專利名稱：觸摸屏的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及一種觸摸屏。
背景技術(shù)：
觸摸屏廣泛應(yīng)用于智能手機(jī)、平板電腦等電子設(shè)備中。觸摸屏在使用過(guò)程中，容易沾染指紋，從而影響電子產(chǎn)品的外觀。另外，這些電子產(chǎn)品在陽(yáng)光或燈光下使用時(shí)，屏幕反光會(huì)使人看不清屏幕的內(nèi)容且造成眼睛不適。研究發(fā)現(xiàn)納米二氧化鈦可吸收特定波長(zhǎng)的光線，并發(fā)生光催化反應(yīng)。光催化反應(yīng)可殺菌去污。利用納米二氧化鈦的上述特性，人們將納米二氧化鈦制成涂層涂覆于外墻玻 璃、陶瓷潔具等產(chǎn)品表面，利用納米二氧化鈦的光催化特性，制成了具有自潔凈功能的產(chǎn)品。然而，納米二氧化鈦對(duì)紫外光的吸收能力較強(qiáng)，而對(duì)可見(jiàn)光吸收能力較弱。因此，現(xiàn)有納米二氧化鈦涂層并不能很好的解決屏幕反光的問(wèn)題。

發(fā)明內(nèi)容
鑒于以上內(nèi)容，有必要提供一種防反光的觸摸屏。一種觸摸屏，該觸摸屏包括一玻璃基板及形成于該基板的涂層，該涂層包括二氧化鈦及硒化鎘，其中二氧化鈦與硒化鎘的重量比為3 I, 二氧化鈦的粒徑為2納米,硒化鎘的粒徑為2. 3 3. 7納米。與現(xiàn)有技術(shù)相比較，本發(fā)明觸摸屏在基板上形成了包含納米二氧化鈦及納米硒化鎘的涂層，納米硒化鎘可用于吸收可見(jiàn)光，降低了觸摸屏的反射現(xiàn)象，同時(shí)利用納米二氧化鈦的光催化反應(yīng)清除觸摸屏上的指紋，從而使觸摸屏具有防反光抗指紋的功能。
具體實(shí)施例方式本發(fā)明觸摸屏包括一內(nèi)表面形成有導(dǎo)電層的玻璃基板及形成于該玻璃基板外表面(供使用者觸摸的一面)的涂層，該涂層的成份為二氧化鈦(Ti02)及硒化鎘(CdSe)的混合物，其中二氧化鈦與硒化鎘的重量比為3 I。涂層中的二氧化鈦為銳鈦型晶體結(jié)構(gòu)，其粒徑為2納米。硒化鎘的粒徑分布于2. 3納米至3. 7納米之間。優(yōu)選粒徑為2. 3納米、
2.6納米、3. O納米及3. 7納米的硒化鎘粒子按重量比25%、15%、45%及15%進(jìn)行混合。制造該觸摸屏?xí)r，將納米二氧化鈦粉末與納米硒化鎘粉末以重量比為3 I混合，加入去離子水調(diào)成漿體，將漿體噴涂到玻璃基板，再將玻璃基板在烤箱中烘干。納米硒化鎘粒子加入二氧化鈦中形成了量子點(diǎn)。由尺寸量子化效應(yīng)可知，作為量子點(diǎn)的硒化鎘粒子的粒徑越小，對(duì)應(yīng)吸收的光線的波長(zhǎng)越短。而納米二氧化鈦參入硒化鎘量子點(diǎn)的粒徑分布于2. 3納米至3. 7納米之間時(shí)，可對(duì)應(yīng)吸收可見(jiàn)光。同時(shí)，為了提高涂層對(duì)可見(jiàn)光的吸收效果，可根據(jù)太陽(yáng)光中不同波長(zhǎng)的光線的能量分布，調(diào)整涂層中不同粒徑硒化鎘的比例。例如，太陽(yáng)光中，450nm的藍(lán)綠光區(qū)段的能量，占總能量的比例最高，約占45%，而納米二氧化鈦參入粒徑為3. O納米的硒化鎘粒子時(shí)，對(duì)藍(lán)綠光的吸收效果最好。因此，將涂層中粒徑為3. O納米的硒化鎘粒子占比定為45%。
權(quán)利要求
1.一種觸摸屏，該觸摸屏包括一基板及形成于該基板外表面的涂層，該涂層的成份包括二氧化鈦及硒化鎘，其中二氧化鈦與硒化鎘的重量比為3 1，二氧化鈦的粒徑為2納米，硒化鎘的粒徑為2. 3 3. 7納米。
2.如權(quán)利要求I所述的觸摸屏，其特征在于該涂層中的二氧化鈦具有銳鈦型晶體結(jié)構(gòu)。
3.如權(quán)利要求2所述的觸摸屏，其特征在于所述涂層中硒化鎘的粒徑為2.3納米、2. 6納米、3. O納米及3. 7納米，且重量比分別為25%、15%、45%及15%。
4.如權(quán)利要求I所述的觸摸屏，其特征在于基板由玻璃制成。
全文摘要
一種觸摸屏，該觸摸屏包括一基板及形成于該基板的涂層，該涂層的成份包括二氧化鈦及硒化鎘，其中二氧化鈦與硒化鎘的重量比為3∶1，二氧化鈦的粒徑為2納米，硒化鎘的粒徑為2.3～3.7納米。本發(fā)明觸摸屏在基板上形成了包含納米二氧化鈦及納米硒化鎘的涂層，納米硒化鎘可用于吸收可見(jiàn)光，降低了觸摸屏的反射現(xiàn)象，同時(shí)利用納米二氧化鈦的光催化反應(yīng)清除觸摸屏上的指紋，從而使觸摸屏具有防反光抗指紋的功能。
文檔編號(hào)G06F3/041GK102760000SQ20111010902
公開(kāi)日2012年10月31日 申請(qǐng)日期2011年4月28日 優(yōu)先權(quán)日2011年4月28日
發(fā)明者黃兆濬 申請(qǐng)人:鴻富錦精密工業(yè)(深圳)有限公司, 鴻海精密工業(yè)股份有限公司