靜電電容型輸入裝置的制造方法及靜電電容型輸入裝置、以及具備其的圖像顯示裝置制造方法【專利摘要】本發(fā)明提供能夠以高產(chǎn)率獲得即使為薄層，亮度及白度也良好的裝飾層，能夠消除金屬配線的短路的擔憂，能夠以簡便的步驟高品質(zhì)地制造薄層/輕量化的靜電電容型輸入裝置的靜電電容型輸入裝置的制造方法。一種包含前面板、在所述前面板的非接觸側(cè)至少包含下述(1)～(3)的要素的靜電電容型輸入裝置的制造方法，其特征在于在所述前面板的非接觸側(cè)依序?qū)盈B上述(1)、上述(2)及上述(3)，(1)包含無機白色顏料及粘合劑，膜厚為1μm以上且不足30μm的裝飾層(2)包含無機物的層疊體或金屬的反射層(3)掩膜層?！緦＠f明】靜電電容型輸入裝置的制造方法及靜電電容型輸入裝置、以及具備其的圖像顯示裝置【
技術(shù)領(lǐng)域：
】[0001]本發(fā)明涉及一種用以制造可將手指的接觸位置檢測為靜電電容的變化的靜電電容型輸入裝置的裝飾用轉(zhuǎn)印膜、靜電電容型輸入裝置的制造方法及由所述制造方法而所得的靜電電容型輸入裝置、以及包含所述靜電電容型輸入裝置作為構(gòu)成要素的圖像顯示裝置?！?br>背景技術(shù)：
】[0002]在移動電話、汽車導(dǎo)航、個人計算機、售票機、銀行終端等電子設(shè)備中，近年來在液晶裝置等的表面配置平板（tablet)型的輸入裝置，一面參照液晶裝置的圖像顯示區(qū)域所顯示的指示圖像一面用手指或觸控筆等觸碰顯示所述指示圖像的場所，由此進行與指示圖像對應(yīng)的信息輸入。[0003]此種輸入裝置（觸摸屏）存在電阻膜型、靜電電容型等。然而，電阻膜型輸入裝置是膜與玻璃的2枚結(jié)構(gòu)，是按下膜而使其短路的結(jié)構(gòu)，因此具有動作溫度范圍狹窄、或隨時間變化減弱的缺點。[0004]相對于此，靜電電容型輸入裝置具有僅僅在一枚基板形成透光性導(dǎo)電膜即可的優(yōu)點。在所述靜電電容型輸入裝置中，例如存在有如下類型的裝置：在相互交叉的方向上使電極圖案延伸，探測手指等接觸時電極間的靜電電容變化而檢測輸入位置（例如參照下述專利文獻1)。[0005]而且，作為靜電電容型輸入裝置，也存在有如下類型的裝置：對透光性導(dǎo)電膜的兩端施加同相、同電位的交流電，探測在手指接觸或接近而形成電容器（capacitor)時所流動的微弱電流，從而檢測輸入位置。作為此種靜電電容型輸入裝置，揭示有包含如下者的靜電電容型輸入裝置：使多個墊部分經(jīng)由連接部分而在第一方向上延伸所形成的多個第一透明電極圖案、經(jīng)由層間絕緣層而與上述第一透明電極圖案電絕緣，且在與第一方向交叉的方向延伸而形成的包含多個墊部分的多個第二透明電極圖案（例如參照下述專利文獻2)。然而，所述靜電電容型輸入裝置在所制作的靜電電容型輸入裝置上層疊前面板，因此存在靜電電容型輸入裝置變厚且變重的問題。[0006]另外，揭示了在前面板的非接觸側(cè)表面一體地形成有掩膜層、讀出電路、層間絕緣層的靜電電容型觸摸屏（例如參照下述專利文獻3)。在所述專利文獻3中，靜電電容型觸摸屏由于前面板與靜電電容型輸入裝置一體化，因此變得可薄層/輕量化，另外由掩膜層遮蔽讀出電路，因此裝置外觀得到改善。[0007][現(xiàn)有技術(shù)文獻][0008][專利文獻][0009][專利文獻1]日本專利特開2007-122326號公報[0010][專利文獻2]日本專利第4506785號公報[0011][專利文獻3]日本專利特開2009-193587號公報[0012][專利文獻4]日本專利特開2011-218561號公報[0013][專利文獻5]日本專利特開2008-169237號公報[0014][專利文獻6]日本專利特開2011-197220號公報【
