專利名稱：實(shí)時(shí)手寫筆跡的美化方法及電子設(shè)備的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉 及一種手寫筆跡美化的方案，特別是涉及一種實(shí)時(shí)手寫筆跡的美化方法及電子設(shè)備。
背景技術(shù)：
隨著計(jì)算機(jī)設(shè)備的普及，利用計(jì)算機(jī)設(shè)備進(jìn)行文字輸入已成為人們?nèi)粘Ｉ畹囊徊糠帧Ｔ诩磿r(shí)通信、電子簽名等多種應(yīng)用場景中，人們需要將自己的筆跡輸入至所述計(jì)算機(jī)設(shè)備中。目前，常用的做法是獲取原始的輸入筆跡，并不對(duì)輸入的筆跡進(jìn)行美化處理。例如，即時(shí)通信軟件中手寫輸入模式。然而，對(duì)于這些手寫軌跡的處理往往風(fēng)格單調(diào)，缺乏個(gè)性，不夠生動(dòng)。目前，現(xiàn)有的手寫筆跡的美化技術(shù)通常利用筆畫模擬、筆畫匹配、模板融合等技術(shù)將手寫輸入的文字轉(zhuǎn)換成預(yù)設(shè)的幾種或幾十種筆體中的一種。然而這種方式不能很好地反映每個(gè)用戶的書寫個(gè)性，使得在電子簽名等領(lǐng)域中無法有效推廣。為了解決手寫筆跡無法體現(xiàn)個(gè)性化的問題，市場上還出現(xiàn)一種電子寫字板，其具有壓力傳感器等傳感裝置，寫字板可以所檢測到的手寫輸入時(shí)的壓力值、速度值等來繪制能體現(xiàn)原始筆跡、且具有毛筆或鋼筆美化效果的手寫筆跡。但該電子寫字板需要用戶單獨(dú)購買，成本過高。因此，需要對(duì)現(xiàn)有的手寫筆跡的美化方案進(jìn)行改進(jìn)，使得用戶利用鼠標(biāo)、觸摸筆等常用軌跡輸入裝置來得到具有美化效果的手寫筆跡。

發(fā)明內(nèi)容
鑒于以上所述現(xiàn)有技術(shù)的缺點(diǎn)，本發(fā)明的目的在于提供一種實(shí)時(shí)手寫筆跡的美化方法及電子設(shè)備，用于解決現(xiàn)有技術(shù)中手寫筆跡無法簡便的體現(xiàn)個(gè)性化特點(diǎn)的問題。為實(shí)現(xiàn)上述目的及其他相關(guān)目的，本發(fā)明提供一種實(shí)時(shí)手寫筆跡的美化方法，應(yīng)用于具有軌跡輸入裝置的電子設(shè)備中，其至少包括1)當(dāng)檢測到所述軌跡輸入裝置開始進(jìn)行軌跡輸入時(shí)，實(shí)時(shí)捕獲所述軌跡上的軌跡點(diǎn)的坐標(biāo)和時(shí)間，直至所述軌跡輸入結(jié)束；2)從所捕獲的第二個(gè)軌跡點(diǎn)開始，利用所捕獲的第η個(gè)所述軌跡點(diǎn)、及此前所捕獲的一個(gè)所述軌跡點(diǎn)的坐標(biāo)和時(shí)間，來計(jì)算第η個(gè)所述軌跡點(diǎn)的速度，其中，η為大于I的整數(shù)；3)基于預(yù)設(shè)的軌跡點(diǎn)的速度分別與手寫筆跡的尺寸和透明度的對(duì)應(yīng)關(guān)系，來確定第η個(gè)所述軌跡點(diǎn)所對(duì)應(yīng)的手寫筆跡的尺寸和透明度；4)利用預(yù)設(shè)的軌跡分段規(guī)則，將所捕獲的多個(gè)軌跡點(diǎn)所構(gòu)成的每一段軌跡按照所述軌跡點(diǎn)各自所對(duì)應(yīng)的尺寸和透明度進(jìn)行美化處理，以得到美化后的手寫筆跡。優(yōu)選地，所捕獲的第一個(gè)所述軌跡點(diǎn)所對(duì)應(yīng)的手寫筆跡的尺寸和透明度均為預(yù)設(shè)值。優(yōu)選地，確定所述軌跡點(diǎn)所對(duì)應(yīng)的手寫筆跡的尺寸的方式包括基于預(yù)設(shè)的軌跡點(diǎn)的速度與手寫筆跡的尺寸的線性關(guān)系，來確定第η個(gè)所述軌跡點(diǎn)所對(duì)應(yīng)的手寫筆跡的尺寸。優(yōu)選地，確定所述軌跡點(diǎn)所對(duì)應(yīng)的手寫筆跡的透明度的方式包括基于預(yù)設(shè)的軌跡點(diǎn)的速度與手寫筆跡的透明度的線性關(guān)系，來確定第η個(gè)所述軌跡點(diǎn)所對(duì)應(yīng)的手寫筆跡的透明度。優(yōu)選地，利用預(yù)設(shè)的軌跡分段規(guī)則，將所捕獲的多個(gè)軌跡點(diǎn)所構(gòu)成的每一段軌跡按照所述軌跡點(diǎn)各自所對(duì)應(yīng)的尺寸和透明度進(jìn)行美化處理的步驟包括3-1)利用預(yù)設(shè)的分段規(guī)則，將所捕獲的多個(gè)軌跡點(diǎn)所構(gòu)成的每一段軌跡進(jìn)行插值處理，以得到由插值點(diǎn)和所 述軌跡點(diǎn)所構(gòu)成的平滑軌跡；3-2)根據(jù)經(jīng)插值處理后的所述軌跡上的各所述軌跡點(diǎn)所對(duì)應(yīng)的尺寸和透明度來確定所述插值點(diǎn)各自所對(duì)應(yīng)的手寫筆跡的尺寸和透明度；3-3)利用所述插值點(diǎn)和軌跡點(diǎn)各自所對(duì)應(yīng)的手寫筆跡的尺寸和透明度，將插值處理后的軌跡美化處理成尺寸和透明度連續(xù)變化的手寫筆跡。