專利名稱：一種觸摸屏的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本實(shí)用新型涉及光電技術(shù)領(lǐng)域，尤其涉及一種觸摸屏。
背景技術(shù)：
隨著計(jì)算機(jī)技術(shù)的普及，在20世紀(jì)90年代初出現(xiàn)了一種新的人機(jī)交互技術(shù)_觸 摸屏技術(shù)。采用這種技術(shù)，使用者只要用手輕輕地觸摸計(jì)算機(jī)顯示屏上的圖形或文字就能 操作計(jì)算機(jī)，從而擺脫了鍵盤和鼠標(biāo)的束縛，極大地方便了使用者。帶攝像頭觸摸屏是一種通過攝像頭采集觸摸物的圖像數(shù)據(jù)，再將圖像數(shù)據(jù)傳送給 處理器進(jìn)行處理，從而檢測(cè)出觸摸物的位置信息的觸摸屏。其中，檢測(cè)出的觸摸物的位置信 息的精確程度與攝像頭采集的圖像數(shù)據(jù)的質(zhì)量有密切關(guān)系。因此為了使攝像頭采集高質(zhì)量 的圖像數(shù)據(jù)，這種觸摸屏上會(huì)裝有光源。現(xiàn)有技術(shù)中，通常在攝像頭對(duì)面的觸摸屏框架上安 裝一排紅外發(fā)光管作為光源，但是這種光源造價(jià)成本過高，從而導(dǎo)致帶攝像頭觸摸屏的生 產(chǎn)成本較高，影響該種觸摸屏的推廣應(yīng)用。為了克服成產(chǎn)成本過高的問題，出現(xiàn)了一種新的帶攝像頭觸摸屏，如圖1所示，為 現(xiàn)有技術(shù)中帶攝像頭觸摸屏的結(jié)構(gòu)示意圖，包括觸摸屏框架62、安裝在觸摸屏框架62的長(zhǎng) 邊的兩端的兩個(gè)紅外攝像頭9和10、分別安裝在鄰近紅外攝像頭9和10的位置處的兩個(gè)紅 外光源12和13、安裝在觸摸屏框架邊緣的回歸反射條11、以及分別與紅外攝像頭9和10 連接的處理器66。其中，觸摸屏框架62的內(nèi)部為觸摸檢測(cè)區(qū)61，回歸反射條11將由紅外 光源12和13發(fā)射的光分別反射到紅外攝像頭9和10，紅外攝像頭9和10分別采集圖像數(shù) 據(jù)并將該圖像數(shù)據(jù)發(fā)送到處理器66，處理器66處理該圖像數(shù)據(jù)以確定觸摸物的位置信息。 由于回歸反射條11的成本較低，因此大大降低了觸摸屏的生產(chǎn)成本。但是，發(fā)明人在研究 本實(shí)用新型的過程中發(fā)現(xiàn)，回歸反射條11的反射效率隨著入射角的增大而減小，即隨著入 射角的增大，回歸反射條11反射回紅外攝像頭9和10的光將衰減。以紅外光源12為例， 當(dāng)紅外光源12發(fā)射到回歸反射條11的光的入射角e工大于55度時(shí)，紅外光源12發(fā)射到回 歸反射條11上的光大大減少而且回歸反射條11的反射效率急劇減小，反射回紅外光源12 的光將大大衰減，從而使得交叉線區(qū)域A的亮度較小，當(dāng)觸摸物位于交叉線區(qū)域A時(shí)，紅外 攝像頭9采集的圖像數(shù)據(jù)的質(zhì)量較差，降低了檢測(cè)的觸摸物的位置信息的精確度。其中，入 射角指的是紅外光源12發(fā)射到回歸反射條11的光與回歸反射條11的表面的法線的夾角。 對(duì)于紅外光源13存在同樣的問題。

