專利名稱：接觸檢測(cè)裝置、記錄顯示裝置和接觸檢測(cè)方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及接觸檢測(cè)裝置、記錄顯示裝置和接觸檢測(cè)方法。
背景技術(shù)：
日本未審查專利申請(qǐng)公開(kāi)第8-110830號(hào)公開(kāi)了一種坐標(biāo)輸入裝置的數(shù)據(jù)處理方法，其中在按壓輸入表面的預(yù)定位置時(shí)，該坐標(biāo)輸入裝置順序獲取被按壓位置所對(duì)應(yīng)的坐標(biāo)數(shù)據(jù)項(xiàng)并僅將所獲取坐標(biāo)數(shù)據(jù)項(xiàng)中的有效數(shù)據(jù)進(jìn)行輸出。該數(shù)據(jù)處理方法的特征在于進(jìn)行初始設(shè)定處理和輸入數(shù)據(jù)處理。初始設(shè)定處理以均勻定時(shí)獲取預(yù)定條件下通過(guò)手寫(xiě)輸入所得到的坐標(biāo)數(shù)據(jù)項(xiàng)，通過(guò)順序使用三個(gè)坐標(biāo)數(shù)據(jù)項(xiàng)來(lái)計(jì)算第二和第三坐標(biāo)數(shù)據(jù)項(xiàng)之間的移動(dòng)距離、以及第一和第二坐標(biāo)數(shù)據(jù)項(xiàng)之間的直線軸與第二和第三坐標(biāo)數(shù)據(jù)項(xiàng)之間的直線軸所形成的角的角度變化量，分別累計(jì)計(jì)算出的移動(dòng)距離的頻率和計(jì)算出的角的角度變化量的頻率，并參照因此所得到的累記頻率設(shè)置一預(yù)定的角度變化基準(zhǔn)值及其對(duì)應(yīng)的移動(dòng)距離作為確定有效數(shù)據(jù)的閾值。在正常的輸入操作中，輸入數(shù)據(jù)處理通過(guò)使用書(shū)寫(xiě)后即刻獲得的第一坐標(biāo)數(shù)據(jù)項(xiàng)和緊隨其后輸入的兩個(gè)坐標(biāo)數(shù)據(jù)項(xiàng)來(lái)計(jì)算第一和第二坐標(biāo)數(shù)據(jù)項(xiàng)之前的移動(dòng)距離以及第一和第二坐標(biāo)數(shù)據(jù)項(xiàng)之間的直線軸與第二和第三坐標(biāo)數(shù)據(jù)項(xiàng)之間的直線軸所形成的角的角度變化量，將計(jì)算結(jié)果與初始設(shè)定處理設(shè)定的用于確定有效數(shù)據(jù)的閾值進(jìn)行比較，并且如果至少一項(xiàng)計(jì)算結(jié)果等于或者小于相應(yīng)的閾值，則將書(shū)寫(xiě)后即刻獲得的該第一坐標(biāo)數(shù)據(jù)項(xiàng)為有效數(shù)據(jù)進(jìn)行輸出。日本未審查專利申請(qǐng)公開(kāi)第2011-70658號(hào)公開(kāi)了一種顯示裝置，該顯示裝置包括在多個(gè)像素中包含光敏元件的觸摸板和圖像處理單元。光敏元件在觸摸板和目標(biāo)物體之間產(chǎn)生接觸圖像。圖像處理單元通過(guò)接觸圖像的顏色信息來(lái)計(jì)算接觸部分的面積，并根據(jù)面積判定對(duì)觸摸板是否有輸入。日本未審查專利申請(qǐng)公開(kāi)第9-44293號(hào)公開(kāi)了一種包括手寫(xiě)筆輸入裝置的電子設(shè)備，該電子設(shè)備包括與顯示裝置集成的書(shū)寫(xiě)板并允許用筆對(duì)手寫(xiě)輸入框進(jìn)行手寫(xiě)輸入。該電子設(shè)備的特征在于包括:手寫(xiě)輸入框顯示器，其顯示手寫(xiě)輸入框；輸入坐標(biāo)識(shí)別單元，其識(shí)別輸入至?xí)鴮?xiě)板的坐標(biāo)；以及輸入無(wú)效區(qū)域設(shè)定單元，其設(shè)置輸入無(wú)效區(qū)域，該輸入無(wú)效區(qū)域針對(duì)各手寫(xiě)輸入框而設(shè)，用于使持筆的手與書(shū)寫(xiě)板的接觸而導(dǎo)致的不正確輸入無(wú)效，并取消輸入至輸入無(wú)效區(qū)域的坐標(biāo)數(shù)據(jù)。

發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明的一個(gè)目的是提供一種接觸檢測(cè)裝置，一種記錄顯示裝置和一種接觸檢測(cè)方法，以高準(zhǔn)確地判定正確接觸和誤接觸。為了實(shí)現(xiàn)上述目的，根據(jù)本發(fā)明的第一方面，提供了 一種接觸檢測(cè)裝置，其被配置為包括多個(gè)檢測(cè)元件、生成單元和判定單元。多個(gè)檢測(cè)元件在預(yù)定接觸面上的二維構(gòu)造中彼此相關(guān)，并各自檢測(cè)物體與接觸面的接觸。生成單元根據(jù)多個(gè)檢測(cè)元件的檢測(cè)結(jié)果生成特征信息，該特征信息代表基于物體與接觸面的接觸所繪制軌跡的特征。判定單元判定生成單元所生成的特征信息是否對(duì)應(yīng)于預(yù)先登記的特定接觸特征信息，其代表基于物體與接觸面的特定接觸所繪制軌跡的特征。根據(jù)本發(fā)明的第二方面，在根據(jù)第一方面所述的接觸檢測(cè)裝置中，所述特定接觸對(duì)應(yīng)于預(yù)先確定為與接觸面正確接觸的正確接觸或者為預(yù)先確定為與接觸面非正確接觸的誤接觸。根據(jù)本發(fā)明的第三方面，根據(jù)第一或第二方面所述的接觸檢測(cè)裝置還包括關(guān)聯(lián)單元，其關(guān)聯(lián)用以識(shí)別軌跡的識(shí)別信息和軌跡，對(duì)于識(shí)別信息所識(shí)別的各軌跡，判定單元判定生成單元所生成的特征信息是否對(duì)應(yīng)于特定接觸特征信息。根據(jù)本發(fā)明的第四方面，根據(jù)第一或第二方面所述的接觸檢測(cè)裝置被配置為還包括識(shí)別單元，其根據(jù)判定單元所做出的判定結(jié)果識(shí)別表示與接觸面的特定接觸的軌跡。根據(jù)本發(fā)明的第五方面，根據(jù)第三方面所述的接觸檢測(cè)裝置被配置為還包括識(shí)別單元，其根據(jù)判定單元所做出的判定結(jié)果識(shí)別表示與接觸面的特定接觸的軌跡。根據(jù)本發(fā)明的第六方面，在根據(jù)第四方面所述的接觸檢測(cè)裝置中，根據(jù)判定單元在預(yù)定期間內(nèi)做出的生成單元所生成的特征信息對(duì)應(yīng)于特定接觸特征信息的判定次數(shù)，識(shí)別單元識(shí)別出代表與接觸面的特定接觸的軌跡。根據(jù)本發(fā)明的第七方面，在根據(jù)第五方面所述的接觸檢測(cè)裝置中，根據(jù)判定單元在預(yù)定期間內(nèi)做出的生成單元所生成的特征信息對(duì)應(yīng)于特定接觸特征信息的判定次數(shù)，識(shí)別單元識(shí)別表示與接觸面的特定接觸的軌跡。根據(jù)本發(fā)明的第八方面，在根據(jù)第六方面所述的接觸檢測(cè)裝置中，如果判定單元在預(yù)定期間內(nèi)做出的生成單元所生成的特征信息對(duì)應(yīng)于特定接觸特征信息的判定次數(shù)大于判定單元在所述預(yù)定期間內(nèi)做出的生成單元所生成的特征信息不對(duì)應(yīng)于特定接觸特征信息的判定次數(shù)，則識(shí)別單元將在此預(yù)定期間內(nèi)在接觸面上所繪制的軌跡識(shí)別為代表特定接觸的軌跡。根據(jù)本發(fā)明的第九方面，在根據(jù)第七方面所述的接觸檢測(cè)裝置中，如果判定單元在預(yù)定期間內(nèi)做出的生成單元所生成的特征信息對(duì)應(yīng)于特定接觸特征信息的判定次數(shù)大于判定單元在預(yù)定期間內(nèi)做出的生成單元所生成的特征信息不對(duì)應(yīng)于特定接觸特征信息的判定次數(shù)，則識(shí)別單元將在此預(yù)定期間內(nèi)在接觸面上所繪制的軌跡識(shí)別為代表特定接觸的軌跡。根據(jù)本發(fā)明的第十方面，在根據(jù)第六方面所述的接觸檢測(cè)裝置中，所述預(yù)定期間對(duì)應(yīng)于自物體與接觸面接觸至物體與接觸面分開(kāi)之間的時(shí)間段。根據(jù)本發(fā)明的第十一方面，在根據(jù)第七方面所述的接觸檢測(cè)裝置中，所述預(yù)定期間對(duì)應(yīng)于自物體與接觸面接觸至物體與接觸面分開(kāi)之間的時(shí)間段。根據(jù)本發(fā)明的第十二方面，在根據(jù)第八方面所述的接觸檢測(cè)裝置中，所述預(yù)定期間對(duì)應(yīng)于自物體與接觸面接觸至物體與接觸面分開(kāi)之間的時(shí)間段。根據(jù)本發(fā)明的第十三方面，在根據(jù)第九方面所述的接觸檢測(cè)裝置中，所述預(yù)定期間對(duì)應(yīng)于自物體與接觸面接觸至物體與接觸面分開(kāi)之間的時(shí)間段。根據(jù)本發(fā)明的第十四方面，在根據(jù)第一或第二方面所述的接觸檢測(cè)裝置中，特征信息對(duì)應(yīng)于表示軌跡幅度的幅度信息、表示軌跡幅度變化程度的程度信息、以及根據(jù)物體與接觸面持續(xù)接觸時(shí)間而獲得的基于持續(xù)時(shí)間的信息中的至少一項(xiàng)。
