筆跡校驗裝置和筆跡校驗方法
【專利摘要】本發(fā)明提供了一種筆跡校驗裝置，包括：參數(shù)存儲單元，用于存儲手寫筆跡的預(yù)設(shè)特征參數(shù)；獲取單元，用于識別用戶手寫筆跡并獲取所述手寫筆跡的特征參數(shù)；參數(shù)比較單元，用于將所述手寫筆跡的特征參數(shù)與所述預(yù)設(shè)特征參數(shù)進行比較；判斷單元，用于判斷所述手寫筆跡的特征參數(shù)與所述預(yù)設(shè)特征參數(shù)是否匹配，若匹配，則判定所述手寫筆跡通過校驗，若不匹配，則判定所述手寫筆跡校驗失敗。本發(fā)明還提出了一種筆跡校驗方法。通過本發(fā)明的技術(shù)方案，能夠?qū)κ謱戄斎氲脑脊P跡進行校驗，滿足手寫簽批的客戶群的校驗需求。
【專利說明】筆跡校驗裝置和筆跡校驗方法
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本發(fā)明涉及筆跡校驗【技術(shù)領(lǐng)域】，具體而言，涉及一種筆跡校驗裝置和筆跡校驗方法。
【背景技術(shù)】
[0002]隨著電子產(chǎn)品的普及和用戶對信息安全需求的提高，加之圖像處理技術(shù)的不斷發(fā)展，簽批防偽已經(jīng)成為一個保護信息安全與財產(chǎn)安全的重要手段，同時電子簽批運用領(lǐng)域也越來越廣，對于簽批的防偽校驗技術(shù)的重要性不言而喻。
[0003]現(xiàn)有的防偽校驗技術(shù)主要為加密算法，加密算法一般采用RSA算法或者DSA算法，校驗消息采用MD5算法或者SHA-1算法，通過現(xiàn)有加密解密技術(shù)對固定格式的電子文件能夠進行有效的處理，但是現(xiàn)有技術(shù)只能對固定的字體進行機械式的判斷，而對于手寫簽批的客戶群，不同的用戶的書寫方式和習(xí)慣都是不同的，通過手寫輸入的字體也就不是固定的，現(xiàn)有技術(shù)無法滿足手寫簽批的客戶群對于原始筆跡的校驗需求。
[0004]因此，需要一種新的筆跡校驗技術(shù)，能夠?qū)κ謱戄斎氲脑脊P跡進行校驗，滿足手寫簽批的客戶群的校驗需求。

【發(fā)明內(nèi)容】

[0005]本發(fā)明正是基于上述問題，提出了一種筆跡校驗技術(shù)，能夠?qū)κ謱戄斎氲脑脊P跡進行校驗，滿足手寫簽批的客戶群的校驗需求。
[0006]有鑒于此，本發(fā)明提出了一種筆跡校驗裝置，包括:參數(shù)存儲單元，用于存儲手寫筆跡的預(yù)設(shè)特征參數(shù)；獲取單元，用于識別用戶手寫筆跡并獲取所述手寫筆跡的特征參數(shù)；參數(shù)比較單元，用于將所述手寫筆跡的特征參數(shù)與所述預(yù)設(shè)特征參數(shù)進行比較；判斷單元，用于判斷所述手寫筆跡的特征參數(shù)與所述預(yù)設(shè)特征參數(shù)是否匹配，若匹配，則判定所述手寫筆跡通過校驗，若不匹配，則判定所述手寫筆跡校驗失敗。
[0007]在該技術(shù)方案中，筆跡校驗裝置可以根據(jù)用戶設(shè)置存儲手寫筆跡的預(yù)設(shè)特征參數(shù)，比如可以識別用戶某次的手寫筆跡以獲取相應(yīng)的特征參數(shù)，或識別多次手寫筆跡，然后計算每個特征參數(shù)的平均值以作為手寫筆跡的預(yù)設(shè)特征參數(shù)，再根據(jù)手寫筆跡的預(yù)設(shè)特征參數(shù)建立該用戶的手寫筆跡數(shù)據(jù)庫。當(dāng)識別到手寫信息時，可以獲取手寫信息的筆跡的特征參數(shù)，筆跡的特征參數(shù)是長期寫字養(yǎng)成的固定書寫習(xí)慣，不同的人有著不同的書寫習(xí)慣，因此通過將該筆跡的特征參數(shù)與數(shù)據(jù)庫中的預(yù)設(shè)特征參數(shù)進行比較，即可判斷該筆跡是否為預(yù)設(shè)特征參數(shù)所屬的用戶進行書寫的，若比較結(jié)果為相匹配，可以判定本次手寫筆跡校驗通過，從而完成對用戶手寫輸入的原始筆跡的校驗。
[0008]在上述技術(shù)方案中，優(yōu)選地，還包括:修正單元，用于根據(jù)修正命令修正所述預(yù)設(shè)特征參數(shù)；以及所述參數(shù)比較單元還用于將所述手寫筆跡的特征參數(shù)與修正后的預(yù)設(shè)特征參數(shù)進行比較。