實(shí)用新型內(nèi)容本實(shí)用新型提供一種觸摸屏，用以實(shí)現(xiàn)提高回歸反射條的反射效率，從而提高光 學(xué)傳感器采集的圖像數(shù)據(jù)的質(zhì)量，從而更精確地檢測(cè)出的觸摸物的位置信息。本實(shí)用新型提供一種包括觸摸屏框架、安裝在所述觸摸屏框架上用于采集圖像數(shù) 據(jù)的至少兩個(gè)光學(xué)傳感器、安裝在所述觸摸屏框架上的光源、以及與所述至少兩個(gè)光學(xué)傳 感器連接用于處理所述圖像數(shù)據(jù)以獲取觸摸物的位置信息的處理器，其中，所述光源包括分別安裝在鄰近所述至少兩個(gè)光學(xué)傳感器的位置、用于照亮所述觸摸屏框架內(nèi)的觸摸檢測(cè) 區(qū)的至少兩個(gè)發(fā)光源和安裝在所述觸摸屏框架的邊緣上、用于將所述至少兩個(gè)發(fā)光源發(fā)射 的光分別反射到所述至少兩個(gè)光學(xué)傳感器的回歸反射條，所述光源還包括安裝在所述回歸反射條前方、用于減小由所述至少兩個(gè)發(fā)光源發(fā)射到所述回歸反 射條的光的入射角的介質(zhì)，所述介質(zhì)和所述回歸反射條共同作用對(duì)所述光的反射效率大于 所述回歸反射條單獨(dú)作用對(duì)所述光的反射效率；其中，所述入射角表示所述至少兩個(gè)發(fā)光 源發(fā)射到所述回歸反射條的光與所述回歸反射條的表面的法線的夾角。本實(shí)用新型通過位于所述回歸反射條前方的介質(zhì)減小由至少兩個(gè)發(fā)光源發(fā)射到 回歸反射條的光的入射角，介質(zhì)和回歸反射條共同作用的反射效率大于回歸反射條單獨(dú)作 用的反射效率，回歸反射條和介質(zhì)共同作用反射到至少兩個(gè)光學(xué)傳感器的光將增加，從而 提高了至少兩個(gè)光學(xué)傳感器采集的圖像數(shù)據(jù)的質(zhì)量，進(jìn)一步地處理器可以更精確地檢測(cè)出 觸摸物的位置信息。

圖1為現(xiàn)有技術(shù)中帶攝像頭觸摸屏的結(jié)構(gòu)示意圖；圖2為本實(shí)用新型觸摸屏第一實(shí)施例的結(jié)構(gòu)示意圖；圖3為本實(shí)用新型觸摸屏第一實(shí)施例中介質(zhì)的工作原理示意圖；圖4為本實(shí)用新型觸摸屏第一實(shí)施例中處理器獲取觸摸物位置信息的原理示意 圖；圖5為本實(shí)用新型觸摸屏第一實(shí)施例中光楔的工作原理示意圖；圖6為本實(shí)用新型觸摸屏第二實(shí)施例的結(jié)構(gòu)示意圖；圖7為本實(shí)用新型觸摸屏第三實(shí)施例的結(jié)構(gòu)示意圖；圖8為本實(shí)用新型觸摸屏第四實(shí)施例的結(jié)構(gòu)示意圖；圖9為本實(shí)用新型觸摸屏第五實(shí)施例的結(jié)構(gòu)示意圖。
具體實(shí)施方式
下面結(jié)合說明書附圖和具體實(shí)施方式
對(duì)本實(shí)用新型作進(jìn)一步的描述。如圖2所示，為本實(shí)用新型觸摸屏第一實(shí)施例的結(jié)構(gòu)示意圖，可以包括觸摸屏框 架62，至少兩個(gè)光學(xué)傳感器631、632. . . 63n,光源，以及處理器66，其中，n為大于或等于2 的自然數(shù)。觸摸屏框架62內(nèi)部為觸摸檢測(cè)區(qū)61 ；至少兩個(gè)光學(xué)傳感器631、632. . . 63n安裝 在觸摸屏框架62上，用于采集圖像數(shù)據(jù)；光源安裝在觸摸屏框架62上；處理器66與至少兩 個(gè)光學(xué)傳感器631、632. . . 63n連接，用于處理該圖像數(shù)據(jù)以獲取觸摸物的位置信息。其中，光源包括至少兩個(gè)發(fā)光源651、652. ..65m和回歸反射條ll，m為大于或等于 2的自然數(shù)，并且m大于或等于n。至少兩個(gè)發(fā)光源651、652. . . 65m分別安裝在鄰近至少兩 個(gè)光學(xué)傳感器631、632. . . 