光學(xué)式坐標(biāo)輸入裝置制造方法
【專利摘要】本發(fā)明為一種光學(xué)式坐標(biāo)輸入裝置。光學(xué)式坐標(biāo)輸入裝置包括邊框、第一觸控檢測(cè)區(qū)域、第二觸控檢測(cè)區(qū)域、第一檢測(cè)模塊、第二檢測(cè)模塊及處理模塊。第二觸控檢測(cè)區(qū)域部分重疊于第一觸控檢測(cè)區(qū)域。第一檢測(cè)模塊設(shè)置于邊框上，且鄰近于第二觸控檢測(cè)區(qū)域，用以檢測(cè)第一觸控檢測(cè)區(qū)域，以產(chǎn)生第一觸控坐標(biāo)信號(hào)。第二檢測(cè)模塊設(shè)置于邊框上，且鄰近于第一觸控檢測(cè)區(qū)域，用以檢測(cè)第二觸控檢測(cè)區(qū)域，以產(chǎn)生第二觸控坐標(biāo)信號(hào)；其中第二檢測(cè)模塊與第一檢測(cè)模塊位于邊框上的不同平面。處理模塊用以根據(jù)第一及第二觸控坐標(biāo)信號(hào)執(zhí)行坐標(biāo)計(jì)算程序。
【專利說明】光學(xué)式坐標(biāo)輸入裝置

【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001 ] 本發(fā)明涉及一種光學(xué)式坐標(biāo)輸入裝置，特別是一種可以用于超大尺寸的光學(xué)式坐標(biāo)輸入裝置。

【背景技術(shù)】
[0002]隨著科技的進(jìn)步，觸控面板已經(jīng)被廣泛應(yīng)用于日常生活中，使得使用者可以更直覺地操控電子產(chǎn)品。在現(xiàn)有技術(shù)中，觸控面板通常是電阻式或是電容式的架構(gòu)。但電阻式或是電容式的觸控面板僅適用于小尺寸的觸控面板，若要用于大尺寸的觸控面板時(shí)，就會(huì)造成制造成本的大幅增加。
[0003]因此在現(xiàn)有技術(shù)中已經(jīng)發(fā)明一種光學(xué)式的坐標(biāo)輸入裝置，以解決利用電阻式或是電容式的大尺寸觸控面板時(shí)成本過高的問題。請(qǐng)先參考圖1現(xiàn)有技術(shù)的光學(xué)式坐標(biāo)輸入裝置的示意圖。
[0004]圖1光學(xué)式坐標(biāo)輸入裝置90包括檢測(cè)區(qū)域91、第一光機(jī)模塊92、第二光機(jī)模塊93、反光邊框94與處理模塊95。檢測(cè)區(qū)域91用以供物體96接觸。第一光機(jī)模塊92與第二光機(jī)模塊93會(huì)向反光邊框94發(fā)出不可見光，再擷取經(jīng)由反光邊框94反射回來的信號(hào)。若檢測(cè)區(qū)域91有物體96接近或觸碰時(shí)，物體96就會(huì)遮斷反光邊框94反射回來的光線影像，因此處理模塊95可以根據(jù)此時(shí)第一光機(jī)模塊92與第二光機(jī)模塊93擷取的影像計(jì)算出物體96的坐標(biāo)。
[0005]但現(xiàn)有技術(shù)中使用光學(xué)式的坐標(biāo)輸入裝置做到大尺寸時(shí)，例如超過100英寸時(shí)，會(huì)受限于處理模塊95本身對(duì)于接收信號(hào)的解析能力和第一光機(jī)模塊92與第二光機(jī)模塊93對(duì)于對(duì)角上的反射信號(hào)太弱的問題。若要提升處理模塊95的解析能力，要增加第一光機(jī)模塊92與第二光機(jī)模塊93的透鏡數(shù)來改善成像品質(zhì)和增加解析能力。但這會(huì)使得成本大幅提高。另外，若要使角落的信號(hào)增強(qiáng)，可以增加第一光機(jī)模塊92與第二光機(jī)模塊93的發(fā)射亮度。但如此一來會(huì)讓靠近第一光機(jī)模塊92或第二光機(jī)模塊93的觸控點(diǎn)的接收信號(hào)過曝。過曝信號(hào)對(duì)于處理模塊95在執(zhí)行觸控演算法時(shí)，會(huì)導(dǎo)致造成靠近光機(jī)模塊的觸控操作區(qū)坐標(biāo)不準(zhǔn)確。
