專(zhuān)利名稱(chēng)：觸控面板及其制造方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本案是指一種觸控面板及其制造方法，尤指一種調(diào)整光學(xué)色座標(biāo)值的觸 控面板及其制造方法。
背景技術(shù)：
配置在各種顯示器上的觸控面板，由于其^f吏用的方i"更性，已成為相當(dāng)普
及的技術(shù)，運(yùn)用在諸如手機(jī)、PDA、 ATM、售票系統(tǒng)等裝置。已知的觸控 面板具有多層結(jié)構(gòu)，例如電阻式觸控面板包括透明薄膜或玻璃所成的基材、 鍍于基板上的金屬導(dǎo)電膜(材質(zhì)通常是氧化銦錫)、介于兩導(dǎo)電膜間的點(diǎn)隔 片(Dot Spacer)等，由于材料選用上的限制，加上多層薄膜的層迭，使材 料中的雜質(zhì)或材料本身會(huì)吸收可見(jiàn)光中的藍(lán)紫光，這導(dǎo)致觸控面板結(jié)構(gòu)所呈 現(xiàn)的光學(xué)特性，會(huì)使透過(guò)觸控面板的光線會(huì)有偏黃的現(xiàn)象，也就是一般所說(shuō) 的L*a*b*色彩空間(Lab color space )的b值偏高，如此一來(lái)會(huì)導(dǎo)致顯示器 的畫(huà)面受到影響，造成原顯示畫(huà)面的失真而造成使用者的不便，使制品品質(zhì) 降低。
以往為解決此問(wèn)題，面板制造商需花費(fèi)大量金錢(qián)與時(shí)間，試圖從材料與 制程來(lái)改變觸控面板的光學(xué)特性，搜尋或研發(fā)不易影響透過(guò)光線呈色的方 法。但這樣的方案卻使得產(chǎn)品制造成本過(guò)高，材料受限較大，顯然不利于市 場(chǎng)竟?fàn)帯?br> 因此，申請(qǐng)人鑒于已知技術(shù)中所產(chǎn)生的缺失，經(jīng)過(guò)悉心試驗(yàn)與研究，并 一本鍥而不舍的精神，終構(gòu)思出本案"觸控面板及其制造方法"，能夠克服 上述缺點(diǎn)，以下為本案的簡(jiǎn)要說(shuō)明
發(fā)明內(nèi)容
本案發(fā)明人在反復(fù)思考后提出本發(fā)明的觸控面板及其制造方法。當(dāng)依本 發(fā)明所揭露的制造方法進(jìn)行觸控面板的生產(chǎn)時(shí)，整體的制造過(guò)程只需要控制
一光學(xué)鍍膜的"&*1 *色彩空間(Lab color space )的b值為負(fù)數(shù)，而制造的 觸控面板就能夠維持整體的b值在-0.5 ~ 0.5之間。本發(fā)明所提出的觸控面板 及其制造方法能夠提高生產(chǎn)效能，并降低生產(chǎn)成本。
根據(jù)本發(fā)明的構(gòu)想，提出一種觸控面板，其包括一第一基板； 一第一導(dǎo) 電層，設(shè)于該第一基板上； 一間隔層，設(shè)于該第一導(dǎo)電層上； 一第二導(dǎo)電層， 設(shè)于該間隔層上； 一第二基板，設(shè)于該第二導(dǎo)電層上；及一光學(xué)鍍膜，設(shè)于 該第 一基板與該第 一導(dǎo)電層之間與該第二基板與該第二導(dǎo)電層之間任選其 一，其！^&化*色彩空間(Lab color space )的b《直為負(fù)^:，而該觸控面板的 b值介于國(guó)0.5 ~0.5之間。
較佳地，本發(fā)明所提供的該種觸控面板，其中該第一基板與該第二基板 為一透明絕緣薄膜。
較佳地，本發(fā)明所提供的該種觸控面板，其中該第一導(dǎo)電層與該第二導(dǎo) 電層為一透明導(dǎo)電薄膜。