63n的位置，用于照亮觸摸檢測(cè)區(qū)61 ；在本實(shí)施例中，至少兩個(gè)發(fā) 光源651、652. . . 65m可以放置在至少兩個(gè)光學(xué)傳感器631、632. . . 63n上；可選地，至少兩個(gè) 發(fā)光源651、652. . . 65m也可以放置在至少兩個(gè)光學(xué)傳感器631、632. . . 63n旁邊；回歸反射 條11安裝在觸摸屏框架62的邊緣上，用于將至少兩個(gè)發(fā)光源651、652. . . 65m發(fā)射的光分別反射到至少兩個(gè)光學(xué)傳感器631、632. . . 63n。在本實(shí)施例中，回歸反射條11的前方還安裝有介質(zhì)64，用于減小由至少兩個(gè)發(fā)光 源651、652. . . 65m發(fā)射到回歸反射條11的光的入射角，介質(zhì)64和回歸反射條11共同作用 對(duì)光的反射效率大于回歸反射條11單獨(dú)作用對(duì)光的反射效率。優(yōu)選地，介質(zhì)64將至少兩個(gè)發(fā)光源651、652. . . 65m發(fā)射到回歸反射條11的光的 入射角減小到小于15度，從而極大地提高回歸反射條11的反射效率。需要說明的是，圖1中所示的至少兩個(gè)光學(xué)傳感器631、632. . . 63n和介質(zhì)64安裝 的位置只用于示意，可以根據(jù)具體情況安裝在回歸反射條11前方的其他區(qū)域，只要介質(zhì)64 和回歸反射條11共同作用對(duì)光的反射效率大于回歸反射條11單獨(dú)作用對(duì)光的反射效率即 可。下面簡(jiǎn)要介紹本實(shí)施例中光源的工作原理如圖3所示，為本實(shí)用新型觸摸屏第 一實(shí)施例中介質(zhì)的工作原理示意圖，介質(zhì)64與回歸反射條11平行放置。當(dāng)光發(fā)射到介質(zhì) 64的表面時(shí)，入射角為，經(jīng)過介質(zhì)64，發(fā)射到回歸反射條11的光的入射角為0工，e^J、 于eit)若沒有介質(zhì)64，則發(fā)射到回歸反射條的光的入射角為eit) 小于意味著介質(zhì) 64減小了發(fā)射到回歸反射條11的光的入射角。本實(shí)施例的工作原理如下當(dāng)觸摸檢測(cè)區(qū)61內(nèi)沒有觸摸物時(shí)，至少兩個(gè)發(fā)光源 651、652. . . 65m將光發(fā)射到介質(zhì)64和回歸反射條11，再由介質(zhì)64和回歸反射條11反射到 至少兩個(gè)光學(xué)傳感器631、632. . . 63n，此時(shí)，至少兩個(gè)光學(xué)傳感器631、632. . . 63n采集的圖 像數(shù)據(jù)全部為亮點(diǎn)。當(dāng)觸摸檢測(cè)區(qū)61內(nèi)具有觸摸物時(shí)，至少兩個(gè)發(fā)光源651、652...65n發(fā) 射到介質(zhì)64和回歸反射條11的光會(huì)被觸摸物遮擋住一部分，該部分光不能反射回至少兩 個(gè)光學(xué)傳感器631、632. . . 63n，此時(shí)，至少兩個(gè)光學(xué)傳感器631、632. . . 63n采集的圖像數(shù)據(jù) 中會(huì)有暗點(diǎn)區(qū)域。至少兩個(gè)光學(xué)傳感器631、632. . . 63n將采集的圖像數(shù)據(jù)發(fā)送給處理器66 進(jìn)行處理。若處理器66檢測(cè)到圖像數(shù)據(jù)中存在暗點(diǎn)區(qū)域，則證明觸摸物的存在，進(jìn)而根據(jù) 至少兩個(gè)光學(xué)傳感器631、632. . . 