[0006]因此，需要發(fā)明一種用于大尺寸的光學(xué)式坐標(biāo)輸入裝置，以解決現(xiàn)有技術(shù)的缺失。


【發(fā)明內(nèi)容】

[0007]本發(fā)明的主要目的在提供一種光學(xué)式坐標(biāo)輸入裝置，其具有可以用于超大尺寸的效果。
[0008]為達(dá)成上述的目的，本發(fā)明光學(xué)式坐標(biāo)輸入裝置包括邊框、第一觸控檢測(cè)區(qū)域、第二觸控檢測(cè)區(qū)域、第一檢測(cè)模塊、第二檢測(cè)模塊及處理模塊。第二觸控檢測(cè)區(qū)域部分重疊于第一觸控檢測(cè)區(qū)域，其中第一觸控檢測(cè)區(qū)域及第二觸控檢測(cè)區(qū)域用以供使用者觸控。第一檢測(cè)模塊設(shè)置于邊框上，且鄰近于第二觸控檢測(cè)區(qū)域，用以檢測(cè)第一觸控檢測(cè)區(qū)域，以在使用者觸控時(shí)產(chǎn)生第一觸控坐標(biāo)信號(hào)。第二檢測(cè)模塊設(shè)置于邊框上，且鄰近于第一觸控檢測(cè)區(qū)域，用以檢測(cè)第二觸控檢測(cè)區(qū)域，以在使用者觸控時(shí)產(chǎn)生第二觸控坐標(biāo)信號(hào)；其中第二檢測(cè)模塊與第一檢測(cè)模塊位于邊框上的不同平面。處理模塊電連接第一檢測(cè)模塊及第二檢測(cè)模塊，用以根據(jù)第一觸控坐標(biāo)信號(hào)及第二觸控坐標(biāo)信號(hào)執(zhí)行坐標(biāo)計(jì)算程序；藉此可同時(shí)操作第一觸控檢測(cè)區(qū)域及第二觸控檢測(cè)區(qū)域。
[0009]藉由本發(fā)明光學(xué)式坐標(biāo)輸入裝置，可配合所需的觸控區(qū)域大小做延伸，可以避免因面積過大而造成解析能力不足的問題，也可解決因距離過近而造成的過曝問題。

【專利附圖】

【附圖說明】
[0010]圖1為現(xiàn)有技術(shù)光學(xué)式坐標(biāo)輸入裝置的示意圖。
[0011]圖2為本發(fā)明光學(xué)式坐標(biāo)輸入裝置的第一實(shí)施例的架構(gòu)示意圖。
[0012]圖3A為本發(fā)明光學(xué)式坐標(biāo)輸入裝置的第一實(shí)施例的正面示意圖。
[0013]圖3B為本發(fā)明光學(xué)式坐標(biāo)輸入裝置的第一實(shí)施例的立體示意圖。
[0014]圖4為本發(fā)明光學(xué)式坐標(biāo)輸入裝置的第二實(shí)施例的架構(gòu)示意圖。
[0015]圖5A為本發(fā)明光學(xué)式坐標(biāo)輸入裝置的第二實(shí)施例的正面示意圖。
[0016]圖5B為本發(fā)明光學(xué)式坐標(biāo)輸入裝置的第二實(shí)施例的立體示意圖。
[0017]其符號(hào)說明如下:
[0018]現(xiàn)有技術(shù):
[0019]光學(xué)式坐標(biāo)輸入裝置90
[0020]檢測(cè)區(qū)域91
[0021]第一光機(jī)模塊92
[0022]第二光機(jī)模塊93
[0023]反光邊框94
[0024]處理模塊95
[0025]本發(fā)明:
[0026]光學(xué)式坐標(biāo)輸入裝置la、Ib
[0027]邊框10
[0028]第一觸控檢測(cè)區(qū)域21
[0029]第二觸控檢測(cè)區(qū)域22
[0030]第三觸控檢測(cè)區(qū)域23
[0031]第四觸控檢測(cè)區(qū)域24
[0032]第一檢測(cè)模塊31