根據(jù)本發(fā)明的第十五方面，在根據(jù)第一或第二方面所述的接觸檢測(cè)裝置中，幅度信息對(duì)應(yīng)于表不軌跡面積和軌跡長(zhǎng)度中的至少一項(xiàng)的信息，程度信息對(duì)應(yīng)于表不軌跡的面積方差(variance)或標(biāo)準(zhǔn)偏差的軌跡面積統(tǒng)計(jì)信息和表示軌跡的長(zhǎng)度方差或標(biāo)準(zhǔn)偏差的軌跡長(zhǎng)度統(tǒng)計(jì)信息中的至少一項(xiàng)，基于持續(xù)時(shí)間的信息對(duì)應(yīng)于表示軌跡中接觸點(diǎn)數(shù)目的軌跡數(shù)目信息。根據(jù)本發(fā)明的第十六方面，在根據(jù)第一或第二方面所述的接觸檢測(cè)裝置中，判定單元采用被配置為包括特定接觸特征信息的決策樹(shù)來(lái)判定生成單元所生成的特征信息是否對(duì)應(yīng)于特定接觸特征信息。根據(jù)本發(fā)明的第十七方面，根據(jù)第一或第二方面所述的接觸檢測(cè)裝置還包括施加單元，其根據(jù)接觸時(shí)間將一權(quán)值施加給軌跡，判定單元進(jìn)一步判定施加單元所施加的權(quán)值是否等于或者大于預(yù)定的權(quán)值。同時(shí)，為了實(shí)現(xiàn)上述目的，根據(jù)本發(fā)明的第十八方面，提供了一種接觸檢測(cè)裝置，其被配置為包括多個(gè)檢測(cè)元件、生成單元和判定單元。多個(gè)檢測(cè)元件在預(yù)定接觸面上的二維構(gòu)造中彼此相關(guān)，并各自檢測(cè)物體與接觸面的接觸。生成單元根據(jù)多個(gè)檢測(cè)單元的檢測(cè)結(jié)果生成特征信息，該特征信息代表基于物體與接觸面的接觸所繪制軌跡的特征。判定單元判定生成單元所生成的特征信息是否已包括于預(yù)先登記的特定接觸特征區(qū)域內(nèi)，該特定接觸特征區(qū)域代表基于物體與接觸面的特定接觸所繪制的軌跡的特征。同時(shí)，為了實(shí)現(xiàn)上述目的，根據(jù)本發(fā)明的第十九方面，提供了一種記錄顯示裝置，其被配置為包括:根據(jù)第一或第二方面所述的接觸檢測(cè)裝置；和顯示器，其具有疊加于其屏幕上的接觸檢測(cè)裝置，且其根據(jù)接觸檢測(cè)裝置的檢測(cè)結(jié)果在屏幕上顯示圖像。根據(jù)本發(fā)明的第二十方面，根據(jù)第十九方面所述的記錄顯示裝置被配置為還包括刪除單元，其用于從屏幕上刪除與根據(jù)判定單元的判定結(jié)果而識(shí)別出的軌跡對(duì)應(yīng)的位置上顯示的圖像。同時(shí)，為了實(shí)現(xiàn)上述目的，根據(jù)本發(fā)明的第二十一方面，提供了一種接觸檢測(cè)方法，包括:控制接觸檢測(cè)設(shè)備來(lái)分別檢測(cè)物體與預(yù)定接觸面的接觸，所述接觸檢測(cè)設(shè)備包括在所述接觸面上的二維構(gòu)造中彼此相關(guān)的多個(gè)檢測(cè)元件；根據(jù)檢測(cè)結(jié)果生成特征信息，該特征信息代表基于物體與接觸面的接觸所繪制軌跡的特征；以及判定所生成的特征信息是否對(duì)應(yīng)于預(yù)先已登記的特定接觸特征信息，該特定接觸特征信息代表基于物體與接觸面的特定接觸所繪制軌跡的特征。同時(shí)，為了實(shí)現(xiàn)上述目的，根據(jù)本發(fā)明的第二十二方面，提供一種檢測(cè)方法，包括:控制接觸檢測(cè)設(shè)備來(lái)分別檢測(cè)物體與預(yù)定接觸面的接觸，所述接觸檢測(cè)設(shè)備包括在所述接觸面上的二維構(gòu)造中彼此相關(guān)的多個(gè)檢測(cè)元件；根據(jù)多個(gè)檢測(cè)單元的檢測(cè)結(jié)果生成特征信息，該特征信息代表基于物體與接觸面的接觸所繪制軌跡的特征；以及判定所生成的特征信息是否已包括于預(yù)先已登記的特定接觸特征區(qū)域內(nèi)，該特定接觸特征區(qū)域代表基于物體與接觸面的特定接觸所繪制軌跡的特征。相比于不具有如下構(gòu)造的情況，根據(jù)本發(fā)明第一、第十八、第十九、第二十一和第二十二方面，實(shí)現(xiàn)了高精度地判定正確接觸和誤接觸的有益效果，所述構(gòu)造為:其根據(jù)在接觸面上的二維構(gòu)造中彼此相關(guān)的多個(gè)檢測(cè)單元的檢測(cè)結(jié)果生成特征信息，該特征信息代表自物體與接觸面接觸至物體與接觸面分開(kāi)期間的軌跡的特征，并且其判定所生成的特征信息所代表的特征是否對(duì)應(yīng)于預(yù)先已登記的基于特定接觸的軌跡的特征。相比于不具備以下構(gòu)造的情況，根據(jù)本發(fā)明第二方面，實(shí)現(xiàn)了高精度地判定正確接觸和誤接觸的有益效果，在所述構(gòu)造中:特定接觸對(duì)應(yīng)于預(yù)先確定為與接觸面正確接觸的正確接觸或者為預(yù)先確定為與接觸面非正確接觸的誤接觸。相比于不具備以下構(gòu)造的情況，根據(jù)本發(fā)明第三方面，實(shí)現(xiàn)了有助于改進(jìn)區(qū)分代表正確接觸的軌跡和代表誤接觸的軌跡的效果，在所述構(gòu)造中:關(guān)聯(lián)識(shí)別信息和軌跡，對(duì)于識(shí)別信息所識(shí)別的各軌跡，判定特征信息是否對(duì)應(yīng)于特定接觸特征信息，并根據(jù)識(shí)別信息所識(shí)別的各軌跡的判定結(jié)果識(shí)別代表與接觸面的特定接觸的軌跡。相比于不具備以下構(gòu)造的情況，根據(jù)本發(fā)明第四和第五方面，實(shí)現(xiàn)了高精度地判定正確接觸和誤接觸的有益效果:所述構(gòu)造還包括識(shí)別單元，其根據(jù)判定單元所做出的判定結(jié)果識(shí)別代表與接觸面的特定接觸的軌跡。相比于不具備以下構(gòu)造的情況，根據(jù)本發(fā)明第六和第七方面所述，實(shí)現(xiàn)了高精度地判定正確接觸和誤接觸的有益效果，其中所述構(gòu)造根據(jù)在預(yù)定期間內(nèi)所做出的特征信息對(duì)應(yīng)于特定接觸特征信息的判定次數(shù)來(lái)識(shí)別代表與接觸面的特定接觸的軌跡。相比于不具備以下構(gòu)造的情況，根據(jù)本發(fā)明第八和第九方面，實(shí)現(xiàn)了高精度地判定正確接觸和誤接觸的有益效果，在所述構(gòu)造中，如果在預(yù)定期間內(nèi)所做出的特征信息對(duì)應(yīng)于特定接觸特征信息的判定次數(shù)大于在預(yù)定期間內(nèi)所做出特征信息不對(duì)應(yīng)于特定接觸特征信息的判定次數(shù)，則將在此預(yù)定期間內(nèi)于接觸面上所繪制的軌跡判定為代表特定接觸的軌跡。相比于不具備以下構(gòu)造的情況，根據(jù)本發(fā)明第十至第十三方面，獲得了有助于實(shí)現(xiàn)有效處理的效果，在所述構(gòu)造中，預(yù)定期間對(duì)應(yīng)于自物體與接觸面接觸至物體與接觸面分開(kāi)之間的時(shí)間段。相比于不具備以下構(gòu)造的情況，根據(jù)本發(fā)明第十四方面，實(shí)現(xiàn)了更高精度地判定正確接觸和誤接觸的有益效果，在所述構(gòu)造中，特征信息對(duì)應(yīng)于表示軌跡幅度的幅度信息、表示軌跡幅度變化程度的程度信息、以及基于物體與接觸面持續(xù)接觸時(shí)間而獲得的基于持續(xù)時(shí)間的信息中的至少一項(xiàng)。相對(duì)于不具備以下構(gòu)造的情況，根據(jù)本發(fā)明第十五方面，實(shí)現(xiàn)了更高準(zhǔn)確地判定正確接觸和誤接觸的有益效果，在該構(gòu)造中，幅度信息對(duì)應(yīng)于表示軌跡面積和軌跡長(zhǎng)度中的至少一項(xiàng)的信息，程度信息對(duì)應(yīng)于表示軌跡面積方差或標(biāo)準(zhǔn)偏差的軌跡面積統(tǒng)計(jì)信息和表示軌跡長(zhǎng)度方差或標(biāo)準(zhǔn)偏差的軌跡長(zhǎng)度統(tǒng)計(jì)信息中的至少一項(xiàng)，基于持續(xù)時(shí)間的信息對(duì)應(yīng)于表示軌跡中接觸點(diǎn)數(shù)量的軌跡數(shù)量信息。相對(duì)于不具備以下構(gòu)造的情況，根據(jù)本發(fā)明第十六方面，獲得了更高精度且易于判定正確接觸和誤接觸的有益效果，所述構(gòu)造利用被配置為包括特定接觸特征信息的決策樹(shù)來(lái)判定特征信息是否對(duì)應(yīng)于特定接觸特征信息。相比于不具備以下構(gòu)造的情況，根據(jù)本發(fā)明第十七方面，獲得了更高精度地判定正確接觸和誤接觸的有益效果，所述構(gòu)造根據(jù)接觸時(shí)間將權(quán)值賦給軌跡，并判定所賦權(quán)值是否等于或者大于預(yù)定的權(quán)值。相比于不具備以下構(gòu)造的情況，根據(jù)本發(fā)明第二十方面，獲得了改進(jìn)屏幕上所顯示信息的易讀性的效果，所述構(gòu)造從屏幕上刪除在已識(shí)別軌跡的對(duì)應(yīng)位置上顯示的圖像。


