專利名稱：增量式布局分析的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明用于布局設(shè)計數(shù)據(jù)的增量式分析。本發(fā)明的各方面特別有益于基于前次分 析的結(jié)果，例如設(shè)計規(guī)則檢查分析或設(shè)計可制造性分析的結(jié)果來分析布局設(shè)計數(shù)據(jù)中的修改。
背景技術(shù)：
電子電路，例如集成微電路，被使用到汽車、微波、個人計算機(jī)等各種產(chǎn)品中。典型的從設(shè)計到制造微電路器件過程包括眾人所知的“設(shè)計流程”的很多步驟。設(shè)計流程的特定步驟通常取決于微電路的種類、其復(fù)雜性、設(shè)計團(tuán)隊和制造微電路的微電路制造商或廠商。通常，軟件和硬件“工具”在設(shè)計流程的各個步驟，通過運行軟件仿真器和/或硬件仿真器，對設(shè)計進(jìn)行驗證，并更正設(shè)計中的錯誤或改進(jìn)設(shè)計。一些步驟在大多數(shù)設(shè)計流程中是常見的。在初始階段，一個新電路的技術(shù)要求被轉(zhuǎn)換為邏輯設(shè)計，有時又稱作電路的寄存器傳輸級(RTL)描述。使用邏輯設(shè)計，電路被描述成硬件寄存器之間的信號交換以及對這些信號的邏輯操作。邏輯設(shè)計通常利用硬件描述語言(HDL)，例如高速集成電路硬件描述語言(VHDL)。然后分析電路的邏輯以確定其將正確執(zhí)行該電路所期望的功能。這一分析有時被稱作“功能驗證”。在確認(rèn)邏輯設(shè)計的正確性后，通過綜合軟件將邏輯設(shè)計轉(zhuǎn)換為器件設(shè)計。器件設(shè)計通常用原理圖或網(wǎng)表的形式來描述電路中使用的特定電子器件(例如晶體管、電阻器和電容器)以及它們之間的互連。器件設(shè)計通常相當(dāng)于常規(guī)電路圖顯示的代表層次。在這一階段，使用每個器件假設(shè)的速度特性，可對部分電路進(jìn)行初步的時序估算。另外，分析電子器件間的關(guān)系以確定器件設(shè)計所描述的電路會正確執(zhí)行所期望的功能。這一分析有時被稱作“形式驗證”。當(dāng)建立電路器件之間的關(guān)系后，設(shè)計被再次轉(zhuǎn)換為描述特定幾何元素的物理設(shè)計。這種類型的設(shè)計通常被稱作“布局”設(shè)計。幾何元素通常為多邊形，其限定將在各種材料中創(chuàng)建的結(jié)構(gòu)以便制造電路。通常，設(shè)計者將選擇若干組代表電路器件元件(如接觸件、柵等)的幾何元素并把它們放置在設(shè)計區(qū)域中。這些幾何元素組可以是定制設(shè)計的、從以前創(chuàng)建的設(shè)計庫中選擇的、或二者的某種組合。然后在幾何元素間走線，這些線組成了用于互連電子器件的布線。布局工具(通常稱作“布局布線”工具)，如Mentor Graphics的ICStation或Cadence的Virtuoso,經(jīng)常用于執(zhí)行這些任務(wù)。對于一個布局設(shè)計，電路的每個物理層在設(shè)計中均有對應(yīng)的層表不，層表不中描述的幾何元素限定將組成電路器件的電路器件元件的相對位置。因此，注入層表示中的幾何元素限定將發(fā)生(不發(fā)生)摻雜的區(qū)域，金屬層表示中的幾何元素限定在金屬層中連接電路器件的導(dǎo)線將形成的位置。進(jìn)一步地，可以修改布局設(shè)計以利用一個或更多分辨率增強(qiáng)技術(shù)(RET)。這些技術(shù)改善光刻制造工藝中根據(jù)布局設(shè)計創(chuàng)建的光罩/掩膜的可用分辨率。一種此類的修改工藝，有時稱作光學(xué)鄰近修正(OPC)工藝，可將諸如襯線或印壓之類的特性加入到已有的布局設(shè)計數(shù)據(jù)中，以便改善根據(jù)修改后的布局設(shè)計數(shù)據(jù)生成的掩膜的分辨率。例如，光學(xué)鄰近修正工藝可修改矩形多邊形，從而包括“錘頭”外形以在多邊形拐角處降低光刻圖像的圓形程度。通常設(shè)計者會在布局設(shè)計數(shù)據(jù)被定稿以創(chuàng)建光刻掩膜前執(zhí)行一個或更多過程以 對其進(jìn)行分析。例如，分析布局設(shè)計數(shù)據(jù)以確認(rèn)其準(zhǔn)確地代表電路器件，并且它們之間的關(guān)系正如器件設(shè)計中所描述的。這種類型的分析通常稱為“布局經(jīng)原理圖檢查”。分析布局設(shè)計數(shù)據(jù)還可確認(rèn)其遵從各種設(shè)計要求，例如，在幾何元素間提供最小間距。這類分析一般稱為“設(shè)計規(guī)則檢查”。進(jìn)一步地，分析布局設(shè)計可識別一些可行的修改，以補(bǔ)償制造過程的局限。例如，使用者可分析布局設(shè)計數(shù)據(jù)以確定是否可移動或更改一個或更多幾何元素從而改善其可制造性，或是否可為在制造過程期間有較高可能產(chǎn)生故障的幾何元素添加冗余幾何元素到設(shè)計中作為備份。這類分析一般稱作“設(shè)計可制造性檢查”或“光刻友好設(shè)計檢查”。類似地，在光學(xué)鄰近修正工藝之后，設(shè)計者可分析布局設(shè)計數(shù)據(jù)以確定任何進(jìn)一步的增強(qiáng)修改是否必要。取決于分析過程的結(jié)果，設(shè)計者可進(jìn)一步修改布局設(shè)計數(shù)據(jù)。例如，如果設(shè)計規(guī)則檢查分析過程識別出兩個幾何元素放置得過近，則設(shè)計者可通過移動幾何元素增加間距來更改布局設(shè)計數(shù)據(jù)。類似地，如果設(shè)計可制造性分析過程識別出可復(fù)制以增加冗余度的幾何元素(例如，對過孔)，則設(shè)計者可在設(shè)計中添加一個或更多復(fù)制的幾何元素。在對布局設(shè)計數(shù)據(jù)修改之后，設(shè)計中可重復(fù)進(jìn)行一個或更多期望的分析過程以確保更改沒有產(chǎn)生任何新問題。這種修改和分析的周期可重復(fù)多次，直到設(shè)計者對布局設(shè)計數(shù)據(jù)分析的結(jié)果感到滿意。在布局設(shè)計定稿后，其被轉(zhuǎn)換成掩膜或光罩寫入工具可利用的格式，從而創(chuàng)建掩膜或光罩以用于光刻制造過程。掩膜和光罩通常通過使用電子或激光束(或電子束或激光束陣列)曝光空白的掩膜或光罩襯底的工具來制造。然而大部分掩膜寫入工具只能夠“寫”某種類型的多邊形，例如右三角形、矩形或其它不規(guī)則四邊形。此外，工具的可用最大束(或束陣列)的尺寸在物理上限制了多邊形的尺寸。因此，布局設(shè)計中較大的幾何元素，或非右三角形、非矩形或非不規(guī)則四邊形的幾何元素(這些通常是布局設(shè)計中主要的幾何元素)必須“分塊”成掩膜或光罩寫入工具能夠?qū)懙妮^小的、更基本的多邊形。這一過程有時稱作“掩膜數(shù)據(jù)準(zhǔn)備”。在布局設(shè)計分小塊之后，分塊的布局設(shè)計數(shù)據(jù)可轉(zhuǎn)換成掩膜或光罩寫入工具兼容的格式。這些格式的例子有Applied Materials Company旗下ETEC制造的光柵掃描機(jī)所支持的MEBES、用于Nuflare，JE0L和東芝機(jī)器的各種向量掃描格式，如VSB 11或VSB 12等。寫后的掩膜或光罩繼而可被用于光刻過程，通過用光線或其它放射線曝光晶片的選定區(qū)域以在晶片上生產(chǎn)所期望的集成電路器件。如上所述，布局設(shè)計者可以重復(fù)分析和修改周期多次。然而多次分析過程耗費時間并需要大量的處理資源。即使使用了分布式計算系統(tǒng)，例如，在先進(jìn)的微處理器設(shè)計上運行一次設(shè)計規(guī)則檢查過程的迭代也需要幾個小時。此外，使用常規(guī)設(shè)計規(guī)則檢查技術(shù)，設(shè)計者需要運行設(shè)計規(guī)則檢查過程10到15次直至設(shè)計滿意為止。進(jìn)一步地，設(shè)計者預(yù)期未來微電路設(shè)計和分析這些設(shè)計的標(biāo)準(zhǔn)將繼續(xù)變得更為復(fù)雜。

發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明的各方面涉及增量式分析布局設(shè)計數(shù)據(jù)的技術(shù)。本發(fā)明的某些實現(xiàn)特別適用于在啟動了常規(guī)分析過程之后，即在使用一套初始分析標(biāo)準(zhǔn)分析了整個布局設(shè)計數(shù)據(jù)之后。使用本發(fā)明的各種實施例，隨后可僅對布局設(shè)計數(shù)據(jù)的一部分、使用分析標(biāo)準(zhǔn)的子集、或二者的某個組合來執(zhí)行增量分析。例如，使用本發(fā)明的一些實現(xiàn)，分析可限于初始(或其 它前次)分析過程中識別的錯誤、初始(或其它前次)分析過程后做出的布局設(shè)計數(shù)據(jù)中的修改、設(shè)計者指定的特別區(qū)域、或其某種組合。進(jìn)一步地，本發(fā)明的一些實現(xiàn)可以僅使用相關(guān)于所分析的部分設(shè)計數(shù)據(jù)的初始分析標(biāo)準(zhǔn)的子集、設(shè)計數(shù)據(jù)在初始(或其它前次)分析過程中沒有通過的初始分析標(biāo)準(zhǔn)的子集、設(shè)計者選擇的初始分析標(biāo)準(zhǔn)的子集、或其某種組合來執(zhí)行分析過程。使用本發(fā)明的各種實施例，增量分析過程(也就是，僅使用初始布局設(shè)計數(shù)據(jù)的選定部分、使用初始分析標(biāo)準(zhǔn)的子集、或使用二者的分析過程)可在初始(或其它前次)分析過程結(jié)束前啟動。例如，設(shè)計者可在提供實時分析結(jié)果的初始分析過程仍在繼續(xù)時利用它。當(dāng)識別出布局設(shè)計數(shù)據(jù)中的錯誤時，設(shè)計者可修改設(shè)計以糾正錯誤。然后設(shè)計者可啟動增量設(shè)計過程以確認(rèn)錯誤被糾正，并且/或此修改沒有產(chǎn)生新的錯誤，即便初始分析過程仍然在繼續(xù)分析布局設(shè)計數(shù)據(jù)。