優(yōu)選地，利用預(yù)設(shè)的軌跡分段規(guī)則，將所捕獲的多個(gè)軌跡點(diǎn)所構(gòu)成的每一段軌跡按照所述軌跡點(diǎn)各自所對(duì)應(yīng)的尺寸和透明度進(jìn)行美化處理的方式還包括利用公式1，將每一段軌跡進(jìn)行插值處理；Bn(t) =MidPoint (P2n_2，P2lri) (1-t) 3+3Ρ2η_Α (l_t)2+3P2nt2 (1-t) +MidPoint (P2n, P2n+1)t3公式I ;其中，Bn(t)表示插值點(diǎn)的坐標(biāo)的集合；P2n-2、P2n-l、P2n、P2n+l均為所捕獲的所述軌跡點(diǎn)的坐標(biāo)；n為大于I的整數(shù)；t為步進(jìn)次數(shù)、MidPoint (P2n_2, P2n_l)表示所述軌跡點(diǎn)P2n-2、P2n-1的中點(diǎn)的坐標(biāo)，也是插值處理后的軌跡的起點(diǎn)；MidPoint (P2n，P2n+1)表示所述軌跡點(diǎn)P2n、P2n+l的中點(diǎn)的坐標(biāo),也就是插值處理后的軌跡的終點(diǎn)。優(yōu)選地，根據(jù)所述軌跡上的所述軌跡點(diǎn)所對(duì)應(yīng)的尺寸來確定所述起點(diǎn)和終點(diǎn)各自所對(duì)應(yīng)的手寫筆跡的尺寸的方式包括基于所述起點(diǎn)和終點(diǎn)分別在所捕獲的相鄰的所述軌跡點(diǎn)的位置來確定所述起點(diǎn)和終點(diǎn)各自所對(duì)應(yīng)的手寫筆跡的尺寸和透明度。優(yōu)選地，根據(jù)所述軌跡上的所述軌跡點(diǎn)所對(duì)應(yīng)的尺寸來確定所述插值點(diǎn)各自所對(duì)應(yīng)的手寫筆跡的尺寸的方式包括利用公式2來取得各插值點(diǎn)所對(duì)應(yīng)的手寫筆跡的尺寸；W(t) = (1-t) 3BeginPt. ffidth+3t (l~t) 2ControlPtl. Width 公式 2 ;+3t3 (1-t) ControlPt2. Width+t3EndPt. Width其中，ff(t)表示插值點(diǎn)所對(duì)應(yīng)的手寫筆跡的尺寸的集合；BeginPt. Width表示所述起點(diǎn)所對(duì)應(yīng)的手寫筆跡的尺寸；ControlPtl. Width、ControlPt2. Width分別表示所述起點(diǎn)和終點(diǎn)之間的兩個(gè)所述軌跡點(diǎn)所對(duì)應(yīng)的手寫筆跡的尺寸；EndPt. Width表示所述終點(diǎn)所對(duì)應(yīng)的手寫筆跡的尺寸。優(yōu)選地，根據(jù)所述軌跡上的所述軌跡點(diǎn)所對(duì)應(yīng)的透明度來確定所述插值點(diǎn)各自所對(duì)應(yīng)的手寫筆跡的透明度的方式包括利用公式3來取得各插值點(diǎn)所對(duì)應(yīng)的手寫筆跡的透明度；A (t) = (1-t) 3BeginPt. Alpha+3t (l~t) 2ControlPtl. Alpha公式 3 ;+3t3 (1-t) ControlPt2. Alpha+t3EndPt. Alpha其中，A(t)表示插值點(diǎn)的透明度的集合；BeginPt.Alpha表示插值處理后的所述軌跡的起點(diǎn)的透明度；ControlPtl. Alpha、ControlPt2. Alpha表示所述起點(diǎn)和終點(diǎn)之間的兩個(gè)所述軌跡點(diǎn)的透明度；EndPt. Alpha表示插值處理后的所述軌跡的終點(diǎn)的透明度。
優(yōu)選地，將插值處理后的軌跡美化處理成尺寸和透明度連續(xù)變化的手寫筆跡的方式還包括按照預(yù)設(shè)的手寫筆跡的模板，將所述軌跡點(diǎn)和插值點(diǎn)依次以相應(yīng)的尺寸和透明度進(jìn)行手寫筆跡的拼接處理?