結(jié)合以下附圖，將對(duì)本發(fā)明的具體實(shí)施例進(jìn)行詳細(xì)說(shuō)明，其中，圖1是示出根據(jù)示例實(shí)施例的液晶手寫(xiě)板的外觀的示意透視圖；圖2是示出根據(jù)示例實(shí)施例的記錄顯示裝置的電氣系統(tǒng)的主要部分的構(gòu)造的框圖；圖3是示出根據(jù)示例實(shí)施例的接觸檢測(cè)處理程序的處理流程的一個(gè)示例的流程圖；圖4A和4B是示出根據(jù)示例實(shí)施例的液晶手寫(xiě)板上所繪制軌跡單位的定義方法的示意圖；圖5是示出根據(jù)示例實(shí)施例的誤接觸判定處理程序的處理流程的一個(gè)示例的流程圖；圖6是示出根據(jù)示例實(shí)施例的作為液晶手寫(xiě)板所采用的決策樹(shù)的構(gòu)成要素的軌跡長(zhǎng)度的方差與接觸面積的相關(guān)關(guān)系的示意圖；圖7是示出根據(jù)示例實(shí)施例的作為液晶手寫(xiě)板所采用的決策樹(shù)的構(gòu)成要素的軌跡的接觸面積的方差與軌跡長(zhǎng)度方差的相關(guān)關(guān)系的示意圖；圖8是示出根據(jù)示例實(shí)施例的作為液晶手寫(xiě)板所采用的決策樹(shù)的構(gòu)成要素的軌跡中接觸點(diǎn)的數(shù)量與軌跡長(zhǎng)度方差的相關(guān)關(guān)系的示意圖；圖9是示出根據(jù)本示例實(shí)施例的根據(jù)液晶手寫(xiě)板所采用的決策樹(shù)的判定方法的一個(gè)示例的代碼示意圖；圖10是示出根據(jù)本示例實(shí)施例的刪除基于液晶手寫(xiě)板上的誤接觸的軌跡的處理示例的示意圖；圖11是示出根據(jù)本示例實(shí)施例的改變基于液晶手寫(xiě)板上的誤接觸的軌跡顏色的處理示例的示意圖；圖12是示出根據(jù)本示例實(shí)施例的對(duì)液晶手寫(xiě)板中的多條軌跡同時(shí)執(zhí)行接觸檢測(cè)處理情況下的時(shí)序概念的概念圖；圖13是示出根據(jù)本示例實(shí)施例的接觸檢測(cè)處理程序的處理流程的修改示例的流程圖；以及圖14是示出根據(jù)本示例實(shí)施例的液晶手寫(xiě)板的誤接觸中所使用的表格示例的示意圖。
具體實(shí)施例方式下面將參考附圖對(duì)實(shí)施本發(fā)明的示例性實(shí)施例的示例進(jìn)行具體描述。圖1是示出根據(jù)本示例實(shí)施例的液晶手寫(xiě)板10的外部的示意透視圖。如圖1所示，液晶手寫(xiě)板10配置為包括記錄顯示裝置14和用作筆型輸入裝置的手寫(xiě)筆16，其中記錄顯示裝置14包括觸摸板顯示器12。圖2是示出根據(jù)本示例實(shí)施例的記錄顯示裝置14的電氣系統(tǒng)的主要部分的構(gòu)造的框圖。如圖2所示，記錄顯示裝置14被配置為包括觸摸板顯示器12、系統(tǒng)控制器18、存儲(chǔ)器20、和控制器22。
觸摸板顯示器12包括觸摸板12A和液晶顯示器(IXD) 12B。具體地，觸摸板顯示器12被設(shè)置為具有疊加于IXD 12B上的透射型觸摸板12A。觸摸板12A由用戶觸摸，從而接收來(lái)自用戶的指令。IXD 12B在其顯示表面(屏幕)上顯示各種信息。根據(jù)本示例實(shí)施例的觸摸板12A是靜電電容式觸摸板，其通過(guò)獲取靜電電容的變化來(lái)檢測(cè)接觸和未接觸。觸摸板12A包括在觸摸板12A的預(yù)定表面(比如，前表面或后表面)上的二維構(gòu)造(比如，矩陣構(gòu)造)中被布置為彼此相關(guān)的多個(gè)靜電電容元件(比如，電容器)24 (其作為多個(gè)檢測(cè)元件布置的示例)，以對(duì)應(yīng)于液晶顯示器12B的各像素的位置。在靜電電容元件24中，由于物體(比如手寫(xiě)筆16，手指或手)的靠近而造成電容耦合，因此物體與觸摸板12A的接觸被檢測(cè)到。靜電電容式觸摸板僅為一個(gè)示例，觸摸板12A還可以為電磁感應(yīng)式觸摸板、紅外式觸摸板、表面聲波式觸摸板、電阻膜式觸摸板等等，并且可以為能夠檢測(cè)到接觸點(diǎn)的任何觸摸板。系統(tǒng)控制器18被配置為包括中央處理單元(CPU)，并通過(guò)執(zhí)行預(yù)定的控制程序來(lái)控制記錄顯示裝置14的整體操作。存儲(chǔ)器20被配置為包括隨機(jī)存取存儲(chǔ)器(RAM)、只讀存儲(chǔ)器(ROM)、和輔助存儲(chǔ)器(比如，閃存)。RAM是一種易失性存儲(chǔ)器用作執(zhí)行各種程序時(shí)的工作區(qū)等。ROM預(yù)先存儲(chǔ)了后面描述的誤接觸特征信息、各種程序、各種參數(shù)、各種表格信息等等。輔助存儲(chǔ)器是非易失性儲(chǔ)存介質(zhì)，用于存儲(chǔ)即使在液晶手寫(xiě)板10的供電開(kāi)關(guān)關(guān)掉的情況下也需要保留的各種信息?？刂破?2被配置為包括CPU (此CPU不同于系統(tǒng)控制器18中所包括的CPU)，且與觸摸板12A、IXD 12B、系統(tǒng)控制器18、和存儲(chǔ)器20連接。因此，在來(lái)自系統(tǒng)控制器18的指令下以及根據(jù)讀取自存儲(chǔ)器20的各種程序、各種參數(shù)、各種表格信息等等，控制器22執(zhí)行從用戶到觸摸板12A的指令內(nèi)容的獲取、在IXD 12B上顯示讀取自儲(chǔ)存器20 (包括代表圖像、字符、圖案、符號(hào)等的信息)的信息、以及在IXD 12B上顯示依照從用戶到觸摸板12A的指令內(nèi)容(包括代表圖像、字符、圖案、符號(hào)等的信息)的各種信息。液晶手寫(xiě)板10被如上配置，當(dāng)基于觸摸板12A所檢測(cè)到的接觸在觸摸板12A上繪制軌跡(接觸標(biāo)記(筆劃))時(shí)，用來(lái)識(shí)別對(duì)應(yīng)于所繪制軌跡的構(gòu)成要素的接觸點(diǎn)的坐標(biāo)信息(比如，代表著用于識(shí)別靜電電容元件24位置的二維坐標(biāo)值的信息，其中將觸摸板12A上的一個(gè)預(yù)定點(diǎn)設(shè)為坐標(biāo)原點(diǎn))被存儲(chǔ)于存儲(chǔ)器20中預(yù)定的存儲(chǔ)區(qū)域α中，并且由存儲(chǔ)于存儲(chǔ)區(qū)域α中的坐標(biāo)信息所識(shí)別的軌跡(對(duì)應(yīng)于觸摸板12Α上繪制的軌跡的軌跡)通過(guò)控制器22顯示于IXD 12Β的屏幕上。同時(shí)，觸摸板12Α所檢測(cè)到的接觸大致上分為用于輸入將被液晶手寫(xiě)板10記錄的信息的接觸(正確接觸)和導(dǎo)致不正確地輸入了不應(yīng)被液晶手寫(xiě)板10記錄的信息的接觸(誤接觸)。然而，過(guò)去由于缺乏高精度地區(qū)分正確接觸和誤接觸的技術(shù)，所以會(huì)出現(xiàn)將誤接觸認(rèn)定為正確接觸或者將正確接觸認(rèn)定為誤接觸的情況。因此，在某些情況下，出現(xiàn)了在液晶顯示器12Β的屏幕上顯示了非預(yù)期的信息或者不能顯示預(yù)期信息的情況。因此，根據(jù)本發(fā)明示例性實(shí)施例的液晶手寫(xiě)板10，執(zhí)行了檢測(cè)物體與觸摸板12Α的接觸以及高精度地識(shí)別誤接觸的接觸檢測(cè)處理。根據(jù)本發(fā)明示例性實(shí)施例的液晶手寫(xiě)板10，用于實(shí)現(xiàn)接觸檢測(cè)處理的各種處理由軟件配置實(shí)現(xiàn)。其中的一個(gè)例子是利用計(jì)算機(jī)執(zhí)行程序的配置。然而，無(wú)需多言，上述處理的實(shí)現(xiàn)并不限于通過(guò)這樣一種軟件配置的實(shí)現(xiàn)，而且上述處理的實(shí)現(xiàn)還可通過(guò)硬件配置或者軟件配置與硬件配置的結(jié)合來(lái)實(shí)現(xiàn)。接下來(lái)，將對(duì)以下情況進(jìn)行說(shuō)明:其中，根據(jù)本示例性實(shí)施例的液晶手寫(xiě)板10的控制器22執(zhí)行接觸檢測(cè)處理程序從而實(shí)現(xiàn)接觸檢測(cè)處理。此種情況下適用的配置包括匕如，預(yù)先已于存儲(chǔ)器20的ROM區(qū)域儲(chǔ)存有接觸檢測(cè)處理程序的配置；通過(guò)將其內(nèi)容保存于計(jì)算機(jī)可讀記錄介質(zhì)中以提供接觸檢測(cè)處理程序的配置；和通過(guò)有線或無(wú)線通訊單元分發(fā)接觸檢測(cè)處理程序的配置。圖3是示出根據(jù)本示例實(shí)施例的接觸檢測(cè)處理程序的處理流程的一個(gè)示例的流程圖。為了避免混淆，作為一個(gè)示例，以下將描述其中控制單元22每隔預(yù)定時(shí)間(比如，本文中為20ms)執(zhí)行接觸檢測(cè)處理程序的情形。此外，為了避免混淆，此處將描述其中手寫(xiě)筆16與觸摸板12A的接觸被判定為正確接觸、而除了手寫(xiě)筆16與觸摸板12A的接觸以外的其它任何與觸摸板12A的接觸(比如，手指或手的接觸)都被判定為誤接觸的情形。