透明導(dǎo)電膜及其制作方法和光學(xué)調(diào)整層的制作方法
【專利摘要】本發(fā)明提供一種透明導(dǎo)電膜，其包括依次疊設(shè)的基材層、光學(xué)調(diào)整層、低折射率層和導(dǎo)電層，所述光學(xué)調(diào)整層的400納米波長(zhǎng)下的折射率為1.55~1.85之間，厚度為500納米~10000納米之間，鉛筆硬度達(dá)1H以上。本發(fā)明還提供一種上述光學(xué)調(diào)整層和該透明導(dǎo)電膜的制作方法。本發(fā)明的透明導(dǎo)電膜由于光學(xué)調(diào)整層的鉛筆硬度達(dá)1H以上，使整個(gè)透明導(dǎo)電膜不易被刮傷；另外，光學(xué)調(diào)整層的繞曲性達(dá)7毫米以下，繞曲性得以提高；光學(xué)調(diào)整層的膜厚誤差在100納米時(shí)對(duì)光學(xué)b*值的影響小于0.5。
【專利說(shuō)明】透明導(dǎo)電膜及其制作方法和光學(xué)調(diào)整層
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本發(fā)明涉及一種觸摸式屏幕領(lǐng)域，尤其涉及一種用于觸摸式屏幕的透明導(dǎo)電膜及其制作方法和其使用的光學(xué)調(diào)整層。
【背景技術(shù)】
[0002]目前，手機(jī)和平板電腦等越來(lái)越多的電子裝置都采用觸摸式屏幕，觸摸屏作為一種新型的輸出設(shè)備已十分流行和普遍，因此作為觸摸屏必不可少的透明導(dǎo)電膜需求量也越來(lái)也大。
[0003]現(xiàn)有技術(shù)中透明導(dǎo)電膜有兩種制作方式，干式和濕式。干式制作方法多采用濺鍍、蒸鍍等方式。請(qǐng)參閱圖1，采用干式方法制作的第一透明導(dǎo)電膜10包括依次設(shè)置的PET(聚酯對(duì)苯二甲酸乙二酯)基材層12、高折射率層14、低折射率層16和ITO (Indium TinOxides、銦錫氧化物)導(dǎo)電層18。請(qǐng)參閱圖2，采用干式方法制作的第二透明導(dǎo)電膜20包括依次設(shè)置的PET基材層22、硬涂層24、高折射率層26、低折射率層28和ITO導(dǎo)電層29。濕式制作方法一般采用涂布的方式。請(qǐng)參閱圖3，采用濕式方法制作的第三透明導(dǎo)電膜30包括依次設(shè)置的PET基材層32、高折射率層34、低折射率層36和ITO導(dǎo)電層38。請(qǐng)參閱圖4，采用濕式方法制作的第四透明導(dǎo)電膜40包括依次設(shè)置的PET基材層42、硬涂層44、高折射率層46、低折射率層48和ITO導(dǎo)電層49。
[0004]然而，通過(guò)干式方法制作的第一透明導(dǎo)電膜10或第二透明導(dǎo)電膜20的所有材料均為無(wú)機(jī)材料，導(dǎo)致其繞曲性較差。通過(guò)濕式方法制作的第三透明導(dǎo)電膜30或第四透明導(dǎo)電膜40雖然含有有機(jī)樹(shù)脂或含有金屬氧化物微粒子的樹(shù)脂，其繞曲性有改善，但是涂布的膜厚在制作過(guò)程中控制難度較高，而厚度對(duì)光學(xué)性影響較大，故而導(dǎo)致第三透明導(dǎo)電膜30或第四透明導(dǎo)電膜40的光學(xué)性無(wú)法得到保證；另外，在沒(méi)有硬涂層的第一透明導(dǎo)電膜10和第三透明導(dǎo)電膜30中，其高折射率層14、34和低折射率層16、36的鉛筆硬度無(wú)法達(dá)到IH以上，導(dǎo)致第一透明導(dǎo)電膜10或第三透明導(dǎo)電膜30容易被刮傷；而第四透明導(dǎo)電膜40雖然由于硬涂層的存在而提高了硬度，但需增加一層硬涂層，增加了成本，且高低折射率層46、48位于硬涂層的外側(cè)，其硬度無(wú)法達(dá)到IH以上，導(dǎo)致第三透明導(dǎo)電膜40容易被刮傷。

