專利名稱：用于制造觸摸傳感器面板的方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明主要涉及觸摸傳感器面板的制造，尤其涉及使用一種在光刻/蝕刻圖案化處理過程中充當掩模并且在后續(xù)的鈍化處理過程中充當鈍化層的抗蝕劑(resist)來改進觸摸傳感器面板制造工藝的系統(tǒng)和方法。
背景技術(shù)：
近年來，觸摸傳感器面板、觸摸屏以及類似設(shè)備已經(jīng)可被用作輸入設(shè)備。特別地， 由于觸摸屏操作的簡易性和多功能性及其價格的降低，其正在日益得到普及。觸摸屏可以包括觸摸傳感器面板和顯示設(shè)備，其中觸摸傳感器面板可以是具有觸敏表面的透明面板， 顯示設(shè)備可以是LCD面板，并且可以部分或完全位于觸摸傳感器面板的后方，以使觸敏表面可以覆蓋顯示設(shè)備可見區(qū)域的至少一部分。在一些設(shè)備中，觸摸屏由蓋體玻璃保護。觸摸屏可以允許用戶通過使用手指、指示筆或其他物體在顯示設(shè)備顯示的用戶界面(UI)通常規(guī)定的位置處觸摸所述觸摸傳感器面板來執(zhí)行各種功能。通常，觸摸屏可以識別觸摸事件以及該觸摸事件在觸摸傳感器面板上的定位，并且計算系統(tǒng)隨后可以根據(jù)觸摸事件時刻出現(xiàn)的顯示來解釋觸摸事件，之后則可以基于觸摸事件來執(zhí)行一個或多個動作。與LCD面板相似，觸摸屏中的觸摸傳感器面板可由玻璃或其他適當?shù)耐该骰字瞥?。在一些配置中，觸摸傳感器面板可被實現(xiàn)為由多條驅(qū)動線(例如，行)和多條感測線 (例如，列)交叉形成的像素陣列，其中驅(qū)動線和感測線由介電材料分隔開。在一些觸摸傳感器面板中，驅(qū)動線和感測線可以在同一透明基底的頂側(cè)和底側(cè)上形成。在其他觸摸傳感器面板中，驅(qū)動線和感測線可以在透明基底的一側(cè)上形成。所述感測線和驅(qū)動線可以由基本透明的材料例如氧化銦錫(ITO)形成，但是也可以使用其他材料?？梢栽谕该骰椎囊粋?cè)或兩側(cè)沉積一個或多個ITO層。在本文中，具有雙側(cè)或單側(cè)ITO層的觸摸傳感器面板分別被稱為雙側(cè)ITO(DITO)觸摸傳感器面板和單側(cè)ITO(SITO)觸摸傳感器面板。DITO和SITO 觸摸傳感器面板被廣泛由于各式各樣的電子設(shè)備中，例如平板PC、數(shù)字音樂播放器、蜂窩電話以及其他無線手持設(shè)備。制造觸摸傳感器面板的現(xiàn)有方法需要在光刻/蝕刻圖案化處理和后續(xù)的鈍化處理過程中執(zhí)行多個印制步驟。傳統(tǒng)的光刻/蝕刻處理由于設(shè)備和材料成本很高因而是昂貴的。由此，如果能夠減少制造工藝中的印制步驟的數(shù)量，從而降低觸摸傳感器面板的總制造成本，那么將會是非常理想的。

發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明涉及用于制造觸摸傳感器面板的方法。在一些觸摸傳感器面板制造工藝中，在光刻/蝕刻圖案化處理過程中向面板應用光致抗蝕劑(photoresist)。在完成光刻/ 蝕刻圖案化處理之后，所述光致抗蝕劑將被剝離。隨后在后續(xù)鈍化處理中應用單獨的鈍化層。由此，整個制造工藝冗長且低效。由于執(zhí)行了多次的印制和蝕刻步驟，設(shè)備和材料成本也相對較高。本公開的實施例試圖通過應用一種能夠在蝕刻處理過程中充當掩模并在蝕刻處理之后繼續(xù)永久性地充當鈍化層的抗蝕劑來消除這些步驟中的一些步驟。這種改進的工藝可以消除現(xiàn)有制造工藝的多個步驟，并且可以降低設(shè)備和材料成本。在本公開的一個實施例中，首先，可以在基底的一個或所有兩個表面上沉積 ITO(或其他導電材料)層以及金屬層。接下來，執(zhí)行光刻/蝕刻處理來圖案化ITO和金屬層，以便形成觸摸傳感器面板的驅(qū)動和感測元件，雖然在其他實施例中，可以使用除了光刻 /蝕刻之外的其他處理來移除圖案。前兩個步驟可以與現(xiàn)有制造工藝中的步驟相同。然后， 可以在觸摸傳感器面板的邊緣區(qū)域之上放置抗蝕/鈍化材料，以便在后續(xù)的光刻/蝕刻處理過程中保護該區(qū)域內(nèi)的金屬圖案。