòu)光光學編碼圖像計算相位分布212。本實施例以采用線結(jié)構(gòu)光光學編碼圖 像計算光帶中心211為例。線結(jié)構(gòu)光光學編碼圖像計算光帶中心211采用快速 重心算法提取光帶中心，有效提高精度。CCD攝像頭采集的光帶圖像，像素點 坐標值和亮度信息都具有重要作用?？焖僦行乃惴ㄌ崛」鈳е行氖抢孟袼攸c 的亮度信息將像素點坐標值加權(quán)平均，得出的加權(quán)平均值即為光帶中心值，光 帶中心值為小數(shù)，即為亞像素，提高了精度。根據(jù)光帶光強實際分布情況，利 用重心算法進行多次簡單循環(huán)迭代，以及足跡光學編碼圖像邊緣寬度的亞像素 定位，實現(xiàn)了快速高精度的提取亞像素級中心，有效提高了測量精度?？臻g校正得出三維點云數(shù)據(jù)213,由于CCD攝像頭采集圖像系統(tǒng)的投射效 應，成像存在空間投影畸變，因此需要空間校正，空間校正后需要利用空間標 定技術(shù)獲得實際空間坐標。根據(jù)投影的原理，結(jié)合標定參數(shù)，計算CCD成像的 畸變參數(shù)，可以計算出立體足跡在實際空間的三維點云數(shù)據(jù)。立體足跡三維比對214是指計算機利用立體足跡三維點云數(shù)據(jù)三維重構(gòu)立體足跡215，利用雙視場三維比對216。三維重構(gòu)立體足跡215，通過重構(gòu)空間點實現(xiàn)。利用OpenGL技術(shù)實現(xiàn)三 維重構(gòu)，OpenGL是SGI公司開發(fā)的3D圖形設(shè)計標準應用接口 ，能夠設(shè)計高性 能圖形和交互視景標準。三維點云數(shù)據(jù)重構(gòu)立體足跡技術(shù)包括三維建模、光 線處理、色彩處理、紋理映射、多級分辨率圖像顯示、紋理貼圖等。雙視場三維比對216,三維重構(gòu)后的立體足跡圖像，可以雙視場方式進行 比對。左視場為立體足跡圖像，右視場是實驗樣本圖像，雙視場可單獨顯示， 也可同時顯示兩個視場，并且可以實現(xiàn)雙視場重疊觀察。雙視場比對方法包括 重壓點檢驗，能準確判斷足底各部位重壓點的位置，自動計算并顯示重壓點深 度；磨損面檢驗，輔助檢驗重壓面位置、大小及鞋底磨損形態(tài)，以便步法特征 和磨損特征檢驗；坐標檢驗，輔助確定立體足跡各類特征的位置、形狀和大小， 分析習慣痕跡特征，實現(xiàn)定量化檢驗；網(wǎng)格檢驗，輔助確定各類立體足跡特征， 如鞋底磨損范圍、重壓面形狀、位置及大小等；偽彩檢驗，輔助步法特征、磨 損特征和動力形態(tài)特征檢驗；測量檢驗，用于特征距離、角度、面積的測量檢 驗，輔助刻畫犯罪嫌疑人。采用快速等高線搜索技術(shù)可以實現(xiàn)立體足跡三維比對，快速等高線搜索技 術(shù)是利用等間距高密度三維點云數(shù)據(jù)矩陣，在系統(tǒng)中模擬生成一系列平面，計 算平面與三維點云數(shù)據(jù)矩陣的交線，在像素級別上得出交匯點，將每個平面對 應的各交匯點進行順序連接繪制，即可繪出等高線。傳統(tǒng)方法使用插值法求等 高線，當數(shù)據(jù)量大時，運算速度慢。由于立體足跡三維點云數(shù)據(jù)量較大，利用 本發(fā)明的快速等高線法可以提高等高線搜索繪制速度。等高線條數(shù)和間距可以 調(diào)節(jié)。重疊視場后可以進行輪廓線比對、等高線分析。立體足跡的三維點云數(shù)據(jù)可用于立體足跡雕刻還原217。三維點云數(shù)據(jù)生 成數(shù)控機床加工代碼218，通常指數(shù)控G代碼。數(shù)控G代碼是控制指令的有序 集合。通過解析數(shù)控G代碼輸出控制信號，控制數(shù)控機床雕刻加工，實現(xiàn)立體 足跡雕刻還原..本發(fā)明由立體足跡三維點云數(shù)據(jù)生成數(shù)控G代碼，省略了傳統(tǒng) 的需要專業(yè)軟,生成數(shù)控G代碼的缺陷，提高了計算速度和精度，減少時間成本和經(jīng)濟成本。本系統(tǒng)中掃描結(jié)果的點云數(shù)據(jù)是由數(shù)據(jù)點陣構(gòu)成的矩陣數(shù)據(jù)， 每一點(X, Y)都對應一個測量值(Z)。計算對應刀具的三維輪廓數(shù)據(jù)，然后 計算刀具三維輪廓數(shù)據(jù)與數(shù)據(jù)點為中心處的測量結(jié)果矩陣的最近接點位置，利 用最接近點位置計算Z值，利用每個點的順序序列可以生成多行的加工數(shù)控G 代碼。立體足跡的雕刻還原219由數(shù)控機床完成。數(shù)控機床加工代碼數(shù)控G代碼， 用于控制數(shù)控機床加工刀頭的加工路徑。將數(shù)控G代碼輸入數(shù)控機床后，數(shù)控 機床可自動完成對三維數(shù)據(jù)的雕刻加工。雕刻還原的三維數(shù)據(jù)直接來源于三維 點云數(shù)據(jù)，而非計算機設(shè)計。數(shù)控機床能夠根據(jù)加工目標自動計算加工剩余量, 并自動進行加工精度評價?？梢姡瑧蒙厦婷枋龅默F(xiàn)場立體足跡數(shù)字化綜合處理系統(tǒng)，能實現(xiàn)現(xiàn)場立 體足跡信息數(shù)字化釆集、立體足跡三維比對及立體足跡雕刻還原?？朔藗鹘y(tǒng) 用石膏提取足跡速度慢、易損、精度低、不易攜帶等缺點?，F(xiàn)場立體足跡信息 數(shù)字化采集能夠無損、高精度提取現(xiàn)場立體足跡，立體足跡三維比對裝置提供 給鑒定人員有效的立體足跡分析工具，通過數(shù)控機床快速加工還原立體足跡。以上所述，僅為本發(fā)明的較佳實施例而已，并非用來限定本發(fā)明的保護范圍。