【發(fā)明內(nèi)容】

[0005]鑒于以上所述，有必要提供一種硬度較高且繞曲性較好的透明導(dǎo)電膜及其制作方法和其使用的光學(xué)調(diào)整層。
[0006]一種光學(xué)調(diào)整層，其400納米波長(zhǎng)下的折射率為1.55?1.85之間，厚度為500納米"10000納米之間，鉛筆硬度達(dá)IH以上。
[0007]進(jìn)一步地，所述光學(xué)調(diào)整層的材料由金屬氧化物微粒子和紫外線硬化樹(shù)脂構(gòu)成。
[0008]進(jìn)一步地，所述金屬氧化物微粒子為氧化鈦或氧化鋯。
[0009]進(jìn)一步地，所述硬化樹(shù)脂的材料為丙烯酸系樹(shù)酯、聚矽氧樹(shù)酯、氨基甲酸酯樹(shù)酯、醇酸樹(shù)酯、密胺樹(shù)酯之一。[0010]進(jìn)一步地，所述硬化樹(shù)脂的材料優(yōu)選單官能甲基丙烯酸酯或多官能甲基丙烯酸酯。
[0011]進(jìn)一步地，所述光學(xué)調(diào)整層的折射率優(yōu)選為1.6~1.8之間。
[0012]進(jìn)一步地，所述光學(xué)調(diào)整層的厚度優(yōu)選為700納米~5000納米之間。
[0013]一種透明導(dǎo)電膜，其包括依次疊設(shè)的基材層、光學(xué)調(diào)整層、低折射率層和導(dǎo)電層，所述光學(xué)調(diào)整層為權(quán)利要求1-6中任意一項(xiàng)所述的光學(xué)調(diào)整層。
[0014]進(jìn)一步地，所述基材層52為PET基材層；所述導(dǎo)電層為ITO導(dǎo)電層。
[0015]進(jìn)一步地，所述低折射率層的400納米波長(zhǎng)的折射率為1.4~1.55之間，且厚度為10納米~40納米。
[0016]進(jìn)一步地，所述低折射率層的材料為二氧化硅。
[0017]進(jìn)一步地，所述導(dǎo)電層的厚度為15納米~35納米之間。
[0018]進(jìn)一步地，所述透明導(dǎo)電膜還包括硬涂層，所述硬涂層設(shè)置在所述基材層的與所述光學(xué)調(diào)整層相對(duì)的一側(cè)。
[0019]進(jìn)一步地，所述透明導(dǎo)電膜還包括設(shè)置在所述基材層的與所述光學(xué)調(diào)整層相對(duì)的一側(cè)依次設(shè)置另一光學(xué)調(diào)整層、另一低折射率層和另一導(dǎo)電層。
[0020]一種透明導(dǎo)電膜的制作方法，其包括:
提供基材層；
于基材層上以濕式制程涂布一層光學(xué)調(diào)整層，所述光學(xué)調(diào)整層包括金屬氧化物微粒子和硬化樹(shù)脂，其400納米波長(zhǎng)的折射率為1.55^1.85之間，厚度為500納米~10000納米之間，鉛筆硬度達(dá)IH以上；
于所述光學(xué)調(diào)整層設(shè)以干式制程或濕式制程設(shè)置一層低折射率層；
于所述低折射率層上設(shè)置一層導(dǎo)電層。
[0021]進(jìn)一步地，所述透明導(dǎo)電膜的制作方法還包括在所述基材層的與所述光學(xué)調(diào)整層相對(duì)的一側(cè)涂布一層硬涂層。
[0022]進(jìn)一步地，所述透明導(dǎo)電膜的制作方法還包括在所述基材層的與所述光學(xué)調(diào)整層相對(duì)的一側(cè)依次設(shè)置另一光學(xué)調(diào)整層、另一低折射率層和另一導(dǎo)電層。