；谏鲜瞿康模景l(fā)明還提供一種電子設(shè)備，其至少包括軌跡輸入裝置；捕獲模塊，用于當(dāng)檢測到所述軌跡輸入裝置開始進(jìn)行軌跡輸入時(shí)，實(shí)時(shí)捕獲所述軌跡上的軌跡點(diǎn)的坐標(biāo)和時(shí)間，直至所述軌跡輸入結(jié)束；速度計(jì)算模塊，用于從所述捕獲模塊所捕獲的第二個(gè)軌跡點(diǎn)開始，利用所述捕獲模塊所捕獲的第η個(gè)所述軌跡點(diǎn)、及此前所捕獲的一個(gè)所述軌跡點(diǎn)的坐標(biāo)和時(shí)間，來計(jì)算第η個(gè)所述軌跡點(diǎn)的速度，其中，η為大于I的整數(shù)；筆跡處理模塊，用于基于預(yù)設(shè)的軌跡點(diǎn)的速度分別與手寫筆跡的尺寸和透明度的對(duì)應(yīng)關(guān)系、以及所述速度計(jì)算模塊所計(jì)算出的第η個(gè)所述軌跡點(diǎn)的速度，來確定第η個(gè)所述軌跡點(diǎn)所對(duì)應(yīng)的手寫筆跡的尺寸和透明度；美化處理模塊，用于利用預(yù)設(shè)的軌跡分段規(guī)則，將所捕獲的多個(gè)軌跡點(diǎn)所構(gòu)成的每一段軌跡按照所述筆跡處理模塊所取得的所述軌跡點(diǎn)各自所對(duì)應(yīng)的尺寸和透明度進(jìn)行美化處理，以得到美化后的手寫筆跡。 優(yōu)選地，所捕獲的第一個(gè)所述軌跡點(diǎn)所對(duì)應(yīng)的手寫筆跡的尺寸和透明度均為預(yù)設(shè)值。優(yōu)選地，所述筆跡處理模塊包括筆跡尺寸處理子模塊，用于基于預(yù)設(shè)的軌跡點(diǎn)的速度與手寫筆跡的尺寸的線性關(guān)系、以及所述速度計(jì)算模塊所計(jì)算出的第η個(gè)所述軌跡點(diǎn)的速度，來確定第η個(gè)所述軌跡點(diǎn)所對(duì)應(yīng)的手寫筆跡的尺寸。優(yōu)選地，所述筆跡處理模塊包括筆跡透明度處理子模塊，用于基于預(yù)設(shè)的軌跡點(diǎn)的速度與手寫筆跡的透明度的線性關(guān)系、以及所述速度計(jì)算模塊所計(jì)算出的第η個(gè)所述軌跡點(diǎn)的速度，來確定第η個(gè)所述軌跡點(diǎn)所對(duì)應(yīng)的手寫筆跡的透明度。優(yōu)選地，所述美化處理模塊包括插值處理子模塊，用于利用預(yù)設(shè)的分段規(guī)則，將所述捕獲模塊所捕獲的多個(gè)軌跡點(diǎn)所構(gòu)成的每一段軌跡進(jìn)行插值處理，以得到由插值點(diǎn)和所述軌跡點(diǎn)所構(gòu)成的平滑軌跡；插值點(diǎn)的筆跡處理子模塊，用于根據(jù)經(jīng)插值處理后的所述軌跡上的各所述軌跡點(diǎn)所對(duì)應(yīng)的尺寸和透明度來確定所述插值點(diǎn)各自所對(duì)應(yīng)的手寫筆跡的尺寸和透明度；美化處理子模塊，用于所述插值點(diǎn)和軌跡點(diǎn)各自所對(duì)應(yīng)的手寫筆跡的尺寸和透明度，將插值處理后的軌跡美化處理成尺寸和透明度連續(xù)變化的手寫筆跡。優(yōu)選地，所述插值點(diǎn)的筆跡處理子模塊還用于利用公式1，將每一段軌跡進(jìn)行插值處理；Bn(t) =MidPoint (P2n_2，P2lri) (1-t) 3+3Ρ2η_Α (l_t)2+3P2nt2 (1-t) +MidPoint (P2n, P2n+1)t3公式I ;其中，Bn(t)表示插值點(diǎn)的坐標(biāo)的集合；P2n-2、P2n-l、P2n、P2n+l均為所捕獲的所述軌跡點(diǎn)的坐標(biāo)；n為大于I的整數(shù)；t為步進(jìn)次數(shù)、MidPoint (P2n_2, P2n_l)表示所述軌跡點(diǎn)P2n-2、P2n-1的中點(diǎn)的坐標(biāo)，也是插值處理后的軌跡的起點(diǎn)；MidPoint (P2n，P2n+1)表示所述軌跡點(diǎn)P2n、P2n+l的中點(diǎn)的坐標(biāo),也就是插值處理后的軌跡的終點(diǎn)。優(yōu)選地，所述插值點(diǎn)的筆跡處理子模塊還用于基于所述起點(diǎn)和終點(diǎn)分別在所捕獲的相鄰的所述軌跡點(diǎn)的位置來確定所述起點(diǎn)和終點(diǎn)各自所對(duì)應(yīng)的手寫筆跡的尺寸和透明度。優(yōu)選地，所述插值點(diǎn)的筆跡處理子模塊還用于利用公式2來取得各插值點(diǎn)所對(duì)應(yīng)的手寫筆跡的尺寸；W(t) = (1-t) 3BeginPt. ffidth+3t (l~t) 2ControlPtl. Width公式 2 ;+3t3 (1-t) ControlPt2. Width+t3EndPt. Width