[0033]第二檢測(cè)模塊32
[0034]第三檢測(cè)模塊33
[0035]第四檢測(cè)模塊34
[0036]處理模塊41
[0037]第一光機(jī)模塊51
[0038]第二光機(jī)模塊52
[0039]第三光機(jī)模塊53
[0040]第四光機(jī)模塊54
[0041]第五光機(jī)模塊55
[0042]第六光機(jī)模塊56
[0043]第七光機(jī)模塊57
[0044]第八光機(jī)模塊58
[0045]第一反光條61
[0046]第二反光條62
[0047]第三反光條63
[0048]第四反光條64
[0049]部分重疊區(qū)域Al、A2、A3
[0050]觸控點(diǎn)P1、P2
[0051]過曝緩沖區(qū)域S1、S2

【具體實(shí)施方式】
[0052]為讓本發(fā)明的上述和其他目的、特征和優(yōu)點(diǎn)能更明顯易懂，下文特舉出本發(fā)明的具體實(shí)施例，并配合所附圖式，作詳細(xì)說明如下。
[0053]請(qǐng)先一并參考圖2到圖3B關(guān)于本發(fā)明光學(xué)式坐標(biāo)輸入裝置的第一實(shí)施例的相關(guān)示意圖，其中圖2為本發(fā)明光學(xué)式坐標(biāo)輸入裝置的第一實(shí)施例的架構(gòu)示意圖，圖3A為本發(fā)明光學(xué)式坐標(biāo)輸入裝置的第一實(shí)施例的正面示意圖，圖3B為本發(fā)明光學(xué)式坐標(biāo)輸入裝置的第一實(shí)施例的立體示意圖。
[0054]本發(fā)明光學(xué)式坐標(biāo)輸入裝置Ia適用于超過100英寸的超大尺寸的觸控范圍，但本發(fā)明并不限定于此種規(guī)格。光學(xué)式坐標(biāo)輸入裝置Ia包括邊框10、第一觸控檢測(cè)區(qū)域21、第二觸控檢測(cè)區(qū)域22、第一檢測(cè)模塊31、第二檢測(cè)模塊32及處理模塊41，第一檢測(cè)模塊31具有一第一光機(jī)模塊51及一第二光機(jī)模塊52,第二檢測(cè)模塊32具有一第三光機(jī)模塊53及一第四光機(jī)模塊54。邊框10的高度可介于24mm至18mm之間，但本發(fā)明并不限于此。第一觸控檢測(cè)區(qū)域21及第二觸控檢測(cè)區(qū)域22設(shè)置于邊框10的范圍內(nèi)，并且第二觸控檢測(cè)區(qū)域22部分重疊于第一觸控檢測(cè)區(qū)域21，以供使用者進(jìn)行觸控。第一觸控檢測(cè)區(qū)域21與第二觸控檢測(cè)區(qū)域22之間會(huì)具有部分重疊區(qū)域Al。本發(fā)明并不限定第一觸控檢測(cè)區(qū)域21及第二觸控檢測(cè)區(qū)域22的大小需相同，兩者也可以具有不同的面積。
[0055]第一檢測(cè)模塊31及第二檢測(cè)模塊32皆設(shè)置于邊框10上，以檢測(cè)使用者觸控。當(dāng)使用者接觸第一觸控檢測(cè)區(qū)域21或第二觸控檢測(cè)區(qū)域22而有觸控點(diǎn)Pl或P2時(shí)，第一檢測(cè)模塊31或第二檢測(cè)模塊32得到藉此產(chǎn)生觸控信號(hào)。而其中第一檢測(cè)模塊31的第一光機(jī)模塊51及第二光機(jī)模塊52設(shè)置于鄰近第二觸控檢測(cè)區(qū)域22的邊框10處，用以朝向第一觸控檢測(cè)區(qū)域21，藉此檢測(cè)由使用者觸控第一觸控檢測(cè)區(qū)域21時(shí)，產(chǎn)生代表觸控點(diǎn)Pl的第一觸控坐標(biāo)信號(hào)。同樣地，第二檢測(cè)模塊32的第三光機(jī)模塊53及第四光機(jī)模塊54設(shè)置于鄰近第一觸控檢測(cè)區(qū)域21的邊框10處，用以朝向第二觸控檢測(cè)區(qū)域22進(jìn)行檢測(cè)。如此一來，使用者觸控第二觸控檢測(cè)區(qū)域22時(shí)即可產(chǎn)生代表觸控點(diǎn)P2的第二觸控坐標(biāo)信號(hào)。并須注意的是，第一檢測(cè)模塊31與第二檢測(cè)模塊32位于該邊框10上的不同厚度處。也就是說，第一檢測(cè)模塊31與第二檢測(cè)模塊32位于該邊框10上的不同的平面，以避免彼此之間的信號(hào)干擾。