發(fā)明內(nèi)容】[0015]發(fā)明要解決的課題[0016]在專利文獻3中，僅僅存在可由黑色樹脂或其他不透明的涂層材料形成掩膜層的記載，但可視需要在上述掩膜層與前面板之間設(shè)置各種色調(diào)（黑、白、中間色（pastelcolor)、金屬色澤等）的裝飾層，近年來在其中特別是要求提高白色裝飾層的亮度與白度。[0017]作為設(shè)置所述裝飾層的方法，現(xiàn)在的主流是利用涂布液體抗蝕劑或網(wǎng)板印刷等的方法。[0018]另一方面，在液晶或有機電激發(fā)光（electroluminescence,EL)顯示器上具有靜電電容型觸摸屏的智能手機（smartphone)或平板個人計算機（personalcomputer，PC)中，開發(fā)、發(fā)行在前面板（直接用手指接觸的面）中使用以康寧（Corning)公司的大猩猩玻璃（gorillaglass)(注冊商標）為代表的強化玻璃的。[0019]本發(fā)明人等人進行了研究，結(jié)果可知若欲在所述強化玻璃基板上使用裝飾層形成用液體抗蝕劑或網(wǎng)板印刷墨水而形成白色裝飾層，則為了使用遮蔽能力小的液體抗蝕劑或網(wǎng)板印刷墨水而形成白色裝飾層，必須分數(shù)次進行液體抗蝕劑涂布及網(wǎng)板印刷，從而存在如下問題：產(chǎn)生由此而造成的泡、不均，由于步驟數(shù)多而引起產(chǎn)率減少等成本減低并不容易。另外，在強化玻璃上設(shè)置裝飾層后存在如下的問題點：若在用以制作透明導(dǎo)電層等電路的步驟中進行加熱，則白度降低。[0020]相對于此，作為耐熱性高的白色膜，提出了如下的多層膜，上述多層膜的特征在于：包含至少含有（A)在分子內(nèi)實質(zhì)上不含硅的熱固性樹脂及（B)白色著色劑的白色熱固性樹脂組合物的層設(shè)于聚酰亞胺膜的至少單面（例如參照專利文獻4)。然而，其也同樣地存在如下的問題點：若在用以制作透明導(dǎo)電層等電路的步驟中進行高溫加熱，則白度降低。[0021]同樣地，作為耐熱性高的膜，提出了如下的白色聚酰亞胺膜，上述白色聚酰亞胺膜可使在使二胺與芳香族四羧酸反應(yīng)而所得的聚酰胺酸中混合有白色顏料的聚酰亞胺前驅(qū)物膜進行酰亞胺化而得（例如參照專利文獻5)。然而，其也同樣地存在如下的問題點：若在用以制作透明導(dǎo)電層等電路的步驟中進行高溫加熱，則白度降低。[0022]作為有效利用擴散光的機構(gòu)，提出了如下的光漫反射膜，上述光漫反射膜在塑料膜的單面至少依序形成有：含有樹脂與透明微粒子的光擴散層、及金屬反射層（例如參照專利文獻6)。[0023]然而，所述光漫反射膜中所使用的樹脂及透明微粒子的耐熱性低，同樣地存在如下的問題點：在用以制作透明導(dǎo)電層等電路的步驟中進行高溫加熱的情形時，白度降低。[0024]如上所述，本發(fā)明人進行了研究，結(jié)果可知在利用這些文獻中所記載的方法形成薄層的白色裝飾層的情形時，無法獲得滿足轉(zhuǎn)印后的亮度及白度的性能的白色裝飾層。