較佳地，本發(fā)明所提供的該種觸控面板，其中該第一導(dǎo)電層與該第二該 導(dǎo)電層的材質(zhì)是為 一金屬氧化物。
較佳地，本發(fā)明所提供的該種觸控面板，其中該光學(xué)鍍膜的折射率是小 于該第一導(dǎo)電層與第二導(dǎo)電層的折射率。
較佳地，本發(fā)明所提供的該種觸控面板，其中該光學(xué)鍍膜設(shè)于該第一基 板下。
較佳地，本發(fā)明所提供的該種觸控面板，其中該光學(xué)鍍膜設(shè)于該第二基 板上。
較佳地，本發(fā)明所提供的該種觸控面板，其中該光學(xué)鍍膜的材質(zhì)是為一 有機(jī)化合物、 一無(wú)機(jī)化合物及其該有機(jī)化合物與該無(wú)機(jī)化合物所成的一混合 物三者任選其一。
較佳地，本發(fā)明所提供的該種觸控面板，其中該無(wú)機(jī)化合物是為金屬氧化物、金屬氟化物任選其一。
又根據(jù)本發(fā)明的構(gòu)想，提出一種觸控面板的制造方法，其步驟包括提 供一第一基板；形成一第一導(dǎo)電層于該第一基板上；形成一間隔層于該第一 導(dǎo)電層上；形成一第二導(dǎo)電層于該間隔層上；形成一第二基板于該第二導(dǎo)電 層上；及形成1^*3*1 *色彩空間的b值為負(fù)數(shù)的一光學(xué)鍍膜于該第一基板與 該第 一導(dǎo)電層之間與該第二基板與該第二導(dǎo)電層之間任選其一 ，調(diào)整該觸控 面板的b值介于-0.5 ~ 0.5之間。
較佳地，本發(fā)明所提供的該種觸控面板的制造方法，該光學(xué)鍍膜是采用 蒸鍍法、濺鍍法、電鍍法、化學(xué)氣相沉積法、濕式涂布法任選其一。
較佳地，本發(fā)明所提供的該種觸控面板的制造方法，其中該步驟更包括 形成1^^*13*色彩空間的b值為負(fù)數(shù)的一光學(xué)鍍膜于該第一基板下，調(diào)整該 觸控面板的b值介于-0.5 ~ 0.5之間。
較佳地，本發(fā)明所提供的該種觸控面板的制造方法，其中該步驟更包括 形成1/^、*色彩空間的b值為負(fù)數(shù)的一光學(xué)鍍膜于該第二基板上，調(diào)整該 觸控面板的b值介于-0.5 ~ 0.5之間。
又根據(jù)本發(fā)明的構(gòu)想，提出一種觸控面板，其包括一基板； 一導(dǎo)電層， 設(shè)于該基板上；及一光學(xué)鍍膜，設(shè)于該基板與該導(dǎo)電層之間，其1/^*13*色 彩空間的b值為負(fù)數(shù)，而該觸控面板的b值介于-0.5 ~ 0.5之間。
較佳地，本發(fā)明所提供的觸控面板，其中該基板為一透明絕緣薄膜。
較佳地，本發(fā)明所提供的觸控面板，其中該導(dǎo)電層為一透明導(dǎo)電薄膜。
較佳地，本發(fā)明所提供的觸控面板，其中該導(dǎo)電層的材質(zhì)是為一金屬氧 化物。
較佳地，本發(fā)明所提供的觸控面板，其中該光學(xué)鍍膜的折射率是小于該 導(dǎo)電層的折射率。
較佳地，本發(fā)明所提供的觸控面板，其中該光學(xué)鍍膜設(shè)于該基板下。
較佳地，本發(fā)明所提供的觸控面板，其中該光學(xué)鍍膜的材質(zhì)是為一有機(jī) 化合物、 一無(wú)機(jī)化合物及其該有機(jī)化合物與該無(wú)才幾化合物所成的一混合物三者任選其一。
較佳地，本發(fā)明所提供的觸控面板，其中該無(wú)機(jī)化合物是為金屬氧化物、 金屬氟化物任選其一。
又根據(jù)本發(fā)明的構(gòu)想，提出一種觸控面板的制造方法，其步驟包括提供
一基板；形成一導(dǎo)電層于該基板上；及形成1/^*1 *色彩空間的b值為負(fù)數(shù) 的一光學(xué)鍍膜于該基板與該導(dǎo)電層之間，調(diào)整該觸控面板的b值介于-0.5 ~ 0.5之間。