[0056]而于本發(fā)明的第一實(shí)施例中，第一檢測(cè)模塊31的第一光機(jī)模塊51及第二光機(jī)模塊52分別位于第二觸控檢測(cè)區(qū)域22的相對(duì)兩側(cè)。第二檢測(cè)模塊32的第三光機(jī)模塊53及第四光機(jī)模塊54分別位于第一觸控檢測(cè)區(qū)域21的相對(duì)兩側(cè)。邊框10則包括第一反光條61及第二反光條62,其中第一反光條61與第一檢測(cè)模塊31位于邊框10上的相同厚度,也就是第一反光條61與第一檢測(cè)模塊31處于一共平面，并圍繞第一觸控檢測(cè)區(qū)域21，且延伸連接至鄰近于第二觸控檢測(cè)區(qū)域22的第一光機(jī)模塊51及第二光機(jī)模塊52。如此一來，第一光機(jī)模塊51及第二光機(jī)模塊52可以分別發(fā)出不可見光信號(hào),再藉由第一反光條61反射后接收，藉此檢測(cè)第一觸控檢測(cè)區(qū)域21上是否有使用者觸控的觸控點(diǎn)Pl。同樣地，第二反光條62與第二檢測(cè)模塊32位于邊框10上的相同厚度，也就是第二反光條62與第二檢測(cè)模塊32處于一共平面，并圍繞第二觸控檢測(cè)區(qū)域22，且延伸連接至鄰近于第一觸控檢測(cè)區(qū)域21的第三光機(jī)模塊53及第四光機(jī)模塊54。藉此,第三光機(jī)模塊53及第四光機(jī)模塊54同樣可以分別發(fā)出不可見光的信號(hào)，再藉由第二反光條62反射后接收，以檢測(cè)得知第一觸控檢測(cè)區(qū)域21上是否有使用者觸控的觸控點(diǎn)P2。
[0057]最后處理模塊41電連接第一檢測(cè)模塊31及第二檢測(cè)模塊32。當(dāng)?shù)谝粰z測(cè)模塊31的第一光機(jī)模塊51及第二光機(jī)模塊52,以及第二檢測(cè)模塊32的第三光機(jī)模塊53及第四光機(jī)模塊54分別得到第一觸控坐標(biāo)信號(hào)或第二觸控坐標(biāo)信號(hào)時(shí),處理模塊41根據(jù)第一觸控坐標(biāo)信號(hào)或第二觸控坐標(biāo)信號(hào)，以得知第一觸控檢測(cè)區(qū)域21及第二觸控檢測(cè)區(qū)域22是否具有觸控點(diǎn)Pl或P2，并執(zhí)行一坐標(biāo)計(jì)算程序，以算出觸控點(diǎn)Pl或P2的確切坐標(biāo)，再進(jìn)行后續(xù)的處理流程。處理模塊41也可同時(shí)得到第一觸控坐標(biāo)信號(hào)及第二觸控坐標(biāo)信號(hào)，以算出觸控點(diǎn)Pl及P2的坐標(biāo)。
[0058]并須注意的是，該第一觸控檢測(cè)區(qū)域21及第二觸控檢測(cè)區(qū)域22之間具有一部分重疊區(qū)域Al,此部分重疊區(qū)域Al相當(dāng)于第一光機(jī)模塊51、第二光機(jī)模塊52、第三光機(jī)模塊53及第四光機(jī)模塊54的過曝緩沖區(qū)域SI及S2的總和。過曝緩沖區(qū)域SI及S2隨著光機(jī)模塊的規(guī)格而做改變，本發(fā)明并不限定此過曝緩沖區(qū)域SI及S2的面積大小。