[0009]在該技術(shù)方案中，由于用戶每次輸入時不可能完全相同，因而可能作為比較用的模板的預(yù)設(shè)特征參數(shù)并不十分合適，導(dǎo)致之后輸入時失敗率很高，則用戶可以通過輸入修正命令更改預(yù)設(shè)特征參數(shù)，再次校驗過程中則將手寫筆跡的特征參數(shù)與更改后的預(yù)設(shè)特征參數(shù)比較以進行校驗。
[0010]在上述技術(shù)方案中，優(yōu)選地，所述獲取單元還用于獲取通過校驗的手寫筆跡的特征參數(shù)；以及所述筆跡校驗裝置還包括:更新單元，用于根據(jù)所述通過校驗的手寫筆跡的特征參數(shù)更新所述預(yù)設(shè)特征參數(shù)。
[0011]在該技術(shù)方案中，由于用戶每次的手寫筆跡都不相同，通過采集大量次數(shù)手寫筆跡的特征參數(shù)，然后再根據(jù)這些特征參數(shù)更新預(yù)設(shè)特征參數(shù)，預(yù)設(shè)特征參數(shù)就更能反映出用戶的書寫習(xí)慣，進而更加準確地對用戶的手寫筆跡進行校驗。
[0012]在上述技術(shù)方案中，優(yōu)選地，還包括:顯示單元，用于通過動態(tài)畫面顯示所述手寫筆跡的生成過程，并在所述動態(tài)畫面中標記所述手寫筆跡中與所述預(yù)設(shè)特征參數(shù)不匹配的位置。
[0013]在該技術(shù)方案中，可以通過動畫顯示用戶手寫筆跡，并在手寫筆跡的特征參數(shù)與預(yù)設(shè)特征參數(shù)的差異過大時，將手寫筆跡中對應(yīng)的位置顯示出來，從而使用戶可以直觀地查看到本次手寫筆跡的特征參數(shù)與預(yù)設(shè)特征參數(shù)不匹配的位置，使得校驗過程更直觀，并且可以方便用戶對自身的手寫筆跡進行修正或?qū)︻A(yù)設(shè)特征參數(shù)進行修正，以提高筆跡校驗的通過率。
[0014]在上述任一技術(shù)方案中，優(yōu)選地，所述預(yù)設(shè)特征參數(shù)包括以下至少一種:電壓、軌跡寬度和軌跡拐角弧度。當(dāng)然，本領(lǐng)域的技術(shù)人員應(yīng)該理解的是，除了上述特征參數(shù)外，其他任意可以用于分辨手寫筆跡的特征參數(shù)，均可以被應(yīng)用于本發(fā)明的技術(shù)方案中。
[0015]根據(jù)本發(fā)明的又一方面，還提出了一種筆跡校驗方法，包括:步驟202，存儲手寫筆跡的預(yù)設(shè)特征參數(shù)；步驟204，識別用戶手寫筆跡并獲取所述手寫筆跡的特征參數(shù)，將所述手寫筆跡的特征參數(shù)與所述預(yù)設(shè)特征參數(shù)進行比較；步驟206，判斷所述手寫筆跡的特征參數(shù)與所述預(yù)設(shè)特征參數(shù)是否匹配，若匹配，則判定所述手寫筆跡通過校驗，若不匹配，則判定所述手寫筆跡校驗失敗。
[0016]在該技術(shù)方案中，可以存儲用戶設(shè)置的手寫筆跡的預(yù)設(shè)特征參數(shù)，比如可以識別用戶某次的手寫筆跡以獲取相應(yīng)的特征參數(shù)，或識別多次手寫筆跡，然后計算每個特征參數(shù)的平均值以作為手寫筆跡的預(yù)設(shè)特征參數(shù)，再根據(jù)手寫筆跡的預(yù)設(shè)特征參數(shù)建立該用戶的手寫筆跡數(shù)據(jù)庫。當(dāng)識別到手寫信息時，可以獲取手寫信息的筆跡的特征參數(shù)，筆跡的特征參數(shù)是長期寫字養(yǎng)成的固定書寫習(xí)慣，不同的人有著不同的書寫習(xí)慣，因此通過將該筆跡的特征參數(shù)與數(shù)據(jù)庫中的預(yù)設(shè)特征參數(shù)進行比較，即可判斷該筆跡是否為預(yù)設(shè)特征參數(shù)所屬的用戶進行書寫的，若比較結(jié)果為相匹配，可以判定本次手寫筆跡校驗通過，從而完成對用戶手寫輸入的原始筆跡的校驗。
[0017]在上述技術(shù)方案中，優(yōu)選地，還包括:根據(jù)根修正命令修正所述預(yù)設(shè)特征參數(shù)，將所述手寫筆跡的特征參數(shù)與修正后的預(yù)設(shè)特征參數(shù)進行比較，并進入步驟206。