而且，可知也難以以高產(chǎn)率獲得滿足上述特性的白色裝飾層。[0025]本發(fā)明所欲解決的課題在于提供：能夠以高產(chǎn)率獲得即使薄層，亮度及白度也良好的白色裝飾層，能夠以簡便的步驟高品質(zhì)地制造可薄層/輕量化的靜電電容型輸入裝置的靜電電容型輸入裝置的制造方法、及利用所述制造方法而所得的靜電電容型輸入裝置、以及使用所述靜電電容型輸入裝置的圖像顯示裝置。[0026]解決問題的技術(shù)手段[0027]對此，本發(fā)明人對白色裝飾層的白度反復(fù)進行進一步研究，結(jié)果發(fā)現(xiàn)通過在裝飾層設(shè)置特定組成的反射層，能夠以高產(chǎn)率獲得即使薄層，亮度及白度也良好的裝飾層，而且，可通過設(shè)置絕緣性掩膜層而消除導(dǎo)入特定組成的反射層時金屬配線的短路的擔憂，能夠以簡便的步驟高品質(zhì)地制造可薄層/輕量化的靜電電容型輸入裝置，從而完成本發(fā)明。[0028]作為用以解決上述課題的具體的手段的本發(fā)明如下所述。[0029][1]-種靜電電容型輸入裝置的制造方法，上述靜電電容型輸入裝置包含前面板、在上述前面板的非接觸側(cè)至少包含下述（1)?（3)的要素，[0030]上述靜電電容型輸入裝置的制造方法的特征在于：在上述前面板的非接觸側(cè)依序?qū)盈B上述（1)、上述（2)及上述（3):[0031](1)包含無機白色顏料及粘合劑、膜厚為1μm以上且不足30μm的裝飾層[0032](2)包含無機物的層疊體或金屬的反射層[0033](3)掩膜層。[0034][2]如[1]所述的靜電電容型輸入裝置的制造方法，其中，[0035]上述反射層優(yōu)選為包含金屬。[0036][3]如[1]或[2]所述的靜電電容型輸入裝置的制造方法，其中，[0037]上述反射層的厚度優(yōu)選為IOOnm以上。[0038][4]如[1]?[3]中任一項所述的靜電電容型輸入裝置的制造方法，其中，[0039]優(yōu)選為使用包含著色層的轉(zhuǎn)印膜而至少形成上述（1)。[0040][5]如[1]?[4]中任一項所述的靜電電容型輸入裝置的制造方法，其中，[0041]優(yōu)選為包含：在層疊上述（1)裝飾層之后，在0·08atm?L2atm的環(huán)境下加熱至IKTC?300°C的步驟。[0042][6]如[1]?[5]中任一項所述的靜電電容型輸入裝置的制造方法，其中，[0043]優(yōu)選為在上述（3)的要素上層疊透明電極圖案。[0044][7]如[1]?[5]中任一項所述的靜電電容型輸入裝置的制造方法，其中，[0045]優(yōu)選為在上述（3)的要素上層疊下述（4)?（6)的要素：[0046](4)多個墊部分經(jīng)由連接部分而在第一方向上延伸而形成的多個第一透明電極圖案[0047](5)與上述第一透明電極圖案電絕緣，在與上述第一方向交叉的方向上延伸而形成的包含多個墊部分的多個第二電極圖案[0048](6)使上述第一透明電極圖案與上述第二電極圖案電絕緣的絕緣層。[0049][8]如[7]所述的靜電電容型輸入裝置的制造方法，其中，[0050]優(yōu)選為將上述第一透明電極圖案及上述第二電極圖案的至少一個設(shè)置成跨在上述前面板的非接觸面及上述掩模層的與上述前面板側(cè)相反側(cè)的面的雙方區(qū)域。