這種抗蝕/鈍化材料與通常使用的光致抗蝕劑的不同之處在于這種具體的材料不但可以在光刻/蝕刻過程中充當掩模，還可以在鈍化過程中充當鈍化層。在將這種雙用途材料放置就位之后，可以執(zhí)行第二光刻/蝕刻處理，以便從面板的觀看區(qū)域移除金屬，雖然在其他實施例中也可以使用光刻/蝕刻之外的其他處理來移除金屬。由于同一材料還可以充當鈍化層，因此，可以在不需要首先移除光致抗蝕劑以及在邊緣區(qū)域或是整個表面之上放置鈍化層的情況下執(zhí)行鈍化處理?？傊?，本公開的實施例可以減少觸摸傳感器面板制造工藝中需要的步驟數(shù)。更重要的是，通過使用單一材料作為光刻/蝕刻處理過程中的光致抗蝕劑掩模以及鈍化過程中的鈍化層，可以降低與制造工藝中的印制處理以及移除額外材料的處理相關(guān)聯(lián)的材料成本和操作成本。結(jié)果，整個制造工藝可以更為有效，并且包含觸摸傳感器面板的成品設(shè)備的總成本可以降低。


圖1示出了觸摸傳感器面板的示例性堆疊結(jié)構(gòu)。圖2-5提供了現(xiàn)有觸摸傳感器面板制造工藝的示例性步驟的逐步驟例示。圖6是示出了圖2-5所示的制造工藝的各步驟的流程圖。圖7和8示出了根據(jù)本公開實施例的觸摸傳感器面板制造工藝的示例性步驟。圖9是示出了根據(jù)本公開實施例的制造工藝的各步驟的流程圖。圖10-14示出了根據(jù)本公開實施例的在圖9所示制造工藝中保留用于柔性連結(jié)的連結(jié)區(qū)域的一種方法的示例性步驟。圖15和16示出了根據(jù)本公開實施例的在圖9所示的制造工藝中保留用于柔性連結(jié)的連結(jié)區(qū)域的另一種方法的示例性步驟。圖17-19示出了根據(jù)本公開實施例的在圖9所示的制造工藝中保留用于柔性連結(jié)的連結(jié)區(qū)域的再一種方法的示例性步驟。圖20a示出了具有根據(jù)本公開實施例制造的SITO或DITO觸摸傳感器面板的示例性數(shù)字媒體播放器。圖20b示出了具有根據(jù)本公開實施例制造的SITO或DITO觸摸傳感器面板的示例性移動電話。圖20c示出了具有根據(jù)本公開實施例制造的SITO或DITO觸摸傳感器面板的示例性移動計算機。圖20d示出了具有根據(jù)本公開實施例制造的SITO或DITO觸摸傳感器面板的示例性臺式計算機。
圖21示出了包含根據(jù)本公開實施例制造的觸摸傳感器面板的示例性計算系統(tǒng)。
具體實施例方式在以下關(guān)于優(yōu)選實施例的描述中將會參考構(gòu)成所述描述的一部分的附圖，并且所述附圖例示了能夠被實施的具體實施例。應該理解的是，可以使用其他實施例并且做出結(jié)構(gòu)上的改變而不脫離本公開各實施例的范圍。本發(fā)明涉及用于制造觸摸傳感器面板的方法。在一些觸摸傳感器面板制造工藝中，在光刻/蝕刻圖案化處理過程中向面板應用光致抗蝕劑。所述光致抗蝕劑在光刻/蝕刻圖案化處理完成之后被剝離。隨后在后續(xù)鈍化處理中應用單獨的鈍化層。由此，整個制造工藝冗長且低效。由于執(zhí)行了多次印制和蝕刻步驟，設(shè)備和材料成本也相對較高。本公開的各實施例試圖通過應用一種在蝕刻處理中充當掩模而在蝕刻處理之后仍然永久性地充當鈍化層的抗蝕劑來消除上述步驟中的一些步驟。這種改進的工藝能夠消除現(xiàn)有制造工藝的多個步驟，并且能夠降低設(shè)備和材料成本。在圖1中示出了電容性觸摸傳感器面板的結(jié)構(gòu)。觸摸傳感器面板100可以包括基底102。所述基底可以是柔性材料，例如聚對苯二甲酸乙二醇酯(PET)或聚碳酸酯(PC)。在一些實施例中，諸如玻璃之類的剛性材料也可被用作基底。如圖1所示，ITO(或其他導電材料)層104可被沉積在基底102的頂面上。ITO層104稍后可被圖案化，從而形成觸摸傳感器面板100的感測線和/或驅(qū)動線。在ITO層104之上沉積的是用于在觸摸傳感器面板 100上形成布線跡線的金屬層106。該金屬層106可由銅或其他任何適于將感測線檢測到的信號路由到附至觸摸傳感器面板110的電路(未在圖1中顯示)以供進一步處理的金屬制成的。ITO層104和金屬層106可以背靠背、連續(xù)或同時地沉積在基底102上。SITO觸摸傳感器面板可以使用上述堆疊結(jié)構(gòu)制造，其中所述堆疊結(jié)構(gòu)包括沉積在基底102之上的金屬層106和ITO(或其他導電材料)層104。