因此當(dāng)觸控點(diǎn)Pl位于第一光機(jī)模塊51及第二光機(jī)模塊52的過曝緩沖區(qū)域S2內(nèi)時(shí),雖然第一光機(jī)模塊51及第二光機(jī)模塊52也可以產(chǎn)生第一觸控坐標(biāo)信號(hào)，但由于在過曝緩沖區(qū)域S2內(nèi)容易受到過曝影響導(dǎo)致得到錯(cuò)誤的坐標(biāo)信號(hào)，因此此時(shí)處理模塊41僅根據(jù)第三光機(jī)模塊53及第四光機(jī)模塊54所產(chǎn)生的第二觸控坐標(biāo)信號(hào)執(zhí)行坐標(biāo)計(jì)算程序，而不計(jì)算第一觸控坐標(biāo)信號(hào)。同樣地，若觸控點(diǎn)P2位于過曝緩沖區(qū)域SI內(nèi)時(shí),處理模塊41也僅根據(jù)第一光機(jī)模塊51及第二光機(jī)模塊52對(duì)第一觸控坐標(biāo)信號(hào)執(zhí)行坐標(biāo)計(jì)算程序，才可得到正確的坐標(biāo)。
[0059]藉此使用者可同時(shí)操作第一觸控檢測(cè)區(qū)域21及第二觸控檢測(cè)區(qū)域22，而不會(huì)受到第一觸控檢測(cè)區(qū)域21及第二觸控檢測(cè)區(qū)域22的尺寸影響。由于藉由光學(xué)式坐標(biāo)輸入裝置計(jì)算坐標(biāo)的方式及得到的坐標(biāo)進(jìn)行后續(xù)的應(yīng)用已經(jīng)被本發(fā)明所屬【技術(shù)領(lǐng)域】中具通常知識(shí)者所熟知，且并非本發(fā)明所要改進(jìn)的重點(diǎn)所在，故在此不再贅述。
[0060]接著請(qǐng)先一并參考圖4到圖5B關(guān)于本發(fā)明光學(xué)式坐標(biāo)輸入裝置的第二實(shí)施例的相關(guān)示意圖，其中圖4為本發(fā)明光學(xué)式坐標(biāo)輸入裝置的第二實(shí)施例的架構(gòu)示意圖，圖5A為本發(fā)明光學(xué)式坐標(biāo)輸入裝置的第二實(shí)施例的正面示意圖，圖5B為本發(fā)明光學(xué)式坐標(biāo)輸入裝置的第二實(shí)施例的立體示意圖。
[0061]本發(fā)明并不以第一實(shí)施例所列舉的范圍為限。就如圖4所示，光學(xué)式坐標(biāo)輸入裝置Ib除了上述的第一觸控檢測(cè)區(qū)域21及第二觸控檢測(cè)區(qū)域22之外，還可再包括第三觸控檢測(cè)區(qū)域23及第四觸控檢測(cè)區(qū)域24，以及對(duì)其進(jìn)行觸控檢測(cè)的第三檢測(cè)模塊33及第四檢測(cè)模塊34,第三檢測(cè)模塊33具有一第五光機(jī)模塊55及一第六光機(jī)模塊56,第四檢測(cè)模塊34具有一第七光機(jī)模塊57及一第八光機(jī)模塊58。于本發(fā)明的第二實(shí)施例中，第三觸控檢測(cè)區(qū)域23部分重疊于第二觸控檢測(cè)區(qū)域22，第二觸控檢測(cè)區(qū)域22及第三觸控檢測(cè)區(qū)域23之間會(huì)具有部分重疊區(qū)域A2。此外第四觸控檢測(cè)區(qū)域24部分重疊于第一觸控檢測(cè)區(qū)域21，第一觸控檢測(cè)區(qū)域21與第四觸控檢測(cè)區(qū)域24之間會(huì)具有部分重疊區(qū)域A3。需注意的是，于第二實(shí)施例中光學(xué)式坐標(biāo)輸入裝置Ib同時(shí)設(shè)置第三觸控檢測(cè)區(qū)域23及第四觸控檢測(cè)區(qū)域24，但本發(fā)明并不以此為限，光學(xué)式坐標(biāo)輸入裝置Ib也可以僅增加第三觸控檢測(cè)區(qū)域23，或是再根據(jù)需求而再延伸設(shè)置新的觸控檢測(cè)區(qū)域及檢測(cè)模塊。