較佳地，本發(fā)明所提供的該種觸控面板的制造方法，其中該光學(xué)鍍膜是 采用蒸鍍法、濺鍍法、電鍍法、化學(xué)氣相沉積法、濕式涂布法任選其一。
較佳地，本發(fā)明所提供的該種觸控面板的制造方法，更包括形成1/^*15* 色彩空間的b值為負(fù)數(shù)的一光學(xué)鍍膜于該基板下，調(diào)整該觸控面板的b值介
于-0.5~0.5之間。
本發(fā)明所提出的觸控面板及其制造方法能夠提高生產(chǎn)效能，并降低生產(chǎn)
成本o


圖1:為本發(fā)明觸控面板的一實(shí)施例的部分結(jié)構(gòu)圖。
具體實(shí)施例方式
本案將可由以下的實(shí)施例說(shuō)明而得到充分了解，使得熟習(xí)本技藝的人士 可以據(jù)以完成，然本案的實(shí)施并非可由下列實(shí)施案例而被限制其實(shí)施型態(tài)。
本案發(fā)明以光學(xué)鍍膜將其L*a*b*色彩空間(Lab color space )中的b值 控制在負(fù)數(shù)，使整個(gè)觸控面板的b值不至于處于過(guò)大的正數(shù)而能趨近于0, 避免觸控面板出現(xiàn)顏色偏黃的現(xiàn)象。因此，該光學(xué)鍍膜需要控制其反射率。 也就是說(shuō)，使光學(xué)鍍膜與相鄰薄膜的折射率間產(chǎn)生高低折射率差，以抑制可 見(jiàn)光中相對(duì)較短波長(zhǎng)的藍(lán)光的反射，以達(dá)到控制b值的效果。
請(qǐng)參閱圖1，其為本案所提出的觸控面板的第一實(shí)施例，該觸控面板1 包括上導(dǎo)電層ll、下導(dǎo)電層12、間隔層13、光學(xué)鍍膜14、上基板16、下基板17。通常上導(dǎo)電層ll、下導(dǎo)電層12以適當(dāng)厚度分別形成于適當(dāng)厚度 的第一上基板16、下基板17，在上導(dǎo)電層11與下導(dǎo)電層12間通常以一般 統(tǒng)稱(chēng)為dot spacer的間隔層13隔開(kāi)，以避免無(wú)觸:J莫時(shí)造成短路而產(chǎn)生誤動(dòng)作。 但在上導(dǎo)電層ll、下導(dǎo)電層12形成于上基板16、下基板17前，可先形成 一光學(xué)鍍膜14于下基板17上，使該光學(xué)鍍膜14的折射率介于下導(dǎo)電層12 的折射率與下基板17的折射率間。
熟悉本領(lǐng)域技藝者當(dāng)知，反射率是波長(zhǎng)、膜層厚度與折射率的函數(shù)，如 果膜層厚度和折射率是確定值，那么反射率就僅僅是波長(zhǎng)的函數(shù)，因此本發(fā) 明的光學(xué)鍍膜需控制其最小反射率波長(zhǎng)，將該光學(xué)鍍膜14的最小反射率波 長(zhǎng)控制在可見(jiàn)光的相對(duì)4交短波長(zhǎng)，即380 500nm的范圍，如此一來(lái)就可以 用光學(xué)鍍膜14抑制藍(lán)光反射，使原本采用習(xí)用材質(zhì)所組成的上導(dǎo)電層11、 下導(dǎo)電層12、間隔層13、上基板16、下基板17等膜層所產(chǎn)生的黃光受到 抑制，進(jìn)而調(diào)整整體觸控面板的b值趨近于O。此外，除了間隔層13以外， 該光學(xué)鍍膜14可存在于該觸控面板中的任何一層，只要能控制膜層高低折 射率差減少藍(lán)光反射即可。
依據(jù)上述觸控面板的構(gòu)想，其制作方法為提供一下基板17，該下基板 17以例如JE皮璃、聚碳酸酯(Polycarbonate)、壓克力(Polymethyl Methacrylate， PMMA)或聚酯塑膠(Poly Ethylene Ter印hthalate， PET)、聚氯乙烯、聚烯烴