[0018]在該技術(shù)方案中，由于用戶每次輸入時不可能完全相同，因而可能作為比較用的模板的預(yù)設(shè)特征參數(shù)并不十分合適，導(dǎo)致之后輸入時失敗率很高，則用戶可以通過輸入修正命令更改預(yù)設(shè)特征參數(shù)，再次校驗過程中則將手寫筆跡的特征參數(shù)與更改后的預(yù)設(shè)特征參數(shù)比較以進行校驗。[0019]在上述技術(shù)方案中，優(yōu)選地，獲取通過校驗的手寫筆跡的特征參數(shù)，并根據(jù)所述通過校驗的手寫筆跡的特征參數(shù)更新所述預(yù)設(shè)特征參數(shù)。
[0020]在該技術(shù)方案中，由于用戶每次的手寫筆跡都不相同，通過采集大量次數(shù)手寫筆跡的特征參數(shù)，然后再根據(jù)這些特征參數(shù)更新預(yù)設(shè)特征參數(shù)，預(yù)設(shè)特征參數(shù)就更能反映出用戶的書寫習(xí)慣，進而更加準確地對用戶的手寫筆跡進行校驗。
[0021]在上述技術(shù)方案中，優(yōu)選地，還包括:通過動態(tài)畫面顯示所述手寫筆跡的生成過程，并在所述動態(tài)畫面中標記出所述手寫筆跡中與所述預(yù)設(shè)特征參數(shù)的不匹配的位置。
[0022]在該技術(shù)方案中，可以通過動畫顯示用戶手寫筆跡，并在手寫筆跡的特征參數(shù)與預(yù)設(shè)特征參數(shù)的差異過大時，將手寫筆跡中對應(yīng)的位置顯示出來，從而使用戶可以直觀地查看到本次手寫筆跡的特征參數(shù)與預(yù)設(shè)特征參數(shù)不匹配的位置，使得校驗過程更直觀，并且可以方便用戶對自身的手寫筆跡進行修正或?qū)︻A(yù)設(shè)特征參數(shù)進行修正，以提高筆跡校驗的通過率。
[0023]在上述任一技術(shù)方案中，優(yōu)選地，所述預(yù)設(shè)特征參數(shù)包括以下至少一種:電壓、軌跡寬度和軌跡拐角弧度。當(dāng)然，本領(lǐng)域的技術(shù)人員應(yīng)該理解的是，除了上述特征參數(shù)外，其他任意可以用于分辨手寫筆跡的特征參數(shù)，均可以被應(yīng)用于本發(fā)明的技術(shù)方案中。
[0024]通過以上技術(shù)方案，可以根據(jù)手寫筆跡的特征參數(shù)對寫輸入的原始筆跡進行校驗，滿足手寫簽批的客戶群的校驗需求。
【專利附圖】

【附圖說明】
[0025]圖1示出了根據(jù)本發(fā)明的實施例的筆跡校驗裝置的框圖；
[0026]圖2示出了根據(jù)本發(fā)明的實施例的筆跡校驗方法的流程圖；
[0027]圖3A至圖3C示出了根據(jù)本發(fā)明的實施例的對書寫筆跡進行校驗的示意圖；
[0028]圖4示出了根據(jù)本發(fā)明的實施例的筆跡校驗方法的具體流程圖。
【具體實施方式】
[0029]為了能夠更清楚地理解本發(fā)明的上述目的、特征和優(yōu)點，下面結(jié)合附圖和【具體實施方式】對本發(fā)明進行進一步的詳細描述。需要說明的是，在不沖突的情況下，本申請的實施例及實施例中的特征可以相互組合。
[0030]在下面的描述中闡述了很多具體細節(jié)以便于充分理解本發(fā)明，但是，本發(fā)明還可以采用其他不同于在此描述的其他方式來實施，因此，本發(fā)明的保護范圍并不受下面公開的具體實施例的限制。
[0031]圖1示出了根據(jù)本發(fā)明的實施例的筆跡校驗裝置的框圖。
[0032]如圖1所示，根據(jù)本發(fā)明的實施例的筆跡校驗裝置100包括:參數(shù)存儲單元102，用于存儲手寫筆跡的預(yù)設(shè)特征參數(shù)；獲取單元104，用于識別用戶手寫筆跡并獲取手寫筆跡的特征參數(shù)；參數(shù)比較單元106，用于將手寫筆跡的特征參數(shù)與預(yù)設(shè)特征參數(shù)進行比較；判斷單元108，用于判斷手寫筆跡的特征參數(shù)與預(yù)設(shè)特征參數(shù)是否匹配，若匹配，則判定手寫筆跡通過校驗，若不匹配，則判定手寫筆跡校驗失敗。