作為選擇，可以向該堆疊結(jié)構(gòu)添加附加層(如圖1中虛線所示)，以便形成DITO觸摸傳感器面板的底層結(jié)構(gòu)。如前所述，DITO觸摸傳感器面板通常具有在基底的相對表面上形成的驅(qū)動線和感測線。在圖1所示的示例性實施例中，基底102的底面可以用基底102和第二基底108之間的連結(jié)劑(例如，透光連結(jié)劑(OCA))層110附至所述第二基底108。第二基底108同樣可以由諸如PET、 PC、玻璃之類的材料或其他適當?shù)牟牧现瞥?。ITO(或其他導電材料)層112以及金屬層114 可以采用與如上關(guān)于基底102的頂面描述的相同方式沉積在第二基底的底面上。如圖1所示，最終得到的堆疊結(jié)構(gòu)包括處于中間的分層基底102、108，處于所述分層的頂面和底面的 ITO (或其他導電材料)層104、112以及金屬層106、114。在一些觸摸傳感器面板制造工藝中，必須執(zhí)行多個附加的圖案化和鈍化步驟來進一步處理圖1的分層，從而形成觸摸傳感器面板。圖2-5提供了剩余處理的示例性逐步驟例示。雖然在圖2-5中僅僅示出了圖1中堆疊結(jié)構(gòu)的上半部分，并且僅僅提供了針對上半部分的處理的描述，但是應該理解，所述堆疊結(jié)構(gòu)的下半部分可以同時或者在上半部分被處理之后采用與上半部分相似的方式來處理。圖2顯示了在對ITO(或其他導電材料)層104以及金屬層106執(zhí)行了初始光刻 /蝕刻圖案化處理以形成觸摸傳感器面板的驅(qū)動和感測元件之后的圖1的堆疊結(jié)構(gòu)。如圖所示，可以作為該初始圖案化步驟的結(jié)果形成層104、106的薄膜圖案。更具體地，該面板的觀看區(qū)域116中的圖案可以用作觸摸傳感器面板100的導電跡線(即，驅(qū)動線或感測線)。 面板邊緣區(qū)域118內(nèi)的金屬圖案可以用作將信號傳遞到柔性電路(未顯示)的布線跡線。 這一初始步驟可以采用任何公知的光刻/蝕刻技術(shù)執(zhí)行。在圖3所示的下一步驟中，可以移除觸摸傳感器面板100的觀看區(qū)域116中的剩余金屬圖案(對應的是層104為透明的實施例)，由此觀看區(qū)域116可以是透明的。在現(xiàn)有工藝中，可以在面板100表面的邊緣區(qū)域118(例如，觀看區(qū)域周圍的區(qū)域)上印制一條光致抗蝕劑120，以保護該區(qū)域內(nèi)的金屬跡線。根據(jù)所執(zhí)行的光刻/蝕刻處理的類型，也可以使用諸如熱致抗蝕劑(heat resist)的其他類型的抗蝕劑。此后，通過執(zhí)行金屬蝕刻，可以移除觀看區(qū)域116中不受光致抗蝕劑120保護的所有剩余金屬。結(jié)果，在觀看區(qū)域116中只留下ITO 122的圖案。在下一步驟中，如圖4所示，可從觸摸傳感器面板的邊緣區(qū)域118移除光致抗蝕劑條帶，從而暴露出受保護的金屬圖案106。在觀看區(qū)域116中僅保留透明的ITO圖案122。然后，觸摸傳感器面板經(jīng)歷鈍化步驟。在鈍化處理能夠被執(zhí)行之前，可以在金屬跡線106 (如圖5所示)之上的邊緣區(qū)域118或者在包含觀看區(qū)域116和邊緣區(qū)域118兩者的觸摸傳感器面板的整個表面上放置鈍化層122。一旦鈍化層122就位，則可以執(zhí)行鈍化處理。圖6提供了概括上述制造工藝步驟的流程圖。首先，在基底的表面上可以沉積 ITO(或其他導電材料)層和金屬層(步驟600)。接下來可以執(zhí)行光刻/蝕刻處理來圖案化 ITO和金屬層兩者，以形成感測和驅(qū)動元件以及布線跡線(步驟601)。然后，可以在觸摸傳感器面板表面的邊緣區(qū)域上放置光致抗蝕劑，以保護該區(qū)域內(nèi)的金屬圖案(步驟60幻?？梢詧?zhí)行第二光刻/蝕刻步驟來移除觸摸傳感器面板的觀看區(qū)域中的剩余金屬(步驟603)。 此后，光致抗蝕劑可被從邊緣區(qū)域移除，從而暴露下方的金屬圖案。在對觸摸傳感器面板執(zhí)行鈍化處理之前(步驟60 ，可以在觸摸傳感器面板的邊緣區(qū)域或整個表面上放置單獨的鈍化層(步驟604)。