圖I示出了根據(jù)本發(fā)明實施例的包含主計算機(jī)及一個或多個遠(yuǎn)程計算機(jī)的計算機(jī)網(wǎng)絡(luò)的框圖；圖2示出了根據(jù)本發(fā)明實施例的處理器單元的框圖；圖3示出了根據(jù)本發(fā)明實施例的增量分析工具的框圖；圖4A和圖4B示出了根據(jù)本發(fā)明實施例的增量分析工具的操作的流程圖；圖5示出了根據(jù)本發(fā)明實施例的由用戶界面模塊提供的用戶界面的圖示；圖6A-圖6C示出了根據(jù)本發(fā)明實施例的基于布局設(shè)計中的錯誤標(biāo)記創(chuàng)建光環(huán)區(qū)域的示例的圖示；圖7A-圖7D示出了根據(jù)本發(fā)明實施例的由使用者選擇光環(huán)區(qū)域的尺寸和/或形狀的示例的圖示；圖8示出了根據(jù)本發(fā)明實施例的用戶界面的圖示；以及圖9A-圖9B示出了根據(jù)本發(fā)明實施例的用戶界面的圖示。
具體實施例方式布局設(shè)計數(shù)據(jù)的組織如這里所用，術(shù)語“設(shè)計”的意思包括描述整個微器件的數(shù)據(jù)，例如集成電路器件或微機(jī)電系統(tǒng)(MEMS)器件。不過，這個術(shù)語的意思還包括描述整個微電路中一個或更多個組成部分的較小組數(shù)據(jù)，例如集成電路器件的層，或甚至是集成電路器件的層的一部分。進(jìn)一步地，術(shù)語“設(shè)計”的意思還包括描述多個微器件的數(shù)據(jù)，例如將用于創(chuàng)建掩膜或光罩的數(shù)據(jù)，以便在單個襯底上同時形成多個微型器件。布局設(shè)計數(shù)據(jù)可以是任何期望的格式，例如，圖形數(shù)據(jù)系統(tǒng)II (GDSII)數(shù)據(jù)格式或由國際半導(dǎo)體設(shè)備與材料(SEMI)提議的開放式工藝圖系統(tǒng)交換標(biāo)準(zhǔn)(OASIS)數(shù)據(jù)格式。其它格式包括Open Access開源格式、Synopsys公司的 MiIkywayJP Mentor Graphics 公司的 EDDM。新集成電路設(shè)計可包含在邏輯電路、存儲電路、可編程現(xiàn)場陣列和其它電路器件中百萬量級的晶體管、電阻器、電容器或其它電子結(jié)構(gòu)之間的互連。為了允許計算機(jī)更容 易地創(chuàng)建和分析這些大型數(shù)據(jù)結(jié)構(gòu)(并允許人類使用者更好地理解這些數(shù)據(jù)結(jié)構(gòu))，它們經(jīng)常被層次化地組織成通常稱為“單元”的較小結(jié)構(gòu)。因此，對于微處理器或閃存設(shè)計，構(gòu)成存儲電路中用于存儲單個比特的所有晶體管可被分類為單個“比特存儲”單元。不用單獨列舉每個晶體管，構(gòu)成單比特存儲電路的一組晶體管可作為一個獨體而被集體引用和操作。類似地，描述一個相對較大的16比特存儲寄存器電路的設(shè)計數(shù)據(jù)可被分類為一個單獨單元。這個高層次“寄存器單元”繼而可包含16個比特存儲單元和描述其它各類電路的設(shè)計數(shù)據(jù)，如用于傳輸數(shù)據(jù)進(jìn)出每個比特存儲單元的輸入/輸出電路的設(shè)計數(shù)據(jù)。類似地，描述一個128KB存儲陣列的設(shè)計數(shù)據(jù)可簡明地描述為僅64000個寄存器單元的組合，并包含描述其自身各類電路的設(shè)計數(shù)據(jù)，如傳輸數(shù)據(jù)進(jìn)出每個寄存器單元的輸入/輸出電路的設(shè)計數(shù)據(jù)。通過把微電路設(shè)計數(shù)據(jù)分類成層次化單元，可以對大型數(shù)據(jù)結(jié)構(gòu)進(jìn)行更加快速有效的處理。例如，電路設(shè)計者通常分析設(shè)計，以確定設(shè)計中描述的每個電路特性都遵從將要把設(shè)計制造成微電路的廠商指定的設(shè)計規(guī)則。針對上面這個例子，不必分析整個128KB存儲陣列的每個特性，設(shè)計規(guī)則檢查過程可分析單個比特單元的特性。檢查的結(jié)果將適用于所有的單個比特單元。一旦證實單個比特單元的一個實例遵從設(shè)計規(guī)則，則設(shè)計規(guī)則檢查過程可簡單地通過分析寄存器單元的額外各種電路(這些電路也可能由一個或更多層次單元構(gòu)成)的特性從而完成對該寄存器單元的分析。這個檢查的結(jié)果將適用于所有的寄存器單元。一旦證實寄存器單元的一個實例遵從設(shè)計規(guī)則，則設(shè)計規(guī)則檢查軟件應(yīng)用可簡單地通過分析128KB存儲陣列中額外各種電路的特性從而完成對整個存儲陣列的分析。因此，大型數(shù)據(jù)結(jié)構(gòu)的分析可精簡成對相對較少數(shù)目的構(gòu)成數(shù)據(jù)結(jié)構(gòu)的單元的分析。使用本發(fā)明的各種實施例，布局設(shè)計數(shù)據(jù)將包含兩種不同類型的數(shù)據(jù)“繪圖層”設(shè)計數(shù)據(jù)和“導(dǎo)出層”設(shè)計數(shù)據(jù).繪圖層數(shù)據(jù)描述用來組成材料層中的結(jié)構(gòu)以產(chǎn)生集成電路的幾何特征。繪圖層數(shù)據(jù)通常包含用于構(gòu)成金屬層、擴(kuò)散層和多晶硅層中的結(jié)構(gòu)的多邊形。導(dǎo)出層包含由繪圖層數(shù)據(jù)和其它導(dǎo)出層數(shù)據(jù)的組合組成的特征。例如，對于上面描述的晶體管柵，描述柵的導(dǎo)出層設(shè)計數(shù)據(jù)將從多晶硅材料層中的多邊形與擴(kuò)散材料層中的多邊形的交接處導(dǎo)出。例如，由設(shè)計規(guī)則檢查模塊執(zhí)行的設(shè)計規(guī)則檢查過程通常執(zhí)行兩種操作確認(rèn)設(shè)計數(shù)據(jù)值是否遵從指定參數(shù)的“檢查”操作和創(chuàng)建導(dǎo)出層數(shù)據(jù)的“導(dǎo)出”操作。晶體管柵設(shè)計數(shù)據(jù)因此可通過下面所示的導(dǎo)出操作來創(chuàng)建棚=擴(kuò)散層AND多晶娃層這ー操作的結(jié)果將是識別擴(kuò)散層多邊形與多晶硅層多邊形的所有交接處的“層”數(shù)據(jù)。同樣地，通過在擴(kuò)散層中摻雜n型材料而形成的p型晶體管柵可通過下面所示的導(dǎo)出操作來識別p型柵=n型井AND柵這ー操作的結(jié)果將是識別擴(kuò)散層中的多邊形被n型材料摻雜的所有晶體管柵(也就是，擴(kuò)散層多邊形和多晶硅層多邊形的交接處)的另一“層”數(shù)據(jù)。由設(shè)計規(guī)則檢查模塊執(zhí)行的檢查操作將為數(shù)據(jù)設(shè)計值限定參數(shù)或參數(shù)范圍。例如，使用者可能希望確保沒有任何金屬連接線與另ー個連接線的距離小于ー個微米。這類 分析可通過下面所示的檢查操作來執(zhí)行外部金屬〈I這ー操作的結(jié)果將識別金屬層設(shè)計數(shù)據(jù)中與同層另ー多邊形間距小于一個微米的每個多邊形。盡管上述操作利用繪圖層數(shù)據(jù)，但是對導(dǎo)出層數(shù)據(jù)同樣也可執(zhí)行檢查操作。例如，如果使用者希望確認(rèn)沒有晶體管柵與另一個柵之間的距離在ー微米之內(nèi)，則設(shè)計規(guī)則檢查過程可包含下面的檢查操作外部柵〈I這ー操作的結(jié)果將識別代表了被放置在與另ー柵間距小于ー個微米位置的柵的所有柵設(shè)計數(shù)據(jù)。然而，應(yīng)注意到只有在從繪圖層設(shè)計數(shù)據(jù)中識別柵的導(dǎo)出操作被執(zhí)行后，這個檢查操作才可執(zhí)行。操作環(huán)境本公開技術(shù)包含了在這里以単獨方式以及它們的各種組合與子組合方式描述的系統(tǒng)和方法實施例的所有新穎的和非顯而易見的特性和特征。公開實施例的特性和特征可以單獨方式或相互之間的各種新穎和非顯而易見的組合與子組合方式使用。