[0062]第三檢測(cè)模塊33的第五光機(jī)模塊55及第六光機(jī)模塊56設(shè)置于邊框10上,且鄰近于第二觸控檢測(cè)區(qū)域22，用以檢測(cè)第三觸控檢測(cè)區(qū)域23，于使用者觸控時(shí)產(chǎn)生第三觸控坐標(biāo)信號(hào)。第四檢測(cè)模塊34的第七光機(jī)模塊57及第八光機(jī)模塊58設(shè)置于邊框10上,且鄰近于第一觸控檢測(cè)區(qū)域21，用以檢測(cè)第四觸控檢測(cè)區(qū)域24，于使用者觸控時(shí)產(chǎn)生第四觸控坐標(biāo)信號(hào)。同樣地，于本發(fā)明的第二實(shí)施例中，第三檢測(cè)模塊33的第五光機(jī)模塊55及第六光機(jī)模塊56分別位于第二觸控檢測(cè)區(qū)域22的相對(duì)兩側(cè)。第四檢測(cè)模塊34的第七光機(jī)模塊57及第八光機(jī)模塊58分別位于第一觸控檢測(cè)區(qū)域21的相對(duì)兩側(cè)。而邊框10還包括對(duì)應(yīng)的第三反光條63及第四反光條64。第三反光條63圍繞第三觸控檢測(cè)區(qū)域23，并連接至第五光機(jī)模塊55及第六光機(jī)模塊56,使第五光機(jī)模塊55及第六光機(jī)模塊56所發(fā)出的不可見光可藉由第三反光條63反射，藉此檢測(cè)第三觸控檢測(cè)區(qū)域23上的觸控點(diǎn)。第四反光條64圍繞第四觸控檢測(cè)區(qū)域24，并連接至第七光機(jī)模塊57及第八光機(jī)模塊58，使第七光機(jī)模塊57及第八光機(jī)模塊58所發(fā)出的不可見光可藉由第四反光條64反射，藉此檢測(cè)第四觸控檢測(cè)區(qū)域24上的觸控點(diǎn)。
[0063]第三檢測(cè)模塊33與第二檢測(cè)模塊32位于邊框10上的不同的厚度，也就是說，第三檢測(cè)模塊33與第二檢測(cè)模塊32位于邊框10上的不同平面，第四檢測(cè)模塊34與第一檢測(cè)模塊31位于邊框10上的不同的厚度，也就是說，第四檢測(cè)模塊34與第一檢測(cè)模塊31位于邊框10上的不同平面，但第三檢測(cè)模塊33可與第一檢測(cè)模塊31設(shè)置于邊框10上的相同的厚度，第四檢測(cè)模塊34可與第二檢測(cè)模塊32設(shè)置于邊框10上的相同的厚度，本發(fā)明并不限于此。
[0064]同樣地，第二觸控檢測(cè)區(qū)域22及第三觸控檢測(cè)區(qū)域23之間具有部分重疊區(qū)域A2，其中部分重疊區(qū)域A2對(duì)應(yīng)于第五光機(jī)模塊55及第六光機(jī)模塊56的過曝緩沖區(qū)域。第一觸控檢測(cè)區(qū)域21及第四觸控檢測(cè)區(qū)域24之間具有部分重疊區(qū)域A3，其中部分重疊區(qū)域A3對(duì)應(yīng)于第七光機(jī)模塊57及第八光機(jī)模塊58的過曝緩沖區(qū)域。
[0065]最后處理模塊41進(jìn)一步根據(jù)上述第一到第四觸控坐標(biāo)信號(hào)執(zhí)行坐標(biāo)計(jì)算程序，以得到確切的坐標(biāo)。藉此可同時(shí)操作第一觸控檢測(cè)區(qū)域21、第二觸控檢測(cè)區(qū)域22、第三觸控檢測(cè)區(qū)域23及第四觸控檢測(cè)區(qū)域24。上述任一光機(jī)模塊與邊框10可相夾45度角，以得到最佳的發(fā)射及接收信號(hào)的效果，但本發(fā)明并不限于此。
[0066]因此藉由本發(fā)明光學(xué)式坐標(biāo)輸入裝置Ia或lb，可配合所需的觸控區(qū)域大小做延伸，可以避免因面積過大而造成解析能力不足的問題，也可解決因距離過近而造成的過曝問題。