63n中的兩個(gè)光學(xué)傳感器的圖像數(shù)據(jù)獲取觸摸物的位置 信息。下面簡(jiǎn)要介紹處理器66如何根據(jù)至少兩個(gè)光學(xué)傳感器631、632. . . 63n中的兩個(gè)光學(xué) 傳感器的圖像數(shù)據(jù)獲取觸摸物的位置信息以光學(xué)傳感器631和632為例，如圖4所示，為 本實(shí)用新型觸摸屏第一實(shí)施例中處理器獲取觸摸物位置信息的原理示意圖，處理器66可 以根據(jù)光學(xué)傳感器631采集的圖像數(shù)據(jù)中暗點(diǎn)區(qū)域的位置獲取角1的度數(shù)，根據(jù)光學(xué)傳感 器632采集的圖像數(shù)據(jù)中暗點(diǎn)區(qū)域的位置獲取角2的度數(shù)，而且光學(xué)傳感器631與光學(xué)傳 感器632之間的距離L是已知的，因此，處理器66可以采用三角測(cè)量法測(cè)量出觸摸物67的 位置信息。再參見圖2，以發(fā)光源651為例，由于介質(zhì)64減小了發(fā)光源651發(fā)射到回歸反射 條11的光的入射角，因此回歸反射條11具有更高的反射效率，雖然介質(zhì)64也會(huì)削減發(fā)光 源651發(fā)射到其上的光，但是回歸反射條11和介質(zhì)64共同作用的反射效率大于回歸反射 條11單獨(dú)作用的反射效率，所以回歸反射條11和介質(zhì)64共同作用反射到光學(xué)傳感器631 的光增多，交叉線區(qū)域B的亮度增大，從而提高了光學(xué)傳感器631采集的圖像數(shù)據(jù)的質(zhì)量， 進(jìn)一步提高了處理器66檢測(cè)出的觸摸物位置的精確度。對(duì)于其他發(fā)光源道理相同。再參見圖2，在本實(shí)施例中，在安裝介質(zhì)64時(shí)，介質(zhì)64可以與回歸反射條11接觸。 在實(shí)際應(yīng)用中，介質(zhì)64也可以與回歸反射條11不接觸。[0029]在本實(shí)施例中，介質(zhì)64可以粘接在回歸反射條11前方。在實(shí)際應(yīng)用中，還可以將 回歸反射條11與介質(zhì)64通過固定在觸摸屏框架62上的卡子卡在一起并且介質(zhì)64位于回 歸反射條11前方，或者通過固定在觸摸屏框架62上的卡子直接將介質(zhì)64卡在回歸反射條 11前方。在本實(shí)施例中，優(yōu)選地，介質(zhì)64可以為透射光柵和光楔。其中，透射光柵的工作原理參見圖3，在此不再贅述。如圖5所示，為本實(shí)用新型觸 摸屏第一實(shí)施例中光楔的工作原理示意圖，光楔包括兩個(gè)不平行的表面第一表面411和 第二表面412，其中，第二表面412與回歸反射條11平行。當(dāng)光發(fā)射到第一表面411時(shí)，入 射角為9”經(jīng)過第一表面411折射后，折射角為02，再經(jīng)過第二表面412折射后，折射角為 e ” e i也是發(fā)射到回歸反射條11上的光的入射角，e:小于e 10若沒有光楔，則發(fā)射到回 歸反射條11的光的入射角為0” 小于意味著介質(zhì)64減小了發(fā)射到回歸反射條11 的光的入射角。在本實(shí)施例中，光學(xué)傳感器631和632具體可以為攝像頭、照相機(jī)或其他光敏元 件。本實(shí)用新型通過安裝在回歸反射條11前方的介質(zhì)64減小由至少兩個(gè)發(fā)光源651、 652. . . 65m發(fā)射到回歸反射條11的光的入射角，介質(zhì)64和回歸反射條11共同作用對(duì)光的 反射效率大于回歸反射條11單獨(dú)作用對(duì)光的反射效率，回歸反射條11和介質(zhì)64共同作用 反射到至少兩個(gè)光學(xué)傳感器631、632. . . 