如上文中詳述的那樣，上述觸摸傳感器面板制造工藝需要多個步驟，這些步驟有可能會使所述工藝冗長且低效。此外，上述方法的另一個缺點在于設(shè)備和材料的成本至少會因為光致抗蝕劑的應用和移除以及隨后鈍化層的單獨應用而可能較高。通過使用單一材料作為光刻/蝕刻處理中的抗蝕劑以及鈍化處理過程中的鈍化層，本公開的實施例減少了步驟數(shù)以及相關(guān)聯(lián)的材料成本，由此簡化了上述處理。在一個實施例中，所述制造工藝始于對圖2所示的層結(jié)構(gòu)的一個或兩個表面上的金屬層和ITO(或者其他導電材料)層實施相同的光刻/蝕刻圖案化步驟，雖然在其他實施例中也可以使用光刻/蝕刻之外的其他處理來形成圖案。接下來，與圖3所示在觸摸傳感器面板的邊緣區(qū)域放置光致抗蝕劑(或是取決于蝕刻方法的其他類型的抗蝕劑)條帶以在蝕刻過程中保護沿著所述邊緣的金屬跡線不同，如圖7所示，可以在面板400的邊緣區(qū)域418 放置同時充當光致抗蝕劑(或是取決于蝕刻方法的其他類型的抗蝕劑)以及鈍化層的抗蝕 /鈍化材料420。該抗蝕/鈍化材料420例如可以是來自DuPont成像材料的Ristoil 系列或是來自Asahi Kasei e_材料的SUNFORT 系列的干膜抗蝕劑(DFR)，或者是其他任何可以充當抗蝕劑和鈍化材料的適當材料。抗蝕/鈍化材料420可以采用諸如絲網(wǎng)印刷和 DFR方法之類的公知印制方法印制在邊緣區(qū)域上?？刮g/鈍化材料420可以覆蓋觸摸傳感器面板的邊緣區(qū)域中的圖案化金屬跡線406，而且可以暴露觀看區(qū)域416中的金屬圖案430 而沒有任何保護。在下一個步驟中，如圖8所示，可以執(zhí)行第二光刻/蝕刻步驟，以移除面板400的觀看區(qū)域416中的金屬圖案430，雖然在其他實施例中也可以使用光刻/蝕刻之外的其他處理來移除圖案。由于抗蝕/鈍化材料420可以充當光致抗蝕劑，因此不會蝕刻掉邊緣區(qū)域 418中的金屬跡線406。這個步驟與圖3示出的步驟相似。使用上述方法，圖4和5所示的下兩個步驟是從邊緣區(qū)域移除光致抗蝕劑，并在隨后放置用于鈍化步驟的鈍化層。與此相反，由于抗蝕/鈍化材料420還可以充當鈍化層，因此可以消除現(xiàn)有方法中的移除光致抗蝕劑和放置鈍化層的步驟。由此，抗蝕/鈍化材料420 將會永久保留在邊緣區(qū)域418上，而不會被移除或替換。也就是說，可以在第二光刻/蝕刻步驟之后進行鈍化處理，其間沒有任何額外的步驟。圖9是示出了根據(jù)上述實施例的觸摸傳感器面板制造工藝的示例性步驟的流程圖。首先，可以在基底的一個或兩個表面上沉積ITO(或其他導電材料)層和金屬層(步驟 900)。接下來，執(zhí)行光刻/蝕刻處理來圖案化ITO和金屬層兩者，以形成觸摸傳感器面板的驅(qū)動和感測元件(步驟901)，雖然在其他實施例中也可以使用光刻/蝕刻之外的其他處理來移除圖案。前面這兩個步驟與現(xiàn)有制造工藝中的步驟可以是相同的(例如參見圖6中的步驟600和601)。然后，可以在觸摸傳感器面板的邊緣區(qū)域上放置抗蝕/鈍化材料，以在后續(xù)的光刻/蝕刻處理過程中保護該區(qū)域的金屬圖案(步驟90幻。這種抗蝕/鈍化材料與通常使用的光致抗蝕劑的不同之處在于該具體材料不但可以在光刻/蝕刻過程中充當掩模，還可以在鈍化過程中充當鈍化層。在將這種雙用途材料放置就位之后，可以執(zhí)行第二光刻/蝕刻處理，以便從面板的觀看區(qū)域移除金屬(步驟90 ，雖然在其他實施例中也可以使用光刻/蝕刻之外的其他處理來移除金屬。由于該材料還可以充當鈍化層，因此可以在不需要首先移除光致抗蝕劑并在邊緣區(qū)域或整個表面上放置鈍化層的情況下執(zhí)行鈍化處理 (步驟904)。一般來說，本公開的實施例可以減少觸摸傳感器面板的制造工藝中需要的步驟數(shù)。更重要的是，通過使用單一材料作為光刻/蝕刻處理過程中的光致抗蝕劑掩模以及鈍化過程中的鈍化層兩者，可以降低與制造工藝中的印制和移除額外材料的處理相關(guān)聯(lián)的材料成本及操作成本。結(jié)果，整個制造工藝可以更為有效，并且可以降低包含觸摸傳感器面板的成品設(shè)備的總成本。如前所述，觸摸傳感器面板檢測到的信號可被傳遞到柔性電路以供進一步的處理，由此確定例如在觸摸傳感器面板上檢測到的一次或多次觸摸的屬性和位置。