其中，ff(t)表示插值點(diǎn)所對(duì)應(yīng)的手寫筆跡的尺寸的集合；BeginPt. Width表示所述起點(diǎn)所對(duì)應(yīng)的手寫筆跡的尺寸；ControlPtl. Width、ControlPt2. Width分別表示所述起點(diǎn)和終點(diǎn)之間的兩個(gè)所述軌跡點(diǎn)所對(duì)應(yīng)的手寫筆跡的尺寸；EndPt. Width表示所述終點(diǎn)所對(duì)應(yīng)的手寫筆跡的尺寸。優(yōu)選地，所述插值點(diǎn)的筆跡處理子模塊還用于利用公式3來取得各插值點(diǎn)所對(duì)應(yīng)的手寫筆跡的透明度；A (t) = (1-t) 3BeginPt. Alpha+3t (l~t) 2ControlPtl. Alpha公式 3 ;+3t3 (1-t) ControlPt2. Alpha+t3EndPt. Alpha其中，A(t)表示插值點(diǎn)的透明度的集合；BeginPt. Alpha表示插值處理后的所述軌跡的起點(diǎn)的透明度；ControlPtl. Alpha、ControlPt2. Alpha表示所述起點(diǎn)和終點(diǎn)之間的兩個(gè)所述軌跡點(diǎn)的透明度；EndPt. Alpha表示插值處理后的所述軌跡的終點(diǎn)的透明度。優(yōu)選地，美化處理子模塊還用于按照預(yù)設(shè)的手寫筆跡的模板，將所述軌跡點(diǎn)和插值點(diǎn)依次以相應(yīng)的尺寸和透明度進(jìn)行手寫筆跡的拼接處理。如上所述，本發(fā)明的實(shí)時(shí)手寫筆跡的美化方法及電子設(shè)備，具有以下有益效果通過實(shí)時(shí)捕獲軌跡點(diǎn)的坐標(biāo)和時(shí)間來獲取軌跡點(diǎn)的速度，并依據(jù)各軌跡點(diǎn)的速度與手寫筆跡的尺寸和透明度的對(duì)應(yīng)關(guān)系來對(duì)各軌跡點(diǎn)所構(gòu)成的軌跡進(jìn)行美化處理，由此，能夠有效地取得具有用戶書寫風(fēng)格的筆鋒、筆畫；另外，利用三階貝賽爾曲線算法來進(jìn)行插值處理，能夠得到平滑效果出色的軌跡；并且，利用貝賽爾曲線算法來計(jì)算各插值點(diǎn)所對(duì)應(yīng)的手寫筆跡的尺寸和透明度，能夠得到筆跡寬度、透明度平滑變化的筆鋒、筆畫，更能體現(xiàn)用戶的筆體風(fēng)格。


圖I顯示為本發(fā)明的實(shí)時(shí)手寫筆跡的美化方法的流程圖。圖2顯示為本發(fā)明的實(shí)時(shí)手寫筆跡的美化方法中美化處理步驟的流程圖。圖3顯示為本發(fā)明的電子設(shè)備的結(jié)構(gòu)示意圖。圖4顯示為本發(fā)明的電子設(shè)備中的筆跡處理模塊的結(jié)構(gòu)示意圖。圖5顯示為本發(fā)明的電子設(shè)備中的美化處理模塊的結(jié)構(gòu)示意圖。
具體實(shí)施例方式以下通過特定的具體實(shí)例說明本發(fā)明的實(shí)施方式，本領(lǐng)域技術(shù)人員可由本說明書所揭露的內(nèi)容輕易地了解本發(fā)明的其他優(yōu)點(diǎn)與功效。本發(fā)明還可以通過另外不同的具體實(shí)施方式
加以實(shí)施或應(yīng)用，本說明書中的各項(xiàng)細(xì)節(jié)也可以基于不同觀點(diǎn)與應(yīng)用，在沒有背離本發(fā)明的精神下進(jìn)行各種修飾或改變。如圖I所示，本發(fā)明提供一種實(shí)時(shí)手寫筆跡的美化方法。所述美化方法主要由美化系統(tǒng)來執(zhí)行。所述美化方法適用于具有鼠標(biāo)、觸摸屏等軌跡輸入裝置的電子設(shè)備中。所述電子設(shè)備包括但不限于手機(jī)、平板電腦等。
在步驟SI中，所述美化系統(tǒng)當(dāng)檢測到所述軌跡輸入裝置開始進(jìn)行軌跡輸入時(shí)，實(shí)時(shí)捕獲所述軌跡上的軌跡點(diǎn)的坐標(biāo)和時(shí)間，直至所述軌跡輸入結(jié)束。具體地，所述美化系統(tǒng)監(jiān)測用戶利用軌跡輸入裝置進(jìn)行手寫輸入的開始動(dòng)作以及結(jié)束的動(dòng)作，并在此期間，實(shí)時(shí)捕獲所述軌跡輸入裝置所經(jīng)過的各軌跡點(diǎn)坐標(biāo)和時(shí)間。例如，所述美化系統(tǒng)監(jiān)測到用戶按下鼠標(biāo)的動(dòng)作時(shí)，確認(rèn)手寫輸入開始，按預(yù)設(shè)時(shí)間間隔捕獲鼠標(biāo)所經(jīng)過的各軌跡點(diǎn)，當(dāng)監(jiān)測到用戶抬起鼠標(biāo)的動(dòng)作時(shí)，確認(rèn)手寫輸入結(jié)束。在步驟S2中，所述美化系統(tǒng)從所捕獲的第二個(gè)軌跡點(diǎn)開始，利用所捕獲的第η個(gè)所述軌跡點(diǎn)、及此前所捕獲的一個(gè)所述軌跡點(diǎn)的坐標(biāo)和時(shí)間，來計(jì)算第η個(gè)所述軌跡點(diǎn)的