63n的光將增加，從而提高了至少兩個(gè)光學(xué)傳感器 631,632. . . 63n采集的圖像數(shù)據(jù)的質(zhì)量，進(jìn)一步地處理器66可以更精確地檢測(cè)出觸摸物的 位置信息。如圖6所示，為本實(shí)用新型觸摸屏第二實(shí)施例的結(jié)構(gòu)示意圖，與上一實(shí)施例的不 同之處在于，在本實(shí)施例中，n = 2，m = 2。在本實(shí)施例中，觸摸屏框架62包括第一邊緣621、第二邊緣622、第三邊緣623和 第四邊緣624，其中，第一邊緣621與第三邊緣623相對(duì)，第二邊緣622與第四邊緣624相 對(duì)，光學(xué)傳感器631安裝在第一邊緣621和第二邊緣622的交角處，光學(xué)傳感器632安裝在 第一邊緣621和第四邊緣624的交角處，回歸反射條11安裝在第二邊緣622、第三邊緣623 和第四邊緣624上，發(fā)光源651和652分別安裝在光學(xué)傳感器631和632的附近，介質(zhì)64 安裝在發(fā)光源651或發(fā)光源652發(fā)射到回歸反射條11的光的入射角大于55度的區(qū)域中的 全部區(qū)域。優(yōu)選地，介質(zhì)64將發(fā)光源651和發(fā)光源652發(fā)射到回歸反射條11的光的入射角 減小到小于15度，從而極大地提高回歸反射條11的反射效率。再參見圖6，在實(shí)際應(yīng)用中，介質(zhì)64也可以只安裝在發(fā)光源651或發(fā)光源652發(fā)射 到回歸反射條11的光的入射角大于55度的區(qū)域中的部分區(qū)域。在本實(shí)施例中，發(fā)光源651和652具體可以為紅外光源，光學(xué)傳感器631和632具 體可以為紅外攝像頭。本實(shí)用新型通過介質(zhì)64減小由發(fā)光源651和652發(fā)射到回歸反射條11的光的入 射角，介質(zhì)64和回歸反射條11共同作用對(duì)光的反射效率大于回歸反射條11單獨(dú)作用對(duì)光 的反射效率，回歸反射條11和介質(zhì)64共同作用反射到光學(xué)傳感器631和632的光將增加， 從而提高了光學(xué)傳感器631和632采集的圖像數(shù)據(jù)的質(zhì)量，進(jìn)一步地處理器66可以更精確
6地檢測(cè)出觸摸物的位置信息。如圖7所示，為本實(shí)用新型觸摸屏第三實(shí)施例的結(jié)構(gòu)示意圖，在圖6所示結(jié)構(gòu)示意 圖的基礎(chǔ)上，在本實(shí)施例中，為了便于安裝，使得產(chǎn)品的外觀更加美觀，介質(zhì)64還可以安裝 在第二邊緣622、第三邊緣623和第四邊緣624上的回歸反射條11前方的全部區(qū)域，介質(zhì) 64和回歸反射條11共同作用對(duì)光的反射效率大于所述回歸反射條單獨(dú)作用對(duì)光的反射效率。再參見圖7，在實(shí)際應(yīng)用中，也可以不在第二邊緣622或第四邊緣624上的回歸反 射條11前方的全部區(qū)域安裝介質(zhì)64，或者不在第二邊緣622和第四邊緣624上的回歸反射 條11前方的全部區(qū)域安裝介質(zhì)64，只要介質(zhì)64和回歸反射條11共同作用對(duì)光的反射效率 大于所述回歸反射條單獨(dú)作用對(duì)光的反射效率即可。