專利名稱：觸摸面板的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本實用新型涉及一種信息輸入技術(shù)，尤其是一種用于信息輸入的觸摸面板。
背景技術(shù)：
觸摸技術(shù)的出現(xiàn)，使信息輸入方式不在局限于傳統(tǒng)的鍵盤和鼠標。近年來，由于 使用觸摸輸入技術(shù)可以使電子設備中原本用于制作傳統(tǒng)鍵盤或輸入鍵的位置，用于制成屏 幕顯示區(qū)域，使電子設備具有更寬更大的屏幕用于顯示如文字、圖片、視頻等信息，進而使 觸摸技術(shù)取得了飛速發(fā)展。目前，觸摸面板被廣泛應用于人們的日常生活之中，其中，觸摸 面板比較典型地應用于手機、音樂視頻播放器(MP3/MP4等)、個人數(shù)字助理、全球定位系統(tǒng) (GPS)、社會公共服務機構(gòu)及大型公共場所的導航系統(tǒng)、金融機構(gòu)及其他以大眾為客戶的企 業(yè)的自助服務系統(tǒng)、個人掌上電腦等電子設備中。觸摸面板根據(jù)感測的原理不同可分為電阻式觸摸面板、電容式觸摸面板、超聲波 式觸摸面板以及紅外線式觸摸面板。其中，紅外線式觸摸面板和超聲波式觸摸面板是在觸摸面板的X軸方向和Y軸方 向的一側(cè)設置紅外線或超聲波的發(fā)射源，并在另一側(cè)設置接收器，當用戶接觸面板時，會干 擾到所述紅外線或超聲波，通過測量和計算受到干擾的位置，確定觸摸位置的坐標，并完成 對應的輸入動作。然而，紅外線式觸摸面板和超聲波式觸摸面板所發(fā)出的紅外線或超聲波 容易因外界環(huán)境的干擾，如外界物質(zhì)出現(xiàn)在紅外線或超聲波經(jīng)過的區(qū)域而影響觸控面板的 感測和判斷，進而可能出現(xiàn)誤動作或誤操作。電阻式觸摸面板由上下兩組透明導電膜(ΙΤ0，Indium Tin Oxide，氧化銦錫膜) 疊合而成，所述的透明導電膜包括多個電極。當用戶觸摸面板時，所述觸控面板受用戶施加 的壓力，使上下兩組透明導電膜上觸摸位置對應處的上下電極導通，通過控制器感測面板 上的電壓變化，計算出觸摸點的位置，并完成相應輸入操作。電阻式觸摸面板相對于上述紅 外線式觸摸面板和超聲波式觸摸面板而言，受外界環(huán)境的影響較??；但是電阻式觸摸面板 經(jīng)常被擠壓，容易發(fā)生形變甚至斷裂，使所述觸控面板的觸控靈敏度下降，甚至喪失觸控功 能。電容式觸摸面板則是通過感測用戶觸摸點的電容變化來確定實際觸摸點的位置， 進而完成對應的輸入操作。所述電容式觸摸面板相對于上述電阻式觸摸面板來說，觸摸面 板不需被擠壓，只需輕輕觸摸即可，因此，不會出現(xiàn)如電阻式觸摸面板中出現(xiàn)的靈敏度下降 的問題。傳統(tǒng)的電容式觸摸面板通常包括觸控電路，利用濺鍍、涂膠、曝光、顯影、刻蝕等一 系列處理工藝，將透明導電材料如氧化銦錫(Indium Tin Oxide, IT0)依次設置于透明玻璃 基板的正對的兩側(cè)表面上，形成觸控板。所述觸控板包括形成于上述透明玻璃基板頂面的 上層導電膜和形成于上述透明玻璃基板底面的下層導電膜。因此，可以利用上層導電膜和 下層導電膜與人體之間產(chǎn)生的電容效應，檢測實際觸摸點的位置坐標。所述觸控電路的制作方式，傳統(tǒng)上是在所述透明玻璃基板的頂面和底面分別真空濺鍍一上層導電基材和一下層導電基材，并在所述上層導電基材表面涂布一上光阻層，同 時在所述下層導電基材上涂布一保護層；使用具有鏤空電路圖樣的掩模板覆蓋在所述上光 阻層上方，并使用紫外線光通過所述掩模板對所述上光阻層進行曝光。在完成曝光后，在所 述上光阻層表面分布顯影劑，對所述上光阻層進行顯影，并促使所述上層導電基材裸露出 一待接受刻蝕的區(qū)域。將所述上層導電基材裸露出的區(qū)域刻蝕劑以進行刻蝕，使所述上層 導電基材形成所述上層導電膜，并去除所述上層導電膜表面殘余的上光阻層，以及所述下 層導電基材表面的保護層。在所述下層導電基材上附著一層下光阻層，同時在所述上層導 電膜上涂布一層保護層。使用另一具有鏤空電路圖案的掩模板覆蓋在所述下光阻層上方， 并利用所述上層導電膜作為掩模板，根據(jù)上光阻層的對位基準設定位于所述下光阻層上方 的掩模板，使用紫外線光通過所述具有鏤空電路圖案的掩模板對所述下光阻層進行曝光。 