在一個實施例中，信號可被傳遞到連結(jié)在面板邊緣區(qū)域附近或其內(nèi)部的區(qū)的柔性電路。該柔性電路通?？梢赃B結(jié)到面板的金屬層或ITO (或其他導電材料)層。但是，一旦觸摸傳感器面板表面經(jīng)歷鈍化處理，并且鈍化層已在金屬層和ITO層的上方沉積，那么將很難或者無法將柔性電路連結(jié)到面板。在上述實施例中，一旦用作抗蝕劑和鈍化層兩者的材料被沉積，那么該材料能夠永久保留在邊緣區(qū)域之上。換句話說，該材料可能無法在鈍化處理之前被移除或替換以允許保留可能的連結(jié)區(qū)域。因此，存在著將柔性電路與抗蝕劑下方的金屬/ITO層相連結(jié)的問題。在下文中提供了三種不同的解決方案，其中即便在將抗蝕劑/鈍化層被永久性地放置在面板邊緣區(qū)域上的情況下，這些解決方案也會通過確保在處理中保留連結(jié)區(qū)域來解決這個問題。第一個實施例包括在將抗蝕/鈍化材料印制到連結(jié)區(qū)域上之前，在該區(qū)域上印制臨時的連結(jié)掩模。圖10-14提供的是關(guān)于該方法的逐步驟例示。圖10顯示了示例性觸摸傳感器面板1000的頂視圖，其中該面板具有沉積在其表面上的圖案化ITO(或其他導電材料)層和金屬層(圖案未在該圖中顯示)。圖案化處理可以通過傳統(tǒng)的光刻/蝕刻處理或其他處理來執(zhí)行。在下一步驟中，如圖11所示，可以在觸摸傳感器面板1000的連結(jié)區(qū)域之上放置臨時掩模(例如條帶掩模)1010，以便保護該區(qū)域下方的金屬層。一旦臨時掩模就位，就可以如圖12所示，在面板1000的整個邊緣區(qū)域上印制抗蝕劑/鈍化層1020。由于連結(jié)區(qū)域被臨時掩模1010(未在圖12中顯示)覆蓋，因此在這個具體區(qū)域中，抗蝕劑/鈍化層1020不會直接附著于金屬層。相反地，抗蝕劑/鈍化層 1020將會附著于臨時掩模1010。圖13示出了從面板1000的觀看區(qū)域1030移除金屬圖案的另一個金屬光刻/蝕刻步驟，雖然在其他實施例中也可以使用光刻/蝕刻之外的其他處理來移除金屬。在蝕刻處理之后，只有ITO(或其他導電材料)圖案1000會保留在觀看區(qū)域1030中。如上所述，由于抗蝕劑/鈍化層材料還可以充當鈍化層，因此在金屬光刻/蝕刻步驟之后并未將其移除。為了在連結(jié)區(qū)域1040暴露金屬層來進行后續(xù)的柔性連結(jié)處理， 如圖14所示，所述臨時掩?？杀粍冸x或以別的方式移除，從而暴露連結(jié)區(qū)域1040。由此就能夠?qū)⑦B結(jié)區(qū)域之上的抗蝕劑/鈍化層連同臨時掩模一并移除(因為它們是彼此附著的)。 在柔性連結(jié)處理過程中，柔性電路可以連結(jié)到連結(jié)區(qū)域1040中的金屬層。由于臨時掩模相對便宜，因此在蝕刻過程中使用該掩模來臨時防止連結(jié)區(qū)域中的金屬層被移除不會顯著增加整個制造工藝的材料成本，也不會降低使用上述實施例中公開的制造工藝的益處。第二種用于確保在鈍化過程之中及之后保留連結(jié)區(qū)域的方法是避免將抗蝕/鈍化材料完全印刷在連結(jié)區(qū)域上。如圖15所示，在對金屬和ITO(或其他導電的材料)層執(zhí)行光刻/蝕刻(或其他類似的處理)以形成圖案之后，抗蝕/鈍化材料1020'可被印制在除了被保留用于稍后在制造工藝中進行柔性連結(jié)處理的部分1040'之外的面板的邊緣區(qū)域上，由此暴露連結(jié)區(qū)域中的金屬層。接下來，可以執(zhí)行第二金屬光刻/蝕刻(或其他類似處理)，從而移除不受抗蝕/鈍化材料1020'保護的區(qū)域中的金屬。由于在本實施例中連結(jié)區(qū)域1040'沒有受到抗蝕/鈍化材料1020'的保護，因此如圖16所示，這一光刻/蝕刻處理不但移除了觀看區(qū)域1030'中的金屬圖案，還移除了連結(jié)區(qū)域1040'中的金屬層。結(jié)果，圖案化的ITO(或其他導電材料)層是暴露在觀看區(qū)域1030'和連結(jié)區(qū)域1040’兩者中的層。在本實施例中，柔性電路可被直接連結(jié)到連結(jié)區(qū)域1040'中的暴露的ITO層。