如圖8所示，為本實(shí)用新型觸摸屏第四實(shí)施例的結(jié)構(gòu)示意圖，在圖6所示結(jié)構(gòu)示意 圖的基礎(chǔ)上，在本實(shí)施例中，為了增強(qiáng)局部區(qū)域的回歸反射條的反射效率，介質(zhì)64還可以 安裝在第二邊緣622和第四邊緣622上的回歸反射條11前方靠近第三邊緣623的區(qū)域，只 要介質(zhì)64和回歸反射條11共同作用對(duì)光的反射效率大于所述回歸反射條單獨(dú)作用對(duì)光的 反射效率即可。再參見圖8，在實(shí)際應(yīng)用中，也可以不在第二邊緣622上的回歸反射條11前方靠近 第三邊緣623的區(qū)域安裝介質(zhì)64，或者不在第四邊緣624上的回歸反射條11前方靠近第三 邊緣623的區(qū)域安裝介質(zhì)64，只要介質(zhì)64和回歸反射條11共同作用對(duì)光的反射效率大于 所述回歸反射條單獨(dú)作用對(duì)光的反射效率即可。如圖9所示，為本實(shí)用新型觸摸屏第五實(shí)施例的結(jié)構(gòu)示意圖，考慮到發(fā)光源651或 發(fā)光源652發(fā)射到回歸反射條11上的光的入射角大于45度后，回歸反射條11的反射效率 也會(huì)急劇下降，而且發(fā)光源651或發(fā)光源652發(fā)射的光的強(qiáng)度也會(huì)逐漸減小，在本實(shí)施例 中，介質(zhì)64可以安裝在發(fā)光源651或652發(fā)射到回歸反射條11的光的入射角大于45度的 區(qū)域，只要介質(zhì)64和回歸反射條11共同作用對(duì)光的反射效率大于回歸反射條11單獨(dú)作用 對(duì)光的反射效率即可。再參見圖9，在實(shí)際應(yīng)用中，介質(zhì)64也可以只安裝在發(fā)光源651或發(fā)光源652發(fā) 射到回歸反射條11的光的入射角大于45度的區(qū)域中的部分區(qū)域，只要介質(zhì)64和回歸反射 條11共同作用對(duì)光的反射效率大于回歸反射條11單獨(dú)作用對(duì)光的反射效率即可。例如 介質(zhì)64還可以安裝在發(fā)光源651或發(fā)光源652發(fā)射到回歸反射條11的光的入射角大于50 度的區(qū)域。具體可以根據(jù)回歸反射條11的反射效率和發(fā)光源651或發(fā)光源652發(fā)射的光 的強(qiáng)度而定。
權(quán)利要求一種觸摸屏，包括觸摸屏框架、安裝在所述觸摸屏框架上用于采集圖像數(shù)據(jù)的至少兩個(gè)光學(xué)傳感器、安裝在所述觸摸屏框架上的光源、以及與所述至少兩個(gè)光學(xué)傳感器連接用于處理所述圖像數(shù)據(jù)以獲取觸摸物的位置信息的處理器，其中，所述光源包括分別安裝在鄰近所述至少兩個(gè)光學(xué)傳感器的位置、用于照亮所述觸摸屏框架內(nèi)的觸摸檢測(cè)區(qū)的至少兩個(gè)發(fā)光源和安裝在所述觸摸屏框架的邊緣上、用于將所述至少兩個(gè)發(fā)光源發(fā)射的光分別反射到所述至少兩個(gè)光學(xué)傳感器的回歸反射條，其特征在于，所述光源還包括安裝在所述回歸反射條前方、用于減小由所述至少兩個(gè)發(fā)光源發(fā)射到所述回歸反射條的光的入射角的介質(zhì)，所述介質(zhì)和所述回歸反射條共同作用對(duì)所述光的反射效率大于所述回歸反射條單獨(dú)作用對(duì)所述光的反射效率；其中，所述入射角表示所述至少兩個(gè)發(fā)光源發(fā)射到所述回歸反射條的光與所述回歸反射條的表面的法線的夾角。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的觸摸屏，其特征在于，所述介質(zhì)與所述回歸反射條接觸或不 接觸。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的觸摸屏，其特征在于，所述介質(zhì)粘接或卡接在所述回歸反射 條前。
