專利名稱：電容觸摸屏的邊緣處理方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及一種電容觸摸屏的制造方法，尤其涉及一種電容觸摸屏的邊緣處理方法。
背景技術(shù)：
近年來，隨著信息技術(shù)、無線行動通訊和信息家電的快速發(fā)展與應(yīng)用，人們對電子 產(chǎn)品的依賴性與日俱增。為了達到更便利，體積更輕巧化以及更人性化的目的，許多信息產(chǎn) 品已由傳統(tǒng)的鍵盤或鼠標作為輸入裝置，轉(zhuǎn)變?yōu)槭褂迷O(shè)置在顯示屏幕前的電容觸摸屏作為 輸入裝置。其中，投射電容式的電容觸摸屏具有透過率高、觸摸施壓不必用力、可以抵御惡 劣的外界環(huán)境的優(yōu)點，工作時還可以實現(xiàn)多個觸摸點的同時探測，具有良好的應(yīng)用前景。電容觸摸屏一般包含一個玻璃板質(zhì)的外面板，外面板的外側(cè)即可觸摸面。電容觸 摸屏還包括多個設(shè)置在外面板內(nèi)側(cè)的透明感應(yīng)電極，一般來說，可以采用以下幾種結(jié)構(gòu)第 一種結(jié)構(gòu)、將感應(yīng)電極設(shè)置在另外一片玻璃基板上形成內(nèi)面板，再將內(nèi)面板與外面板貼合 構(gòu)成的觸摸屏；第二種結(jié)構(gòu)、為了方便感應(yīng)電極的交叉走線，將部分感應(yīng)電極設(shè)置在外面板 內(nèi)側(cè)、部分感應(yīng)電極設(shè)置在內(nèi)面板外側(cè)，最終貼合形成的觸摸屏；第三種結(jié)構(gòu)、為了實現(xiàn)觸 摸屏的輕薄化，將感應(yīng)電極直接設(shè)置在外面板內(nèi)側(cè)，形成單片式的觸摸屏。上述外面板不僅對感應(yīng)電極起到容性隔離和保護作用，而且還構(gòu)成了觸摸屏的主 要邊緣輪廓，因而外面板的邊緣區(qū)域一般需要通過切割、開孔等方法加工為各種較為復(fù)雜 的彎曲輪廓，并且還要求外面板的邊緣為圓滑形狀，如圖1至圖3所示。按照現(xiàn)有工藝，上述外面板的彎曲輪廓需要采用磨邊、拋光的方法進行加工，由于 機械加工采用了硬質(zhì)的磨具、拋光具，難以使得外面板的邊緣具有足夠圓滑的形狀。另外， 機械加工容易造成邊緣的破裂，造成生產(chǎn)良率的降低，而且不能夠?qū)σ恍┻吘壿^為細小、厚 度較薄的外面板進行加工。另外，現(xiàn)有的電容屏，在成品之后，一般還需要通過另外的加工步驟，形成抗反射 光層和抗指紋涂層，增加的加工的步驟和加工成本。

發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明所要解決的技術(shù)問題是提供一種電容觸摸屏的邊緣處理方法，通過該處理 方法，使得電容觸摸屏外面板的邊緣具有更加圓滑的形狀，而且可以提高其加工良率，并且 該處理方法適合一些較薄外面板的加工。采用的技術(shù)方案如下電容觸摸屏的邊緣處理方法，其特征是包括如下步驟步驟一、在外面板內(nèi)側(cè)形成內(nèi)保護層；步驟二、在外面板外側(cè)形成外保護層；步驟三、采用磨具，磨去處于外面板內(nèi)、外側(cè)邊緣區(qū)域的內(nèi)保護層和外保護層，形 成露出區(qū)域；