[0067]綜上所陳，本發(fā)明無論就目的、手段及功效，處處均顯示其迥異于習(xí)知技術(shù)的特征，懇請(qǐng)貴審查委員明察，早日賜準(zhǔn)專利，使嘉惠社會(huì)，實(shí)感德便。惟應(yīng)注意的是，上述諸多實(shí)施例僅為了便于說明而舉例而已，本發(fā)明所主張的權(quán)利范圍自應(yīng)以權(quán)利要求所述為準(zhǔn)，而非僅限于上述實(shí)施例。
【權(quán)利要求】
1.一種光學(xué)式坐標(biāo)輸入裝置，其特征在于，所述光學(xué)式坐標(biāo)輸入裝置包括: 一邊框； 一第一觸控檢測(cè)區(qū)域； 一第二觸控檢測(cè)區(qū)域，部分重疊于該第一觸控檢測(cè)區(qū)域，其中該第一觸控檢測(cè)區(qū)域及該第二觸控檢測(cè)區(qū)域用以供一使用者觸控； 一第一檢測(cè)模塊，設(shè)置于該邊框上，且鄰近于該第二觸控檢測(cè)區(qū)域，用以檢測(cè)該第一觸控檢測(cè)區(qū)域，以在該使用者觸控時(shí)產(chǎn)生一第一觸控坐標(biāo)信號(hào)； 一第二檢測(cè)模塊，設(shè)置于該邊框上，且鄰近于該第一觸控檢測(cè)區(qū)域，用以檢測(cè)該第二觸控檢測(cè)區(qū)域，以在該使用者觸控時(shí)產(chǎn)生一第二觸控坐標(biāo)信號(hào)；其中該第二檢測(cè)模塊與該第一檢測(cè)模塊位于該邊框上的不同平面；以及 一處理模塊，電連接該第一檢測(cè)模塊及該第二檢測(cè)模塊，用以根據(jù)該第一觸控坐標(biāo)信號(hào)及該第二觸控坐標(biāo)信號(hào)執(zhí)行一坐標(biāo)計(jì)算程序；藉此可同時(shí)操作該第一觸控檢測(cè)區(qū)域及該第二觸控檢測(cè)區(qū)域。
2.如權(quán)利要求1所述的光學(xué)式坐標(biāo)輸入裝置，其特征在于: 該邊框包括一第一反光條及一第二反光條； 該第一檢測(cè)模塊具有一第一光機(jī)模塊及一第二光機(jī)模塊，該第一光機(jī)模塊及該第二光機(jī)模塊分別位于該第二觸控檢測(cè)區(qū)域的相對(duì)兩側(cè)；其中該第一反光條圍繞該第一觸控檢測(cè)區(qū)域，并延伸連接該第一光機(jī)模塊及該第二光機(jī)模塊，使該第一光機(jī)模塊及該第二光機(jī)模塊藉由該第一反光條檢測(cè)該第一觸控檢測(cè)區(qū)域；以及 該第二檢測(cè)模塊具有一第三光機(jī)模塊及一第四光機(jī)模塊，該第三光機(jī)模塊及該第四光機(jī)模塊分別位于該第一觸控檢測(cè)區(qū)域的相對(duì)兩側(cè)；其中該第二反光條圍繞該第二觸控檢測(cè)區(qū)域，并延伸連接至該第三光機(jī)模塊及該第四光機(jī)模塊，使該第三光機(jī)模塊及該第四光機(jī)模塊藉由該第二反光條檢測(cè)該第二觸控檢測(cè)區(qū)域。
3.如權(quán)利要求2所述的光學(xué)式坐標(biāo)輸入裝置，其特征在于，該第一觸控檢測(cè)區(qū)域及該第二觸控檢測(cè)區(qū)域之間具有一部分重疊區(qū)域，該部分重疊區(qū)域?qū)?yīng)于該第一光機(jī)模塊、該第二光機(jī)模塊、該第三光機(jī)模塊及該第四光機(jī)模塊所各具有的一過曝緩沖區(qū)域的總和。
4.如權(quán)利要求1所述的光學(xué)式坐標(biāo)輸入裝置，其特征在于，所述光學(xué)式坐標(biāo)輸入裝置包括: 一第三觸控檢測(cè)區(qū)域，部分重疊于該第二觸控檢測(cè)區(qū)域；以及一第三檢測(cè)模塊，設(shè)置于該邊框上，且鄰近于該第二觸控檢測(cè)區(qū)域，用以檢測(cè)該第三觸控檢測(cè)區(qū)域，于該使用者觸控時(shí)產(chǎn)生一第三觸控坐標(biāo)信號(hào)；其中該第三檢測(cè)模塊與該第二檢測(cè)模塊位于該邊框上的不同的平面；其中該處理模塊進(jìn)一步用以根據(jù)該第三觸控坐標(biāo)信號(hào)執(zhí)行該坐標(biāo)計(jì)算程序。