4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的觸摸屏，其特征在于，所述介質(zhì)為透射光柵或光楔。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的觸摸屏，其特征在于，所述介質(zhì)用于將所述至少兩個(gè)發(fā)光源 發(fā)射到所述回歸反射條的光的入射角減小到小于15度。
6.根據(jù)權(quán)利要求1-5任一所述的觸摸屏，其特征在于，所述觸摸屏框架包括第一邊緣、 第二邊緣、第三邊緣和第四邊緣，其中，所述第一邊緣與所述第三邊緣相對(duì)，所述第二邊緣 與所述第四邊緣相對(duì)，所述光學(xué)傳感器的數(shù)量為兩個(gè)，一個(gè)安裝在所述第一邊緣和所述第 二邊緣的交角處，另一個(gè)安裝在所述第一邊緣和所述第四邊緣的交角處，所述回歸反射條 安裝在所述第二邊緣、所述第三邊緣和所述第四邊緣上，所述兩個(gè)光學(xué)傳感器的附近分別 安裝有發(fā)光源，所述介質(zhì)安裝在任一發(fā)光源發(fā)射到所述回歸反射條的光的入射角大于55 度的區(qū)域中的部分區(qū)域或全部區(qū)域。
7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的觸摸屏，其特征在于，所述介質(zhì)還安裝在所述第三邊緣上的 回歸反射條前方的全部區(qū)域。
8.根據(jù)權(quán)利要求6所述的觸摸屏，其特征在于，所述介質(zhì)還安裝在所述第二邊緣和/或 所述第四邊緣上的回歸反射條前方靠近所述第三邊緣的區(qū)域。
9.根據(jù)權(quán)利要求7所述的觸摸屏，其特征在于，所述介質(zhì)還安裝在所述第二邊緣和/或 所述第四邊緣上的回歸反射條前方的全部區(qū)域。
10.根據(jù)權(quán)利要求6所述的觸摸屏，其特征在于，所述介質(zhì)還安裝在任一發(fā)光源發(fā)射到 所述回歸反射條的光的入射角大于45度且小于或等于55度的區(qū)域中的部分區(qū)域或全部區(qū) 域。
專利摘要本實(shí)用新型涉及一種觸摸屏，包括觸摸屏框架、安裝在觸摸屏框架上用于采集圖像數(shù)據(jù)的至少兩個(gè)光學(xué)傳感器、安裝在觸摸屏框架上的光源、以及與光學(xué)傳感器連接用于處理圖像數(shù)據(jù)以獲取觸摸物的位置信息的處理器，其中，該光源包括分別安裝在鄰近光學(xué)傳感器的位置、用于照亮觸摸屏框架內(nèi)的觸摸檢測(cè)區(qū)的至少兩個(gè)發(fā)光源和安裝在觸摸屏框架的邊緣上、用于將發(fā)光源發(fā)射的光分別反射到光學(xué)傳感器的回歸反射條，該光源還包括安裝在回歸反射條前方、用于減小由發(fā)光源發(fā)射到回歸反射條的光的入射角的介質(zhì)，該介質(zhì)和回歸反射條共同作用對(duì)光的反射效率大于回歸反射條單獨(dú)作用對(duì)光的反射效率。本實(shí)用新型可以增強(qiáng)反射到光學(xué)傳感器的光，從而提高圖像數(shù)據(jù)的質(zhì)量。
文檔編號(hào)G06F3/042GK201583925SQ20102004686
公開日2010年9月15日 申請(qǐng)日期2010年1月13日 優(yōu)先權(quán)日2010年1月13日
發(fā)明者劉建軍, 劉新斌, 葉新林, 宋常青, 王宇輝, 石恩濤 申請(qǐng)人:北京匯冠新技術(shù)股份有限公司;北京匯冠觸摸技術(shù)有限公司