在第三實施例中，柔性連結(jié)區(qū)域可以保留在觸摸傳感器面板1000"的擴展區(qū)域 1050中，而不是先前實施例中的邊緣區(qū)域1040之內(nèi)。如圖17所示，擴展區(qū)域1050可以是從觸摸傳感器面板1000"的一側(cè)伸出的“柔性尾部”1050。在該實施例中，可以在包含了擴展區(qū)域1050的表面的觸摸傳感器面板1000"的表面上沉積ITO(或其他導電材料)層和金屬層。可以照常執(zhí)行第一光刻/蝕刻步驟(或類似的處理)，以便在ITO和金屬層中形成圖案。如圖18所示，在蝕刻掉面板觀看區(qū)域1030"的金屬模型之前，可以將抗蝕/鈍化材料1020"印制在觸摸傳感器面板1000"的邊緣區(qū)域1020"上，并且可以可選地將其印制在擴展區(qū)域(即“柔性尾部”)的一部分上。擴展區(qū)域1050的至少一部分1060可以不被抗蝕劑/鈍化層1020"覆蓋。第二光刻/蝕刻步驟(或其他類似處理)可以移除擴展區(qū)域中未被抗蝕/鈍化材料1020"覆蓋的觀看區(qū)域1030以及擴展區(qū)域(即“柔性尾部”) 的部分1060內(nèi)的金屬。如圖19所示，圖案化的ITO (或其他導電材料)層在這些暴露區(qū)域 1030"、1060中可以是暴露的。由此，在后續(xù)的柔性連結(jié)處理過程中，柔性電路可以直接連結(jié)到擴展區(qū)域1050中的不受保護部分1060的ITO層。以上討論的三個實施例可以允許在仍舊保留面板(或是面板擴展區(qū)域)表面的至少一個區(qū)域用于柔性連結(jié)的同時，永久性地將抗蝕/鈍化材料置于觸摸傳感器面板之上。圖20a示出了可以包括根據(jù)本公開實施例制造的觸摸傳感器面板2015的示例性數(shù)字媒體播放器2010。圖20b示出了可以包括根據(jù)本公開實施例制造的觸摸傳感器面板2025的示例性移動電話2020。圖20c示出了可以包含觸摸傳感器面板5M和顯示設(shè)備2030的示例性個人計算機2044。該觸摸傳感器面板20M可以是根據(jù)本公開實施例制造的SIT0/DIT0或其他面板。 顯示設(shè)備2030也可以包括根據(jù)本公開實施例制造的SIT0/DIT0或其他面板。圖20d示出了包含顯示設(shè)備2092的臺式計算機2090。該顯示設(shè)備2092可以包括根據(jù)本公開實施例制造的SIT0/DIT0或其他面板。臺式計算機2090還可以包括并入了根據(jù)本公開實施例制造的SIT0/DIT0或其他面板的虛擬鍵盤2094。圖21示出了可以包含根據(jù)上述公開的實施例制造的一個或多個DIT0/SIT0或其他觸摸傳感器面板的示例性計算系統(tǒng)2100。計算系統(tǒng)2100可以包括一個或多個面板處理器2102和外圍設(shè)備2104，以及面板子系統(tǒng)2106。外圍設(shè)備2104可以包括但不限于隨機存取存儲器(RAM)或其他類型的存儲器或存儲裝置、看門狗定時器等等。面板子系統(tǒng)2106 可以包括但不限于一個或多個感測通道2108、通道掃描邏輯2110、以及驅(qū)動器邏輯2114。 通道掃描邏輯2110可以訪問RAM 2112，自動從感測通道中讀取數(shù)據(jù)，并且為感測通道提供控制。此外，通道掃描邏輯2110可以控制驅(qū)動器邏輯2114以生成處于各種頻率和相位的激勵信號2116，并且這些信號可被有選擇地應用于觸摸傳感器面板21M的驅(qū)動線。在一些實施例中，面板子系統(tǒng)2106、面板處理器2102以及外圍設(shè)備2104可以集成在單個專用集成電路(ASIC)中。觸摸傳感器面板21 可以包括具有多條驅(qū)動線和多條感測線的電容性感測介質(zhì)，但也可以使用其他感測介質(zhì)。根據(jù)本公開的實施例，驅(qū)動和感測線之一或二者可被耦合到一薄玻璃片。所述驅(qū)動和感測線的每一個交點都可以代表一個電容性感測節(jié)點，并且可以被視為圖片元素(像素)2126，這在將觸摸傳感器面板21M視為捕獲觸摸“圖像”的情況下尤其有用。(換句話說，在面板子系統(tǒng)2106已經(jīng)確定是否在觸摸傳感器面板的每個觸摸傳感器處檢測到觸摸事件之后，可以將發(fā)生觸摸事件的多點觸摸面板中的觸摸傳感器圖案視為觸摸“圖像”(例如，手指接觸面板的圖案)。