此外，本發(fā)明說(shuō)明書(shū)中所用的單詞“軌跡”指當(dāng)物體觸及觸摸板12A時(shí)所獲得的接觸點(diǎn)序列。此單詞包含通過(guò)與觸摸板12A的持續(xù)接觸而獲得的二維坐標(biāo)平面上的一組多個(gè)連續(xù)坐標(biāo)點(diǎn)的概念、以及還包含與觸摸板12A上的一個(gè)點(diǎn)接觸而獲的一個(gè)接觸點(diǎn)的概念。此外，此處“連續(xù)”的概念包括“時(shí)間上連續(xù)”的概念還有“同時(shí)”的概念。如果一物體同時(shí)觸及觸摸板12A的二維坐標(biāo)平面上的一組多個(gè)連續(xù)的點(diǎn)，則這些點(diǎn)被獲取為一個(gè)軌跡單位的構(gòu)成要素。在圖3的步驟100，做出是否已經(jīng)檢測(cè)到物體與觸摸板12A的接觸的判定。如果判定為肯定的，程序進(jìn)行至步驟102。在步驟100的處理中檢測(cè)到的接觸點(diǎn)被判定為一個(gè)軌跡單位的一個(gè)構(gòu)成要素。比如，在此示例實(shí)施例中此接觸檢測(cè)處理程序每隔20ms就被執(zhí)行一次。因此，如果利用手寫(xiě)筆16以單筆劃在觸摸板12A上寫(xiě)字母“Z”以在觸摸板顯示器12上顯示字母“Z”，如圖4A所示，則以20ms的間隔檢測(cè)手寫(xiě)筆16的筆尖的接觸。圖4B所示的示例示意性示出了其中在繪制字母“Z”期間在五個(gè)點(diǎn)除檢測(cè)到接觸的一個(gè)示例性實(shí)施例。這些點(diǎn)以預(yù)定的時(shí)間間隔(20ms)被檢測(cè)到。此外，如果在步驟100中檢測(cè)到多個(gè)接觸點(diǎn)，則這些接觸點(diǎn)將被作為各自形成獨(dú)立的軌跡單位的構(gòu)成要素來(lái)處理。在步驟102，獲取用于識(shí)別上述步驟100的處理中所檢測(cè)到的接觸點(diǎn)的位置的坐標(biāo)信息，且此后程序進(jìn)行至步驟104。在步驟104，判定是否存在其中已檢測(cè)到物體相對(duì)于觸摸板12A并無(wú)接觸的軌跡。如果判定為否定的，程序進(jìn)行至步驟106。也就是說(shuō)，在當(dāng)前的步驟104，如果存在與觸摸板12A的持續(xù)接觸，且此接觸在當(dāng)前接觸檢測(cè)處理程序執(zhí)行之前就已開(kāi)始，則對(duì)接觸是否已被取消(該軌跡是否根據(jù)物體與觸摸板12A分離而已被切斷)做出判定。如果判定為否定的(包括在接觸檢測(cè)處理程序的當(dāng)前執(zhí)行之前與觸摸板12A無(wú)持續(xù)接觸的情況)，則程序進(jìn)行至步驟106。在步驟106，對(duì)接觸檢測(cè)處理程序的當(dāng)前執(zhí)行是否已檢測(cè)到新的接觸而做出判定。如果判定為肯定的，程序進(jìn)行至步驟108。同時(shí)，如果判定為否定的，程序進(jìn)行至步驟110。在此，“新的接觸”被檢測(cè)到的狀態(tài)(步驟106所做出判定為肯定的情況)意味著其中接觸點(diǎn)的遷移速度高于預(yù)定遷移速度的狀態(tài)。例如，如果物體首次與接觸點(diǎn)接觸，則認(rèn)為接觸點(diǎn)的遷移速度高于預(yù)定遷移速度。相反的，“新的接觸”未被檢測(cè)到的狀態(tài)(步驟106所做出判定為否定的情況)意味著接觸點(diǎn)的遷移速度等于或者低于預(yù)定遷移速度的狀態(tài)。比如，如果與觸摸板12A持續(xù)接觸，則認(rèn)為與接觸點(diǎn)的遷移速度等于或者低于預(yù)定遷移速度。
在步驟108，基于上述步驟100的處理中所檢測(cè)到的接觸，將作為唯一識(shí)別信息的一個(gè)示例的指針標(biāo)識(shí)符(ID)施加給在觸摸板12A上所繪制的軌跡。此后，程序進(jìn)行至步驟110。例如，在此情況下，將一個(gè)指針I(yè)D施加給通過(guò)上述步驟100的處理首先檢測(cè)到的接觸而識(shí)別出的軌跡。如果存在各自基于上述步驟100的處理首次檢測(cè)到的接觸而被識(shí)別出的多條條軌跡，則每一條軌跡都被施加以一個(gè)對(duì)其唯一設(shè)定的指針標(biāo)識(shí)符。即使多個(gè)物體同時(shí)觸及觸摸板12A上的多個(gè)位置，也可以通過(guò)各自的指針I(yè)D識(shí)別出基于各自接觸的軌跡。在步驟110，在上述步驟102的處理中獲取的坐標(biāo)信息按時(shí)間順序與施加給各軌跡的指針I(yè)D相關(guān)聯(lián)地被存入存儲(chǔ)器20中的存儲(chǔ)區(qū)域α中。例如，坐標(biāo)信息和指明坐標(biāo)信息的獲取時(shí)間的時(shí)間信息被以指針I(yè)D為單位存入存儲(chǔ)區(qū)域α中，其中坐標(biāo)信息和時(shí)間信息彼此關(guān)聯(lián)。在接下來(lái)的步驟112，針對(duì)各指針I(yè)D獲取當(dāng)前存儲(chǔ)于存儲(chǔ)區(qū)域α中的坐標(biāo)信息。接著，從針對(duì)各指針I(yè)D所獲取的坐標(biāo)信息針對(duì)各指針I(yè)D導(dǎo)出代表軌跡特征的特征信息，所導(dǎo)出的特征信息被針對(duì)各指針I(yè)D按時(shí)間順序而存入存儲(chǔ)區(qū)域α中。特征信息包括匕如，代表當(dāng)前軌跡幅度的幅度信息、代表當(dāng)前軌跡幅度變化程度的程度信息、以及基于用于繪制當(dāng)前軌跡的接觸的持時(shí)間而導(dǎo)出的基于持續(xù)時(shí)間的信息。比如，幅度信息包括軌跡的面積，其中該軌跡的構(gòu)成要素對(duì)應(yīng)于當(dāng)前觸摸板12A所包括的各接觸點(diǎn)，幅度信息還包括軌跡的長(zhǎng)度(比如，從此處的二維坐標(biāo)值得到的各接觸點(diǎn)之間的移動(dòng)距離)。程度信息包括軌跡的面積方差，其中該軌跡的構(gòu)成要素對(duì)應(yīng)于當(dāng)前觸摸板12A所包括的各接觸點(diǎn)，以及程度信息還包括軌跡的長(zhǎng)度方差。基于持續(xù)時(shí)間的信息包括軌跡(一個(gè)筆劃)中的接觸點(diǎn)數(shù)目，其中該軌跡的構(gòu)成要素對(duì)應(yīng)于當(dāng)前觸摸板12A所包括的各接觸點(diǎn)。作為一個(gè)示例，本示例實(shí)施例采用軌跡的面積作為幅度信息，采用軌跡的面積方差和軌跡的長(zhǎng)度方差作為程度信息，以及采用軌跡中的接觸點(diǎn)數(shù)目作為基于持續(xù)時(shí)間的信息。在此，對(duì)于軌跡中的接觸點(diǎn)數(shù)目，每隔20ms將與一個(gè)點(diǎn)的接觸計(jì)為I次接觸。此外，發(fā)明人已證明手寫(xiě)筆16的接觸(正確接觸)中的軌跡的面積方差和軌跡的長(zhǎng)度方差大于除了手寫(xiě)筆16之外的其它物體(t匕如手指或手)的誤接觸。這被認(rèn)為是因?yàn)檎_接觸的移動(dòng)距離大于誤接觸的移動(dòng)距離。另外，在上述步驟112，本示例實(shí)施例根據(jù)利用指針I(yè)D所識(shí)別的軌跡中的接觸點(diǎn)數(shù)目對(duì)該指針I(yè)D施加權(quán)值。具體地，軌跡中接觸點(diǎn)的數(shù)目越多，施加給指針I(yè)D的權(quán)值就越大。此過(guò)程基于已證實(shí)的下列事實(shí):軌跡中接觸點(diǎn)的數(shù)目越多，用于導(dǎo)出特征信息的坐標(biāo)信息項(xiàng)的數(shù)目就越多，從而判定的精度就越高。每次更新軌跡中的接觸點(diǎn)數(shù)目時(shí)，就對(duì)權(quán)值進(jìn)行更新。本示例實(shí)施例中通過(guò)使用例如圖14所示的表來(lái)施加權(quán)值。根據(jù)圖14所示的表格，當(dāng)軌跡中的接觸點(diǎn)數(shù)目處于從I至39的范圍時(shí)，采用數(shù)值1.0作為權(quán)值。當(dāng)軌跡中的接觸點(diǎn)數(shù)目處于40至79的范圍時(shí)，采用數(shù)值1.2作為權(quán)值。當(dāng)軌跡中的接觸點(diǎn)數(shù)目處于80至119的范圍時(shí)，采用數(shù)值1.4作為權(quán)值。當(dāng)軌跡中的接觸點(diǎn)數(shù)目等于或大于120時(shí)，采用數(shù)值1.6作為權(quán)值。施加權(quán)值的方法并不只限于使用表格的方法。除了此方法，還可以采用使用例如其解對(duì)應(yīng)于權(quán)值的運(yùn)算方程式的方法。在執(zhí)行上述步驟112的處理之后，程序進(jìn)行至步驟114以執(zhí)行誤接觸判定處理程序。圖5示出了誤接觸判定處理程序的處理流程的一個(gè)示例。如圖中所示，在步驟114A，從存儲(chǔ)器20獲取預(yù)先登記的誤接觸特征信息。本示例實(shí)施例采用預(yù)先登記的信息作為誤接觸特征信息，其中預(yù)先登記的信息代表著基于物體與觸摸板12A誤接觸的軌跡的特征。