(Polyolefm)等透明材質(zhì)以適當(dāng)厚度組成。然后，將光學(xué)鍍膜14以習(xí)用方 式形成于下基板17上。光學(xué)鍍膜14必須為透明不導(dǎo)電材質(zhì)，主要是以有機(jī) 化合物、無(wú)機(jī)化合物或前兩者所成的群組所構(gòu)成。有機(jī)化合物可為環(huán)氧樹(shù)脂
(Epoxy Resin)、聚亞酰胺(Polyimide )、壓克力、聚碳酸酉旨(Polycarbonate )、 聚酯塑膠等材料。無(wú)機(jī)化合物則為氧化釹(Nd203)、氧化鋯(Zr02)、氧 化銦(ln203 )、氧化鈦(TiO,Ti02，Ti203，Ti305 )、氧化鋁(A1203)、氧化 鎂(MgO)、氧化鉿(Hf02)、氧化鈮(Nb205)、氧化鉭(Ta205)、氧化 鋅(ZnO )等金屬氧化物或氟化鎂(MgF2)、氟化鐿(YbF3)、氟化釔(LaF3)、 氟化鏑(DyF3)、氟化釹(NdF3)、氟化鉺(ErF3)、氟化鉀(KF )、氟 化鍶(SrF3)、氟化釤(SmF3)、氟化鈉(NaF )、氟化鋇(BaF2 )、氟化鈰(CeF3)等金屬氟化物材料或硼硅酸鹽類(lèi)材料。上述這些材質(zhì)經(jīng)由適當(dāng)挑 選或以適當(dāng)比例混合而構(gòu)成光學(xué)鍍膜14。
在光學(xué)鍍膜14上，采用蒸鍍、濺鍍、電鍍法、化學(xué)氣相沉積法(Chemical Vapor Deposition, CVD)、濕式涂布法等方法形成一層適當(dāng)厚度的下導(dǎo)電層 12。下導(dǎo)電層12則由例如氧化銦錫(Indium Tin Oxide，ITO)的材質(zhì)所構(gòu)成。 在下導(dǎo)電層12上則形成間隔層13,再將與下導(dǎo)電層12同類(lèi)材質(zhì)的上導(dǎo)電 層11、與下基板17同類(lèi)材質(zhì)的上基板16，以適當(dāng)厚度所制成的觸控面板的 上部分與間隔層13接合，則完成本案所提出的觸控面板1。
在此需要特別強(qiáng)調(diào)，雖然上述實(shí)施例中的觸控面板1為一電阻式觸控面 板，但事實(shí)上本案發(fā)明并不限于電阻式觸控面板，還包括電容式等只要具有 L^化+色彩空間的b值為正數(shù)特征的觸控面板，都屬于本案發(fā)明可適用的范圍。
經(jīng)由以上所揭露的技術(shù)內(nèi)容，能夠以光學(xué)鍍膜的反射率抑制藍(lán)光的反 射，以達(dá)到控制1^^*13*色彩空間的b值的目的，以制成不產(chǎn)生偏黃色彩的 觸控面板，不但能降低材料成本，更可以符合市場(chǎng)需求。
本案實(shí)為一難得一見(jiàn)，值得珍惜的罕見(jiàn)發(fā)明，只是以上所述者，僅為本 發(fā)明的最佳實(shí)施例而已，當(dāng)不能以之限定本發(fā)明所實(shí)施的范圍。即大凡依本 發(fā)明權(quán)利要求范圍所作的均等變化與修飾，皆應(yīng)仍屬于本發(fā)明專(zhuān)利涵蓋的范 圍內(nèi)，謹(jǐn)請(qǐng)貴審查委員明鑒，并祈惠準(zhǔn)，是所至禱。
權(quán)利要求
1.一種觸控面板，其包括一第一基板；一第一導(dǎo)電層，設(shè)于該第一基板上；一間隔層，設(shè)于該第一導(dǎo)電層上；一第二導(dǎo)電層，設(shè)于該間隔層上；一第二基板，設(shè)于該第二導(dǎo)電層上；及一光學(xué)鍍膜，設(shè)于該第一基板與該第一導(dǎo)電層之間與該第二基板與該第二導(dǎo)電層之間任選其一，其L*a*b*色彩空間的b值為負(fù)數(shù)，而該觸控面板的b值介于-0.5～0.5之間。