在完成曝光后，在所述下光阻層表面分布顯影劑，對所述下光阻層進行顯影，并促使所述下 層導電基材裸露出一待接受刻蝕的區(qū)域。將所述下層導電基材裸露出的區(qū)域刻蝕劑以進行 刻蝕，使所述下層導電基材形成所述下層導電膜，并去除所述下層導電膜表面殘余的上光 阻層，以及所述上層導電膜表面的保護層。然而上述電容式觸控面板的制作工藝中，需要先在透明玻璃基板的頂面形成上層 導電膜，然后在保護好上層導電膜后才可形成下層導電膜，即所述電容式觸控面板的制作 需要先后經(jīng)歷多次附著及去除光阻層和保護層的步驟，客觀上增加了制作所述觸控面板的 工藝復雜度，同時也增加了制作所述觸控面板所需的時間，降低了所述觸控面板的生產(chǎn)效率。

實用新型內(nèi)容有鑒于此，有必要提供一種生產(chǎn)工藝簡單、便于提高生產(chǎn)效率的觸摸面板。一種觸摸面板包括基板、第一電極層以及第二電極層，所述基板包括第一表面和 第二表面，所述第一表面和第二表面正對；所述第一電極層形成于所述基板的所述第一表 面上，且所述第一電極層包括多條X軸線跡，所述多條X軸線跡之間相互平行間隔分布；所 述第二電極層形成于所述基板的所述第二表面上，且所述第二電極層包括多條Y軸線跡， 所述多條Y軸線跡之間相互平行間隔分布，并與所述第一電極層的所述多條X軸線跡形成 異面相交，所述多條Y軸線跡與所述多條X軸線跡之間形成圖案互補，所述第一電極層為結(jié) 晶透明導電膜，第二電極層為非晶透明導電膜在230攝氏度至280攝氏度之間的溫度下退 火形成的結(jié)晶透明導電膜。本實用新型所述的觸摸面板中，該第一電極層包括透明導電材料，所述透明導電 材料通過磁控濺射的方式在所述基板的第一表面形成結(jié)晶透明導電膜，所述透明導電膜依 次經(jīng)過涂膠、曝光、顯影、刻蝕工藝形成所述第一電極層。本實用新型所述的觸摸面板中，所述第二電極層包括透明導電材料，所述透明導 電材料通過磁控濺射的方式在所述基板的第二表面形成非晶透明導電膜，所述非晶透明導 電膜依次經(jīng)涂膠、曝光、顯影、刻蝕、退火工藝形成結(jié)晶的所述第二電極層。本實用新型所述的觸摸面板中，該透明導電材料可以是透明導電氧化物。本實用 新型所述的觸摸面板中，所述退火工藝所需的溫度在230攝氏度至280攝氏度之間。本實用新型通過在透明基板的兩個相對的表面分別鍍上結(jié)晶透明導電膜和非晶透明導電膜，并在所述觸摸面板制作過程中，先制作所述結(jié)晶透明導電膜，然后制作所述非 晶透明導電膜，且制作所述非晶透明導電膜時不需要對所述結(jié)晶透明導電膜進行保護，然 后將所述非晶透明導電膜經(jīng)退火工藝形成結(jié)晶的所述第二電極層，在保證所述觸摸面板質(zhì) 量的同時簡化了所述觸摸面板的制作工藝，降低了工藝復雜度，有利于提高所述觸摸面板 的生產(chǎn)效率。

下面將結(jié)合附圖及實施例對本實用新型作進一步說明，附圖中圖1為本實用新型提供的觸摸面板的俯視圖。圖2為圖1所示的觸摸面板的截面示意圖。圖3A-3H為圖1所示的觸摸面板的制造流程示意圖。
具體實施方式
為了克服現(xiàn)有技術(shù)中的觸摸面板的生產(chǎn)工藝復雜、生產(chǎn)效率較低的問題，本實用 新型通過在透明基板的兩個相對的表面分別鍍上結(jié)晶透明導電膜和非晶透明導電膜，并在 所述觸摸面板制作過程中，先制作所述結(jié)晶透明導電膜，然后制作所述非晶透明導電膜，且 制作所述非晶透明導電膜時不需要對所述結(jié)晶透明導電膜進行保護，然后將所述非晶透明 導電膜經(jīng)退火工藝形成結(jié)晶的所述第二電極層，在保證所述觸摸面板質(zhì)量的同時簡化了所 述觸摸面板的制作工藝，降低了工藝復雜度，有利于提高所述觸摸面板的生產(chǎn)效率。以下結(jié)合說明書附圖對本實用新型提供的觸摸面板進行詳細說明。請同時參閱說明書附圖1和圖2，其為分別為本實用新型提供的的觸摸面板的俯 視圖和A-A向剖視圖。所述觸摸面板100包括基板110、第一電極層120以及第二電極層 130。所述基板110包括第一表面111和第二表面113，且所述第一表面111與所述第二表 面113正對。所述基板110可以由透明材質(zhì)制作而成，且所述透明材質(zhì)可以是玻璃或樹脂， 即所述基板110可以是透明玻璃基板或透明樹脂基板。