5.如權(quán)利要求4所述的光學(xué)式坐標(biāo)輸入裝置，其特征在于: 該邊框包括一第三反光條；以及 該第三檢測(cè)模塊具有一第五光機(jī)模塊及一第六光機(jī)模塊,該第五光機(jī)模塊及該第六光機(jī)模塊分別位于該第二觸控檢測(cè)區(qū)域的相對(duì)兩側(cè)；其中該第三反光條圍繞該第三觸控檢測(cè)區(qū)域，并連接至該第五光機(jī)模塊及該第六光機(jī)模塊，使該第五光機(jī)模塊及該第六光機(jī)模塊藉由該第三反光條檢測(cè)該第三觸控檢測(cè)區(qū)域。
6.如權(quán)利要求5所述的光學(xué)式坐標(biāo)輸入裝置，其特征在于，該第二觸控檢測(cè)區(qū)域及該第三觸控檢測(cè)區(qū)域之間具有一部分重疊區(qū)域，該部分重疊區(qū)域?qū)?yīng)于該第五光機(jī)模塊及該第六光機(jī)模塊所各具有的一過曝緩沖區(qū)域。
7.如權(quán)利要求5所述的光學(xué)式坐標(biāo)輸入裝置，其特征在于，該光學(xué)式坐標(biāo)輸入裝置包括: 一第四觸控檢測(cè)區(qū)域，部分重疊于該第一觸控檢測(cè)區(qū)域；以及 一第四檢測(cè)模塊，設(shè)置于該邊框上，且鄰近于該第一觸控檢測(cè)區(qū)域，用以檢測(cè)該第四觸控檢測(cè)區(qū)域，于該使用者觸控時(shí)產(chǎn)生一第四觸控坐標(biāo)信號(hào)；其中該第四檢測(cè)模塊與該第一檢測(cè)模塊位于該邊框上的不同的平面；其中該處理模塊進(jìn)一步用以根據(jù)該第四觸控坐標(biāo)信號(hào)執(zhí)行坐標(biāo)計(jì)算。
8.如權(quán)利要求7所述的光學(xué)式坐標(biāo)輸入裝置，其特征在于: 該邊框包括一第四反光條；以及 該第四檢測(cè)模塊具有一第七光機(jī)模塊及一第八光機(jī)模塊，該第七光機(jī)模塊及該第八光機(jī)模塊分別位于該第一觸控檢測(cè)區(qū)域的相對(duì)兩側(cè)；其中該第四反光條圍繞該第四觸控檢測(cè)區(qū)域，并連接該第七光機(jī)模塊及該第八光機(jī)模塊，使該第七光機(jī)模塊及該第八光機(jī)模塊藉由該第四反光條檢測(cè)該第四觸控檢測(cè)區(qū)域。
9.如權(quán)利要求7所述的光學(xué)式坐標(biāo)輸入裝置，其特征在于，該第一觸控檢測(cè)區(qū)域及該第四觸控檢測(cè)區(qū)域之間具有一部分重疊區(qū)域，其中該部分重疊區(qū)域?qū)?yīng)于該第七光機(jī)模塊及該第八光機(jī)模塊所各具有的一過曝緩沖區(qū)域。
10.如權(quán)利要求7所述的光學(xué)式坐標(biāo)輸入裝置,其特征在于,該第三檢測(cè)模塊與該第一檢測(cè)模塊位于該邊框上相同的平面，該第四檢測(cè)模塊與該第二檢測(cè)模塊位于該邊框上相同的平面。
11.如權(quán)利要求2到10的任一項(xiàng)所述的光學(xué)式坐標(biāo)輸入裝置,其特征在于,任一光機(jī)模塊與該邊框相夾45度角。
【文檔編號(hào)】G06F3/042GK104423726SQ201310451557
【公開日】2015年3月18日 申請(qǐng)日期:2013年9月27日 優(yōu)先權(quán)日:2013年9月9日
【發(fā)明者】劉侑昕, 黃博亮, 陳裕彥 申請(qǐng)人:緯創(chuàng)資通股份有限公司