[0033]筆跡校驗裝置100可以根據(jù)用戶設(shè)置存儲手寫筆跡的預(yù)設(shè)特征參數(shù)，比如可以識別用戶某次的手寫筆跡以獲取相應(yīng)的特征參數(shù)，或識別多次手寫筆跡，然后計算每個特征參數(shù)的平均值以作為手寫筆跡的預(yù)設(shè)特征參數(shù)，再根據(jù)手寫筆跡的預(yù)設(shè)特征參數(shù)建立該用戶的手寫筆跡數(shù)據(jù)庫。當(dāng)識別到手寫信息時，可以獲取手寫信息的筆跡的特征參數(shù)，筆跡的特征參數(shù)是長期寫字養(yǎng)成的固定書寫習(xí)慣，不同的人有著不同的書寫習(xí)慣，書寫習(xí)慣有特定性和穩(wěn)定性。特定性是由書寫者學(xué)習(xí)、練習(xí)文字和書法技能的主觀因素與客觀條件所決定的。穩(wěn)定性是由長期學(xué)習(xí)、練習(xí)和書寫實踐在大腦中形成的書寫動力定型所決定的，這種動力定型一旦形成，書寫習(xí)慣就基本趨于穩(wěn)定，即使書寫者故意歪曲偽裝自己的筆跡，也難于全部改變。因此通過將該筆跡的特征參數(shù)與數(shù)據(jù)庫中的預(yù)設(shè)特征參數(shù)進行比較，即可判斷該筆跡是否為預(yù)設(shè)特征參數(shù)所屬的用戶進行書寫的，若比較結(jié)果為相匹配，可以判定本次手寫筆跡校驗通過，從而完成對用戶手寫輸入的原始筆跡的校驗。
[0034]例如存儲手寫筆跡的10個特征參數(shù)，用戶設(shè)置手寫筆跡的特征參數(shù)與6個或6個以上的預(yù)設(shè)特征參數(shù)的比較結(jié)果在其對應(yīng)的允許誤差范圍以內(nèi)就判定校驗通過(即匹配率在60%到100%之間時判定校驗通過)，實際校驗過程中，手寫筆跡的特征參數(shù)中，有9個特征參數(shù)與相應(yīng)的預(yù)設(shè)特征參數(shù)的比較結(jié)果在其相應(yīng)的允許誤差范圍以內(nèi)，即匹配率為90%，可以判定本次手寫筆跡校驗通過。
[0035]優(yōu)選地，根據(jù)本發(fā)明的實施例的筆跡校驗裝置100還包括:修正單元110，用于根據(jù)修正命令修正預(yù)設(shè)特征參數(shù)；以及參數(shù)比較單元106還用于將手寫筆跡的特征參數(shù)與修正后的預(yù)設(shè)特征參數(shù)進行比較。
[0036]由于用戶每次輸入時不可能完全相同，因而可能作為比較用的模板的預(yù)設(shè)特征參數(shù)并不十分合適，導(dǎo)致之后輸入時失敗率很高，則用戶可以通過輸入修正命令更改預(yù)設(shè)特征參數(shù)，再次校驗過程中則將手寫筆跡的特征參數(shù)與更改后的預(yù)設(shè)特征參數(shù)比較以進行校驗。
[0037]優(yōu)選地，獲取單元104還用于獲取通過校驗的手寫筆跡的特征參數(shù)；以及筆跡校驗裝置100還包括:更新單元112，用于根據(jù)通過校驗的手寫筆跡的特征參數(shù)更新預(yù)設(shè)特征參數(shù)。
[0038]由于用戶每次的手寫筆跡都不相同，通過采集大量次數(shù)手寫筆跡的特征參數(shù)，然后再根據(jù)這些特征參數(shù)更新預(yù)設(shè)特征參數(shù)，預(yù)設(shè)特征參數(shù)就更能反映出用戶的書寫習(xí)慣，進而更加準確地對用戶的手寫筆跡進行校驗。
[0039]例如，可以為每個特征參數(shù)賦予一個值，設(shè)表示頓筆強度的預(yù)設(shè)特征參數(shù)的值為50 (頓筆強度的特征參數(shù)值越大，表示頓筆強度越高)，允許誤差范圍為-5到+5，即手寫筆跡的頓筆強度的特征參數(shù)在45到55之間時，均可判定頓筆強度的比較結(jié)果在允許誤差范圍以內(nèi)，經(jīng)過多次比較后，通過校驗的手寫筆跡的個數(shù)為100個，而這100個手寫筆跡的頓筆強度的特征參數(shù)的平均值為52，說明用戶手寫筆跡的實際頓筆強度相對于預(yù)設(shè)值更大，那么可以將頓筆強度的預(yù)設(shè)特征參數(shù)設(shè)置為52，以使預(yù)設(shè)特征參數(shù)更能反映出用戶的書寫習(xí)慣，進而提高校驗的準確率。