盡管本公開方法的操作以ー種特定次序的方式進(jìn)行說明以方便展示，但是應(yīng)當(dāng)理解這種說明方式包含了次序的重新調(diào)整，除非下面的特定語言詳細(xì)解釋要求某種特定次序。例如，以順序的方式說明的操作在一些情況下可調(diào)整次序或并行執(zhí)行。此外，為了簡單起見，公開的流程圖和框圖通常不顯示某些特定的方法可以和另外方法一起使用的各種途徑。另外，詳細(xì)說明有時使用詞語如“確定”來說明本公開的方法。這些詞語是對執(zhí)行的實際操作的高度概括。相對于這些術(shù)語的實際操作基于特定的實現(xiàn)而不同，并可很容易地被所屬領(lǐng)域的技術(shù)人員所辨別。這里說明的方法可使用存儲在計算機(jī)可讀介質(zhì)并由計算機(jī)執(zhí)行的軟件來實現(xiàn)。例如，一些公開的方法可作為電子設(shè)計自動化(EDA)工具的一部分來實現(xiàn)。這些方法可在單獨的計算機(jī)或聯(lián)網(wǎng)計算機(jī)上執(zhí)行。為清楚起見，只說明與這些公開技術(shù)有關(guān)的軟件部分；省略了所屬領(lǐng)域已知的產(chǎn)品細(xì)節(jié)。基于本發(fā)明實施例的各種電子設(shè)計自動化過程的執(zhí)行可使用通過ー個或更多可編程計算設(shè)備執(zhí)行的計算機(jī)可執(zhí)行軟件指令來實現(xiàn)。因為本發(fā)明的這些實施例可使用軟件指令來執(zhí)行，因此將首先描述可利用本發(fā)明各種實施例的通用可編程計算機(jī)系統(tǒng)的組件和操作。此外，由于ー些電子設(shè)計自動化過程的復(fù)雜性和許多電路設(shè)計的巨大規(guī)模，各種電子設(shè)計自動化工具被配置運行在可同時運行多處理線程的計算機(jī)系統(tǒng)上。將參照圖I描述包含主計算機(jī)及一個或多個遠(yuǎn)程或從屬計算機(jī)的計算機(jī)網(wǎng)絡(luò)的組件和操作。然而這個操作環(huán)境只是適用操作環(huán)境的ー個例子，并不用來限制本發(fā)明使用或功能的范圍。在圖I中，計算機(jī)網(wǎng)絡(luò)101包括主計算機(jī)103。在所顯示的例子中，主計算機(jī)103是多處理器計算機(jī)，其包括多個輸入和輸出設(shè)備105以及存儲設(shè)備107。輸入和輸出設(shè)備105可包括用于從使用者處接收輸入數(shù)據(jù)或提供輸出數(shù)據(jù)給使用者的任何設(shè)備。輸入設(shè)備可包括，例如，鍵盤、麥克風(fēng)、掃描儀或指點設(shè)備以接收使用者的輸入。輸出設(shè)備可包括顯示器、揚聲器、打印機(jī)或觸覺反饋設(shè)備。這些設(shè)備及其連接在業(yè)界已為所知，因此這里不作詳述。 存儲設(shè)備107可類似地使用主計算機(jī)103可存取的計算機(jī)可讀介質(zhì)的任何組合來實現(xiàn)。計算機(jī)可讀介質(zhì)可包括，例如，微電路存儲設(shè)備如讀寫存儲器(RAM)、只讀存儲器(ROM)、電可擦可編程只讀存儲器(EEPROM)或閃存存儲微電路設(shè)備、CD-ROM光盤、數(shù)字視頻光盤(DVD)或其它光存儲設(shè)備。計算機(jī)可讀介質(zhì)還可包括磁碟、磁帶、磁盤或其他磁性存儲設(shè)備、打孔介質(zhì)、全息存儲設(shè)備或任何其它可用于存儲期望信息的介質(zhì)。如同以下將要具體討論的，主計算機(jī)103運行軟件應(yīng)用程序，該程序執(zhí)行基于本發(fā)明各種實施例的ー個或多個操作。相應(yīng)地，存儲設(shè)備107存儲軟件指令109A，當(dāng)這些指令被執(zhí)行時，其執(zhí)行軟件應(yīng)用程序以完成ー個或多個操作。存儲設(shè)備107還存儲與軟件應(yīng)用程序一起使用的數(shù)據(jù)109B。在所顯示的實施例中，數(shù)據(jù)109B包含過程數(shù)據(jù)，軟件應(yīng)用程序使用該過程數(shù)據(jù)來執(zhí)行ー些操作，這些操作的至少一部分可以是并行的。主計算機(jī)103還包括多個處理器単元111和ー個接ロ設(shè)備113。處理器単元111可以是能夠被編程以執(zhí)行軟件指令109A的任何種類的處理器設(shè)備，不過傳統(tǒng)上是微處理器設(shè)備。例如，一個或多個處理器単元111可以是商用通用可編程微處理器，如Intel Pentium 或 Xeon 微處理器、Advanced Micro Devices Athlon 微處理器或 Motorola68K/Coldfire 微處理器?？蛇x地或附加地，一個或多個處理器単元111可以是定制制造的處理器，如被設(shè)計成可優(yōu)化執(zhí)行指定類型的數(shù)學(xué)運算的微處理器。接ロ設(shè)備113、處理器單元111、存儲設(shè)備107和輸入輸出設(shè)備105通過總線115連接在一起。使用本發(fā)明的一些實現(xiàn)，主計算設(shè)備103可利用ー個或多個含有多于ー個處理器內(nèi)核的處理器単元111。相應(yīng)地，圖2顯示了可用于本發(fā)明各種實施例的多核處理器111的例子。如圖所示，處理器単元111包括多個處理器內(nèi)核201。每個處理器內(nèi)核201包括計算引擎203和高速存儲緩存205。如所屬領(lǐng)域普通技術(shù)人員所知，計算引擎包含用于執(zhí)行各種計算功能的邏輯器件，例如提取軟件指令和執(zhí)行所提取指令中指定的動作。這些動作可包括，例如，執(zhí)行加法、減法、乘法和算術(shù)比較，執(zhí)行邏輯操作如與、或、非或和異或，和提取數(shù)據(jù)。每個計算引擎203可使用其相應(yīng)的高速存儲緩存205來快速存儲和提取數(shù)據(jù)和/或用于執(zhí)行的指令。每個處理器內(nèi)核201連接到互連207。根據(jù)處理器內(nèi)核201的體系結(jié)構(gòu)，互連207可有不同的構(gòu)造。對于一些處理器內(nèi)核201,例如Sony公司、Toshiba公司和IBM公司生產(chǎn)的Cell微處理器，互連207可以實現(xiàn)為互連總線。然而對于其它的處理器內(nèi)核201，例如位于加利福利亞州 Sunnyval 的 Advanced Micro Devices 提供的 Opteron 和 Athlon 雙核處理器，互連207可以實現(xiàn)為系統(tǒng)請求接ロ設(shè)備。對于任何一種情況，處理器內(nèi)核201通過互連207來與輸入輸出接ロ 209和存儲控制器210通信。輸入輸出接ロ 209在處理器單元201和總線115之間提供通信接ロ。類似地，存儲控制器210控制處理器單元201和系統(tǒng)存儲設(shè)備107之間的信息交換。在本發(fā)明的一些實現(xiàn)中，處理器単元201可包含額外部件，例如處理器內(nèi)核201可存取共享的高端高速緩沖存儲設(shè)備。盡管圖2顯示了本發(fā)明ー些實施例可利用的處理器単元201的ー種圖解，但是應(yīng)當(dāng)理解該圖解只是ー個代表，不應(yīng)當(dāng)作為限定。例如，本發(fā)明ー些實施例可利用具有ー個或多個Cell處理器的主計算機(jī)103。Cell處理器利用多個輸入輸出接ロ 209和多個存儲控制器210。并且，Cell處理器含有9個不同類型的處理器內(nèi)核201。特別地，其含有6個或更多協(xié)同處理器部件(SPE)和一個動カ處理器部件(PPE)。每個協(xié)同處理器部件包括ー個含有428x428比特寄存器的向量類計算引擎203、4個單精度浮點運算單元、4個整數(shù)運算單元、和存儲指令與數(shù)據(jù)的556KB本地存儲器。動カ處理器部件繼而控制協(xié)同處理器部件執(zhí)行的任務(wù)。由于這種配置，Cell處理器可執(zhí)行ー些數(shù)學(xué)操作，例如其快速傅里葉變換(FFT)的計算速度可遠(yuǎn)遠(yuǎn)超過許多常規(guī)的處理器。 還應(yīng)當(dāng)理解，在一些實現(xiàn)中，多核處理器単元111可用來代替多個分離的處理器単元111。例如，不使用6個分離的處理器単元111，本發(fā)明的備選實現(xiàn)可利用單個含有6個內(nèi)核的處理器単元111、每個處理器2個含有3個內(nèi)核的多內(nèi)核處理器単元、ー個含有4個內(nèi)核的多內(nèi)核處理器單元111加上2個分離的單內(nèi)核處理器單元111，等等。現(xiàn)在返回圖1，接ロ設(shè)備113允許主計算機(jī)103通過通信接ロ與從屬計算機(jī)117A、117BU17C. . . 117x通信。通信接ロ可以是任何可用類型的接ロ，例如包括，常規(guī)有線網(wǎng)絡(luò)連接或光纜傳輸有線網(wǎng)絡(luò)連接。通信接ロ還可以是無線連接，如無線光學(xué)連接、射頻連接、紅外連接或甚至是聲學(xué)連接。接ロ設(shè)備113根據(jù)ー個或多個通信協(xié)議，如傳輸控制協(xié)議(TCP)、用戶數(shù)據(jù)報協(xié)議(UDP)和互聯(lián)網(wǎng)協(xié)議(IP)，把來自主計算機(jī)103和每個從屬計算機(jī)117的數(shù)據(jù)和控制信號翻譯成網(wǎng)絡(luò)消息。