步驟四、采用玻璃蝕刻液進行蝕刻，蝕刻掉部分處于露出區(qū)域的外面板板質(zhì)，通過 控制蝕刻量，使外面板的邊緣為圓滑形狀。為達到更加圓滑的目的，作為本發(fā)明的優(yōu)選方案，所述步驟三中，磨去處于外面板 內(nèi)、外側(cè)邊緣區(qū)域的內(nèi)保護層和外保護層時，使內(nèi)保護層和外保護層到露出區(qū)域之間分別 形成斜面。一般可采用縱截面為錐形的磨具對內(nèi)保護層和外保護層進行研磨，而使內(nèi)保護 層和外保護層到露出區(qū)域之間分別形成斜面。斜面使得外面板板質(zhì)圓滑形狀的邊緣到內(nèi)保 護層和外保護層均平滑過渡，使得整體更加圓滑。為達到減少對外面板材質(zhì)的蝕刻時間的目的，作為本發(fā)明的優(yōu)選方案，所述步驟 三中，磨具磨去內(nèi)保護層和外保護層的同時，進一步磨去露出區(qū)域的部分外面板板質(zhì)，形成 預(yù)蝕刻形狀。可以僅僅采用磨具磨去內(nèi)保護層和外保護層，形成外面板的露出區(qū)域，但這樣 對外面板板質(zhì)的蝕刻需花較長的時間。而在磨具磨去內(nèi)保護層和外保護層的同時，進一步 磨去露出區(qū)域的部分外面板板質(zhì)，形成預(yù)蝕刻形狀，通過控制預(yù)蝕刻形狀的長度、預(yù)蝕刻形 狀突出部分的傾斜程度，及進行突出部分的上下不對稱處理等方式，來控制最終形成的輪 廓，初步形成外面板的邊緣輪廓，在蝕刻時，僅對少量的外面板進行蝕刻，大大減少對外面 板材質(zhì)的蝕刻時間。為達到優(yōu)化制作工藝的目的，作為本發(fā)明進一步的優(yōu)選方案，所述步驟一中，形成 內(nèi)保護層是通過采用有機樹脂涂布在外面板內(nèi)側(cè)形成的。有機樹脂可采用涂布的方式形成 膜層，在不想保留的情況下容易褪去，在想保留的情況下，其透明、絕緣的特點可作為電容 觸摸屏的一個層。為了達到使保留的內(nèi)保護層具有減少反射光的作用，作為本發(fā)明更進一步的優(yōu)選 方案，所述步驟一中，形成內(nèi)保護層的有機樹脂的熱融化溫度為150-200°C之間，內(nèi)保護層 的折射率介于電極材料與空氣之間，內(nèi)保護層的厚度為1-5μπι。對于采用第一、二結(jié)構(gòu)的電 容觸摸屏，上述處理方法可以在外面板與內(nèi)面板貼合之前進行，其在完成上述步驟之后，通 過褪膜工藝將內(nèi)保護層褪掉，此情況下，內(nèi)保護層由普通有機樹脂形成就可以，內(nèi)保護層的 折射率及厚度都沒有特殊要求，節(jié)省了制造成本。而對于第三結(jié)構(gòu)的電容觸摸屏，上述處理 方法在將感應(yīng)電極制作在外面板內(nèi)側(cè)后進行，并且可以在選擇內(nèi)保護層的透光率較高的情 況下，不將內(nèi)保護層褪去，優(yōu)選內(nèi)保護層的折射率介于電極材料(例如氧化銦錫，ΙΤ0)與空 氣之間，使得內(nèi)保護層保留在最終產(chǎn)品中，具有減少內(nèi)側(cè)反射光的作用，在該情況下，內(nèi)保 護層的厚度為l_5ym最為合適；將制作內(nèi)保護層的有機樹脂材料優(yōu)選為具有較低的熔化 溫度，熱融化溫度為150-200°C之間，使得可以通過激光等熱方法去除其部分膜層，露出其 內(nèi)部線路需要外接部分，而且不影響到內(nèi)部結(jié)構(gòu)。