[0040]優(yōu)選地，根據(jù)本發(fā)明的實施例的筆跡校驗裝置100還包括:顯示單元114，用于通過動態(tài)畫面顯示手寫筆跡的生成過程，并在動態(tài)畫面中標記手寫筆跡中與預(yù)設(shè)特征參數(shù)不匹配的位置。
[0041]可以通過動畫顯示用戶手寫筆跡，并在手寫筆跡的特征參數(shù)與預(yù)設(shè)特征參數(shù)的差異過大時，將手寫筆跡中對應(yīng)的位置顯示出來，從而使用戶可以直觀地查看到本次手寫筆跡的特征參數(shù)與預(yù)設(shè)特征參數(shù)不匹配的位置，使得校驗過程更直觀，并且可以方便用戶對自身的手寫筆跡進行修正或?qū)︻A(yù)設(shè)特征參數(shù)進行修正，以提高筆跡校驗的通過率。
[0042]優(yōu)選地，預(yù)設(shè)特征參數(shù)可以是電壓、軌跡寬度和/或軌跡拐角弧度。
[0043]用戶的書寫習(xí)慣可以表現(xiàn)為書寫字體的軌跡寬度，軌跡拐角的弧度，或是書寫過程中筆對書寫面的壓強(可以表現(xiàn)為電壓)，通過對比這些參數(shù)即可對手寫筆跡進行校驗。
[0044]當(dāng)然，本領(lǐng)域的技術(shù)人員應(yīng)該理解的是，除了上述特征參數(shù)外，其他任意可以用于分辨手寫筆跡的特征參數(shù)，均可以被應(yīng)用于本發(fā)明的技術(shù)方案中。
[0045]圖2示出了根據(jù)本發(fā)明的實施例的筆跡校驗方法的流程圖。
[0046]如圖2所示，根據(jù)本發(fā)明的實施例的筆跡校驗方法包括:步驟202，存儲手寫筆跡的預(yù)設(shè)特征參數(shù)；步驟204，識別用戶手寫筆跡并獲取手寫筆跡的特征參數(shù)，將手寫筆跡的特征參數(shù)與預(yù)設(shè)特征參數(shù)進行比較；步驟206，判斷手寫筆跡的特征參數(shù)與預(yù)設(shè)特征參數(shù)是否匹配，若匹配，則判定手寫筆跡通過校驗，若不匹配，則判定手寫筆跡校驗失敗。
[0047]可以根據(jù)用戶設(shè)置存儲手寫筆跡的預(yù)設(shè)特征參數(shù)，比如可以識別用戶某次的手寫筆跡以獲取相應(yīng)的特征參數(shù)，或識別多次手寫筆跡，然后計算每個特征參數(shù)的平均值以作為手寫筆跡的預(yù)設(shè)特征參數(shù)，再根據(jù)手寫筆跡的預(yù)設(shè)特征參數(shù)建立該用戶的手寫筆跡數(shù)據(jù)庫。當(dāng)識別到手寫信息時，可以獲取手寫信息的筆跡的特征參數(shù)，筆跡的特征參數(shù)是長期寫字養(yǎng)成的固定書寫習(xí)慣，不同的人有著不同的書寫習(xí)慣，書寫習(xí)慣有特定性和穩(wěn)定性。特定性是由書寫者學(xué)習(xí)、練習(xí)文字和書法技能的主觀因素與客觀條件所決定的。穩(wěn)定性是由長期學(xué)習(xí)、練習(xí)和書寫實踐在大腦中形成的書寫動力定型所決定的，這種動力定型一旦形成，書寫習(xí)慣就基本趨于穩(wěn)定，即使書寫者故意歪曲偽裝自己的筆跡，也難于全部改變。因此通過將該筆跡的特征參數(shù)與數(shù)據(jù)庫中的預(yù)設(shè)特征參數(shù)進行比較，即可判斷該筆跡是否為預(yù)設(shè)特征參數(shù)所屬的用戶進行書寫的，若比較結(jié)果為相匹配，可以判定本次手寫筆跡校驗通過，從而完成對用戶手寫輸入的原始筆跡的校驗。
[0048]例如存儲手寫筆跡的10個特征參數(shù)，用戶設(shè)置手寫筆跡的特征參數(shù)與6個或6個以上的預(yù)設(shè)特征參數(shù)的比較結(jié)果在誤差范圍以內(nèi)就判定校驗通過(即匹配率在60%到100%之間時判定校驗通過)，實際校驗過程中，手寫筆跡的特征參數(shù)中，有9個特征參數(shù)與相應(yīng)的預(yù)設(shè)特征參數(shù)的比較結(jié)果在其相應(yīng)的允許誤差范圍以內(nèi)，即匹配率為90%，可以判定本次手寫筆跡校驗通過。