[0051][9]如[7]或[8]所述的靜電電容型輸入裝置的制造方法，其中，[0052]優(yōu)選為上述第二電極圖案是透明電極圖案。[0053][10]如[7]?[9]中任一項所述的靜電電容型輸入裝置的制造方法，其中，[0054]上述靜電電容型輸入裝置優(yōu)選為進一步包含（7)與上述第一透明電極圖案及上述第二電極圖案的至少一個電性連接，與上述第一透明電極圖案及上述第二電極圖案不同的導(dǎo)電性要素。[0055][11]如[10]所述的靜電電容型輸入裝置的制造方法，其中，[0056]優(yōu)選為至少在上述掩膜層的與前面板相反側(cè)的面?zhèn)仍O(shè)置上述（7)其他導(dǎo)電性要素。[0057][12]如[10]或[11]所述的靜電電容型輸入裝置的制造方法，其中，[0058]優(yōu)選為進一步以覆蓋上述（1)?（7)的要素的全部或一部分的方式設(shè)置（8)透明保護層。[0059][13]如[12]所述的靜電電容型輸入裝置的制造方法，其中，[0060]優(yōu)選為使用依序包含臨時支撐體、熱塑性樹脂層、光硬化性樹脂層的轉(zhuǎn)印膜，轉(zhuǎn)印上述轉(zhuǎn)印膜的光硬化性樹脂層而形成上述透明保護層。[0061][14]如[10]?[13]中任一項所述的靜電電容型輸入裝置的制造方法，其中，[0062]優(yōu)選為使用通過依序包含臨時支撐體、熱塑性樹脂層、光硬化性樹脂層的轉(zhuǎn)印膜而形成的蝕刻圖案對透明導(dǎo)電材料進行蝕刻處理，由此形成上述第一透明電極圖案、上述第二電極圖案及上述導(dǎo)電性要素的至少一個。[0063][15]如[10]?[14]中任一項所述的靜電電容型輸入裝置的制造方法，其中，[0064]優(yōu)選為使用依序包含臨時支撐體、熱塑性樹脂層、導(dǎo)電性光硬化性樹脂層的轉(zhuǎn)印膜，轉(zhuǎn)印上述轉(zhuǎn)印膜的導(dǎo)電性光硬化性樹脂層而形成上述第一透明電極圖案、上述第二電極圖案及上述導(dǎo)電性要素的至少一個。[0065][16]如[1]?[15]中任一項所述的靜電電容型輸入裝置的制造方法，其中，[0066]優(yōu)選為對上述前面板的非接觸面進行表面處理，在實施了上述表面處理的上述前面板的非接觸面上設(shè)置裝飾層。[0067][17]如[16]所述的靜電電容型輸入裝置的制造方法，其中，[0068]優(yōu)選為在上述前面板的表面處理中使用硅烷化合物。[0069][18]如[1]?[17]中任一項所述的靜電電容型輸入裝置的制造方法，其中，[0070]優(yōu)選為上述前面板在至少一部分具有開口部。[0071][19]一種靜電電容型輸入裝置，其特征在于：[0072]利用如[1]?[18]中任一項所述的靜電電容型輸入裝置的制造方法制造而成。[0073][20]-種圖像顯示裝置，其特征在于：[0074]包含如[19]所述的靜電電容型輸入裝置作為構(gòu)成要素。[0075]發(fā)明的效果[0076]根據(jù)本發(fā)明可提供：靜電電容型輸入裝置的制造方法，其通過在裝飾層設(shè)置金屬或無機層的層疊體，能夠以高產(chǎn)率獲得即使薄層，亮度及白度也良好的裝飾層，而且，可通過設(shè)置絕緣性掩膜層而消除導(dǎo)入金屬或無機層的層疊體時的金屬配線的短路的擔憂，能夠以簡便的步驟高品質(zhì)地制造薄層/輕量化的靜電電容型輸入裝置，及利用所述制造方法而所得的靜電電容型輸入裝置、以及使用所述靜電電容型輸入裝置的圖像顯示裝置?！