[0023]相較于現(xiàn)有技術(shù)，本發(fā)明的透明導(dǎo)電膜由于光學(xué)調(diào)整層為高折射率、且鉛筆硬度達(dá)IH以上，使整個(gè)透明導(dǎo)電膜不易被刮傷；另外，光學(xué)調(diào)整層的繞曲性達(dá)7毫米以下，在設(shè)置了低折射率層和導(dǎo)電層后，透明導(dǎo)電膜的繞曲性達(dá)到8毫米以下不裂化，繞曲性得以提高；光學(xué)調(diào)整層的膜厚誤差在100納米時(shí)對(duì)光學(xué)b*值的影響小于0.5。
【專利附圖】

【附圖說(shuō)明】
[0024]圖1是現(xiàn)有第一透明導(dǎo)電膜的結(jié)構(gòu)示意圖；
圖2是現(xiàn)有第二透明導(dǎo)電膜的結(jié)構(gòu)示意圖；
圖3是現(xiàn)有第三透明導(dǎo)電膜的結(jié)構(gòu)示意圖；
圖4是現(xiàn)有第四透明導(dǎo)電膜的結(jié)構(gòu)示意圖；
圖5是本發(fā)明透明導(dǎo)電膜的第一實(shí)施例的結(jié)構(gòu)示意圖；
圖6是本發(fā)明透明導(dǎo)電膜的第二實(shí)施例的結(jié)構(gòu)示意圖 '及 圖7是本發(fā)明透明導(dǎo)電膜的第三實(shí)施例的結(jié)構(gòu)示意圖?！揪唧w實(shí)施方式】
[0025]為詳細(xì)說(shuō)明本發(fā)明的技術(shù)內(nèi)容、構(gòu)造特征、所實(shí)現(xiàn)目的及效果，以下結(jié)合實(shí)施方式并配合附圖詳予說(shuō)明。
[0026]本發(fā)明的透明導(dǎo)電膜的第一實(shí)施例，請(qǐng)參閱圖5，所述透明導(dǎo)電膜50包括依次疊設(shè)的基材層52、光學(xué)調(diào)整層54、低折射率層56和導(dǎo)電層58。所述光學(xué)調(diào)整層54為高折射率硬涂層，其400納米(nm)波長(zhǎng)下的折射率為1.55-1.85之間，厚度為500納米(nm)~10000納米(nm)之間，鉛筆硬度達(dá)IH以上。
[0027]進(jìn)一步地，所述基材層52為PET (聚酯對(duì)苯二甲酸乙二酯)基材層；所述導(dǎo)電層58為ITO (Indium Tin Oxides、銦錫氧化物)導(dǎo)電層。
[0028]進(jìn)一步地，所述光學(xué)調(diào)整層54的材料由金屬氧化物微粒子和紫外線硬化樹(shù)脂構(gòu)成。
[0029]進(jìn)一步地，所述金屬氧化物微粒子為氧化鈦(Ti02)或氧化鋯(Zr02)。
[0030]進(jìn)一步地，所述硬化樹(shù)脂的材料為丙烯酸系樹(shù)酯、聚矽氧樹(shù)酯、氨基甲酸酯樹(shù)酯、醇酸樹(shù)酯、密胺樹(shù)酯之一。
[0031]進(jìn)一步地，所述硬化樹(shù)脂的材料優(yōu)選單官能甲基丙烯酸酯或多官能甲基丙烯酸酯。
[0032]進(jìn)一步地，所述光學(xué)調(diào)整層的折射率優(yōu)選為1.6-1.8之間。
[0033]進(jìn) 一步地，所述光學(xué)調(diào)整層的厚度優(yōu)選為700納米~5000納米之間。
[0034]進(jìn)一步地，所述低折射率層56的400納米波長(zhǎng)的折射率為1.4-1.55之間，且厚度為10納米~40納米。
[0035]進(jìn)一步地，所述低折射率層56的材料為二氧化硅(Si02)。
[0036]進(jìn)一步地，所述導(dǎo)電層58的厚度為15納米~35納米之間。