[0049]優(yōu)選地，根據(jù)本發(fā)明的實施例的筆跡校驗方法還包括:根據(jù)根修正命令修正預(yù)設(shè)特征參數(shù)，將手寫筆跡的特征參數(shù)與修正后的預(yù)設(shè)特征參數(shù)進行比較，并進入步驟206。
[0050]由于用戶每次輸入時不可能完全相同，因而可能作為比較用的模板的預(yù)設(shè)特征參數(shù)并不十分合適，導(dǎo)致之后輸入時失敗率很高，則用戶可以通過輸入修正命令更改預(yù)設(shè)特征參數(shù)，再次校驗過程中則將手寫筆跡的特征參數(shù)與更改后的預(yù)設(shè)特征參數(shù)比較以進行校驗。
[0051]優(yōu)選地，獲取通過校驗的手寫筆跡的特征參數(shù)，并根據(jù)通過校驗的手寫筆跡的特征參數(shù)更新預(yù)設(shè)特征參數(shù)。
[0052]由于用戶每次的手寫筆跡都不相同，通過采集大量次數(shù)手寫筆跡的特征參數(shù)，然后再根據(jù)這些特征參數(shù)更新預(yù)設(shè)特征參數(shù)，預(yù)設(shè)特征參數(shù)就更能反映出用戶的書寫習(xí)慣，進而更加準確地對用戶的手寫筆跡進行校驗。[0053]例如，可以為每個特征參數(shù)賦予一個值，設(shè)表示頓筆強度的預(yù)設(shè)特征參數(shù)的值為50 (頓筆強度的特征參數(shù)值越大，表示頓筆強度越高)，允許誤差范圍為-5到+5，即手寫筆跡的頓筆強度的特征參數(shù)在45到55之間時，均可判定頓筆強度的比較結(jié)果在允許誤差范圍以內(nèi)，經(jīng)過多次比較后，通過校驗的手寫筆跡的個數(shù)為100個，而這100個手寫筆跡的頓筆強度的特征參數(shù)的平均值為52，說明用戶手寫筆跡的實際頓筆強度相對于預(yù)設(shè)值更大，那么可以將頓筆強度的預(yù)設(shè)特征參數(shù)設(shè)置為52，以使預(yù)設(shè)特征參數(shù)更能反映出用戶的書寫習(xí)慣，進而提高校驗的準確率。
[0054]優(yōu)選地，根據(jù)本發(fā)明的實施例的筆跡校驗方法還包括:通過動態(tài)畫面顯示所述手寫筆跡的生成過程，并在動態(tài)畫面中標記出手寫筆跡中與預(yù)設(shè)特征參數(shù)不匹配的位置。
[0055]可以通過動畫顯示用戶手寫筆跡，并在手寫筆跡的特征參數(shù)與預(yù)設(shè)特征參數(shù)的差異過大時，將手寫筆跡中對應(yīng)的位置顯示出來，從而使用戶可以直觀地查看到本次手寫筆跡的特征參數(shù)與預(yù)設(shè)特征參數(shù)不匹配的位置，使得校驗過程更直觀，并且可以方便用戶對自身的手寫筆跡進行修正或?qū)︻A(yù)設(shè)特征參數(shù)進行修正，以提高筆跡校驗的通過率。
[0056]優(yōu)選地，預(yù)設(shè)特征參數(shù)可以是電壓、軌跡寬度和/或軌跡拐角弧度。
[0057]用戶的書寫習(xí)慣可以表現(xiàn)為書寫字體的軌跡寬度，軌跡拐角的弧度，或是書寫過程中筆對書寫面的壓強(可以表現(xiàn)為電壓)，通過對比這些參數(shù)即可對手寫筆跡進行校驗。
[0058]當(dāng)然，本領(lǐng)域的技術(shù)人員應(yīng)該理解的是，除了上述特征參數(shù)外，其他任意可以用于分辨手寫筆跡的特征參數(shù)，均可以被應(yīng)用于本發(fā)明的技術(shù)方案中。
[0059]圖3A至圖3C示出了根據(jù)本發(fā)明的實施例的對書寫筆跡進行校驗的示意圖。
[0060]如圖3A所示，用戶在如圖1所示的筆跡校驗裝置100中(也可以在集成或連接了筆跡校驗裝置100的電子設(shè)備上)進行書寫，書寫筆跡302為筆畫“豎彎勾”，那么筆跡校驗裝置將獲取書寫筆跡302的特征參數(shù)，并將書寫筆跡302的特征參數(shù)與預(yù)設(shè)特征參數(shù)進行比較。
[0061]如圖3B所示，預(yù)設(shè)特征參數(shù)包括軌跡寬度、軌跡拐角弧度和電壓，三個預(yù)設(shè)特征參數(shù)對應(yīng)的參數(shù)值均為50，且三個預(yù)設(shè)特征參數(shù)的允許誤差范圍均為-5到+5，匹配率在60%到100%之間時判定校驗通過。