為達到優(yōu)化制作工藝的目的，作為本發(fā)明進一步的優(yōu)選方案，所述步驟二中，形成 外保護層是通過采用有機樹脂涂布在外面板外側(cè)形成的。有機樹脂可采用涂布的方式形成 膜層，在不想保留的情況下容易褪去，在想保留的情況下，其透明、絕緣的特點可作為電容 觸摸屏的一個層。為了達到使保留的外保護層具有抗指紋的作用，作為本發(fā)明進一步的另一種優(yōu)選 方案，所述步驟二中，所述外保護層是采用含氟聚合物，通過蒸鍍的方式附著在外面板外側(cè) 形成的；外保護層的厚度為20-100nm ；并且在最終產(chǎn)品中保留該含氟聚合物的外保護層。 通過優(yōu)選外保護層采用含氟聚合物，更優(yōu)選為聚四氟乙烯，并通蒸鍍的方式附著在外面板的外側(cè)，并將外保護層的厚度優(yōu)選為20-100nm，在最終產(chǎn)品中保留外保護層，含氟聚合物的 外保護層不僅可以防止玻璃蝕刻液蝕刻非邊緣區(qū)域，而且最終保留在產(chǎn)品中，具有抗指紋 的作用。為了達到更好的蝕刻效果的目的，作為本發(fā)明進一步的優(yōu)選方案，所述步驟四中， 所采用的蝕刻液為氫氟酸，氫氟酸的濃度處于8-15%之間。蝕刻的方法可以是蝕刻液浸泡、 蝕刻液噴淋等，通過氫氟酸的濃度控制，可以控制蝕刻的速度。并且，氫氟酸難以與含氟聚 合物進行反應(yīng)，因而不會對含氟聚合物的外保護層構(gòu)成破壞，保證了最終保留在產(chǎn)品中的 外保護層的耐磨性。本發(fā)明的電容觸摸屏的邊緣處理方法，通過在外面板內(nèi)、外側(cè)分別形成內(nèi)保護層 和外保護層，接著采用磨具，磨去處于外面板內(nèi)、外側(cè)邊緣區(qū)域的內(nèi)保護層和外保護層，形 成外面板的露出區(qū)域；再采用玻璃蝕刻液進行蝕刻，蝕刻掉部分處于露出區(qū)域的外面板板 質(zhì)，通過控制蝕刻量，使外面板的邊緣為圓滑形狀。通過這樣的處理方法使得電容觸摸屏外 面板的邊緣具有更加圓滑的形狀，而且可以提高其加工良率，并且該處理方法適合一些較 薄外面板的加工。并且，該方法中的內(nèi)保護層、外保護層可以分別作為抗反射光層和抗指紋 涂層保留在最終產(chǎn)品中，節(jié)省了相關(guān)的加工步驟。


圖1是電容觸摸屏的外形示意2是圖1沿A-A的截面圖，表示外面板的邊緣為圓滑形狀圖3是圖1沿A-A的截面圖，表示外面板的邊緣帶有凸出的棱角圖4是第一種優(yōu)選實施方式在外面板的內(nèi)、外側(cè)形成內(nèi)保護層和外保護層的示意 5是第一種優(yōu)選實施方式磨去部分內(nèi)保護層和外保護層形成露出區(qū)域的示意 6是第一種優(yōu)選實施方式蝕刻掉部分處于露出區(qū)域的外面板的板質(zhì)的示意7是第一種優(yōu)選實施方式外面板的邊緣形成圓滑形狀的示意8是優(yōu)選實施方式二中形成預(yù)蝕刻形狀的示意9是優(yōu)選實施方式二中對預(yù)蝕刻形狀進行蝕刻后形成圓滑形狀的示意10是選實施方式二中預(yù)蝕刻形狀為突出傾斜形狀的示意11是選實施方式二中預(yù)蝕刻形狀為上下不對稱形狀的示意圖