觸摸傳感器面板21M中的每條感測線都可以驅(qū)動面板子系統(tǒng)2106中的感測通道2108(在這里也被稱為事件檢測和解調(diào)電路)。計算系統(tǒng)2100還可以包括主機處理器2128，用于接收來自面板處理器2102的輸出以及基于所述輸出來執(zhí)行操作，其中所述操作可以包括但不限于移動光標或指針之類的對象，滾動或平移，調(diào)節(jié)控制設(shè)置，打開文件或文檔，查看菜單，進行選擇，執(zhí)行指令，操作與主機設(shè)備耦合的外圍設(shè)備，應答電話呼叫，發(fā)起電話呼叫，終止電話呼叫，改變音量或音頻設(shè)置，存儲諸如地址、頻繁撥打的號碼、已接來電、未接來電之類的與電話通信相關(guān)聯(lián)的信息，登錄計算機或計算機網(wǎng)絡(luò)，許可經(jīng)授權(quán)的個體訪問計算機或計算機網(wǎng)絡(luò)的受限區(qū)域， 加載與用戶首選的計算機桌面布置相關(guān)聯(lián)的用戶簡檔，許可訪問web內(nèi)容，啟動特定程序， 加密或解碼消息等等。主機處理器21 還可以執(zhí)行不與面板處理相關(guān)聯(lián)的附加功能，并且可以耦合到程序存儲裝置2132以及IXD面板之類的顯示設(shè)備2130，以便向設(shè)備用戶提供 UI。當顯示設(shè)備2130部分或者完全位于觸摸傳感器面板下方時，該顯示設(shè)備2130連同觸摸傳感器面板21M —起可以形成觸摸屏2118。應該指出的是，如上所述的一個或多個功能可以由存儲在存儲器(例如圖21中的外圍設(shè)備2104之一)中的固件執(zhí)行并由面板處理器2102運行，或者可以存儲在程序存儲裝置2132中并由主機處理器21 來運行。所述固件可以在任何電腦可讀的存儲介質(zhì)中被存儲和/或傳輸，以供指令執(zhí)行系統(tǒng)、裝置或設(shè)備使用或與之結(jié)合，所述指令執(zhí)行系統(tǒng)、 裝置或設(shè)備可以是基于計算機的系統(tǒng)，包含處理器的系統(tǒng)或是可以從指令執(zhí)行系統(tǒng)、裝置或設(shè)備中取回指令以及執(zhí)行指令的其他系統(tǒng)。在本公開的上下文中，“計算機可讀存儲介質(zhì)”可以是能夠包含或存儲供指令執(zhí)行系統(tǒng)、裝置或設(shè)備使用或與之結(jié)合的程序的任何介質(zhì)。所述計算機可讀存儲介質(zhì)可以包括但不限于電子、磁性、光學、電磁、紅外或半導體系統(tǒng)、裝置或設(shè)備，便攜式計算機磁盤(磁性)，隨機存取存儲器(RAM)(磁性)，只讀存儲器 (ROM)(磁性)，可擦可編程只讀存儲器(EPROM)(磁性)，諸如CD、CD-R、CD-RW、DVD、DVD-R 或DVD-RW之類的便攜光盤，或是閃存，例如緊湊型閃存卡、安全數(shù)字卡、USB存儲設(shè)備、記憶棒等等。所述固件還可以在任何傳播介質(zhì)內(nèi)部傳播，以供指令執(zhí)行系統(tǒng)、裝置或設(shè)備使用或與之結(jié)合，所述指令執(zhí)行系統(tǒng)、裝置或設(shè)備可以是基于計算機的系統(tǒng)，包含處理器的系統(tǒng)或是可以從指令執(zhí)行系統(tǒng)、裝置或設(shè)備中取回指令以及執(zhí)行指令的其他系統(tǒng)。在本公開的上下文中，“傳輸介質(zhì)”可以是能夠傳遞、傳播或傳輸供指令執(zhí)行系統(tǒng)、裝置或設(shè)備使用或與之結(jié)合的程序的任何介質(zhì)。所述傳輸可讀介質(zhì)可以包括但不限于電子、磁性、光學、電磁或紅外的有線或無線傳播介質(zhì)。雖然參考附圖對本公開的各實施例進行了全面描述，但是應該指出，不同的變化和修改對本領(lǐng)域技術(shù)人員來說將變得顯而易見。這些變化和修改應該被理解成是被包含在所附權(quán)利要求定義的本公開的實施例的范圍之內(nèi)。
權(quán)利要求