具體地，如圖6至圖8所示的第一誤接觸區(qū)域信息至第三誤接觸區(qū)域信息為誤接觸特征信息的示例。圖6所示的示例示出了代表誤接觸區(qū)域的信息(第一誤接觸區(qū)域信息)，代表正確接觸區(qū)域的信息(第一正確接觸區(qū)域信息)，和代表還未被判定為誤接觸區(qū)域或正確接觸區(qū)域且有待于進(jìn)一步判定的區(qū)域的信息(第一未判定區(qū)域信息)，各區(qū)域由表明代表誤接觸的軌跡的長(zhǎng)度方差范圍與代表正確接觸的軌跡的長(zhǎng)度方差之間范圍之間邊界的閾值(長(zhǎng)度方差閾值)和表明代表誤接觸的軌跡的面積(接觸面積)范圍與代表正確接觸的軌跡的面積(接觸面積)范圍之間的邊界值的閾值共同限定。此外，圖7所示的示例示出了代表誤接觸區(qū)域的信息(第二誤接觸區(qū)域信息)和代表還未被判定為誤接觸區(qū)域或正確接觸區(qū)域且有待于進(jìn)一步判定的區(qū)域的信息(第二未判定區(qū)域信息)，各區(qū)域由表明代表誤接觸的軌跡的面積方差范圍與代表正確接觸的軌跡的面積方差范圍之間的邊界的閾值(面積方差閾值)和長(zhǎng)度方差閾值共同限定。此外，圖8所示的示例示出了代表誤接觸區(qū)域的信息(第三誤接觸區(qū)域信息)和代表正確接觸區(qū)域的信息(第二正確接觸區(qū)域信息)，各區(qū)域由表明代表誤接觸的軌跡中接觸點(diǎn)數(shù)目的范圍與代表正確接觸的軌跡中接觸點(diǎn)數(shù)目的范圍之間的邊界的閾值(數(shù)目閾值)和長(zhǎng)度方差閾值共同限定。在隨后的步驟114B中，待進(jìn)行判定處理的軌跡的指針I(yè)D (當(dāng)前指針I(yè)D)從施加給各軌跡的指針I(yè)D中獲取，各軌跡的構(gòu)成要素對(duì)應(yīng)于物體與觸摸板12A的當(dāng)前接觸點(diǎn)。此后，程序進(jìn)行至步驟114C。在步驟114C中，在上述步驟114B過(guò)程中獲取的當(dāng)前指針I(yè)D所對(duì)應(yīng)的軌跡中，獲取未進(jìn)行該處理的接觸點(diǎn)的特征信息。接著，將獲取的特征信息與在上述步驟114A的處理中獲取的誤接觸特征信息進(jìn)行比較。在步驟114C，將施加給作為特征信息的軌跡中的接觸點(diǎn)數(shù)目的權(quán)值與預(yù)定權(quán)值(此處為1.4)進(jìn)行進(jìn)一步的比較。在接下來(lái)的步驟114D中，作為上述步驟114C的處理中將施加給作為特征信息的軌跡中的接觸點(diǎn)數(shù)目的權(quán)值與預(yù)定權(quán)值進(jìn)行比較的結(jié)果，對(duì)施加給作為特征信息的軌跡中的接觸點(diǎn)數(shù)目的權(quán)值是否小于預(yù)定權(quán)值做出判定。在此，如果判定結(jié)果為否定的，程序進(jìn)行至步驟114F。如果判定結(jié)果為肯定的，則對(duì)特征信息是否對(duì)應(yīng)于誤接觸特征信息做出判定來(lái)作為特征信息與上述步驟114C的處理中的誤接觸特征信息進(jìn)行比較的結(jié)果。在此，如果判定結(jié)果為肯定的，程序進(jìn)行至步驟114E。同時(shí)，如果判定結(jié)果為否定的，程序進(jìn)行至步驟114F。在本示例實(shí)施例中，步驟114D的處理包括關(guān)于權(quán)值比較結(jié)果做出判定的處理。但是，此過(guò)程可被省略。這樣，可減少用于誤接觸判定處理所用的總處理時(shí)間。然而，為了高精度判定誤接觸，包括關(guān)于權(quán)值比較結(jié)果做出判定的處理是可取的，如本示例實(shí)施例的步驟114D所示。因此，在當(dāng)前處理中，描述了執(zhí)行包括關(guān)于權(quán)值判定的處理的示例。在步驟114D中，根據(jù)包括誤接觸信息的決策樹(shù)判定特征信息是否對(duì)應(yīng)于誤接觸特征信息。比如，根據(jù)采用如圖6所示的軌跡的長(zhǎng)度方差和軌跡的面積的決策樹(shù)、采用如圖7所示的軌跡的面積方差和軌跡的長(zhǎng)度方差的決策樹(shù)、以及采用如圖8所示的軌跡的接觸點(diǎn)數(shù)目和軌跡的長(zhǎng)度方差的決策樹(shù)來(lái)判定特征信息是否對(duì)應(yīng)于誤接觸特征信息。具體地，作為一個(gè)示例，對(duì)作為在上述步驟114C的處理中獲取的特征信息的軌跡的長(zhǎng)度方差和軌跡的面積是否包括于圖6所示由第一誤接觸區(qū)域信息表示的區(qū)域中進(jìn)行判定。如果軌跡的長(zhǎng)度方差和軌跡的面積包括在所述區(qū)域中，則判定為此特征信息對(duì)應(yīng)于誤接觸特征信息(步驟114D中的肯定判定)。如果判定為此特征信息不對(duì)應(yīng)于誤接觸特征信息，則對(duì)作為特征信息的軌跡的長(zhǎng)度方差和軌跡的面積是否包括在圖6中由第一正確接觸區(qū)域信息表示的區(qū)域中進(jìn)行判定。如果軌跡的長(zhǎng)度方差和軌跡的面積包括在此區(qū)域中，則判定為此特征信息不對(duì)應(yīng)于誤接觸特征信息(步驟114D中的否定判定)。在此，如果特征信息既不包括在由第一誤接觸區(qū)域信息所代表的區(qū)域中也不包括在第一正確接觸區(qū)域信息所代表的區(qū)域中，則判定特征信息包括在由第一未判定區(qū)域信息代表的區(qū)域中。之后，作為一個(gè)示例，對(duì)作為在上述步驟114C的處理中獲取的特征信息的軌跡的面積方差和軌跡的長(zhǎng)度方差是否包括在圖7所示的由第二誤接觸區(qū)域信息代表的區(qū)域中進(jìn)行判定。如果軌跡的面積方差和軌跡的長(zhǎng)度方差都包括在此區(qū)域中，則判定為此特征信息對(duì)應(yīng)于誤接觸特征信息(步驟114D中的肯定判定)。在此，如果特征信息未包括在由第二誤接觸區(qū)域信息代表的區(qū)域中，則判定該特征信息包括在由第二未判定區(qū)域信息代表的區(qū)域中。隨后，作為一個(gè)示例，對(duì)作為在上述步驟114C的處理中獲取的特征信息的軌跡中的接觸點(diǎn)數(shù)目和軌跡的長(zhǎng)度方差是否包括在圖8所示的由第三誤接觸區(qū)域信息代表的區(qū)域中進(jìn)行判定。如果軌跡中的接觸點(diǎn)數(shù)目和軌跡的長(zhǎng)度方差包括在此區(qū)域中，則判定此特征信息對(duì)應(yīng)于誤接觸特征信息(步驟114D中的肯定判定)。如果軌跡中的接觸點(diǎn)數(shù)目和軌跡的長(zhǎng)度方差不包括在此區(qū)域中(如果軌跡中的接觸點(diǎn)數(shù)目和軌跡的長(zhǎng)度方差包括在由第二正確接觸區(qū)域信息代表的區(qū)域中)，則判定此特征信息不對(duì)應(yīng)于誤接觸特征信息(步驟114D中的否定判定)。圖9示出了基于根據(jù)本示例實(shí)施例的液晶手寫(xiě)板10所采用的決策樹(shù)來(lái)判定軌跡單元是否基于誤接觸的方法的示例。圖9中，“size”表示軌跡的面積，該軌跡的構(gòu)成要素對(duì)應(yīng)于當(dāng)前包括在觸摸板12A中的接觸點(diǎn)，“points_stroke”表示軌跡中的接觸點(diǎn)數(shù)目，該軌跡的構(gòu)成要素對(duì)應(yīng)于當(dāng)前包括在觸摸板12A中的接觸點(diǎn)。此外,“variance_length_trajectory”表示軌跡的長(zhǎng)度方差，該軌跡的構(gòu)成要素對(duì)應(yīng)于當(dāng)前包括在觸摸板12A中的接觸點(diǎn)，“variance_size”表示軌跡的面積方差,該軌跡的構(gòu)成要素對(duì)應(yīng)于當(dāng)前包括在觸摸板12A中的接觸點(diǎn)。另外，圖9中，“pen”表示手寫(xiě)筆16的接觸(正確接觸)，“hand”表示除了手寫(xiě)筆16之外的例如手或手指等的接觸(誤接觸)。在根據(jù)本示例實(shí)施例的液晶手寫(xiě)板10中，如果根據(jù)決策樹(shù)來(lái)判定軌跡是否基于誤接觸，則最終在決策樹(shù)的分支末端得到結(jié)果“pen”或者“hand”，例如如圖9所示。在圖9所示示例中，首先判定軌跡的面積是否等于或者小于面積閾值SI，接著通過(guò)使用各閾值以分支方式進(jìn)行判定。具體地，如果軌跡的面積被判定為等于或者小于面積閾值SI，則對(duì)軌跡的長(zhǎng)度方差是否等于或者小于長(zhǎng)度方差閾值Tl進(jìn)行判定。如果軌跡的長(zhǎng)度方差被判定為等于或者小于長(zhǎng)度方差閾值Tl，則對(duì)軌跡中的接觸點(diǎn)數(shù)目是否等于或者小于數(shù)目閾值Pl進(jìn)行判定。此處，如果軌跡中的接觸點(diǎn)數(shù)目被判定為等于或者小于數(shù)目閾值P1，則判定此軌跡基于正確接觸。如果軌跡中的接觸點(diǎn)數(shù)目被判定為并非等于或者小于數(shù)目閾值P1，則對(duì)軌跡的長(zhǎng)度方差是否等于或者小于長(zhǎng)度方差閾值T3進(jìn)行判定。此處，如果軌跡的長(zhǎng)度方差等于或者小于長(zhǎng)度方差閾值T3，則判定此軌跡基于誤接觸。