2. 如權(quán)利要求1所述的觸控面板，其中該第一基板與該第二基板為一 透明絕緣薄膜。
3. 如權(quán)利要求1所述的觸控面板，其中 該第一導(dǎo)電層與該第二導(dǎo)電層為一透明導(dǎo)電薄膜；及/或 該第一導(dǎo)電層與該第二該導(dǎo)電層的材質(zhì)是為一金屬氧化物。
4. 如權(quán)利要求1所述的觸控面板，其中該光學(xué)鍍膜的最小反射率波長(zhǎng) 在380 500nm的范圍內(nèi)。
5. 如權(quán)利要求1所述的觸控面板，其中 該光學(xué)鍍膜設(shè)于該第一基板下；或 該光學(xué)鍍膜設(shè)于該第二基板上。
6. 如權(quán)利要求1所述的觸控面板，其中該光學(xué)鍍膜的材質(zhì)是為一有機(jī) 化合物、 一無(wú)機(jī)化合物及其該有機(jī)化合物與該無(wú)才幾化合物所成的一混合物三 者任選其一，而該無(wú)機(jī)化合物是為金屬氧化物、金屬氟化物任選其一。
7. —種觸控面板的制造方法，其步驟包括(a) 提供一第一基板；(b) 形成一第一導(dǎo)電層于該第一基板上；(c) 形成一間隔層于該第一導(dǎo)電層上；(d) 形成一第二導(dǎo)電層于該間隔層上；(e) 形成一第二基板于該第二導(dǎo)電層上；及(f) 形成1/^化*色彩空間的b值為負(fù)數(shù)的一光學(xué)鍍膜于該第一基板與該 第一導(dǎo)電層之間與該第二基板與該第二導(dǎo)電層之間任選其一，調(diào)整該觸控面 板的b值介于-0.5 ~ 0.5之間。
8. 如權(quán)利要求7所述的方法，其中該光學(xué)鍍膜是采用蒸鍍法、濺鍍法、 電鍍法、化學(xué)氣相沉積法、濕式涂布法任選其一。
9. 如權(quán)利要求8所述的方法，其中步驟(f)更包括形成1/^*15*色彩空間的b值為負(fù)數(shù)的一光學(xué)鍍膜于該第 一基板下，調(diào)整該觸控面板的b值介于-0.5 0.5之間；或步驟(f)更包括形成1^^*15*色彩空間的b值為負(fù)數(shù)的一光學(xué)鍍膜于該第 二基板上，調(diào)整該觸控面板的b值介于-0.5 ~ 0.5之間。
10. —種觸控面板，其包括 一基板；一導(dǎo)電層，設(shè)于該基板上；及一光學(xué)鍍膜，設(shè)于該基板與該導(dǎo)電層之間，其1^^*13*色彩空間的b值 為負(fù)數(shù)，而該觸控面板的b值介于-0.5 0.5之間。
11. 一種觸控面板的制造方法，其步驟包括(a) 提供一基板；(b) 形成一導(dǎo)電層于該基板上；及(c) 形成1^a化+色彩空間的b值為負(fù)數(shù)的一光學(xué)鍍膜于該基板與該導(dǎo)電 層之間，調(diào)整該觸控面板的b值介于-0.5 ~ 0.5之間。
全文摘要
本發(fā)明提出一種觸控面板及其制造方法。其制造過(guò)程只需要控制一光學(xué)鍍膜的L^*a^*b^*色彩空間(Lab color space)的b值為負(fù)數(shù)，而制造的觸控面板就能夠維持整體的b值在-0.5～0.5之間，使觸控面板的呈色維持在理想狀態(tài)。
文檔編號(hào)G06F3/041GK101661345SQ20081014681
公開(kāi)日2010年3月3日 申請(qǐng)日期2008年8月25日 優(yōu)先權(quán)日2008年8月25日
發(fā)明者曾馨賢 申請(qǐng)人:時(shí)緯科技股份有限公司