速度，其中，η為大于I的整數(shù)。具體地，所述美化系統(tǒng)捕獲第一個(gè)所述軌跡點(diǎn)時(shí)，僅記錄所述軌跡點(diǎn)的坐標(biāo)和時(shí)間，從捕獲第二個(gè)所述軌跡點(diǎn)開始，實(shí)時(shí)計(jì)算所捕獲的所有軌跡點(diǎn)的速度。其中，捕獲第η個(gè)所述軌跡點(diǎn)的速度的方式為利用所捕獲的第η個(gè)軌跡點(diǎn)、及此前所捕獲的一個(gè)軌跡點(diǎn)的坐標(biāo)，計(jì)算所捕獲的該兩個(gè)軌跡點(diǎn)之間的位移；再根據(jù)所述位移與該兩個(gè)軌跡點(diǎn)的時(shí)間之差的比值，來取得第η個(gè)所述軌跡點(diǎn)的速度。例如，所述美化系統(tǒng)先后捕獲鼠標(biāo)所經(jīng)過的軌跡點(diǎn)P1的坐標(biāo)(Xl，yi)和時(shí)間h，及軌跡點(diǎn)P2的坐標(biāo)(x2，Y2)和時(shí)間t2 ;接著，利用公式(I)所得到的軌跡點(diǎn)P1和P2之間的平均速度V，并將所述平均速度V作為軌跡點(diǎn)P2的速度。V 二 .企 L:企込二.Z;j:...(j)
iI ~(\在步驟S3中，所述美化系統(tǒng)基于預(yù)設(shè)的軌跡點(diǎn)的速度分別與手寫筆跡的尺寸和透明度的對(duì)應(yīng)關(guān)系，來確定第η個(gè)所述軌跡點(diǎn)所對(duì)應(yīng)的手寫筆跡的尺寸和透明度。其中，所述尺寸可以是手寫筆跡的寬度。具體地，預(yù)設(shè)的軌跡點(diǎn)的速度與手寫筆跡的尺寸的對(duì)應(yīng)關(guān)系、及速度與手寫筆跡的透明度的對(duì)應(yīng)關(guān)系是根據(jù)人們的書寫習(xí)慣的經(jīng)驗(yàn)進(jìn)行計(jì)算得到的，例如，根據(jù)對(duì)人們書寫習(xí)慣的統(tǒng)計(jì)，書寫速度越快，手寫筆跡就越細(xì)；書寫速度越快，手寫筆跡就越透明。因此，所述速度分別與手寫筆跡的尺寸和透明度的對(duì)應(yīng)關(guān)系可以是成比例的對(duì)應(yīng)關(guān)系。優(yōu)選地，所述美化系統(tǒng)基于預(yù)設(shè)的速度與手寫筆跡的尺寸的線性關(guān)系，來確定第η個(gè)所述軌跡點(diǎn)所對(duì)應(yīng)的手寫筆跡的尺寸。例如，所述美化系統(tǒng)利用公式(2)來確定所捕獲的第η個(gè)軌跡點(diǎn)所對(duì)應(yīng)的手寫筆跡的尺寸。
W - WW = Wmax+^(2)
V- — V
min max其中，W表示第η個(gè)軌跡點(diǎn)所對(duì)應(yīng)的手寫筆跡的尺寸；ν表示第η個(gè)所述軌跡點(diǎn)手寫速度，參數(shù)wmax、Wfflin分別表示手寫筆跡的尺寸的最大值和最小值，Vfflax, Vfflin分別表示所述
軌跡點(diǎn)的速度的最大值和最小值;Wmax、Wmin、vmax、vmin能夠調(diào)整所述尺寸變化效果: Wmm
I min
表示所述尺寸的變化程度，它的值越大，則所述尺寸變化越明顯。其中，Wmax> Wmin> Vmax、Vmin可為預(yù)設(shè)的固定值,也可以由用戶預(yù)先設(shè)定。所述美化系統(tǒng)基于預(yù)設(shè)的速度與手寫筆跡的透明度的線性關(guān)系，來確定第η個(gè)所述軌跡點(diǎn)所對(duì)應(yīng)的手寫筆跡的透明度。例如，所述美化系統(tǒng)利用公式(3)來確定所捕獲的第η個(gè)軌跡點(diǎn)所對(duì)應(yīng)的手寫筆跡的尺寸。
權(quán)利要求
1.一種實(shí)時(shí)手寫筆跡的美化方法，應(yīng)用于具有軌跡輸入裝置的電子設(shè)備中，其特征在于，至少包括 當(dāng)檢測到所述軌跡輸入裝置開始進(jìn)行軌跡輸入時(shí)，實(shí)時(shí)捕獲所述軌跡上的軌跡點(diǎn)的坐標(biāo)和時(shí)間，直至所述軌跡輸入結(jié)束； 從所捕獲的第二個(gè)軌跡點(diǎn)開始，利用所捕獲的第η個(gè)所述軌跡點(diǎn)、及此前所捕獲的一個(gè)所述軌跡點(diǎn)的坐標(biāo)和時(shí)間，來計(jì)算第η個(gè)所述軌跡點(diǎn)的速度，其中，η為大于I的整數(shù)； 基于預(yù)設(shè)的軌跡點(diǎn)的速度分別與手寫筆跡的尺寸和透明度的對(duì)應(yīng)關(guān)系，來確定第η個(gè)所述軌跡點(diǎn)所對(duì)應(yīng)的手寫筆跡的尺寸和透明度； 利用預(yù)設(shè)的軌跡分段規(guī)則，將所捕獲的多個(gè)軌跡點(diǎn)所構(gòu)成的每一段軌跡按照所述軌跡點(diǎn)各自所對(duì)應(yīng)的尺寸和透明度進(jìn)行美化處理，以得到美化后的手寫筆跡。
2.根據(jù)權(quán)利要求I所述的實(shí)時(shí)手寫筆跡的美化方法，其特征在于，所捕獲的第一個(gè)所述軌跡點(diǎn)所對(duì)應(yīng)的手寫筆跡的尺寸和透明度均為預(yù)設(shè)值。