權(quán)利要求
1. 一種現(xiàn)場立體足跡數(shù)字化綜合處理系統(tǒng)，包括光學投射器、CCD攝像頭、步進電機、支架、計算機；光學投射器、CCD攝像頭、步進電機裝在支架上；光學投射器用于照射立體足跡，進行光學編碼；CCD攝像頭用于采集光學編碼圖像；步進電機用于驅(qū)動光學投射器和CCD攝像頭步進；計算機對CCD攝像頭采集的光學編碼圖像進行數(shù)字圖像分析，得到立體足跡三維點云數(shù)據(jù)。
2、 根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種現(xiàn)場立體足跡數(shù)字化綜合處理系統(tǒng)，其特征 在于，所述光學投射器可以是指激光器，用于投射線結(jié)構(gòu)光。
3、 根據(jù)權(quán)利要求l所述的一種現(xiàn)場立體足跡數(shù)字化綜合處理系統(tǒng)，其特征 在于，所述光學投射器可以是激光器，用于投射點結(jié)構(gòu)光。
4、 根據(jù)權(quán)利要求l所述的一種現(xiàn)場立體足跡數(shù)字化綜合處理系統(tǒng)，其特征 在于，所述光學投射器可以是指柵光源，用于投射柵結(jié)構(gòu)光。
5、 根據(jù)權(quán)利要求1至4中任一項所述的一種現(xiàn)場立體足跡數(shù)字化綜合處理 系統(tǒng)，其特征在于，所述CCD攝像頭有一個或兩個，CCD攝像頭軸線與光學 投射器投射方向間夾角為0度至90度，兩個CCD攝像頭對稱放置于光學投射
6、 根據(jù)權(quán)利要求1至4中任一項所述的一種現(xiàn)場立體足跡數(shù)字化綜合處理 系統(tǒng)，其特征在于，所述步進電機由計算機控制，驅(qū)動CCD攝像頭和光學投 射器作平移運動。
7、 根據(jù)權(quán)利要求1至4中任一項所述的一種現(xiàn)場立體足跡數(shù)字化綜合處理 系統(tǒng)，其特征在于，所述現(xiàn)場立體足跡數(shù)字化綜合處理系統(tǒng)進一步包括立體足 跡雕刻還原裝置，根據(jù)三維點云數(shù)據(jù)雕刻還原立體足跡。
8、 根據(jù)權(quán)利要求1至4中任一項所述的一種現(xiàn)場立體足跡數(shù)字化綜合處理 系統(tǒng)，其特征在于，所述現(xiàn)場立體足跡數(shù)字化綜合處理系統(tǒng)進一步包括立體足跡三維比對裝置用于立體足跡三維比對檢驗。
9、 根據(jù)權(quán)利要求5所述的一種現(xiàn)場立體足跡數(shù)字化綜合處理系統(tǒng)，其特征 在于，所述現(xiàn)場立體足跡數(shù)字化綜合處理系統(tǒng)進一步包括立體足跡雕刻還原裝 置，根據(jù)三維點云數(shù)據(jù)雕刻還原立體足跡。
10、 根據(jù)權(quán)利要求6所述的一種現(xiàn)場立體足跡數(shù)字化綜合處理系統(tǒng)，其特 征在于，所述現(xiàn)場立體足跡數(shù)字化綜合處理系統(tǒng)進一步包括立體足跡雕刻還原 裝置，根據(jù)三維點云數(shù)據(jù)雕刻還原立體足跡。
全文摘要
本發(fā)明公開了一種現(xiàn)場立體足跡數(shù)字化綜合處理系統(tǒng)。包括光學投射器、CCD攝像頭、步進電機、支架、計算機；光學投射器、CCD攝像頭、步進電機裝在支架上；光學投射器用于照射立體足跡，進行光學編碼；CCD攝像頭用于采集光學編碼圖像；步進電機用于驅(qū)動光學投射器和CCD攝像頭步進；計算機對CCD攝像頭采集的光學編碼圖像進行數(shù)字圖像分析，得到立體足跡三維點云數(shù)據(jù)。本發(fā)明現(xiàn)場立體足跡數(shù)字化綜合處理系統(tǒng)進一步包括立體足跡三維比對裝置和立體足跡雕刻還原裝置，能夠克服了傳統(tǒng)石膏立體足跡的缺點，實現(xiàn)立體足跡無損提取，為鑒定人員提供更科學方便的鑒定工具，雕刻還原立體足跡。
文檔編號G06T1/00GK101268945SQ20071008724
公開日2008年9月24日 申請日期2007年3月22日 優(yōu)先權(quán)日2007年3月22日
發(fā)明者王靖中 申請人:王靖中