這些以及其它常規(guī)通信協(xié)議在所屬領(lǐng)域是公知的，因此在這里不再詳述。每個從屬計算機(jī)117可包含由系統(tǒng)總線127連接在一起的存儲設(shè)備119、處理器單元121、接ロ設(shè)備123，和可選的輸入輸出設(shè)備125。如同主計算機(jī)103 —祥，從屬計算機(jī)117的可選輸入輸出設(shè)備125可包括任何常規(guī)輸入或輸出設(shè)備,例如鍵盤、指點設(shè)備、麥克風(fēng)、顯示器、揚聲器和打印機(jī)。類似地，處理器単元121可以是任何類型的常規(guī)或定制制造的可編程處理器設(shè)備。例如，一個或多個處理器単元121可以是商用通用可編程微處理器，如 Intel Pentium ⑧或Xeon 微處理器、Advanced Micro Devices Athlon 微處理器或Motorola68K/Coldfire 微處理器。或者，一個或多個處理器単元121可以是定制制造的處理器，如被設(shè)計成可優(yōu)化執(zhí)行指定類型的數(shù)學(xué)運算的微處理器。進(jìn)ー步地，ー個或多個處理器單元121可包含多個內(nèi)核，如同上面參考圖2的描述。例如，在本發(fā)明的一些實現(xiàn)中，一個或多個處理器単元121可以是Cell處理器。存儲設(shè)備119可使用上述計算機(jī)可讀介質(zhì)的任何組合來實現(xiàn)。與接ロ設(shè)備113類似，接ロ設(shè)備123容許從屬計算機(jī)117通過通信接ロ與主計算機(jī)103通信。在所顯示的例子中，主計算機(jī)103是含有多個處理器単元111的多處理器單元計算機(jī)，每個從屬計算機(jī)117含有單個處理器單元121。然而請注意，本發(fā)明的備選實現(xiàn)可以使用含有單個處理器單元111的主計算機(jī)。進(jìn)ー步地，如同前面的說明，根據(jù)ー個或多個從屬計算機(jī)117的使用需要，它們可包含多個處理器単元121。同時，盡管主計算機(jī)103和從屬計算機(jī)只顯示了單個接ロ設(shè)備113或123，但是應(yīng)當(dāng)注意在本發(fā)明的備選實施例中，計算機(jī)103、一個或多個從屬計算機(jī)117、或它們的一些組合均可以使用兩個或更多的不同接ロ設(shè)備113或123來通過多個通信接ロ進(jìn)行通信。在本發(fā)明的各種例子中，主計算機(jī)103可連接到ー個或多個外部數(shù)據(jù)存儲設(shè)備。這些外部數(shù)據(jù)存儲設(shè)備可通過使用主計算機(jī)103可存取的計算機(jī)可讀介質(zhì)的任何組合來實現(xiàn)。計算機(jī)可讀介質(zhì)可以包括，例如，微電路存儲設(shè)備如讀寫存儲器(RAM)、只讀存儲器(ROM)、電可擦可編程只讀存儲器(EEPROM)或閃存存儲 微電路設(shè)備、CD-ROM光盤、數(shù)字視頻光盤(DVD)或其它光存儲設(shè)備。計算機(jī)可讀介質(zhì)可還包括磁碟、磁帶、磁盤或其他磁性存儲設(shè)備、打孔介質(zhì)、全息存儲設(shè)備或任何其它可用于存儲期望信息的介質(zhì)。根據(jù)本發(fā)明的ー些實現(xiàn)，一個或多個從屬計算機(jī)117可以有選擇地或額外地連接到ー個或多個外部數(shù)據(jù)存儲設(shè)備上。通常，這些外部數(shù)據(jù)存儲設(shè)備包括還連接到主計算機(jī)103的數(shù)據(jù)存儲設(shè)備，但它們也可不同于主計算機(jī)103所使用的任何數(shù)據(jù)存儲設(shè)備。還應(yīng)當(dāng)理解，圖I和圖2顯示的計算機(jī)網(wǎng)絡(luò)說明只是提供ー個例子，并不用來限制本發(fā)明可選擇實施例的使用或功能的范圍。增量分析工具圖3顯示了根據(jù)本發(fā)明的各種實施例可實現(xiàn)的増量分析工具301的例子。増量分析工具301包括用戶界面模塊303、布局設(shè)計數(shù)據(jù)選擇模塊305、分析標(biāo)準(zhǔn)選擇模塊307、和分析過程模塊309。如圖所示，増量分析工具301可與布局設(shè)計數(shù)據(jù)存儲裝置311和分析標(biāo)準(zhǔn)存儲裝置313協(xié)同運作。用戶界面模塊303為使用者提供一個或多個用戶界面以用于控制布局設(shè)計數(shù)據(jù)選擇模塊305、分析標(biāo)準(zhǔn)選擇模塊307和分析過程模塊309的操作。如同在此所用，詞語“使用者”是指使用増量分析工具301來分析和修改微電路設(shè)計的任何單個人或多人。使用者可以是，例如，微電路設(shè)計的原始設(shè)計者，或是廠商里例如在把設(shè)計制造成微電路前試圖修改已有微電路設(shè)計的使用者。如同下面將要詳細(xì)討論的，一個或多個用戶界面容許使用者指示布局設(shè)計數(shù)據(jù)選擇模塊305以確定將在增量分析過程中進(jìn)行分析的布局設(shè)計數(shù)據(jù)。類似地，一個或多個用戶界面容許使用者指示分析標(biāo)準(zhǔn)選擇模塊307以確定在増量分析過程中用于分析選擇的布局設(shè)計數(shù)據(jù)的分析標(biāo)準(zhǔn)。響應(yīng)于使用者的指示，布局設(shè)計數(shù)據(jù)選擇模塊305從布局設(shè)計數(shù)據(jù)存儲裝置311中選擇布局設(shè)計數(shù)據(jù)，然后將其提供給分析過程模塊309。類似地，響應(yīng)于使用者的指示，分析標(biāo)準(zhǔn)選擇模塊307從分析標(biāo)準(zhǔn)存儲裝置313中選擇分析標(biāo)準(zhǔn)，然后將其提供給分析過程模塊309。使用所選擇的分析標(biāo)準(zhǔn)，分析過程模塊309分析所選擇的布局設(shè)計數(shù)據(jù)。増量分析工具301的操作將結(jié)合圖4A和圖4B所示的流程圖進(jìn)行具體的討論。分析和校正之前在步驟401，對布局設(shè)計數(shù)據(jù)進(jìn)行第一次電子設(shè)計自動化分析過程。分析過程可以是任何類型的已知電子設(shè)計自動化分析過程，例如布局經(jīng)原理圖檢查過程、設(shè)計規(guī)則檢查過程、設(shè)計可制造性過程、或光學(xué)鄰近修正驗證過程。使用本發(fā)明的各種實施例，該第一次分析過程可由増量分析工具301來執(zhí)行。然而使用本發(fā)明的另外ー些實施例，第一次分析過程可由増量分析工具301之外的其它ー些分析工具來執(zhí)行。如同前面提到的，在某些例子中第一次分析過程將對布局設(shè)計數(shù)據(jù)進(jìn)行“完整”分析，也就是分析過程將分析布局設(shè)計的所有或主要部分(例如一個整層)。對于完整分析，分析過程通常使用大量分析標(biāo)準(zhǔn)來分析布局設(shè)計數(shù)據(jù)。例如，如果分析過程是設(shè)計規(guī)則檢查過程，則完整分析可使用相對較大的列表或“一組”規(guī)則，布局設(shè)計數(shù)據(jù)必須遵從該規(guī)則才能通過分析。設(shè)計規(guī)則檢查過程的一組規(guī)則可包括如下規(guī)則，諸如金屬層金屬線的最小間距、多晶硅層相鄰平行線的最大長度、另ー金屬層中結(jié)構(gòu)的最小密度，等等。這些規(guī)則組收集自設(shè)計者的經(jīng)驗和エ業(yè)界的知識，并且通常是謹(jǐn)慎保管的私有秘密。分析過程將識別布局設(shè)計數(shù)據(jù)中檢測到的需要糾正的錯誤。例如，常規(guī)分析過程的分析結(jié)果可包括帶有錯誤標(biāo)記的設(shè)計映射表以顯示每個檢測到的錯誤的位置。另外，分析結(jié)果可識別布局設(shè)計數(shù)據(jù)違反并產(chǎn)生了錯誤的分析標(biāo)準(zhǔn)(例如，設(shè)計規(guī)則)。因此，如果布局設(shè)計中兩條線違反了最小間距規(guī)則，則分析結(jié)果可包括標(biāo)示出違規(guī)線的錯誤標(biāo)記和說明所違反的最小間距規(guī)則的文本注釋。如果由增量分析工具301來執(zhí)行分析過程，那么增量分析工具301可存儲第一次分析過程的結(jié)果。如果分析過程由増量分析工具301之外的 不同工具來執(zhí)行，那么分析過程的結(jié)果可提供給增量分析工具301以作后用。接下來在步驟403中，設(shè)計者修改布局設(shè)計數(shù)據(jù)以糾正第一次分析過程識別的ー個或多個錯誤。使用本發(fā)明的各種實施例，設(shè)計者使用増量分析工具301來修改布局設(shè)計數(shù)據(jù)。例如，用戶界面模塊303可提供給設(shè)計者權(quán)限以使用ー個或多個布局設(shè)計數(shù)據(jù)編輯工具，如位于俄勒網(wǎng)州Wilsonville的Mentor Graphics公司提供的Calibre RVE和Calibre Interactive軟件工具?？蛇x地,設(shè)計者可利用增量分析工具301之外的一個或多個分離的布局設(shè)計數(shù)據(jù)編輯工具來修改布局設(shè)計數(shù)據(jù)。