3.根據(jù)權(quán)利要求I所述的實(shí)時(shí)手寫筆跡的美化方法，其特征在于，確定所述軌跡點(diǎn)所對(duì)應(yīng)的手寫筆跡的尺寸的方式包括基于預(yù)設(shè)的軌跡點(diǎn)的速度與手寫筆跡的尺寸的線性關(guān)系，來確定第η個(gè)所述軌跡點(diǎn)所對(duì)應(yīng)的手寫筆跡的尺寸。
4.根據(jù)權(quán)利要求I所述的實(shí)時(shí)手寫筆跡的美化方法，其特征在于，確定所述軌跡點(diǎn)所對(duì)應(yīng)的手寫筆跡的透明度的方式包括基于預(yù)設(shè)的軌跡點(diǎn)的速度與手寫筆跡的透明度的線性關(guān)系，來確定第η個(gè)所述軌跡點(diǎn)所對(duì)應(yīng)的手寫筆跡的透明度。
5.根據(jù)權(quán)利要求I所述的實(shí)時(shí)手寫筆跡的美化方法，其特征在于，利用預(yù)設(shè)的軌跡分段規(guī)則，將所捕獲的多個(gè)軌跡點(diǎn)所構(gòu)成的每一段軌跡按照所述軌跡點(diǎn)各自所對(duì)應(yīng)的尺寸和透明度進(jìn)行美化處理的步驟包括 利用預(yù)設(shè)的分段規(guī)則，將所捕獲的多個(gè)軌跡點(diǎn)所構(gòu)成的每一段軌跡進(jìn)行插值處理，以得到由插值點(diǎn)和所述軌跡點(diǎn)所構(gòu)成的平滑軌跡； 根據(jù)經(jīng)插值處理后的所述軌跡上的各所述軌跡點(diǎn)所對(duì)應(yīng)的尺寸和透明度來確定所述插值點(diǎn)各自所對(duì)應(yīng)的手寫筆跡的尺寸和透明度； 利用所述插值點(diǎn)和軌跡點(diǎn)各自所對(duì)應(yīng)的手寫筆跡的尺寸和透明度，將插值處理后的軌跡美化處理成尺寸和透明度連續(xù)變化的手寫筆跡。
6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的實(shí)時(shí)手寫筆跡的美化方法，其特征在于，利用預(yù)設(shè)的軌跡分段規(guī)則，將所捕獲的多個(gè)軌跡點(diǎn)所構(gòu)成的每一段軌跡按照所述軌跡點(diǎn)各自所對(duì)應(yīng)的尺寸和透明度進(jìn)行美化處理的方式還包括利用公式I，將每一段軌跡進(jìn)行插值處理； Bn (t) =MidPoint (P2n_2，P2lri) (1-t) '+SP2n^t (1-t) 2+3P2nt2 (1-t) +MidPoint (P2n, P2n+1) t3 公式I ; 其中，Bn(t)表示插值點(diǎn)的坐標(biāo)的集合T2nIP2n-PP2l^P2lri均為所捕獲的所述軌跡點(diǎn)的坐標(biāo)；n為大于I的整數(shù)為步進(jìn)次數(shù)、MidPoint (P2n_2,P2lri)表示所述軌跡點(diǎn)的中點(diǎn)的坐標(biāo)，也是插值處理后的軌跡的起點(diǎn)；MidPoint (P2n, P2n+1)表示所述軌跡點(diǎn)的中點(diǎn)的坐標(biāo)，也就是插值處理后的軌跡的終點(diǎn)。
7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的實(shí)時(shí)手寫筆跡的美化方法，其特征在于，根據(jù)所述軌跡上的所述軌跡點(diǎn)所對(duì)應(yīng)的尺寸來確定所述起點(diǎn)和終點(diǎn)各自所對(duì)應(yīng)的手寫筆跡的尺寸的方式包括基于所述起點(diǎn)和終點(diǎn)分別在所捕獲的相鄰的所述軌跡點(diǎn)的位置來確定所述起點(diǎn)和終點(diǎn)各自所對(duì)應(yīng)的手寫筆跡的尺寸和透明度。
8.根據(jù)權(quán)利要求6所述的實(shí)時(shí)手寫筆跡的美化方法，其特征在于，根據(jù)所述軌跡上的所述軌跡點(diǎn)所對(duì)應(yīng)的尺寸來確定所述插值點(diǎn)各自所對(duì)應(yīng)的手寫筆跡的尺寸的方式包括利用公式2來取得各插值點(diǎn)所對(duì)應(yīng)的手寫筆跡的尺寸；W(t) = (1-t) 3BeginPt. ffidth+3t (1-t) 2ControlPtl. Width公式 2 ；+3t3 (1-t) ControlPt2. Width+t3EndPt. Width 其中，W(t)表示插值點(diǎn)所對(duì)應(yīng)的手寫筆跡的尺寸的集合；BeginPt. Width表示所述起點(diǎn)所對(duì)應(yīng)的手寫筆跡的尺寸；ControlPtl. Width、ControlPt2. Width分別表示所述起點(diǎn)和終點(diǎn)之間的兩個(gè)所述軌跡點(diǎn)所對(duì)應(yīng)的手寫筆跡的尺寸；EndPt. Width表示所述終點(diǎn)所對(duì)應(yīng)的手寫筆跡的尺寸。