[0037]請(qǐng)參閱圖6，為本發(fā)明第二實(shí)施例的透明導(dǎo)電膜60，其包括依次疊設(shè)的硬涂層64、基材層62、光學(xué)調(diào)整層66、低折射率層68和導(dǎo)電層69。所述第二實(shí)施例的透明導(dǎo)電膜60與第一實(shí)施例的透明導(dǎo)電膜50的區(qū)別僅在于:所述透明導(dǎo)電膜60多設(shè)置了一層普通的硬涂層64，所述硬涂層64和所述光學(xué)調(diào)整測(cè)層66分別設(shè)置在所述基材層62的兩個(gè)相對(duì)的表面。通過(guò)設(shè)置所述硬涂層64，所述透明導(dǎo)電膜60比所述透明導(dǎo)電膜50具有更高的硬度，因此更耐磨損。
[0038]請(qǐng)參閱圖7，為本發(fā)明第三實(shí)施例的透明導(dǎo)電膜70，其包括基材層72、依次疊設(shè)的所述基材層72 —側(cè)的第一光學(xué)調(diào)整層74a、第一低折射率層76a和第一導(dǎo)電層78a,以及依次疊設(shè)在所述基材層72相對(duì)的另一側(cè)的第二光學(xué)調(diào)整層74b、第二低折射率層76b和第二導(dǎo)電層78b。所述第三實(shí)施例的透明導(dǎo)電膜70與第一實(shí)施例的透明導(dǎo)電膜50的區(qū)別僅在于:所述透明導(dǎo)電膜70的基材層72的兩面均設(shè)置有光學(xué)調(diào)整層、低折射率層和導(dǎo)電層。
[0039]本發(fā)明的透明導(dǎo)電膜由于光學(xué)調(diào)整層為高折射率、且鉛筆硬度達(dá)IH以上，使整個(gè)透明導(dǎo)電膜不易被刮傷；另外，光學(xué)調(diào)整層的繞曲性達(dá)7毫米以下，在設(shè)置了低折射率層和導(dǎo)電層后，透明導(dǎo)電 膜的繞曲性達(dá)到8毫米以下不裂化，繞曲性得以提高；光學(xué)調(diào)整層的膜厚誤差在100納米時(shí)光學(xué)b*值(色度值)的影響小于0.5。
[0040]下面表1-表5為以第一實(shí)施例的透明導(dǎo)電膜50為例做實(shí)驗(yàn)獲得的透明導(dǎo)電膜的各項(xiàng)參數(shù)。在實(shí)驗(yàn)中，耐繞曲性的測(cè)試是:將材料卷繞于圓柱型棒子上，測(cè)試卷繞后其硬涂層或派鍍層是否裂化，卷徑〈6mm由〇表示,卷徑為6-8mm由Λ表示,卷徑為>8mm由X表示。蝕刻痕效果測(cè)試是:于導(dǎo)電層上印刷條狀之線路圖案，并以酸度為6N之類王水蝕刻掉沒(méi)油墨保護(hù)的導(dǎo)電層，將有無(wú)導(dǎo)電層的圖案置于黑底上以肉眼觀視，圖案不明顯〇表示，圖案稍明顯但可接受Λ表示，圖案明顯不可接受X表示。
[0041]表1不同光學(xué)調(diào)整層的組成成分
【權(quán)利要求】
1.一種光學(xué)調(diào)整層，其特征在于:所述光學(xué)調(diào)整層的400納米波長(zhǎng)下的折射率為1.55~1.85之間，厚度為500納米~10000納米之間，鉛筆硬度達(dá)IH以上。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的光學(xué)調(diào)整層，其特征在于:所述光學(xué)調(diào)整層的材料由金屬氧化物微粒子和紫外線硬化樹(shù)脂構(gòu)成。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的光學(xué)調(diào)整層，其特征在于:所述金屬氧化物微粒子為氧化鈦或氧化鋯。
4.根據(jù)權(quán)利要求2所述的光學(xué)調(diào)整層，其特征在于:所述硬化樹(shù)脂的材料為丙烯酸系樹(shù)酯、聚矽氧樹(shù)酯、氨基甲酸酯樹(shù)酯、醇酸樹(shù)酯、密胺樹(shù)酯之一。