如果增量分析工具301之外的布局設(shè)計數(shù)據(jù)編輯工具被用來修改布局設(shè)計數(shù)據(jù)，那么布局設(shè)計數(shù)據(jù)的修改版本可提供給增量分析工具301以作后用。布局設(shè)計數(shù)據(jù)的選擇在步驟405，使用者選擇增量分析過程將要進(jìn)行第二次分析的布局設(shè)計數(shù)據(jù)。特別地，使用者利用用戶界面模塊303提供的一個或多個用戶界面來指示布局設(shè)計數(shù)據(jù)選擇模塊305選擇將要分析的布局設(shè)計數(shù)據(jù)。請注意如同在這里所用，術(shù)語“選擇”包括使用者指示的選擇，和使用者確定不作指示選擇，而是允許增量分析工具301執(zhí)行默認(rèn)的選擇。如同此前所述，本發(fā)明各種實施例容許使用者根據(jù)不同的特征來選擇布局設(shè)計數(shù)據(jù)。更改后的布局設(shè)計數(shù)據(jù)本發(fā)明的一些實施例例如可以容許使用者選擇自上一次版本更改后的布局設(shè)計數(shù)據(jù)的一部分。當(dāng)使用者不是很容易地知道布局設(shè)計數(shù)據(jù)中所做的更改時，這種選擇方法特別有用。例如，如果另ー設(shè)計者使用與増量分析工具301不同的布局設(shè)計數(shù)據(jù)編輯工具在步驟403中修改了布局設(shè)計數(shù)據(jù)，則使用者可能不知道例如在第一次分析過程后，布局設(shè)計數(shù)據(jù)所做的更改。通過指示布局設(shè)計數(shù)據(jù)選擇模塊305來識別對布局設(shè)計數(shù)據(jù)早期版本的更改，使用者能夠保證在第二次分析過程中會對布局設(shè)計數(shù)據(jù)所做的任何更改進(jìn)行分析。使用本發(fā)明的各種實施例，布局設(shè)計數(shù)據(jù)選擇模塊305能夠使用各種技術(shù)來識別布局設(shè)計數(shù)據(jù)中的更改。如果是使用増量分析工具301進(jìn)行的更改，那么布局設(shè)計數(shù)據(jù)選擇模塊305 (或増量分析工具301的其它模塊)可簡單地在進(jìn)行每個更改時把它記錄下來。布局設(shè)計數(shù)據(jù)選擇模塊305可以例如將更改存儲到查找表中。本發(fā)明的另外ー些實施例還可以對布局設(shè)計數(shù)據(jù)的當(dāng)前版本和布局設(shè)計數(shù)據(jù)的早期版本執(zhí)行邏輯異或操作。如本領(lǐng)域的技術(shù)人員所知，這種邏輯操作將識別布局設(shè)計數(shù)據(jù)的兩個版本之間的差別。如果布局設(shè)計數(shù)據(jù)特別復(fù)雜或使用層次結(jié)構(gòu)，則ー些實現(xiàn)可利用哈希表來更快地識別布局設(shè)計數(shù)據(jù)兩個版本之間的差別。如同以上詳細(xì)討論的，布局設(shè)計數(shù)據(jù)經(jīng)常層次化地組織成単元。每個單元包含兩種不同類型的設(shè)計組件中的ー個其它單元和幾何元素(以及與這些元素相聯(lián)系的各種數(shù)據(jù)，如文本數(shù)據(jù))。為了確保布局設(shè)計數(shù)據(jù)不同版本中的兩個單元實際上是相同的，単元的內(nèi)容必須被檢驗以確認(rèn)它們是相同的。然而把一個單元中的幾何元素和另外ー個單元中的每個幾何元素進(jìn)行比較直至找到ー個匹配(或者直到確定第二個單元不包含匹配的幾何元素)是非常耗時的，并且隨著要比較的幾何元素數(shù)量 的増加所需時間以指數(shù)增長。類似地，把一個單元中的單元實例和另外ー個單元中的每個単元實例進(jìn)行比較直至找到ー個匹配(或者直到確定第二個單元不包含匹配)也是非常耗時的，井隨著要比較的實例數(shù)量的増加所需時間以指數(shù)增長。為了減少把一個單元的內(nèi)容和另外ー個單元的內(nèi)容進(jìn)行比較所需的時間和計算資源，本發(fā)明的各種實施例將利用哈希操作以在比較前對兩個單元中的設(shè)計組件進(jìn)行分類。例如，本發(fā)明的一些實施例將創(chuàng)建用于對單元中的每個幾何元素進(jìn)行分類的哈希表。類似地，它們將創(chuàng)建用于對單元中每個單元實例進(jìn)行分類的另ー哈希表。一旦単元的內(nèi)容被組織成這些哈希表，増量分析工具301就只需要把第一個單元的哈希表的一個“籃子”中的內(nèi)容(也就是，含有ー個索引值)和為潛在匹配的第二個單元創(chuàng)建的哈希表的相應(yīng)“籃子”中的內(nèi)容進(jìn)行比較。例如，增量分析工具301的一些實現(xiàn)將識別單元中的未處理的幾何元素。然后，增量分析工具301將選擇該幾何元素的一些特征，這些特征可用來通過哈希功能對幾何元素進(jìn)行分類。例如，使用本發(fā)明的一些實現(xiàn)，増量分析工具301將在幾何元素周圍創(chuàng)建ー個包圍盒。如同所屬領(lǐng)域的技術(shù)人員所了解的，包圍盒的使用容許增量分析工具301甚至為不規(guī)則形狀的幾何元素建立容易比較的特征。然后增量分析工具301將選擇包圍盒上某個唯一點，例如左下角，并對該點的坐標(biāo)值應(yīng)用哈希功能。例如，本發(fā)明的ー些實施例將通過組合幾何元素包圍盒左下角的X坐標(biāo)和y坐標(biāo)的絕對值來創(chuàng)建ー個64比特數(shù)字或“哈希值”，然后對該哈希值應(yīng)用哈希功能。本發(fā)明的各種實施例可對幾何元素的特征使用任何期望類型的哈希功能。然而本發(fā)明的一些實施例可以基于単元中需要分類的幾何元素的數(shù)量來選擇哈希功能。例如，如果ー個単元有N個幾何元素，則本發(fā)明的一些實施例將對哈希值除以數(shù)字S，S是不超過N的最接近N的質(zhì)數(shù)。因此，如果單元有100個幾何元素(即，N = 100)，則本發(fā)明的各種實施例將確定值S = 97。然后增量分析工具301將對幾何元素的哈希值除以S，并指定除法結(jié)果的模為該幾何元素的索引值。重復(fù)這些步驟直到單元中的每個幾何元素都被處理，并且將幾何元素的唯一信息作為ー個或多個鍵值加到哈希表中。然后，針對與第一個單元進(jìn)行比較的第二個單元重復(fù)這些步驟的每一歩，并使用相同的S值。—旦針對每個單元中的幾何元素建立了哈希表，每個單元中具有相同“籃子”或索引值的幾何元素就可以進(jìn)行比較。例如，第一個單元的哈希表有2個幾何元素被賦索引值“3”，而第二個單元的哈希表有3個幾何元素被賦索引值“3”。第一個哈希表中的第一個幾何元素只需要與第二個哈希表中的3個幾何元素的每ー個進(jìn)行比較，直到找到(或未找到)匹配。類似地，第一個哈希表中的第二個幾何元素只需要與第二個哈希表中的3個幾何元素的每ー個進(jìn)行比較，直到找到(或未找到)匹配。如果第一個哈希表中的第一個幾何元素與第二個哈希表中的第一個幾何元素匹配，并且第一個哈希表中的第二個幾何元素與第ニ個哈希表中的第二個幾何元素匹配，那么第二個哈希表中的第三個幾何元素可被識別為新的幾何元素。使用本發(fā)明的各種實施例，可通過使用哈希表中含有唯一標(biāo)示其相應(yīng)幾何元素的信息的一個或多個鍵值來比較幾何元素。本發(fā)明的各種實施例可以利用任何唯一的特征來比較共享同一個索引值的幾何元素。例如，本發(fā)明的一些實現(xiàn)可以比較幾何元素每個拐角的坐標(biāo)值來確認(rèn)它們是否事實上相同。首先，如果坐標(biāo)值的數(shù)量不同(例如一個幾何元素有6個拐角，而另外一個幾何元素有8個拐角)，那么這兩個幾何元素可以立即被識別是不同的。在一些例子中，即便兩個幾何元素是相同的，它們的坐標(biāo)值排列順序會不同。例如，一個幾何元素的拐角坐標(biāo)值可以以順時針方式排列，而另ー個幾何元素的拐角坐標(biāo)值以逆時針方式排列。因此，本發(fā)明的 各種例子可以用相同排列方式開始比較坐標(biāo)值(例如，比較ー個幾何元素第一個拐角的坐標(biāo)值和另外ー個幾何元素第一個拐角的坐標(biāo)值)。如果坐標(biāo)值不匹配，那么增量分析工具301將顛倒坐標(biāo)值的比較順序(例如，比較ー個幾何元素第一個拐角的坐標(biāo)值和另外ー個幾何元素最后ー個拐角的坐標(biāo)值，比較ー個幾何元素第ニ個拐角的坐標(biāo)值和另外一個幾何元素倒數(shù)第二個拐角的坐標(biāo)值，等等)。使用這種方法，可對幾何元素的坐標(biāo)值進(jìn)行快速比較，而不需要使用需要更多計算的比較算法。使用本發(fā)明的各種實施例，可使用針對幾何元素的相同方法對兩個単元中的単元實例進(jìn)行分類和比較。然而由于單元實例包括用于放置単元的特定坐標(biāo)位置，因此可以省略使用包圍盒來確定哈希值的過程。代替地，可以使用単元放置位置的坐標(biāo)值，而不是上面所述的包圍盒左下角的坐標(biāo)值。一旦兩個單元的單元實例和幾何元素被分類和比較，第一個單元中不匹配的單元實例就可被識別為刪除的單元實例，而第二個單元中不匹配的単元實例可被識別為増加的單元實例。類似地，第一個單元中不匹配的幾何元素可被識別為刪除的幾何元素，而第二個單元中不匹配的幾何元素可被識別為増加的幾何元素。使用這種方法，可以快速有效地識別兩個不同版本的布局設(shè)計數(shù)據(jù)中所做的修改。請注意，盡管基于哈希的比較技術(shù)的各種實現(xiàn)可用來執(zhí)行此處所討論的增量式分析，這些實現(xiàn)還可以用在布局設(shè)計數(shù)據(jù)的不同版本需要比較的任何操作或處理中。例如，基于哈希的比較技術(shù)的一些實現(xiàn)可用來在大型布局設(shè)計數(shù)據(jù)組中識別特定的部分(例如獨有的電路設(shè)計)。