9.根據(jù)權(quán)利要求6所述的實(shí)時(shí)手寫筆跡的美化方法，其特征在于，根據(jù)所述軌跡上的所述軌跡點(diǎn)所對(duì)應(yīng)的透明度來確定所述插值點(diǎn)各自所對(duì)應(yīng)的手寫筆跡的透明度的方式包括利用公式3來取得各插值點(diǎn)所對(duì)應(yīng)的手寫筆跡的透明度；A (t) = (1-t) 3BeginPt. Alpha+3t (1-t) 2ControlPtl. Alpha 公式 3 ；+3t3 (1-t) ControlPt2. Alpha+t3EndPt. Alpha 其中，A(t)表示插值點(diǎn)的透明度的集合；BeginPt. Alpha表示插值處理后的所述軌跡的起點(diǎn)的透明度；ControlPtl. Alpha、ControlPt2. Alpha表示所述起點(diǎn)和終點(diǎn)之間的兩個(gè)所述軌跡點(diǎn)的透明度；EndPt. Alpha表示插值處理后的所述軌跡的終點(diǎn)的透明度。
10.根據(jù)權(quán)利要求5所述的實(shí)時(shí)手寫筆跡的美化方法，其特征在于，將插值處理后的軌跡美化處理成尺寸和透明度連續(xù)變化的手寫筆跡的方式還包括按照預(yù)設(shè)的手寫筆跡的模板，將所述軌跡點(diǎn)和插值點(diǎn)依次以相應(yīng)的尺寸和透明度進(jìn)行手寫筆跡的拼接處理。
11.一種電子設(shè)備，其特征在于，至少包括 軌跡輸入裝置； 捕獲模塊，用于當(dāng)檢測到所述軌跡輸入裝置開始進(jìn)行軌跡輸入時(shí)，實(shí)時(shí)捕獲所述軌跡上的軌跡點(diǎn)的坐標(biāo)和時(shí)間，直至所述軌跡輸入結(jié)束； 速度計(jì)算模塊，用于從所述捕獲模塊所捕獲的第二個(gè)軌跡點(diǎn)開始，利用所述捕獲模塊所捕獲的第η個(gè)所述軌跡點(diǎn)、及此前所捕獲的一個(gè)所述軌跡點(diǎn)的坐標(biāo)和時(shí)間,來計(jì)算第η個(gè)所述軌跡點(diǎn)的速度，其中，η為大于I的整數(shù)； 筆跡處理模塊，用于基于預(yù)設(shè)的軌跡點(diǎn)的速度分別與手寫筆跡的尺寸和透明度的對(duì)應(yīng)關(guān)系、以及所述速度計(jì)算模塊所計(jì)算出的第η個(gè)所述軌跡點(diǎn)的速度，來確定第η個(gè)所述軌跡點(diǎn)所對(duì)應(yīng)的手寫筆跡的尺寸和透明度； 美化處理模塊，用于利用預(yù)設(shè)的軌跡分段規(guī)則，將所捕獲的多個(gè)軌跡點(diǎn)所構(gòu)成的每一段軌跡按照所述筆跡處理模塊所取得的所述軌跡點(diǎn)各自所對(duì)應(yīng)的尺寸和透明度進(jìn)行美化處理，以得到美化后的手寫筆跡。
12.根據(jù)權(quán)利要求11所述的電子設(shè)備，其特征在于，所捕獲的第一個(gè)所述軌跡點(diǎn)所對(duì)應(yīng)的手寫筆跡的尺寸和透明度均為預(yù)設(shè)值。
13.根據(jù)權(quán)利要求11所述的電子設(shè)備，其特征在于，所述筆跡處理模塊包括筆跡尺寸處理子模塊，用于基于預(yù)設(shè)的軌跡點(diǎn)的速度與手寫筆跡的尺寸的線性關(guān)系、以及所述速度計(jì)算模塊所計(jì)算出的第η個(gè)所述軌跡點(diǎn)的速度，來確定第η個(gè)所述軌跡點(diǎn)所對(duì)應(yīng)的手寫筆跡的尺寸。
14.根據(jù)權(quán)利要求11所述的電子設(shè)備，其特征在于，所述筆跡處理模塊包括筆跡透明度處理子模塊，用于基于預(yù)設(shè)的軌跡點(diǎn)的速度與手寫筆跡的透明度的線性關(guān)系、以及所述速度計(jì)算模塊所計(jì)算出的第η個(gè)所述軌跡點(diǎn)的速度，來確定第η個(gè)所述軌跡點(diǎn)所對(duì)應(yīng)的手寫筆跡的透明度。
15.根據(jù)權(quán)利要求11所述的電子設(shè)備，其特征在于，所述美化處理模塊包括 插值處理子模塊，用于利用預(yù)設(shè)的分段規(guī)則，將所述捕獲模塊所捕獲的多個(gè)軌跡點(diǎn)所構(gòu)成的每一段軌跡進(jìn)行插值處理，以得到由插值點(diǎn)和所述軌跡點(diǎn)所構(gòu)成的平滑軌跡； 插值點(diǎn)的筆跡處理子模塊，用于根據(jù)經(jīng)插值處理后的所述軌跡上的各所述軌跡點(diǎn)所對(duì)應(yīng)的尺寸和透明度來確定所述插值點(diǎn)各自所對(duì)應(yīng)的手寫筆跡的尺寸和透明度； 美化處理子模塊，用于所述插值點(diǎn)和軌跡點(diǎn)各自所對(duì)應(yīng)的手寫筆跡的尺寸和透明度，將插值處理后的軌跡美化處理成尺寸和透明度連續(xù)變化的手寫筆跡。