[0062]預(yù)設(shè)特征參數(shù)對應(yīng)的預(yù)設(shè)書寫筆跡304可以在書寫筆跡302書寫完畢后，以相對書寫筆跡302較淺的顏色顯示于筆跡校驗裝置100中，以便用戶觀察本次書寫筆跡與預(yù)設(shè)書寫筆跡的差異。
[0063]當(dāng)然，這里的預(yù)設(shè)書寫筆跡304在首次書寫或用戶需要進行查看時可以進行顯示，而在正常的使用狀態(tài)下，比如用戶在完成書寫筆跡302或筆跡校驗裝置100進行校驗的過程中，則無需對預(yù)設(shè)書寫筆跡304進行顯示。
[0064]如圖3C所示，筆跡校驗裝置100可以獲取書寫筆跡302的軌跡寬度、軌跡拐角弧度和電壓，解析每個特征參數(shù)對應(yīng)的參數(shù)值，其中，軌跡寬度對應(yīng)的參數(shù)值為46 (說明書寫筆跡302相對于預(yù)設(shè)書寫筆跡304較細)，軌跡拐角弧度對應(yīng)的參數(shù)值為58 (說明書寫筆跡302的弧度相對于預(yù)設(shè)書寫筆跡304的弧度較大)，電壓對應(yīng)的參數(shù)值為47 (說明書寫筆跡302的壓強相對于預(yù)設(shè)書寫筆跡304的壓強較小)，分別將書寫筆跡302的特征參數(shù)對應(yīng)的參數(shù)值與預(yù)設(shè)特征參數(shù)對應(yīng)的參數(shù)值進行比較，可以得到偏差結(jié)果并進行顯示，分別為:軌跡寬度偏差度為_4，軌跡拐角弧度偏差度為+8,電壓偏差度為-3。[0065]顯然，軌跡寬度偏差度和電壓偏差度在其相應(yīng)的允許誤差范圍以內(nèi)，而軌跡拐角弧度偏差度不在其對應(yīng)的允許誤差范圍以內(nèi)，由此可以得出書寫筆跡302的特征參數(shù)與預(yù)設(shè)特征參數(shù)的匹配率為66%，在60%到100%之間，可以判定書寫筆跡302校驗通過，從而完成對用戶原始筆跡的校驗。
[0066]需要說明的是，這里的多種特征參數(shù)及其比較結(jié)果，在實際的校驗過程中，可以顯示給用戶，也可以不進行顯示，而直接給出校驗是否通過的結(jié)果即可。
[0067]圖4示出了根據(jù)本發(fā)明的實施例的筆跡校驗方法的具體流程圖。
[0068]如圖4所示，根據(jù)本發(fā)明的實施例的筆跡校驗方法的具體包括:
[0069]步驟402，初始化手寫筆記的預(yù)設(shè)特征參數(shù)，即根據(jù)用戶設(shè)置確定手寫筆跡的預(yù)設(shè)特征參數(shù)，具體地，可以由用戶直接進行書寫，并對書寫的筆跡的特征參數(shù)進行獲取，以作為預(yù)設(shè)特征參數(shù)；
[0070]步驟404，識別用戶手寫筆跡，并獲取該手寫筆跡的特征參數(shù)；
[0071]步驟406，將獲取到的特征參數(shù)與相應(yīng)的預(yù)設(shè)特征參數(shù)進行比較；
[0072]步驟408，判斷手寫筆記的特征參數(shù)與預(yù)設(shè)特征參數(shù)是否相匹配，若匹配，則判定校驗通過，若不匹配，則判定校驗失??；
[0073]步驟410，由于預(yù)設(shè)特征參數(shù)本身可能并不十分合適，因而在校驗失敗后(或者也可以不必須在校驗失敗后，而在以上任一步驟中進行修正)，可以根據(jù)用戶的修正指令修正預(yù)設(shè)特征參數(shù)，并返回步驟406進行新一輪的比較，當(dāng)然也可以不進行修正而結(jié)束流程；
[0074]步驟412，可選地，在校驗通過后可以獲取通過校驗的手寫筆跡的特征參數(shù)，計算特征參數(shù)的平均值，并將該平均值作為新的預(yù)設(shè)特征參數(shù)，返回步驟402。
[0075]以上結(jié)合附圖詳細說明了本發(fā)明的技術(shù)方案，考慮到相關(guān)技術(shù)中，筆跡校驗智能對固定格式的字體進行機械式的判斷，無法滿足需要校驗原始筆跡的用戶群體的需求。通過本發(fā)明的技術(shù)方案，能夠?qū)κ謱戄斎氲脑脊P跡進行校驗，滿足手寫簽批的客戶群的校驗需求。
