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      選區(qū)電子衍射圖譜圖像處理法確定熱解炭擇優(yōu)取向度的制作方法

      文檔序號(hào):6590458閱讀:753來(lái)源:國(guó)知局
      專利名稱:選區(qū)電子衍射圖譜圖像處理法確定熱解炭擇優(yōu)取向度的制作方法
      技術(shù)領(lǐng)域
      本發(fā)明涉及選區(qū)電子衍射圖譜圖像處理法確定熱解炭擇優(yōu)取向度,尤其是選區(qū)電子衍射圖譜圖像處理法確定人工心瓣含硅熱解炭涂層擇優(yōu)取向度。
      背景技術(shù)
      由流化床化學(xué)氣相沉積(CVD)工藝制備而成的熱解炭涂層極易在沉積過(guò)程中形成擇優(yōu)取向。擇優(yōu)取向與沉積工藝及沉積條件相關(guān),同時(shí)也影響著熱解炭涂層的結(jié)構(gòu)與性能。通過(guò)制備不同擇優(yōu)取向的熱解炭,可以滿足不同的材料性能需求,對(duì)于人工心瓣熱解炭涂層而言,則要求是高密度各向同性熱解炭,因此,定量地測(cè)定熱解炭的擇優(yōu)取向度具有深遠(yuǎn)的意義。運(yùn)用透射電鏡可以定量的測(cè)定熱解炭的取向角,表征其織態(tài)結(jié)構(gòu)。對(duì)熱解炭進(jìn)行選取電子衍射(SAED)實(shí)驗(yàn),對(duì)得到的圖譜進(jìn)行數(shù)字化處理后,發(fā)現(xiàn)其強(qiáng)度隨著方位角的變化呈一定的分布,并且熱解炭的織態(tài)結(jié)構(gòu)越高,擇優(yōu)取向度就越高,強(qiáng)度峰就越尖銳,反之則寬化。因此可用強(qiáng)度峰的半高寬(Full width at half maximum, FWHM)來(lái)定量表示熱解炭的擇優(yōu)取向度,稱為取向角0A。過(guò)去的X射線衍射實(shí)驗(yàn)都是由底片攝取衍射環(huán),只能手工逐點(diǎn)測(cè)試衍射強(qiáng)度,工作極其繁瑣且易引入人為誤差,現(xiàn)在選區(qū)電子衍射實(shí)驗(yàn)最終得到的都是數(shù)字圖像,這使衍射強(qiáng)度的測(cè)定變得更加簡(jiǎn)便。但是由于國(guó)內(nèi)外關(guān)于熱解炭材料的研究很少,關(guān)于熱解炭擇優(yōu)取向角的研究則更少,導(dǎo)致目前沒(méi)有一種專業(yè)測(cè)定取向角的工具,而國(guó)外一些作者則使用定制的軟件來(lái)測(cè)定取向角。

      發(fā)明內(nèi)容
      本發(fā)明針對(duì)現(xiàn)有技術(shù)的不足,提出了選區(qū)電子衍射圖譜圖像處理法確定熱解炭擇優(yōu)取向度。本發(fā)明選區(qū)電子衍射圖譜圖像處理法確定熱解炭擇優(yōu)取向度包括以下步驟:
      步驟一:對(duì)選區(qū)電子衍射圖譜進(jìn)行二值化處理,二值化閾值設(shè)定為50,選出亮度值大于等于50的(002)衍射環(huán)及其內(nèi)部區(qū)域,選出區(qū)域即為亮區(qū)域;
      步驟二:對(duì)二值化處理得到的圖像進(jìn)行邊緣化處理,確定出亮區(qū)域的邊界,取邊界點(diǎn),根據(jù)最小二乘法擬合圓心及半徑,其值為(002)衍射環(huán)近似的圓心(η ,,)與半徑R ;
      最小二乘法擬合的公式如下:
      權(quán)利要求
      1.選區(qū)電子衍射圖譜圖像處理法確定熱解炭擇優(yōu)取向度,其特征在于:該方法包括以下步驟:步驟一:對(duì)選區(qū)電子衍射圖譜進(jìn)行二值化處理,二值化閾值設(shè)定為50,選出亮度值大于等于50的(002)衍射環(huán)及其內(nèi)部區(qū)域,選出區(qū)域即為亮區(qū)域; 步驟二:對(duì)二值化處理得到的圖像進(jìn)行邊緣化處理,確定出亮區(qū)域的邊界,取邊界點(diǎn),根據(jù)最小二乘法擬合圓心及半徑,其值為(002)衍射環(huán)近似的圓心(別,Jo )與半徑R ;最小二乘法擬合的公式如下:
      全文摘要
      本發(fā)明公開(kāi)了選區(qū)電子衍射圖譜圖像處理法確定熱解炭擇優(yōu)取向度,本發(fā)明對(duì)原圖譜進(jìn)行二值化處理,選出亮度值大于等于50的衍射環(huán)及其內(nèi)部區(qū)域,進(jìn)行邊緣化處理,確定亮區(qū)域邊界,進(jìn)行最小二乘法擬合圓心及半徑,得到衍射環(huán)的近似圓心與半徑,根據(jù)近似圓心與半徑,取圓區(qū)小半徑為近似半徑的0.7,圓區(qū)大半徑為近似半徑的1.2,摳除衍射環(huán)內(nèi)部及外部的區(qū)域,再進(jìn)行二值化處理,選出圓環(huán)狀區(qū)域中亮度值大于或等于145的部分,即衍射環(huán),根據(jù)最小二乘法再次擬合出衍射環(huán)的圓心及半徑,并確定圖譜采樣點(diǎn),得到強(qiáng)度—方位角曲線,確定熱解炭擇優(yōu)取向度。本發(fā)明能更加簡(jiǎn)便、準(zhǔn)確地得到熱解炭涂層的強(qiáng)度—方位角曲線,從而確定熱解炭擇優(yōu)取向度。
      文檔編號(hào)G06T7/00GK103150732SQ20131009508
      公開(kāi)日2013年6月12日 申請(qǐng)日期2013年3月22日 優(yōu)先權(quán)日2013年3月22日
      發(fā)明者張建輝, 韋靜, 楊歡, 李學(xué)鵬, 鐘華鋒, 孫海博 申請(qǐng)人:杭州電子科技大學(xué)
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