如果軌跡的長(zhǎng)度方差并非等于或者小于長(zhǎng)度方差閾值T3，則對(duì)軌跡中接觸點(diǎn)數(shù)目是否等于或者小于數(shù)目閾值P2進(jìn)行判定。此處，如果軌跡中的接觸點(diǎn)數(shù)目等于或者小于數(shù)目閾值P2，則判定此軌跡基于正確接觸。如果軌跡中的接觸點(diǎn)數(shù)目并非等于或者小于數(shù)目閾值P2，則判定此軌跡基于誤接觸。同時(shí)，如果軌跡的面積被判定為等于或者小于面積閾值SI而且軌跡的長(zhǎng)度方差并非等于或者小于長(zhǎng)度方差閾值Tl，則對(duì)軌跡的面積方差是否等于或者小于面積方差閾值VSl進(jìn)行判定。此處，如果軌跡的面積方差等于或者小于面積方差閾值VS1，則判定此軌跡基于正確接觸。如果軌跡的面積方差并非等于或者小于面積方差閾值VS1，則對(duì)軌跡的長(zhǎng)度方差是否等于或者小于長(zhǎng)度方差閾值T4進(jìn)行判定。此處，如果軌跡的長(zhǎng)度方差等于或者小于長(zhǎng)度方差閾值T4，則判定此軌跡基于誤接觸。如果軌跡的長(zhǎng)度方差并非等于或者小于長(zhǎng)度方差閾值T4，則判定此軌跡基于正確接觸。同時(shí)，如果軌跡的面積被判定為并非等于或者小于面積閾值SI，則對(duì)軌跡的長(zhǎng)度方差是否等于或者小于長(zhǎng)度方差閾值T2進(jìn)行判定。如果軌跡的長(zhǎng)度方差被判定為等于或者小于長(zhǎng)度方差閾值T2，則對(duì)軌跡中的接觸點(diǎn)數(shù)目是否等于或者小于數(shù)目閾值P3進(jìn)行判定。如果軌跡中的接觸點(diǎn)數(shù)目等于或者小于數(shù)目閾值P3，則對(duì)軌跡的面積是否等于或者小于面積閾值S2進(jìn)行判定。如果軌跡的面積等于或者小于面積閾值S2，則對(duì)軌跡中的接觸點(diǎn)數(shù)目是否等于或者小于數(shù)目閾值P4進(jìn)行判定。此處，如果軌跡中的接觸點(diǎn)數(shù)目等于或者小于數(shù)目閾值P4，則判定此軌跡基于正確接觸。如果軌跡中的接觸點(diǎn)數(shù)目并非等于或者小于數(shù)目閾值P4，則判定此軌跡基于誤接觸。如果軌跡的面積并非等于或者小于面積閾值S2，則判定此軌跡基于誤接觸。如果軌跡中的接觸點(diǎn)數(shù)目并非等于或者小于數(shù)目閾值P3，則判定此軌跡基于誤接觸。如果軌跡的長(zhǎng)度方差被判定為并非等于或者小于長(zhǎng)度方差閾值T2，則對(duì)軌跡的面積是否等于或者小于面積閾值S3進(jìn)行判定。如果軌跡的面積等于或者小于面積閾值S3，則判定此軌跡基于正確接觸。如果軌跡的面積并非等于或者小于面積閾值S3，則判定此軌跡基于誤接觸。
在步驟114E，以當(dāng)前指針I(yè)D所識(shí)別的軌跡中已進(jìn)行了判定的接觸點(diǎn)為單位設(shè)置標(biāo)記。此后，程序進(jìn)行至步驟114F。在本示例實(shí)施例中，以接觸點(diǎn)為單位獲取時(shí)間信息和坐標(biāo)信息。因此，步驟114E的處理還包括一配置實(shí)例，其將所述標(biāo)記設(shè)置為與對(duì)應(yīng)于已進(jìn)行了判定的接觸點(diǎn)的時(shí)間信息和坐標(biāo)信息--對(duì)應(yīng)地相關(guān)聯(lián)。在步驟114F，對(duì)是否已對(duì)組成以在上述步驟114B的處理中獲取的當(dāng)前指針I(yè)D所識(shí)別的軌跡的所有接觸點(diǎn)都進(jìn)行了特征信息與誤接觸特征信息之間的比較做出判定。如果判定為否定的，則程序返回至上述步驟114C。此時(shí)，如果判定為肯定的，則程序進(jìn)行至步驟114G。在步驟114G，對(duì)是否存在與基于當(dāng)前檢測(cè)到的接觸的軌跡對(duì)應(yīng)的任何其他指針I(yè)D進(jìn)行判定。如果判定為肯定的，則程序返回至上述步驟114B。同時(shí)，如果判定為否定的，則程序進(jìn)行至步驟114H。步驟114H，獲取當(dāng)前指針I(yè)D。此后，程序進(jìn)行至步驟1141，對(duì)當(dāng)前已設(shè)置的標(biāo)記的數(shù)目是否大于沒(méi)設(shè)置標(biāo)記的接觸點(diǎn)數(shù)目(當(dāng)前已設(shè)置標(biāo)記的數(shù)目是否大于組成進(jìn)行了判定的軌跡的接觸點(diǎn)的數(shù)目的一半)進(jìn)行判定。如果判定為肯定的，則程序進(jìn)行至步驟114J，且對(duì)用于識(shí)別此軌跡的指針I(yè)D施加以誤接觸信息以表明此軌跡為基于誤接觸而繪制，其中在該軌跡中，標(biāo)記數(shù)目已被判定為大于所有接觸點(diǎn)數(shù)目的一半。此后，程序進(jìn)行至步驟114K。同時(shí)，如果步驟1141的判定為否定的，則程序進(jìn)行至步驟114L，對(duì)當(dāng)前獲取的當(dāng)前指針I(yè)D是否被施加以誤接觸信息進(jìn)行判定。如果判定為否定的，則程序進(jìn)行至步驟114K。同時(shí)，如果判定為肯定的，則程序進(jìn)行至步驟114M，從當(dāng)前指針I(yè)D中刪除此誤接觸信息。此后，程序進(jìn)行至步驟114K。在步驟114K，對(duì)是否存在與基于當(dāng)前檢測(cè)到的接觸的軌跡對(duì)應(yīng)任何其他指針I(yè)D進(jìn)行判定。如果判定為肯定的，則程序返回至上述步驟114H。同時(shí)，如果判定為否定的，則此誤接觸判定處理程序結(jié)束。同時(shí)，如果在圖3所示的步驟100或步驟104中的判定為否定的，則程序進(jìn)行至步驟116。在步驟116，對(duì)當(dāng)前存儲(chǔ)于存儲(chǔ)區(qū)域α中的各指針I(yè)D中是否包括被施加以誤接觸信息的指針I(yè)D進(jìn)行判定，從而識(shí)別代表誤接觸的軌跡。如果當(dāng)前步驟116中的判定為否定的，則此接觸檢測(cè)處理程序結(jié)束。同時(shí)，如果判定為肯定的，則程序進(jìn)行至步驟118。在步驟118，獲取被施加了誤接觸信息的指針I(yè)D，并對(duì)LCD 12Β的屏幕上的對(duì)應(yīng)于利用所獲取指針I(yè)D所識(shí)別的軌跡的位置的圖像(比如，對(duì)應(yīng)于基于誤接觸而繪制在觸摸板12Α上的軌跡的軌跡，或者表明其中包括在已顯示在觸摸板12Α上的屏幕(例如菜單屏幕)中的一個(gè)按鈕由于誤接觸所致的無(wú)意按壓而被接通的狀態(tài)的圖像)進(jìn)行預(yù)定處理。之后，此接觸檢測(cè)處理程序結(jié)束。所述預(yù)定處理包括:比如，刪除基于誤接觸而顯示于IXD 12Β的屏幕上的圖像的處理，如圖10所示，以及將基于誤接觸而顯示于IXD 12Β的屏幕上的圖像的顏色改變?yōu)樘囟伾?被預(yù)定為表明圖像基于誤接觸而顯示的顏色)的處理，如圖11所示。此外，如果基于誤接觸而顯示于IXD 12Β的屏幕上的圖像是對(duì)應(yīng)于在觸摸板12Α上繪制的軌跡的軌跡，則所述預(yù)定處理包括改變軌跡的粗度或者線條類型的處理。在根據(jù)本示例實(shí)施例的液晶手寫(xiě)板10中，通過(guò)控制器22執(zhí)行上述接觸檢測(cè)處理程序，可以容易且高精度地判定根據(jù)與觸摸板12Α的接觸所繪制軌跡是否基于誤接觸。此夕卜，坐標(biāo)信息利用指針I(yè)D進(jìn)行管理。因此，如果從儲(chǔ)存區(qū)域α中刪除基于誤接觸而繪制的軌跡的信息而在儲(chǔ)存區(qū)域α中僅留下基于正確接觸而繪制的軌跡的信息(比如，指針I(yè)D和坐標(biāo)信息)，則處理器22將根據(jù)基于正確接觸而繪制的軌跡的信息在IXD 12Β上顯示該軌跡。因此，通過(guò)不顯示基于誤接觸的不必要的軌跡(圖像)，提高了可讀性。此外，用戶無(wú)需再考慮IXD 12Β上所顯示的圖像是基于誤接觸還是正確接觸。此外，根據(jù)本示例實(shí)施例的液晶手寫(xiě)板10，即使存在多條軌跡，也可以容易且高精度的判定各軌跡是否基于誤接觸。比如，如果存在被分別施加了指針I(yè)D I和指針I(yè)D 2的軌跡，如圖12所示，則每隔預(yù)定時(shí)間對(duì)各軌跡單獨(dú)(并行地)判定軌跡是否基于誤接觸。之后，當(dāng)對(duì)應(yīng)于軌跡的接觸被取消時(shí)，基于誤接觸的軌跡的識(shí)別將針對(duì)指針I(yè)D I和指針I(yè)D 2分別進(jìn)行。在上述示例實(shí)施例中，已描述了當(dāng)檢測(cè)到非接觸時(shí)(當(dāng)與觸摸板12Α的觸摸被取消時(shí))對(duì)軌跡是否基于誤接觸進(jìn)行最終判定的配置示例。然而，該配置并非僅限于此，可每隔預(yù)定時(shí)間(20ms)做出軌跡是否基于誤接觸的最終判定，其中該預(yù)定時(shí)間對(duì)應(yīng)于接觸檢測(cè)處理程序執(zhí)行一次所用的執(zhí)行時(shí)間。在此情況下，在每次執(zhí)行誤接觸判定處理時(shí)執(zhí)行上述步驟116和步驟118的處理，例如如圖13所示。