5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的光學(xué)調(diào)整層，其特征在于:所述硬化樹(shù)脂的材料優(yōu)選單官能甲基丙烯酸酯或多官能甲基丙烯酸酯。
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的光學(xué)調(diào)整層，其特征在于:所述光學(xué)調(diào)整層的折射率優(yōu)選為1.6~1.8之間。
7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的光學(xué)調(diào)整層，其特征在于:所述光學(xué)調(diào)整層的厚度優(yōu)選為700納米~5000納米之間。
8.—種透明導(dǎo)電膜，其特征在于:其包括依次疊設(shè)的基材層、光學(xué)調(diào)整層、低折射率層和導(dǎo)電層，所述光學(xué)調(diào)整層為權(quán)利要求1-7中任意一項(xiàng)所述的光學(xué)調(diào)整層。
9.根據(jù)權(quán)利要求8所述的透明導(dǎo)電膜，其特征在于:所述基材層為PET基材層；所述導(dǎo)電層為ITO導(dǎo)電層。
10.根據(jù)權(quán)利要求8所述的透`明導(dǎo)電膜，其特征在于:所述低折射率層的400納米波長(zhǎng)的折射率為1.4~1.55之間，且厚度為10納米~40納米。
11.根據(jù)權(quán)利要求8所述的透明導(dǎo)電膜，其特征在于:所述低折射率層的材料為二氧化硅。
12.根據(jù)權(quán)利要求9或10所述的透明導(dǎo)電膜，其特征在于:所述導(dǎo)電層的厚度為15納米~35納米之間。
13.根據(jù)權(quán)利要求8所述的透明導(dǎo)電膜，其特征在于:所述透明導(dǎo)電膜還包括硬涂層，所述硬涂層設(shè)置在所述基材層的與所述光學(xué)調(diào)整層相對(duì)的一側(cè)。
14.根據(jù)權(quán)利要求8所述的透明導(dǎo)電膜，其特征在于:所述透明導(dǎo)電膜還包括設(shè)置在所述基材層的與所述光學(xué)調(diào)整層相對(duì)的一側(cè)依次設(shè)置另一光學(xué)調(diào)整層、另一低折射率層和另一導(dǎo)電層。
15.一種透明導(dǎo)電膜的制作方法，其包括: 提供基材層； 于基材層上以濕式制程涂布一層光學(xué)調(diào)整層，所述光學(xué)調(diào)整層包括金屬氧化物微粒子和硬化樹(shù)脂，其400納米波長(zhǎng)的折射率為1.55^1.85之間，厚度為500納米~10000納米之間，鉛筆硬度達(dá)IH以上； 于所述光學(xué)調(diào)整層設(shè)以干式制程或濕式制程設(shè)置一層低折射率層； 于所述低折射率層上設(shè)置一層導(dǎo)電層。
16.根據(jù)權(quán)利要求15所述的制作方法，其特征在于:所述透明導(dǎo)電膜的制作方法還包括在所述基材層的與所述光學(xué)調(diào)整層相對(duì)的一側(cè)涂布一層硬涂層。
17.根據(jù)權(quán)利要求15所述的制作方法，其特征在于:所述透明導(dǎo)電膜的制作方法還包括在所述基材層的與所述光學(xué)調(diào)整層相對(duì)的一側(cè)依次設(shè)置另一光學(xué)調(diào)整層、 另一低折射率層和另一導(dǎo)電層。
【文檔編號(hào)】G06F3/041GK103632755SQ201310638973
【公開(kāi)日】2014年3月12日 申請(qǐng)日期:2013年12月4日 優(yōu)先權(quán)日:2013年12月4日
【發(fā)明者】杜成城, 劉比爾 申請(qǐng)人:汕頭萬(wàn)順包裝材料股份有限公司光電薄膜分公司