具體實施例方式下面結(jié)合附圖和本發(fā)明的優(yōu)選實施方式做進一步的說明。實施方式一(對于所有結(jié)構(gòu)的電容觸摸屏)這種電容觸摸屏的邊緣處理方法，其特征是包括如下步驟步驟一、如圖4所示，采用有機樹脂涂布在外面板1內(nèi)側(cè)，形成內(nèi)保護層2 ；形成內(nèi) 保護層2的有機樹脂的熱融化溫度為150-200°C之間，內(nèi)保護層2的折射率介于電極材料與 空氣之間，內(nèi)保護層2的厚度為1-5 μ m。步驟二、如圖4所示，采用有機樹脂涂布在外面板1外側(cè)，形成外保護層3 ；并將外保護層3的厚度設(shè)為20-100nm。步驟三、如圖5所示，采用縱截面為錐形的磨具4，磨去處于外面板1內(nèi)、外側(cè)邊緣 區(qū)域的內(nèi)保護層2和外保護層3，形成露出區(qū)域5，使內(nèi)保護層2和外保護層3到露出區(qū)域 5之間分別形成斜面6。步驟四、如圖6所示采用濃度為8-15%的氫氟酸作為玻璃蝕刻液進行蝕刻，蝕刻 掉部分處于露出區(qū)域5的外面板1的板質(zhì)7，如圖7所示，通過控制蝕刻量，使外面板1的邊 緣為圓滑形狀8。通過上述方法對電容觸摸屏的邊緣進行處理后，內(nèi)保護層2、外面板1和外保護層 3的邊緣形成圓滑的形狀，并且內(nèi)保護層2留在最終產(chǎn)品中，具有減少內(nèi)側(cè)反射光的作用。實施方式二(對于所有結(jié)構(gòu)的電容觸摸屏)如圖8所示，在其它步驟與實施方式一相同的情況下，在步驟三磨去處于外面板1 內(nèi)、外側(cè)邊緣區(qū)域的內(nèi)保護層2和外保護層3的同時，進一步磨去露出區(qū)域5的部分外面板 1板質(zhì)7，形成預(yù)蝕刻形狀9，進一步蝕刻為如圖9所示的圓滑形狀8。預(yù)蝕刻形狀9可以是 如圖10的突出傾斜形狀10，也可以是如圖11所示的上下不對稱形狀12。實施方式三(對于第一、第二種結(jié)構(gòu)的電容觸摸屏)本實施方式主要針對第一、第二種結(jié)構(gòu)的電容觸摸屏，為了節(jié)省成本，在其它步驟 與實施方式一或?qū)嵤┓绞蕉嗤那闆r下，其區(qū)別在于在步驟一和步驟二中，內(nèi)保護層和 外保護層均采用普通的有機樹脂，而且無需對內(nèi)保護層和外保護層的厚度進行限定，并且 在步驟四完成之后，采用褪膜工藝將內(nèi)保護層和外保護層褪去。實施方式四(對于所有結(jié)構(gòu)的電容觸摸屏)如圖4所示，在其它步驟與實施方式一或?qū)嵤┓绞蕉嗤那闆r下，其區(qū)別在于 在步驟二中，采用聚四氟乙烯通過蒸鍍的方式附著在外面板1的外側(cè)，形成外保護層3，并 將外保護層3的厚度設(shè)置為20-100nm，并且在最終產(chǎn)品中保留該用聚四氟乙烯形成的外保 護層3。這種用用聚四氟乙烯形成的外保護層3不僅起到保護外面板的作用，防止外面板被 磨損而失去光澤，更重要的是這種用聚四氟乙烯形成的外保護層3還具有抗指紋的功能， 防止了手指按壓觸摸屏后在觸摸屏上留下指紋。
權(quán)利要求