在此情況下，相比于前述實(shí)施例中描述的示例，可快速獲得軌跡是否基于誤接觸的判定結(jié)論。由于誤接觸的快速判定，因此，此配置在比如用液晶手寫(xiě)板10簽署其中不允許出現(xiàn)輸入錯(cuò)誤的重要簽名時(shí)特別有效。圖13所示的流程圖與圖3所示的流程圖不同之處在于去除了步驟104，將步驟116和118移至步驟114之后的位置，而且當(dāng)步驟100的判定為否定時(shí)，接觸檢測(cè)處理程序結(jié)束。此外，可提示用戶指定是選用圖3所示流程圖的處理(接觸檢測(cè)處理)還是圖13所示流程圖的處理。此配置提高了方便性。此外，在上述實(shí)施例中，已描述了將預(yù)定時(shí)間設(shè)置為20ms的示例。然而，預(yù)定時(shí)間并非僅限于此。預(yù)定時(shí)間可為任何其它的時(shí)間，還可由用戶指定。然而，如果采用5ms作為預(yù)定時(shí)間，則相比于采用20ms作為預(yù)定時(shí)間的情況，每隔預(yù)定時(shí)間(5ms)執(zhí)行上述接觸檢測(cè)處理程序是困難的。因此當(dāng)檢測(cè)到非接觸(non-contact)時(shí)，可根據(jù)到那時(shí)所累積的數(shù)據(jù)對(duì)軌跡是否基于誤接觸做出最終判定。如果接觸檢測(cè)處理程序因此每5ms執(zhí)行一次，則最好在前面程序執(zhí)行時(shí)積累(準(zhǔn)備)用于后續(xù)程序的數(shù)據(jù)(比如，坐標(biāo)信息和特征信息)以防止后續(xù)程序(比如，后續(xù)的接觸檢測(cè)處理)的延遲。此外，在上述示例實(shí)施例中，已描述了采用軌跡的面積作為幅度信息、采用軌跡的面積方差和軌跡的長(zhǎng)度方差作為程度信息、采用軌跡中的接觸點(diǎn)數(shù)目作為基于持續(xù)時(shí)間的信息的配置示例。然而，軌跡的面積可由軌跡的長(zhǎng)度代替，軌跡的面積方差和軌跡的長(zhǎng)度方差可分別由軌跡的面積標(biāo)準(zhǔn)偏差和軌跡的長(zhǎng)度標(biāo)準(zhǔn)偏差代替。此外，軌跡中的接觸點(diǎn)數(shù)目可由接觸的持續(xù)時(shí)間代替。另外，軌跡的面積和軌跡的長(zhǎng)度可分別由面積的最大值、最小值或者平均值和長(zhǎng)度的最大值、最小值或者平均值代替。此外，在上述示例實(shí)施例中，已描述了使用決策樹(shù)來(lái)判定軌跡是否基于誤接觸的配置示例。然而，可采用模版匹配法、K-最近鄰分類法、神經(jīng)網(wǎng)絡(luò)、支持向量機(jī)、隱馬爾可夫模型、Boosting方法等代替決策樹(shù)進(jìn)行判定。并且在采用這些方法其中之一的情況下，被收集用于學(xué)習(xí)的特征信息和判定結(jié)果作為學(xué)習(xí)數(shù)據(jù)被反饋并被再次使用。此外，在上述示例實(shí)施例中，已描述了對(duì)基于誤接觸而顯示于IXD 12B的屏幕上的圖像強(qiáng)制執(zhí)行預(yù)定處理(刪除或改變顏色)的配置示例。然而，可以采用允許用戶預(yù)先對(duì)液晶手寫(xiě)板10提供如下指令的配置:是否對(duì)基于誤接觸而顯示的圖像執(zhí)行預(yù)定處理，并且如果已預(yù)先提供了不執(zhí)行預(yù)定處理的指令，將不對(duì)基于誤接觸而顯示的圖像執(zhí)行預(yù)定處理；如果已預(yù)先提供了執(zhí)行預(yù)定處理的指令，將對(duì)基于誤接觸而顯示的圖像執(zhí)行預(yù)定處理。這些指令可通過(guò)觸摸板顯示器12或者依照單獨(dú)對(duì)液晶手寫(xiě)板10提供的指令開(kāi)關(guān)的“0N”和“OFF”來(lái)提供。此外，這些指令還可通過(guò)遠(yuǎn)程控制而利用有線或無(wú)線通訊提供給液晶手寫(xiě)板10。此外，在上述示例實(shí)施例中，已描述了將手寫(xiě)筆16的接觸作為正確接觸進(jìn)行處理的配置示例。然而，這僅是為了方便起見(jiàn)而采用的示例。判定一接觸是否為誤接觸歸根結(jié)底取決于從與觸摸板12A接觸而獲得的特征信息是否對(duì)應(yīng)于預(yù)先已登記的數(shù)據(jù)(比如，誤接觸特征信息)的判定。因此，無(wú)需多言，判定結(jié)果并非依賴于與觸摸板12A接觸的物體(指令物體)的類型。此外，在上述示例實(shí)施例中，已描述了其中針對(duì)利用指針I(yè)D所識(shí)別的各軌跡判定該軌跡是否基于誤接觸的配置示例。然而，如果在預(yù)定時(shí)間內(nèi)依照上述多數(shù)規(guī)則判定一條軌跡是基于誤接觸，則判定在此時(shí)間段內(nèi)在觸摸板12A上繪制的各軌跡都是基于誤接觸的配置也可被采用。此外，上述示例實(shí)施例中根據(jù)特征信息是否包括于第一至第三誤接觸區(qū)域之一中的判定來(lái)判定軌跡是否基于誤接觸。然而，并不限于此配置。還可根據(jù)特征信息是否對(duì)應(yīng)于預(yù)先已作為誤接觸特征信息而被登記的信息的判定來(lái)判定軌跡是否基于誤接觸，其中所述誤接觸特征信息代表基于誤接觸的軌跡的特征。此外，可以登記多個(gè)誤接觸特征信息項(xiàng)。在此情況下，可采用如下配置:如果特征信息對(duì)應(yīng)于誤接觸特征信息項(xiàng)之一，則判定此軌跡基于誤接觸。此外，在上述示例實(shí)施例中，已描述了通過(guò)使用多數(shù)規(guī)則來(lái)判定軌跡是否基于誤接觸的配置示例。然而，并不限于此配置。軌跡是否基于誤接觸可根據(jù)判定為誤接觸的接觸點(diǎn)數(shù)目是否等于或者大于預(yù)定數(shù)目的判定進(jìn)行判定。此外，在上述示例實(shí)施例中，已描述了直接判定與觸摸板12A的誤接觸以根據(jù)判定結(jié)果區(qū)別正確接觸和誤接觸的配置示例。然而，相反地，也可直接判定與觸摸板12A的正確接觸以根據(jù)判定結(jié)果區(qū)別正確接觸和誤接觸。在此情況下，判定的做出基于比如特征信息是否包括在由圖8所示的第二正確接觸區(qū)域信息代表的區(qū)域中。如果特征信息被判定為包括在此區(qū)域中，則設(shè)置標(biāo)記。之后，對(duì)已標(biāo)記的數(shù)目是否大于所有接觸點(diǎn)數(shù)目的一半進(jìn)行判定。如果已標(biāo)記的數(shù)目被判定為大于所有接觸點(diǎn)數(shù)目的一半，則對(duì)識(shí)別此軌跡(該軌跡中的標(biāo)記的數(shù)目被判定為大于所有接觸點(diǎn)數(shù)目的一半)的指針I(yè)D施加以表明此軌跡基于正確接觸繪制的正確接觸信息，從而識(shí)別出基于正確接觸的軌跡以及識(shí)別出作為基于誤接觸的軌跡的其它軌跡。無(wú)需多說(shuō)，軌跡是否基于正確接觸的最終結(jié)論可每隔預(yù)定時(shí)間(比如，20ms)得到，并且在這種情況下無(wú)需判定標(biāo)記的數(shù)目是否大于所有接觸點(diǎn)的數(shù)目的一半。通過(guò)這種特征信息是否對(duì)應(yīng)于預(yù)先已登記的代表著基于與觸摸板12A的特定接觸(判定為與觸摸板12A的正確接觸的正確接觸或者判定為與觸摸板12A誤確接觸的誤接觸)而繪制的軌跡的特征的特定接觸特征信息(正確接觸特征信息或誤接觸特征信息)的判定，可以高精度地判定正確接觸與誤接觸。前文已經(jīng)出于例示和說(shuō)明的目的提供了對(duì)本發(fā)明示例性實(shí)施例的說(shuō)明。該描述并非排他性的或者將本發(fā)明限制為所公開(kāi)的精確形式。顯然，各種修改和變型對(duì)于本領(lǐng)域技術(shù)人員來(lái)說(shuō)是顯而易見(jiàn)的。這些實(shí)施例的選擇和描述是為了對(duì)本發(fā)明的原理及其實(shí)際應(yīng)用進(jìn)行最佳的闡述，以使得本領(lǐng)域的其他技術(shù)人員能夠理解本發(fā)明的各種實(shí)施例以及適用于具體應(yīng)用場(chǎng)合的各種變型。本發(fā)明的范圍應(yīng)當(dāng)由所附權(quán)利要求及其等價(jià)物限定。
權(quán)利要求
1.一種接觸檢測(cè)裝置，包括: 多個(gè)檢測(cè)元件，其在預(yù)定接觸面上的二維構(gòu)造中彼此相關(guān)，并各自檢測(cè)物體與所述接觸面的接觸； 生成單元，其基于所述多個(gè)檢測(cè)元件的檢測(cè)結(jié)果生成特征信息，所述特征信息代表基于物體與所述接觸面的接觸所繪制軌跡的特征；和 判定單元，其判定所述生成單元所生成的特征信息是否對(duì)應(yīng)于預(yù)先登記的特定接觸特征信息，所述特定接觸特征信息代表基于物體與所述接觸面的特定接觸所繪制的軌跡的特征。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的接觸檢測(cè)裝置，其中所述特定接觸對(duì)應(yīng)于被預(yù)定為與所述接觸面正確接觸的正確接觸或者被預(yù)定為與所述接觸面誤接觸的誤接觸。