_3] 布局設(shè)計數(shù)據(jù)中的錯誤本發(fā)明的一些實施例還可以容許使用者選擇布局設(shè)計數(shù)據(jù)中沒有通過前次分析過程的部分。因此，如果第一次分析過程的結(jié)果可提供給增量分析工具301使用，那么使用者可以指示布局設(shè)計數(shù)據(jù)選擇模塊305來選擇前次結(jié)果中識別的ー個或多個錯誤。如同前面所述的，分析過程的結(jié)果通常包含標(biāo)示設(shè)計中的錯誤的錯誤標(biāo)記(即布局設(shè)計數(shù)據(jù)中沒有通過ー個或多個分析標(biāo)準(zhǔn)的部分)。如果這些錯誤標(biāo)記可提供給增量分析工具301使用，那么布局設(shè)計數(shù)據(jù)選擇模塊305能夠使用這些標(biāo)記來選擇由這些標(biāo)記所標(biāo)示的部分布局設(shè)計數(shù)據(jù)。使用本發(fā)明的一些實施例，使用者可以選擇在布局設(shè)計數(shù)據(jù)中所識別的每個錯誤。也就是說，使用者可以利用用戶界面來指示布局設(shè)計數(shù)據(jù)選擇模塊305識別布局設(shè)計數(shù)據(jù)中被錯誤標(biāo)記標(biāo)示的每個位置。然而，在本發(fā)明的另外一些實施例中，使用者可以可選地或額外地被容許僅選擇特定類型的錯誤。例如，使用者可以指示布局設(shè)計數(shù)據(jù)選擇模塊305只識別違反最小金屬層間距規(guī)則的那些錯誤。在一些實現(xiàn)中，使用者可以通過從前次分析過程結(jié)果中選擇某個類型的錯誤來選擇特定的錯誤類型。然后布局設(shè)計數(shù)據(jù)選擇模塊305在布局設(shè)計數(shù)據(jù)中識別這種錯誤類型的實例。本發(fā)明的另外一些實施例可以有選擇地或額外地允許使用者在布局設(shè)計數(shù)據(jù)中只選擇“已更正”的那些錯誤(也就是，布局設(shè)計數(shù)據(jù)中被識別的錯誤已經(jīng)被修正或被刪除)。特別地，一些布局設(shè)計數(shù)據(jù)編輯工具可以把“已更正”的錯誤和“未更正”的錯誤區(qū)分開來。這些布局設(shè)計數(shù)據(jù)編輯工具例如在設(shè)計者指示錯誤已經(jīng)被更正時，更改與錯誤標(biāo)記 相關(guān)聯(lián)的標(biāo)志值，在查找表中存儲已更正的錯誤的位置，等等。布局設(shè)計數(shù)據(jù)選擇模塊305能夠使用這一信息來識別并選擇這些據(jù)稱已經(jīng)更正的錯誤。這一功能在使用者不用花費大量的時間去分析布局設(shè)計數(shù)據(jù)的其它部分，而只是希望確認(rèn)特定錯誤已經(jīng)被刪除時很有用，特別是如果使用者知道很多錯誤還沒有被更正。通常在設(shè)計者知道糾正或“更正”錯誤所做的更改對標(biāo)示錯誤的錯誤標(biāo)記來說是本地的時候，基于前次識別的錯誤來選擇布局設(shè)計數(shù)據(jù)可能很有用。如果對錯誤標(biāo)記來說更改是本地的，那么分析被錯誤標(biāo)記標(biāo)示的布局設(shè)計數(shù)據(jù)通常會保證這些更改也會被分析。使用者定義的布局設(shè)計數(shù)據(jù)本發(fā)明的一些實施例可以有選擇地或額外地允許使用者人工指定第二次增量分析過程所要分析的布局設(shè)計數(shù)據(jù)的一個或多個部分。例如，用戶界面模塊303可為使用者提供設(shè)計圖，使用者可以在圖中選擇設(shè)計中要分析的位置。作為響應(yīng)，布局設(shè)計數(shù)據(jù)選擇模塊305將選擇布局設(shè)計數(shù)據(jù)中相應(yīng)于使用者所選位置的部分。例如，如圖5所示，使用者可利用用戶界面模塊303提供的用戶界面來指定布局設(shè)計數(shù)據(jù)中一個區(qū)域的坐標(biāo)。布局設(shè)計數(shù)據(jù)選擇模塊305然后會選擇該指定區(qū)域內(nèi)的布局設(shè)計數(shù)據(jù)。光環(huán)使用本發(fā)明的各種實施例，布局設(shè)計數(shù)據(jù)選擇模塊305會在所選擇的布局設(shè)計數(shù)據(jù)周圍創(chuàng)建一個“光環(huán)”區(qū)域。在光環(huán)區(qū)域內(nèi)的布局設(shè)計數(shù)據(jù)然后被添加到所選擇的布局設(shè)計數(shù)據(jù)以便由增量分析過程進(jìn)行分析。使用本發(fā)明的一些實施例，布局設(shè)計數(shù)據(jù)選擇模塊305會在所選布局設(shè)計周圍創(chuàng)建一個包圍盒。布局設(shè)計數(shù)據(jù)選擇模塊305然后會根據(jù)包圍盒的周邊指明一個光環(huán)區(qū)域。例如，圖6A顯示了布局設(shè)計中的一對錯誤標(biāo)記601。錯誤標(biāo)記601可以指示，例如，2個相鄰線的間距小于最小間距寬度。如同此前所述，所選擇的布局設(shè)計數(shù)據(jù)可以是錯誤標(biāo)記如錯誤標(biāo)記601標(biāo)示的數(shù)據(jù)。如圖6B所示，響應(yīng)于對錯誤標(biāo)記601所標(biāo)示的錯誤的選擇，布局設(shè)計數(shù)據(jù)選擇模塊305將創(chuàng)建包圍盒603以包圍錯誤標(biāo)記601。下一步，如圖6C所示，布局設(shè)計數(shù)據(jù)選擇模塊305將基于包圍盒603的周邊創(chuàng)建光環(huán)區(qū)域605。在所顯示的例子中，布局設(shè)計數(shù)據(jù)選擇模塊305創(chuàng)建的包圍盒603為1000 Ii m x Iii m。下一步,布局設(shè)計數(shù)據(jù)選擇模塊305將指定光環(huán)區(qū)域為包圍盒603的長度和寬度中較大一個(即IOOOiim)的某個倍數(shù)。使用所顯示的本發(fā)明實現(xiàn)方法，布局設(shè)計數(shù)據(jù)選擇模塊305指定光環(huán)區(qū)域每邊為包圍盒603的長度的三倍，S卩3000 iim x 3000 u m0當(dāng)然，本發(fā)明的另外一些實現(xiàn)可以用包圍盒最長邊的不同倍數(shù)，或者使用其它算法一起來確定光環(huán)區(qū)域。本發(fā)明的各種實施例可以有選擇地或額外地允許使用者選擇光環(huán)區(qū)域的尺寸和/或形狀。這對于例如阻止增量分析過程探測虛假錯誤很有用。例如，圖7A顯示錯誤標(biāo)記701在第一個幾何元素703和第二個幾何元素705之間，這兩個幾何元素都與第三個幾何元素707相鄰。如圖7B所示，如果布局設(shè)計數(shù)據(jù)選擇模塊305創(chuàng)建光環(huán)區(qū)域709，那么光環(huán)區(qū)域709可能會無意地包圍太少的幾何元素703至707。由此的結(jié)果是，盡管每個幾何元素703至707實際上遵從最小寬度要求，但是下一次增量分析過程可能記錄違反最小寬度要求的錯誤(如圖7C中，錯誤標(biāo)記711至715所指示的)。通過指定一個較大的光環(huán)區(qū)域(如圖7D所示)，使用者能夠保證隨后的增量分析過程不會記錄不準(zhǔn)確的最小寬度要求違規(guī)。組合及其它選擇標(biāo)準(zhǔn) 盡管上面說明了為增量分析選擇布局設(shè)計數(shù)據(jù)的特定單獨技術(shù)，但是應(yīng)當(dāng)理解本發(fā)明的各種實現(xiàn)可以容許使用者使用這些技術(shù)的組合來選擇布局設(shè)計數(shù)據(jù)。特別地，本發(fā)明的一些實現(xiàn)可以容許使用者選擇由任何兩個或更多這些技術(shù)指定的一組布局設(shè)計數(shù)據(jù)(如同使用邏輯或操作)、容許使用者只選擇由任何兩個或更多這些技術(shù)指定的布局設(shè)計數(shù)據(jù)的重疊部分(如同使用邏輯與操作)、或者兩者的組合。例如，本發(fā)明的一些實施例可以容許使用者首先選擇早期分析過程所識別的錯誤，然后進(jìn)一步選擇這些區(qū)域中被使用者定義的區(qū)域包圍的子集。另外一些實現(xiàn)可以有選擇地或額外地允許使用者既選擇早期分析過程所識別的錯誤又選擇自早期版本后布局設(shè)計數(shù)據(jù)中的更改。還要注意的是，除了上面說明的選擇技術(shù)，本發(fā)明的各種實施例可以容許使用者使用其它技術(shù)來選擇數(shù)據(jù)。例如，增量分析工具301的一些實施例可以容許使用者通過如下方式進(jìn)行選擇選擇只在布局設(shè)計數(shù)據(jù)一個特定層中發(fā)生的錯誤或更改、選擇特定設(shè)計者所做的更改、選擇分析過程中一個指定重復(fù)中所識別的錯誤、或任何其它可用于增量分析中辨別布局設(shè)計數(shù)據(jù)各部分的技術(shù)。