1.一種制造觸摸傳感器面板的方法，包括 提供用于觸摸傳感器面板的基底； 將導電材料層沉積在基底的頂面上； 將金屬層沉積在導電材料層頂上；將抗蝕劑附著于金屬層的第一區(qū)域，所述抗蝕劑還適于在鈍化過程中充當鈍化層； 從第一區(qū)域以外的金屬層移除金屬；以及在保持所附著的抗蝕劑完好的同時在基底上執(zhí)行鈍化處理。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法，其中抗蝕劑是光致抗蝕劑。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法，其中抗蝕劑是熱致抗蝕劑。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法，其中從金屬層移除金屬是通過光刻完成的。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法，其中從金屬層移除金屬是通過蝕刻完成的。
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法，還包括在將抗蝕劑附著于金屬層的第一區(qū)域之前，在金屬層的第一區(qū)域的連結(jié)區(qū)域上應用臨時條帶掩模；以及移除臨時條帶掩模，以便暴露用于柔性電路連結(jié)的連結(jié)區(qū)域。
7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的方法，還包括將柔性電路連結(jié)到連結(jié)區(qū)域。
8.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法，其中金屬層的第一區(qū)域不包括為柔性電路連結(jié)保留的連結(jié)區(qū)域。
9.根據(jù)權(quán)利要求8所述的方法，其中連結(jié)區(qū)域位于觸摸傳感器面板的擴展區(qū)域上。
10.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法，還包括圖案化導電材料層和金屬層，以便形成觸摸傳感器面板的驅(qū)動和感測元件。
11.根據(jù)權(quán)利要求10所述的方法，其中圖案化處理使用的是干膜抗蝕劑(DFR)。
12.根據(jù)權(quán)利要求10所述的方法，其中圖案化處理是通過蝕刻完成的。
13.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法，其中導電材料層和金屬層是被同時沉積的。
14.一種制造觸摸傳感器面板的方法，包括 在基底上形成多條跡線；將第一材料沉積在跡線的第一部分上，所述第一材料適于充當光致抗蝕劑和鈍化層兩者；移除那些不被第一材料覆蓋的跡線；以及在保持所沉積的第一材料完好的同時鈍化所述基底。
15.根據(jù)權(quán)利要求14所述的方法，其中跡線的移除是通過光刻完成的。
16.根據(jù)權(quán)利要求14所述的方法，其中跡線的移除是通過蝕刻完成的。
17.根據(jù)權(quán)利要求14所述的方法，還包括在將第一材料沉積在跡線的第一部分上之前，在跡線的連結(jié)區(qū)域上應用臨時條帶掩模；以及移除所述臨時條帶掩模，以便暴露用于柔性電路連結(jié)的連結(jié)區(qū)域。
18.根據(jù)權(quán)利要求14所述的方法，其中跡線的第一部分不包括為柔性電路連結(jié)保留的連結(jié)區(qū)域。
19.根據(jù)權(quán)利要求18所述的方法，其中連結(jié)區(qū)域位于觸摸傳感器面板的擴展區(qū)域上。
20.根據(jù)權(quán)利要求14所述的方法，其中跡線是銅制的。
全文摘要
公開了一種用于制造觸摸傳感器面板的方法。該方法包括提供用于觸摸傳感器面板的基底；將導電材料層沉積在基底的頂面上；將金屬層沉積在導電材料層頂上；將抗蝕劑附著于金屬層的第一區(qū)域，所述抗蝕劑還被適于在鈍化過程中充當鈍化層；從第一區(qū)域以外的金屬層移除金屬；以及在保持所附著的抗蝕劑完好的同時在基底上執(zhí)行鈍化處理。
文檔編號G06F3/041GK102346593SQ201110214648
公開日2012年2月8日 申請日期2011年7月29日 優(yōu)先權(quán)日2010年7月30日
發(fā)明者S·莫哈帕特拉, 仲正中, 黃麗麗 申請人:蘋果公司