3.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的接觸檢測(cè)裝置，還包括: 關(guān)聯(lián)單元，其關(guān)聯(lián)用以識(shí)別所述軌跡的識(shí)別信息和所述軌跡， 其中，對(duì)于所述識(shí)別信息所識(shí)別的各軌跡，所述判定單元判定所述生成單元所生成的特征信息是否對(duì)應(yīng)于所述特定接觸特征信息。
4.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的接觸檢測(cè)裝置，還包括: 識(shí)別單元，其基于所述判定單元所做出的判定結(jié)果識(shí)別代表與所述接觸面的特定接觸的軌跡。
5.根據(jù)權(quán)利要求3所述的接觸檢測(cè)裝置，還包括: 識(shí)別單元，其基于所述判定單 元所做出的判定結(jié)果識(shí)別代表與所述接觸面的特定接觸的軌跡。
6.根據(jù)權(quán)利要求4所述的接觸檢測(cè)裝置，其中，根據(jù)所述判定單元在預(yù)定期間內(nèi)做出的所述生成單元所生成的特征信息對(duì)應(yīng)于所述特定接觸特征信息的判定次數(shù)，所述識(shí)別單元識(shí)別出代表與所述接觸面的特定接觸的軌跡。
7.根據(jù)權(quán)利要求5所述的接觸檢測(cè)裝置，其中，根據(jù)所述判定單元在預(yù)定期間內(nèi)做出的所述生成單元所生成的特征信息對(duì)應(yīng)于所述特定接觸特征信息的判定次數(shù)，所述識(shí)別單元識(shí)別出代表與所述接觸面的特定接觸的軌跡。
8.根據(jù)權(quán)利要求6所述的接觸檢測(cè)裝置，其中，如果所述判定單元在所述預(yù)定期間內(nèi)做出的所述生成單元所生成的特征信息對(duì)應(yīng)于所述特定接觸特征信息的判定次數(shù)大于所述判定單元在所述預(yù)定期間內(nèi)做出的所述生成單元所生成的特征信息不對(duì)應(yīng)于所述特定接觸特征信息的判定次數(shù)，則所述識(shí)別單元將在所述預(yù)定期間內(nèi)在所述接觸面上所繪制的軌跡識(shí)別為代表所述特定接觸的軌跡。
9.根據(jù)權(quán)利要求7所述的接觸檢測(cè)裝置，其中，如果所述判定單元在所述預(yù)定期間內(nèi)做出的所述生成單元所生成的特征信息對(duì)應(yīng)于所述特定接觸特征信息的判定次數(shù)大于所述判定單元在所述預(yù)定期間內(nèi)做出的所述生成單元所生成的特征信息不對(duì)應(yīng)于所述特定接觸特征信息的判定次數(shù)，則所述識(shí)別單元將在所述預(yù)定期間內(nèi)在所述接觸面上所繪制的軌跡識(shí)別為代表所述特定接觸的軌跡。
10.根據(jù)權(quán)利要求6所述的接觸檢測(cè)裝置，其中，所述預(yù)定期間對(duì)應(yīng)于自物體與所述接觸面接觸至所述物體與所述接觸面分開(kāi)之間的時(shí)間段。
11.根據(jù)權(quán)利要求7所述的接觸檢測(cè)裝置，其中，所述預(yù)定期間對(duì)應(yīng)于自物體與所述接觸面接觸至所述物體與所述接觸面分開(kāi)之間的時(shí)間段。
12.根據(jù)權(quán)利要求8所述的接觸檢測(cè)裝置，其中，所述預(yù)定期間對(duì)應(yīng)于自物體與所述接觸面接觸至所述物體與所述接觸面分開(kāi)之間的時(shí)間段。
13.根據(jù)權(quán)利要求9所述的接觸檢測(cè)裝置，其中，所述預(yù)定期間對(duì)應(yīng)于自物體與所述接觸面接觸至所述物體與所述接觸面分開(kāi)之間的時(shí)間段。
14.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的接觸檢測(cè)裝置，其中，所述特征信息對(duì)應(yīng)于表示軌跡幅度的幅度信息、表示軌跡幅度變化程度的程度信息、以及根據(jù)物體與所述接觸面持續(xù)接觸的時(shí)間而獲得的基于持續(xù)時(shí)間的信息中的至少一項(xiàng)。
15.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的接觸檢測(cè)裝置，其中，所述幅度信息對(duì)應(yīng)于代表軌跡的面積和軌跡的長(zhǎng)度中的至少一項(xiàng)的信息， 其中，所述程度信息對(duì)應(yīng)于代表所述軌跡的面積方差或標(biāo)準(zhǔn)偏差的軌跡面積統(tǒng)計(jì)信息和代表所述軌跡的長(zhǎng)度方差或標(biāo)準(zhǔn)偏差的軌跡長(zhǎng)度統(tǒng)計(jì)信息中的至少一項(xiàng)，而且 其中，所述基于持續(xù)時(shí)間的信息對(duì)應(yīng)于代表所述軌跡中的接觸點(diǎn)數(shù)目的軌跡數(shù)目信肩、O
16.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的接觸檢測(cè)裝置，其中，所述判定單元利用被配置為包括所述特定接觸特征信息的決策樹(shù)來(lái)判定所述生成單元所生成的特征信息是否對(duì)應(yīng)于所述特定接觸特征信息。
17.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的接觸檢測(cè)裝置，還包括: 施加單元，其根 據(jù)接觸時(shí)間將權(quán)值施加給所述軌跡， 其中，所述判定單元進(jìn)一步判定所述施加單元所施加的權(quán)值是否等于或者大于預(yù)定權(quán)值。
18.一種接觸檢測(cè)裝置，包括: 多個(gè)檢測(cè)元件，其在預(yù)定接觸面上的二維構(gòu)造中彼此相關(guān)，并各自檢測(cè)物體與所述接觸面的接觸； 生成單元，其根據(jù)所述多個(gè)檢測(cè)單元的檢測(cè)結(jié)果生成特征信息，所述特征信息代表基于物體與所述接觸面的接觸所繪制的軌跡的特征；和 判定單元，其判定所述生成單元所生成的特征信息是否包括在預(yù)先登記的特定接觸特征區(qū)域內(nèi)，所述特定接觸特征區(qū)域代表基于物體與所述接觸面的特定接觸所繪制的軌跡的特征。
19.一種記錄顯示裝置,包括: 根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的接觸檢測(cè)裝置；和 顯示器，其具有疊加于其屏幕上所述接觸檢測(cè)裝置，且所述顯示器根據(jù)所述接觸檢測(cè)裝置的檢測(cè)結(jié)果在屏幕上顯示圖像。
20.根據(jù)權(quán)利要求19所述的記錄顯示裝置，還包括: 刪除單元，其從屏幕上刪除與根據(jù)所述判定單元的判定結(jié)果而識(shí)別出的軌跡的對(duì)應(yīng)的位置上顯示的圖像。
21.一種接觸檢測(cè)方法，包括: 控制接觸檢測(cè)設(shè)備來(lái)分別檢測(cè)物體與預(yù)定接觸面的接觸，所述接觸檢測(cè)設(shè)備包括在所述接觸面上的二維構(gòu)造中彼此相關(guān)的多個(gè)檢測(cè)元件；根據(jù)檢測(cè)結(jié)果生成特征信息，所述特征信息代表基于物體與所述接觸面的接觸所繪制的軌跡的特征；以及 判定所生成的特征信息是否對(duì)應(yīng)于預(yù)先登記的特定接觸特征信息，所述特定接觸特征信息代表基于物體與所述接觸面的特定接觸所繪制的軌跡的特征。
22.一種接觸檢測(cè)方法，包括: 控制接觸檢測(cè)設(shè)備來(lái)分別檢測(cè)物體與預(yù)定接觸面的接觸，所述接觸檢測(cè)設(shè)備包括在所述接觸面上的二維構(gòu)造中彼此相關(guān)的多個(gè)檢測(cè)元件； 根據(jù)檢測(cè)結(jié)果生成特征信息，所述特征信息代表基于物體與所述接觸面的接觸所繪制的軌跡的特征；以及 判定所生成的特征信息是否包括在預(yù)先登記的特定接觸特征區(qū)域內(nèi)，所述特定接觸特征區(qū)域代表基于物體與所述接 觸面的特定接觸所繪制的軌跡的特征。
全文摘要
本發(fā)明公開(kāi)了接觸檢測(cè)裝置、記錄顯示裝置和接觸檢測(cè)方法。該接觸檢測(cè)裝置包括多個(gè)檢測(cè)元件、生成單元和判定單元。多個(gè)檢測(cè)元件在預(yù)定接觸面上的二維構(gòu)造中彼此相關(guān)，并各自檢測(cè)物體與接觸面的接觸。生成單元根據(jù)多個(gè)檢測(cè)單元的檢測(cè)結(jié)果生成特征信息，該特征信息代表基于物體與接觸面的接觸所繪制的軌跡的特征。判定單元判定生成單元所生成的特征信息是否對(duì)應(yīng)于預(yù)先登記的特定接觸特征信息，該特定接觸特征信息代表基于物體與接觸面的特定接觸所繪制的軌跡的特征。
文檔編號(hào)G06F3/041GK103092392SQ201210188880
公開(kāi)日2013年5月8日 申請(qǐng)日期2012年6月8日 優(yōu)先權(quán)日2011年10月12日
發(fā)明者一星彰, 石井努, 竹內(nèi)孝行, 佐佐木茂彥, 佐藤政寬, 友田恭太郎, 內(nèi)藤孝雄, 三井實(shí) 申請(qǐng)人:富士施樂(lè)株式會(huì)社