分析標(biāo)準(zhǔn)的選擇現(xiàn)在回到圖4B，在步驟407中使用者選擇將用于第二次增量分析過程的分析標(biāo)準(zhǔn)。如此前所述，本發(fā)明的各種實現(xiàn)將有選擇地或額外地允許使用者選擇在增量分析過程中將用于分析布局設(shè)計數(shù)據(jù)的分析標(biāo)準(zhǔn)。例如，使用本發(fā)明的一些實現(xiàn)，使用者能夠利用用戶界面模塊303提供的一個或多個用戶界面來選擇用于分析所選擇的布局設(shè)計數(shù)據(jù)的分析標(biāo)準(zhǔn)。然后分析標(biāo)準(zhǔn)選擇模塊307將為增量分析過程執(zhí)行使用者的選擇。本發(fā)明的各種實現(xiàn)可以在使用者對整個布局設(shè)計數(shù)據(jù)執(zhí)行了 “完整”分析之后使用。此完整分析通常使用大量的分析標(biāo)準(zhǔn)來分析布局設(shè)計數(shù)據(jù)。例如，設(shè)計規(guī)則檢查分析過程中的一個規(guī)則組可以包含上百個規(guī)則，需要大量的計算機(jī)處理時間和資源來執(zhí)行。本發(fā)明的各種實現(xiàn)將容許使用者指定一整套分析標(biāo)準(zhǔn)，諸如把前次對布局設(shè)計數(shù)據(jù)進(jìn)行“完整”分析的標(biāo)準(zhǔn)使用到隨后的增量分析過程中。本發(fā)明的一些實現(xiàn)還容許使用者從一個較大組的可用分析標(biāo)準(zhǔn)中選擇一個子集以用于增量分析過程。
例如，本發(fā)明的ー些實現(xiàn)容許使用者指定増量分析過程只使用對在增量分析過程中被分析的布局設(shè)計數(shù)據(jù)適用的分析標(biāo)準(zhǔn)。因此，如果被分析的布局設(shè)計數(shù)據(jù)只包含設(shè)計中特定金屬層的數(shù)據(jù)(例如，金屬層I)，那么分析標(biāo)準(zhǔn)選擇模塊307將只選擇適用于該數(shù)據(jù)的分析標(biāo)準(zhǔn)。分析標(biāo)準(zhǔn)選擇模塊307將不會選擇，例如，與設(shè)計中多晶硅層布局設(shè)計數(shù)據(jù)相關(guān)的分析標(biāo)準(zhǔn)。使用本發(fā)明的ー些實現(xiàn)，分析標(biāo)準(zhǔn)選擇模塊307甚至不會選擇與布局設(shè)計中其它金屬層相關(guān)的分析標(biāo)準(zhǔn)(例如金屬層1，填充層I，等等)。本發(fā)明的ー些實現(xiàn)可以有選擇地或額外地允許使用者指定増量分析過程只使用前次分析過程沒有通過的分析標(biāo)準(zhǔn)。例如，如果增量分析正在分析前次分析過程生成的結(jié)果，該結(jié)果可以通過每個被識別的錯誤來指出沒有通過的分析標(biāo)準(zhǔn)。作為響應(yīng)，分析標(biāo)準(zhǔn)選擇模塊307可以識別為增量分析選擇的特定錯誤，確定與每個選擇的錯誤相關(guān)聯(lián)的分析標(biāo)準(zhǔn)，以及選擇這些分析標(biāo)準(zhǔn)以供増量分析使用。使用這一功能，使 用者能夠避免讓增量分析過程執(zhí)行可能不需要的評估。進(jìn)ー步地，本發(fā)明的一些實現(xiàn)可以容許使用者從ー個較大的分析標(biāo)準(zhǔn)組中人工選擇ー個子集。本發(fā)明的這些實現(xiàn)可以積極地要求使用者選擇哪些特定的標(biāo)準(zhǔn)將用于增量分析過程，被動地應(yīng)用分析標(biāo)準(zhǔn)組中沒有被使用者特別放棄的每個標(biāo)準(zhǔn)，或者兩者的某個組
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ロ o請注意本發(fā)明的一些實施例可以自動限制ー些分析標(biāo)準(zhǔn)被運用到増量分析過程中。例如，如果增量分析過程是設(shè)計規(guī)則檢查分析過程，則分析標(biāo)準(zhǔn)選擇模塊307可以阻止増量分析過程使用連接性檢查。因為增量分析過程可能只分析整個布局設(shè)計數(shù)據(jù)的一部分，被分析的部分不太可能包含足夠的數(shù)據(jù)來精確地執(zhí)行這類檢查。就是說，被分析的部分不太可能包含在目標(biāo)器件和電源或地連接點之間建立連續(xù)的連接所需的所有幾何元素。類似地，分析標(biāo)準(zhǔn)選擇模塊307可以自動地排除需要布局設(shè)計數(shù)據(jù)相當(dāng)?shù)囊徊糠植拍軠?zhǔn)確評估的其它“片級”分析標(biāo)準(zhǔn)，諸如填充密度檢查。如同布局設(shè)計數(shù)據(jù)的選擇ー樣，本發(fā)明的各種實現(xiàn)可以容許使用者組合兩種或更多的選擇技術(shù)來選擇分析標(biāo)準(zhǔn)。例如，分析標(biāo)準(zhǔn)選擇模塊307的一些實施例可以容許使用者選擇在選定布局設(shè)計數(shù)據(jù)中的錯誤沒有通過的分析標(biāo)準(zhǔn)和使用者人工指定的額外分析標(biāo)準(zhǔn)。本發(fā)明的另外ー些例子可以有選擇地或額外地允許使用者只選擇適用于所選擇的布局設(shè)計數(shù)據(jù)的分析標(biāo)準(zhǔn)，然后進(jìn)一步在此有限的分析標(biāo)準(zhǔn)中人工選擇ー個特定的子集。增量分析在使用者選擇了用于增量分析過程的布局設(shè)計數(shù)據(jù)和/或分析標(biāo)準(zhǔn)之后，分析過程模塊309使用這些輸入在步驟409中執(zhí)行增量分析過程。然后在步驟411，分析過程模塊309輸出增量分析過程的結(jié)果給使用者。結(jié)果可以是任何期望的格式。如同此前所述，根據(jù)本發(fā)明各種例子的増量分析過程可以簡單地是很多分析過程中的一次迭代。相應(yīng)地，步驟403-409中的每ー步可以重復(fù)一到多次，直到對布局設(shè)計數(shù)據(jù)感到滿意為止。進(jìn)ー步地，如果期望，可以省略分析前修改布局設(shè)計數(shù)據(jù)的步驟403。例如，使用者可能希望根據(jù)第一組分析標(biāo)準(zhǔn)來檢查布局設(shè)計數(shù)據(jù)的一部分，然后在更改任何布局設(shè)計數(shù)據(jù)前根據(jù)第二組分析標(biāo)準(zhǔn)來檢查布局設(shè)計數(shù)據(jù)的另一部分。一些實現(xiàn)可以容許使用者在前次増量分析過程完成其分析之前重復(fù)步驟403-409中的ー個或多個。例如，分析過程模塊309的一些實施例可以在增量分析過程完成其分析之前開始返回分析結(jié)果給使用者。作為響應(yīng)，使用者可以，例如，糾正增量分析過程中識別的一個或多個錯誤，并且啟動第二次增量分析過程以確認(rèn)錯誤被更正。如同上面所詳細(xì)討論的，使用者可以使用用戶界面來只選擇所報告錯誤中特定的實例以供第二次增量分析過程分析、只選擇所報告錯誤中沒有通過的分析標(biāo)準(zhǔn)以供第二次增量分析過程使用、或者兩者的組合(包括只選擇選定報告的錯誤沒有通過的分析標(biāo)準(zhǔn)的組合)。通過這種方式，使用者能夠有效地使用計算系統(tǒng)，例如分布式計算系統(tǒng)，甚至在更長、更耗時的分析過程完成前確認(rèn)檢測到的錯誤被糾正。還請注意的是，本發(fā)明的一些實現(xiàn)可以省略布局設(shè)計數(shù)據(jù)選擇模塊305，而本發(fā)明的另外一些實現(xiàn)可以省略分析標(biāo)準(zhǔn)選擇模塊307。也就是說，本發(fā)明的一些實現(xiàn)可以容許使用者選擇分析標(biāo)準(zhǔn)以用于增量分析過程，但是不選擇布局設(shè)計數(shù)據(jù)。另一方面，本發(fā)明的一些實現(xiàn)可以容許使用者選擇增量分析過程中要使用的布局設(shè)計數(shù)據(jù)而不選擇分析標(biāo)準(zhǔn)。