1.電容觸摸屏的邊緣處理方法，其特征是包括如下步驟步驟一、在外面板內(nèi)側(cè)形成內(nèi)保護層；步驟二、在外面板外側(cè)形成外保護層；步驟三、采用磨具，磨去處于外面板內(nèi)、外側(cè)邊緣區(qū)域的內(nèi)保護層和外保護層，形成露 出區(qū)域；步驟四、采用玻璃蝕刻液進行蝕刻，蝕刻掉部分處于露出區(qū)域的外面板板質(zhì)，通過控制 蝕刻量，使外面板的邊緣為圓滑形狀。
2.如權(quán)利要求1所述的電容觸摸屏的邊緣處理方法，其特征是所述步驟三中，磨去處 于外面板內(nèi)、外側(cè)邊緣區(qū)域的內(nèi)保護層和外保護層時，使內(nèi)保護層和外保護層到露出區(qū)域 之間分別形成斜面。
3.如權(quán)利要求1或2所述的電容觸摸屏的邊緣處理方法，其特征是所述步驟三中，磨 具磨去內(nèi)保護層和外保護層的同時，進一步磨去露出區(qū)域的部分外面板板質(zhì)，形成預(yù)蝕刻 形狀。
4.如權(quán)利要求1或2或3所述的電容觸摸屏的邊緣處理方法，其特征是所述步驟一 中，形成內(nèi)保護層是通過采用有機樹脂涂布在外面板內(nèi)側(cè)形成的。
5.如權(quán)利要求4所述的電容觸摸屏的邊緣處理方法，其特征是所述步驟一中，形成內(nèi) 保護層的有機樹脂的熱融化溫度為150-200°C之間，內(nèi)保護層的折射率介于電極材料與空 氣之間，內(nèi)保護層的厚度為1-5 μ m。
6.如權(quán)利要求1或2或3所述的電容觸摸屏的邊緣處理方法，其特征是所述步驟二 中，形成外保護層是通過采用有機樹脂涂布在外面板外側(cè)形成的。
7.如權(quán)利要求1或2或3所述的電容觸摸屏的邊緣處理方法，其特征是所述步驟二 中，所述外保護層是采用含氟聚合物，通過蒸鍍的方式附著在外面板外側(cè)形成的；外保護層 的厚度為20-100nm ；并且在最終產(chǎn)品中保留該含氟聚合物的外保護層。
8.如權(quán)利要求7所述的電容觸摸屏的邊緣處理方法，其特征是所述含氟聚合物為聚 四氟乙烯。
9.如權(quán)利要求1所述的電容觸摸屏的邊緣處理方法，其特征是所述步驟四中，所采用 的蝕刻液為氫氟酸，氫氟酸的濃度處于8-15%之間。
全文摘要
本發(fā)明涉及一種電容觸摸屏的邊緣處理方法，通過在外面板內(nèi)、外側(cè)分別形成內(nèi)保護層和外保護層，接著采用磨具，磨去處于外面板內(nèi)、外側(cè)邊緣區(qū)域的內(nèi)保護層和外保護層，形成外面板的露出區(qū)域；再采用玻璃蝕刻液進行蝕刻，蝕刻掉部分處于露出區(qū)域的外面板板質(zhì)，通過控制蝕刻量，使外面板的邊緣為圓滑形狀。通過這樣的處理方法使得電容觸摸屏外面板的邊緣具有更加圓滑的形狀，而且可以提高其加工良率，并且該處理方法適合一些較薄外面板的加工。并且，該方法中的內(nèi)保護層、外保護層可以分別作為抗反射光層和抗指紋涂層保留在最終產(chǎn)品中，節(jié)省了相關(guān)的加工步驟。
文檔編號G06F3/044GK102063233SQ20101059034
公開日2011年5月18日 申請日期2010年12月10日 優(yōu)先權(quán)日2010年12月10日
發(fā)明者余榮, 吳永俊, 孫楹煌, 崔衛(wèi)星, 朱世健, 林德志, 林鏗, 沈奕 申請人:汕頭超聲顯示器有限公司