16.根據(jù)權(quán)利要求15所述的電子設(shè)備，其特征在于，所述插值點(diǎn)的筆跡處理子模塊還用于利用公式I，將每一段軌跡進(jìn)行插值處理； Bn (t) =MidPoint (P2n_2，P2lri) (1-t) 3+3Ρ2η_Α (1-t) 2+3P2nt2 (1-t)+MidPoint (P2n，P2n+1) t3 公式I ; 其中，Bn(t)表示插值點(diǎn)的坐標(biāo)的集合T2nIP2n-PP2l^P2lri均為所捕獲的所述軌跡點(diǎn)的坐標(biāo)；n為大于I的整數(shù)為步進(jìn)次數(shù)、MidPoint (P2n_2,P2lri)表示所述軌跡點(diǎn)的中點(diǎn)的坐標(biāo)，也是插值處理后的軌跡的起點(diǎn)；MidPoint (P2n, P2n+1)表示所述軌跡點(diǎn)的中點(diǎn)的坐標(biāo)，也就是插值處理后的軌跡的終點(diǎn)。
17.根據(jù)權(quán)利要求16所述的電子設(shè)備，其特征在于，所述插值點(diǎn)的筆跡處理子模塊還用于基于所述起點(diǎn)和終點(diǎn)分別在所捕獲的相鄰的所述軌跡點(diǎn)的位置來確定所述起點(diǎn)和終點(diǎn)各自所對(duì)應(yīng)的手寫筆跡的尺寸和透明度。
18.根據(jù)權(quán)利要求16所述的電子設(shè)備，其特征在于，所述插值點(diǎn)的筆跡處理子模塊還用于利用公式2來取得各插值點(diǎn)所對(duì)應(yīng)的手寫筆跡的尺寸；W(t) = (1-t) 3BeginPt. ffidth+3t (1-t) 2ControlPtl. Width 公式 2 ；+3t3 (1-t) ControlPt2. Width+t3EndPt. Width 其中，W(t)表示插值點(diǎn)所對(duì)應(yīng)的手寫筆跡的尺寸的集合；BeginPt. Width表示所述起點(diǎn)所對(duì)應(yīng)的手寫筆跡的尺寸；ControlPtl. Width、ControlPt2. Width分別表示所述起點(diǎn)和終點(diǎn)之間的兩個(gè)所述軌跡點(diǎn)所對(duì)應(yīng)的手寫筆跡的尺寸；EndPt. Width表示所述終點(diǎn)所對(duì)應(yīng)的手寫筆跡的尺寸。
19.根據(jù)權(quán)利要求16所述的電子設(shè)備，其特征在于，所述插值點(diǎn)的筆跡處理子模塊還用于利用公式3來取得各插值點(diǎn)所對(duì)應(yīng)的手寫筆跡的透明度；A (t) = (1-t) 3BeginPt. Alpha+3t (1-t) 2ControlPtl. Alpha 公式 3 ；+3t3 (1-t) ControlPt2. Alpha+t3EndPt. Alpha 其中，A(t)表示插值點(diǎn)的透明度的集合；BeginPt. Alpha表示插值處理后的所述軌跡的起點(diǎn)的透明度；ControlPtl. Alpha、ControlPt2. Alpha表示所述起點(diǎn)和終點(diǎn)之間的兩個(gè)所述軌跡點(diǎn)的透明度；EndPt. Alpha表示插值處理后的所述軌跡的終點(diǎn)的透明度。
20.根據(jù)權(quán)利要求15所述的電子設(shè)備，其特征在于，美化處理子模塊還用于按照預(yù)設(shè)的手寫筆跡的模板，將所述軌跡點(diǎn)和插值點(diǎn)依次以相應(yīng)的尺寸和透明度進(jìn)行手寫筆跡的拼 接處理。
全文摘要
本發(fā)明提供一種實(shí)時(shí)手寫筆跡的美化方法及電子設(shè)備。根據(jù)本發(fā)明所述的電子設(shè)備，能夠?qū)崟r(shí)捕獲軌跡輸入裝置進(jìn)行手寫輸入時(shí)的軌跡點(diǎn)，并根據(jù)所捕獲的軌跡點(diǎn)的坐標(biāo)和時(shí)間來計(jì)算該軌跡點(diǎn)的速度，再基于預(yù)設(shè)的軌跡點(diǎn)的速度分別與手寫軌跡的尺寸和透明度的對(duì)應(yīng)關(guān)系來確定每一個(gè)軌跡點(diǎn)所對(duì)應(yīng)的尺寸和透明度；再依據(jù)預(yù)設(shè)的軌跡分段規(guī)則，將所捕獲的多個(gè)所述軌跡點(diǎn)所構(gòu)成的每一段軌跡按照所述軌跡點(diǎn)各自所對(duì)應(yīng)的尺寸和透明度進(jìn)行美化處理，以得到美化后的手寫筆跡。由此，能夠有效地取得具有用戶書寫風(fēng)格的筆鋒、筆畫。
文檔編號(hào)G06F3/0354GK102937849SQ201210513019
公開日2013年2月20日 申請(qǐng)日期2012年12月4日 優(yōu)先權(quán)日2012年12月4日
發(fā)明者金連文, 吳炳偉 申請(qǐng)人:上海合合信息科技發(fā)展有限公司