用戶界面初始流程選擇用戶界面圖8顯示了根據(jù)本發(fā)明的各種例子可以提供的用戶界面801的示例。從圖中可以看到，用戶界面801提供增量分析過程控制按鈕803，其容許使用者選擇對布局設(shè)計數(shù)據(jù)執(zhí)行增量分析過程。(在所顯示的實施例中，分析過程是設(shè)計規(guī)則檢查。)用戶界面801還包括“Complete Flow”(完整流程)控制按鈕805、“Design Delta”(設(shè)計差分)控制按鈕807、和“Previous Result Flow”(前次結(jié)果流程)控制按鈕809。使用本發(fā)明所顯示的例子，這些控制的每一個都是互斥的(即，選擇一個控制將自動取消選定其它兩個控制)。如果使用者選擇“Complete Flow”控制按鈕805，那么如同上面所詳細(xì)討論的，分析過程模塊309將對布局設(shè)計數(shù)據(jù)執(zhí)行“完整”的分析過程。(本發(fā)明的一些實現(xiàn)可以提供進(jìn)一步的用戶界面或控制以容許使用者選擇要分析的布局設(shè)計數(shù)據(jù)。)然而，如果使用者選擇“Design Delta”控制按鈕807，那么用戶界面模塊303激活“File”(文件)區(qū)域控制811和“Cell”(單元)區(qū)域控制813。如同上面所詳細(xì)討論的，使用這些區(qū)域控制，使用者指定包含布局設(shè)計數(shù)據(jù)的文件和將要使用增量分析過程進(jìn)行分析的布局設(shè)計數(shù)據(jù)的單元。特別地，分析過程模塊309將對指定布局設(shè)計中基于指定布局設(shè)計數(shù)據(jù)的早期版本的已修改數(shù)據(jù)執(zhí)行增量分析過程?？蛇x地,如果使用者選擇“Previous Result Flow”控制按鈕809,則用戶界面模塊303將類似地激活文件區(qū)域控制815和“Previous Run”(前次運行)控制按鈕817。用戶界面模塊303還將激活“fixed only”(只有已更正的)控制按鈕819、“not waived”(沒有放棄的)控制按鈕821、和“all results"(所有結(jié)果)控制按鈕823。使用者能夠使用文件區(qū)域控制815來指定包含前次分析過程的結(jié)果的文件?；蛘撸绻褂谜邇H僅希望分析用由分析過程模塊309提供的結(jié)果,則使用者能夠選擇“previous run”控制按鈕817。如同上面所詳細(xì)討論的，一旦指定了結(jié)果的來源，使用者就能夠使用控制按鈕819-823來指定哪些結(jié)果將要分析。特別地，如果使用者希望分析在前次增量分析過程中產(chǎn)生結(jié)果的所有布局設(shè)計數(shù)據(jù)，那么使用者選擇“all results”控制按鈕823。如果使用者只希望分析自獲得結(jié)果以來那些據(jù)稱已更正的錯誤，那么使用者選擇“fixed only”控制按鈕819。如果使用者只希望分析在前次增量分析過程中產(chǎn)生結(jié)果的布局設(shè)計數(shù)據(jù)的特定部分，那么使用者能夠放棄不希望分析的任何布局設(shè)計部分，并選擇“not waived”控制按鈕821。
驗證運行用戶界面根據(jù)通過用戶界面801提交的選擇，一旦使用者啟動增量分析過程，本發(fā)明的各種實施例可以為使用者提供第二個用戶界面以顯示正在進(jìn)行的(増量或完整)分析過程的實時結(jié)果。例如，本發(fā)明的一些實施例可以為使用者提供如圖9所示的用戶界面901。從圖中可見，用戶界面901包括結(jié)果顯示部分903和分析過程狀態(tài)顯示部分905。結(jié)果顯示部分903顯示正在進(jìn)行的分析過程針對每個分析標(biāo)準(zhǔn)而產(chǎn)生的結(jié)果907。從圖中可見，結(jié)果907顯示沒有通過相應(yīng)分析標(biāo)準(zhǔn)的部分布局設(shè)計數(shù)據(jù)的數(shù)量。如同上面所詳細(xì)討論的，使用者可以利用用戶界面901針對與一個或多個結(jié)果907相關(guān)的部分布局設(shè)計數(shù)據(jù)啟動増量分析過程，即便前次的分析過程仍在進(jìn)行中。例如，使用者可以修改布局設(shè)計數(shù)據(jù)中與一個或多個結(jié)果907 (例如結(jié)果907A)相關(guān)的部分。如果使用者希望對這個結(jié)果相關(guān)的區(qū)域執(zhí)行增量分析，那么使用者可以選擇“incrementalarea”(増量區(qū)域)控制按鈕911。使用本發(fā)明的各種例子，用戶界面模塊303將提供用戶界面(例如像圖5所示的用戶界面)以容許使用者指定用于隨后増量分析的布局設(shè)計數(shù)據(jù)的ー個或多個所期望的部分。然而，如果使用者希望對與結(jié)果907A相關(guān)的部分布局設(shè)計數(shù)據(jù)重復(fù)増量分析過程，那么使用者可以選擇該結(jié)果，然后啟動“start validation run”(開始驗證運行)控制按鈕909。響應(yīng)于“start validation run”控制按鈕909的啟動,增量分析工具301將對所選擇結(jié)果相應(yīng)的部分布局設(shè)計數(shù)據(jù)開始新的増量分析過程。進(jìn)ー步地，用戶界面901可以更新結(jié)果顯示部分903以顯示新増量分析過程提供的新結(jié)果。如圖9B所示，本發(fā)明的ー些實現(xiàn)可以額外地容許使用者查看與特定分析標(biāo)準(zhǔn)相聯(lián)系的每個新結(jié)果。本發(fā)明的各種實現(xiàn)能夠提供所需的新結(jié)果。例如，如果隨后増量分析過程對其布局設(shè)計數(shù)據(jù)的相應(yīng)部分仍在進(jìn)行操作，則本發(fā)明的一些實現(xiàn)可以用黃色高亮顯示結(jié)果，如果布局設(shè)計數(shù)據(jù)的這部分已經(jīng)通過隨后增量分析過程的分析標(biāo)準(zhǔn)，結(jié)果會以綠色高亮顯示，如果布局設(shè)計數(shù)據(jù)的這部分再次沒有通過隨后増量分析過程的分析標(biāo)準(zhǔn)，結(jié)果會以紅色高亮顯示，如果隨后増量分析過程為布局設(shè)計數(shù)據(jù)的這部分返回新的結(jié)果，結(jié)果會以橙色高亮顯示。 當(dāng)然，可以理解其它類型的用戶界面可用于實現(xiàn)此前詳細(xì)討論的本發(fā)明的各種實施例。結(jié)論盡管前面詳細(xì)顯示并說明了本發(fā)明的特定實施例以展示本發(fā)明的原理，但是應(yīng)當(dāng)理解本發(fā)明可以以其他方式實現(xiàn)而不偏離本發(fā)明。因此，盡管使用包括執(zhí)行本發(fā)明目前首選模式的特定例子來說明本發(fā)明，但是所屬領(lǐng)域的技術(shù)人員都理解以上說明的系統(tǒng)和技術(shù)有許多變化和組合，它們均落入權(quán)利要求書詳細(xì)說明的本發(fā)明的精神和范圍之內(nèi)。
權(quán)利要求
1.一種糾正布局設(shè)計數(shù)據(jù)的方法，包括 使用第一組分析標(biāo)準(zhǔn)對布局設(shè)計數(shù)據(jù)執(zhí)行第一分析過程； 選擇與所述第一組分析標(biāo)準(zhǔn)不同的第二組分析標(biāo)準(zhǔn)；以及 使用所述第二組分析標(biāo)準(zhǔn)對所述布局設(shè)計數(shù)據(jù)的已識別部分執(zhí)行第二分析過程。
2.根據(jù)權(quán)利要求I所述的方法，其中所述第二組分析標(biāo)準(zhǔn)與所述第一組分析標(biāo)準(zhǔn)不完全重疊。
3.根據(jù)權(quán)利要求I所述的方法，進(jìn)一步包括 識別所述布局設(shè)計數(shù)據(jù)的一個或多個部分；以及 只對所述布局設(shè)計數(shù)據(jù)的已識別部分執(zhí)行第二分析過程。
4.一種糾正布局設(shè)計數(shù)據(jù)的設(shè)備，包括 用于使用第一組分析標(biāo)準(zhǔn)對布局設(shè)計數(shù)據(jù)執(zhí)行第一分析過程的裝置； 用于選擇與所述第一組分析標(biāo)準(zhǔn)不同的第二組分析標(biāo)準(zhǔn)的裝置； 用于使用所述第二組分析標(biāo)準(zhǔn)對所述布局設(shè)計數(shù)據(jù)的已識別部分執(zhí)行第二分析過程的裝置。
5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的設(shè)備，其中所述第二組分析標(biāo)準(zhǔn)與所述第一組分析標(biāo)準(zhǔn)不完全重疊。
6.根據(jù)權(quán)利要求4所述的設(shè)備，進(jìn)一步包括 用于識別所述布局設(shè)計數(shù)據(jù)的一個或多個部分的裝置；以及 用于只對所述布局設(shè)計數(shù)據(jù)的已識別部分執(zhí)行第二分析過程的裝置。
全文摘要
公開了的用于增量式分析布局設(shè)計數(shù)據(jù)的技術(shù)。通過各種實現(xiàn)方法，可以只針對部分布局設(shè)計數(shù)據(jù)、使用可用分析標(biāo)準(zhǔn)的子集、或二者的某種組合來進(jìn)行隨后的增量式分析。例如，分析可限定在前次分析過程中識別的錯誤、前次分析過程后布局設(shè)計數(shù)據(jù)中的修改部分、設(shè)計者指定的特定區(qū)域、或它們的某種組合。進(jìn)一步地，執(zhí)行分析過程時，可只使用相關(guān)于正被分析的設(shè)計數(shù)據(jù)部分的分析標(biāo)準(zhǔn)的子集、前次分析過程中設(shè)計數(shù)據(jù)沒有通過的初始分析標(biāo)準(zhǔn)的子集、設(shè)計者選擇的初始分析標(biāo)準(zhǔn)的子集、或它們的某種組合。此外，這種增量式分析過程可在前次分析過程完成前啟動。
文檔編號G06F17/50GK102768696SQ20121005605
公開日2012年11月7日 申請日期2008年3月9日 優(yōu)先權(quán)日2007年3月9日
發(fā)明者B·瑪歇爾, J·G·菲爾格森, J·M·帕里斯 申請人:明導(dǎo)公司