一種納米壓印工藝的優(yōu)化方法
【專利摘要】本發(fā)明公開了一種納米壓印工藝的優(yōu)化方法，包括如下步驟：（1）選取影響納米壓印工藝的因素，每個(gè)因素設(shè)置相應(yīng)水平；（2）在設(shè)定的因素條件下進(jìn)行納米壓印實(shí)驗(yàn)，記錄實(shí)驗(yàn)結(jié)果；（3）利用多因素方差分析方法對(duì)實(shí)驗(yàn)結(jié)果進(jìn)行分析；（4）根據(jù)分析結(jié)果選擇最佳水平組合，確定最佳的納米壓印條件。本發(fā)明提供的納米壓印工藝的優(yōu)化方法利用數(shù)理統(tǒng)計(jì)方法，簡(jiǎn)單易行，科學(xué)精確，能快速確定最佳的納米壓印條件，提高納米壓印的效率。
【專利說明】—種納米壓印工藝的優(yōu)化方法
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本發(fā)明涉及微加工領(lǐng)域，具體涉及一種納米壓印工藝的優(yōu)化方法。 【背景技術(shù)】
[0002]目前，影響納米壓印的因素有許多，如壓印力、壓印時(shí)間等，但是每個(gè)因素對(duì)最終的壓印結(jié)果有什么影響，影響力度多大不能確切的判斷；傳統(tǒng)的壓印工藝中都是通過經(jīng)驗(yàn)來(lái)確定相關(guān)參數(shù)，但是在不同的實(shí)驗(yàn)條件下這些參數(shù)不能保持實(shí)驗(yàn)結(jié)果的一致性，對(duì)納米壓印的效率產(chǎn)生影響。

【發(fā)明內(nèi)容】

[0003]發(fā)明目的:為了克服現(xiàn)有技術(shù)中存在的不足，本發(fā)明提供的一種納米壓印工藝的優(yōu)化方法，采用數(shù)理統(tǒng)計(jì)的方法，簡(jiǎn)單易行，能快速確定最佳的納米壓印條件。
[0004]技術(shù)方案:為解決上述技術(shù)問題，本發(fā)明的采用的技術(shù)方案為，一種納米壓印工藝的優(yōu)化方法，包括如下步驟:
[0005](I)選取影響納米壓印工藝的因素，每個(gè)因素設(shè)置相應(yīng)水平；
[0006](2)在設(shè)定的因素條件下進(jìn)行納米壓印實(shí)驗(yàn)，記錄實(shí)驗(yàn)結(jié)果；
[0007](3)利用多因素方差分析方法對(duì)實(shí)驗(yàn)結(jié)果進(jìn)行分析；
[0008](4)根據(jù)分析結(jié)果選擇最佳水平組合，確定最佳的納米壓印條件。
[0009]所述步驟(2)的納米壓印實(shí)驗(yàn)包括采用熱壓印或者紫外壓印進(jìn)行納米壓印。
[0010]有益效果:本發(fā)明提供的納米壓印工藝的優(yōu)化方法利用數(shù)理統(tǒng)計(jì)方法，簡(jiǎn)單易行，科學(xué)精確，能快速確定最佳的納米壓印條件，提高納米壓印的效率。
【具體實(shí)施方式】
[0011]實(shí)施例1:
[0012]一種納米壓印工藝的優(yōu)化方法，包括如下步驟:
[0013](I)選取壓印溫度、壓印力、壓印時(shí)間作為要研究的影響納米壓印工藝的因素，每個(gè)因素設(shè)置3個(gè)水平，在設(shè)定條件下納米壓印復(fù)制后圖案結(jié)構(gòu)的平均高度做為測(cè)量指標(biāo)；具體設(shè)置如下所示:
[0014]
【權(quán)利要求】
1.一種納米壓印工藝的優(yōu)化方法，其特征在于，包括如下步驟: (1)選取影響納米壓印工藝的因素，每個(gè)因素設(shè)置相應(yīng)水平； (2)在設(shè)定的因素條件下進(jìn)行納米壓印實(shí)驗(yàn)，記錄實(shí)驗(yàn)結(jié)果； (3)利用多因素方差分析方法對(duì)實(shí)驗(yàn)結(jié)果進(jìn)行分析； (4)根據(jù)分析結(jié)果選擇最佳水平組合，確定最佳的納米壓印條件。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的納米壓印工藝的優(yōu)化方法，其特征在于:所述步驟(2)的納米壓印實(shí)驗(yàn)包括采用熱壓印或者紫外壓印進(jìn)行納米壓印。
【文檔編號(hào)】G06Q10/04GK103577582SQ201310552766
【公開日】2014年2月12日 申請(qǐng)日期:2013年11月8日 優(yōu)先權(quán)日:2013年11月8日
【發(fā)明者】王晶 申請(qǐng)人:無(wú)錫英普林納米科技有限公司