所述第一電極層120形成于所述基板110的第一表面111上，且所述第一電極層 120包括多條X軸跡線121，所述多條X軸跡線121相互平行間隔分布。所述第二電極層130 形成于所述基板110的第二表面113上，且所述第二電極層130包括多條Y軸跡線131，所 述多條Y軸跡線131相互平行間隔分布。所述多條X軸跡線121與所述多條Y軸跡線131 之間形成圖案互補，且所述多條X軸跡線121和所述多條Y軸跡線131之間異面相交。請同時參閱圖3A至3H，其為所述觸摸面板100的制作流程示意圖。所述第一電極 層120由透明導電材料構(gòu)成，該透明導電材料可以但不限于通過磁控濺射方式形成于該基 板110的第一表面111，形成透明導電膜(圖3A)。該透明導電膜依次經(jīng)過涂膠(圖3B)、曝 光、顯影(圖3C)、刻蝕(圖3D)工藝形成所述第一電極層120。該透明導電材料可以但不 限于透明氧化物，如氧化銦錫、氧化銦鋅，該透明導電膜為結(jié)晶狀態(tài)，其刻蝕需要的刻蝕劑 包括強酸。所述第二電極層130由透明導電材料構(gòu)成，所述透明導電材料可以但不限于通過 磁控濺射方式形成于所述基板Iio的第二表面113，形成非晶透明導電膜(圖3E)，所述透 明導電材料可以但不限于透明氧化物，如氧化銦錫、氧化銦鋅等。所述非晶透明導電膜依次經(jīng)涂膠(圖3F)、曝光、顯影(圖3G)、刻蝕(圖3H)、退火工藝形成結(jié)晶的所述第二電極 層130。所述非晶透明導電膜曝光需要的掩模板上的圖案與上述透明導電膜曝光需要的掩 模板上的圖案形成圖形互補。所述非晶透明導電膜刻蝕需要的刻蝕劑為弱酸，其對已經(jīng)形 成的上述結(jié)晶的透明導電膜的刻蝕非常微弱，幾乎可以忽略。因此，在進行非晶透明導電膜 的形成過程中，并不需要對上述第一電極層120進行保護，節(jié)省傳統(tǒng)技術(shù)中需要的多次涂 覆和去除保護層的工藝，簡化了生產(chǎn)工藝，提高了生產(chǎn)效率，有利于企業(yè)提升競爭力。另外， 所述非晶透明導電膜在溫度為230攝氏度至280攝氏度之間退火形成結(jié)晶的所述第二電極 層130，使所述第二電極層130具有結(jié)晶透明導電膜的穩(wěn)定性質(zhì)，有利于保持所述觸摸面板 100的質(zhì)量。
權(quán)利要求1.一種觸摸面板，包括基板、第一電極層以及第二電極層，所述基板包括第一表面和第 二表面，所述第一表面和第二表面正對；所述第一電極層形成于所述基板的所述第一表面 上，且所述第一電極層包括多條X軸線跡，所述多條X軸線跡之間相互平行間隔分布；所述 第二電極層形成于所述基板的所述第二表面上，且所述第二電極層包括多條Y軸線跡，所 述多條Y軸線跡之間相互平行間隔分布，并與所述第一電極層的所述多條X軸線跡形成異 面相交，所述多條Y軸線跡與所述多條X軸線跡之間形成圖案互補，其特征在于所述第一 電極層為結(jié)晶透明導電膜，第二電極層為非晶透明導電膜形成的結(jié)晶透明導電膜。
2.如權(quán)利要求1所述的觸摸面板，其特征在于所述第一電極層包括透明導電材料，所 述透明導電材料在所述基板的第一表面形成結(jié)晶透明導電膜，所述透明導電膜形成所述第 一電極層。
3.如權(quán)利要求1所述的觸摸面板，其特征在于所述第二電極層包括透明導電材料，所 述透明導電材料在所述基板的第二表面形成非晶透明導電膜，所述非晶透明導電膜形成結(jié) 晶的所述第二電極層。
4.如權(quán)利要求2或3所述的觸摸面板，其特征在于所述透明導電材料可以是透明導 電氧化物。
專利摘要本實用新型涉及一種信息輸入技術(shù)，尤其涉及一種觸摸面板。該觸摸面板包括基板、第一電極層以及第二電極層。該基板包括第一表面和與該第一表面正對的第二表面。該第一電極層和第二電極層分別形成于該基板的第一表面和第二表面上。該第一電極層為結(jié)晶透明導電膜，第二電極層為非晶透明導電膜形成的結(jié)晶透明導電膜。
文檔編號G06F3/041GK201788487SQ20092026171
公開日2011年4月6日 申請日期2009年12月18日 優(yōu)先權(quán)日2009年12月18日
發(fā)明者商陸平, 朱澤力, 李紹宗, 王士敏 申請人:深圳萊寶高科技股份有限公司