[0076]以上所述僅為本發(fā)明的優(yōu)選實施例而已，并不用于限制本發(fā)明，對于本領(lǐng)域的技術(shù)人員來說，本發(fā)明可以有各種更改和變化。凡在本發(fā)明的精神和原則之內(nèi)，所作的任何修正、等同替換、改進等，均應(yīng)包含在本發(fā)明的保護范圍之內(nèi)。
【權(quán)利要求】
1.一種筆跡校驗裝置，其特征在于，包括: 參數(shù)存儲單元，用于存儲手寫筆跡的預(yù)設(shè)特征參數(shù)； 獲取單元，用于識別用戶手寫筆跡并獲取所述手寫筆跡的特征參數(shù)； 參數(shù)比較單元，用于將所述手寫筆跡的特征參數(shù)與所述預(yù)設(shè)特征參數(shù)進行比較； 判斷單元，用于判斷所述手寫筆跡的特征參數(shù)與所述預(yù)設(shè)特征參數(shù)是否匹配，若匹配，則判定所述手寫筆跡通過校驗，若不匹配，則判定所述手寫筆跡校驗失敗。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的筆跡校驗裝置，其特征在于，還包括: 修正單元，用于根據(jù)修正命令修正所述預(yù)設(shè)特征參數(shù)；以及 所述參數(shù)比較單元還用于將所述手寫筆跡的特征參數(shù)與修正后的預(yù)設(shè)特征參數(shù)進行比較。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的筆跡校驗裝置，其特征在于，所述獲取單元還用于獲取通過校驗的手寫筆跡的特征參數(shù)；以及所述筆跡校驗裝置還包括: 更新單元，用于根據(jù)所述通過校驗的手寫筆跡的特征參數(shù)更新所述預(yù)設(shè)特征參數(shù)。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的筆跡校驗裝置，其特征在于，還包括: 顯示單元，用于通過動態(tài)畫面顯示所述手寫筆跡的生成過程，并在所述動態(tài)畫面中標記出所述手寫筆跡中與所述預(yù)設(shè)特征參數(shù)不匹配的位置。
5.根據(jù)權(quán)利要求1至4中任一項所述的筆跡校驗裝置，其特征在于，所述預(yù)設(shè)特征參數(shù)包括以下至少一種:電壓、軌跡寬度和軌跡拐角弧度。
6.一種筆跡校驗方法，其特征在于，包括: 步驟202，存儲手寫筆跡的預(yù)設(shè)特征參數(shù)； 步驟204，識別用戶手寫筆跡并獲取所述手寫筆跡的特征參數(shù)，將所述手寫筆跡的特征參數(shù)與所述預(yù)設(shè)特征參數(shù)進行比較； 步驟206，判斷所述手寫筆跡的特征參數(shù)與所述預(yù)設(shè)特征參數(shù)是否匹配，若匹配，則判定所述手寫筆跡通過校驗，若不匹配，則判定所述手寫筆跡校驗失敗。
7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的筆跡校驗方法，其特征在于，還包括:根據(jù)根修正命令修正所述預(yù)設(shè)特征參數(shù)，將所述手寫筆跡的特征參數(shù)與修正后的預(yù)設(shè)特征參數(shù)進行比較，并進入步驟206。
8.根據(jù)權(quán)利要求6所述的筆跡校驗方法，其特征在于，獲取通過校驗的手寫筆跡的特征參數(shù)，并根據(jù)所述通過校驗的手寫筆跡的特征參數(shù)更新所述預(yù)設(shè)特征參數(shù)。
9.根據(jù)權(quán)利要求6所述的筆跡校驗方法，其特征在于，還包括:通過動態(tài)畫面顯示所述手寫筆跡的生成過程，并在所述動態(tài)畫面中標記出所述手寫筆跡中與所述預(yù)設(shè)特征參數(shù)的不匹配的位置。
10.根據(jù)權(quán)利要求6至9中任一項所述的筆跡校驗方法，其特征在于，所述預(yù)設(shè)特征參數(shù)包括以下至少一種:電壓、軌跡寬度和軌跡拐角弧度。
【文檔編號】G06K9/68GK103824094SQ201210461705
【公開日】2014年5月28日 申請日期:2012年11月16日 優(yōu)先權(quán)日:2012年11月16日
【發(fā)明者】陳卓, 潘友仁, 羅誠 申請人:方正國際軟件（武漢）有限公司, 方正國際軟件有限公司