緦＠綀D】【附圖說明】[0077]圖1是表示本發(fā)明的靜電電容型輸入裝置的構(gòu)成的剖面圖。[0078]圖2是表示本發(fā)明的前面板的一例的說明圖。[0079]圖3是表示本發(fā)明的第一透明電極圖案及第二透明電極圖案的一例的說明圖。[0080]圖4是表示形成有開口部的強化處理玻璃的一例的俯視圖。[0081]圖5是表示形成有裝飾層、反射層及掩膜層的前面板的一例的俯視圖。[0082]圖6是表示形成有第一透明電極圖案的前面板的一例的俯視圖。[0083]圖7是表示形成有第一及第二透明電極圖案的前面板的一例的俯視圖。[0084]圖8是表示形成有與第一及第二透明電極圖案不同的導(dǎo)電性要素的前面板的一例的俯視圖。[0085]圖9是表示金屬納米線剖面的說明圖。[0086]圖10是表示為了在前面板的X-X'剖面形成裝飾層而使用的轉(zhuǎn)印膜的半切割的方法的說明圖。[0087]圖11是表示為了在前面板的Y-Y'剖面形成裝飾層而使用的轉(zhuǎn)印膜的半切割的方法的說明圖。[0088]圖12是表示預(yù)切性的評價中的半切割的方法的說明圖?！揪唧w實施方式】[0089]以下，對本發(fā)明的靜電電容型輸入裝置的制造方法、靜電電容型輸入裝置及圖像顯示裝置加以說明。[0090]以下所記載的構(gòu)成要件的說明有時基于本發(fā)明的代表性實施方式而進行，但本發(fā)明并不限定于此種實施方式。另外，本申請說明書中，所謂"?"是以包含其前后所記載的數(shù)值作為下限值及上限值的含義而使用。[0091][靜電電容型輸入裝置的制造方法][0092]本發(fā)明的靜電電容型輸入裝置的制造方法（以下也稱為本發(fā)明的制造方法）是包含前面板、在上述前面板的非接觸側(cè)至少包含下述（1)?（3)的要素的靜電電容型輸入裝置的制造方法，其特征在于：在上述前面板的非接觸側(cè)依序?qū)盈B上述（1)、上述（2)及上述⑶。[0093](1)包含無機白色顏料及粘合劑、膜厚為1μm以上且不足30μm的裝飾層[0094](2)包含無機層的層疊體或金屬的反射層[0095](3)掩膜層[0096]本發(fā)明的靜電電容型輸入裝置的制造方法通過在上述前面板的非接觸側(cè)的上述裝飾層上的與前面板相反側(cè)的面上設(shè)置包含無機層的層疊體或金屬的反射層（以下也稱為金屬或無機層的層疊體），裝飾層即使為薄層也可獲得充分的亮度與白度。而且，在金屬或無機層的層疊體的與上述裝飾層相反側(cè)的面設(shè)置掩膜層，由此可防止由于金屬或無機層的層置體所引起的電路的短路。[0097]另外，自保存性的觀點考慮，優(yōu)選的是在金屬或無機層的層疊體與裝飾層之間設(shè)置密接賦予層，在金屬或無機層的層疊體與掩膜層側(cè)設(shè)置密接賦予層及障壁層。[0098]〈靜電電容型輸入裝置的構(gòu)成〉[0099]首先，對利用本發(fā)明的制造方法而形成的靜電電容型輸入裝置的構(gòu)成加以說明。圖1是表示本發(fā)明的靜電電容型輸入裝置中優(yōu)選的構(gòu)成的剖面圖。在圖1中，靜電電容型輸入裝置10包含：前面板1、裝飾層2a、反射層（無機層的層疊體或包含金屬的層疊體）2b、掩膜層2c、第一透明電極圖案3、第二透明電極圖案4、絕緣層5、導(dǎo)電性要素6、透明保護層7。[0100]前面板1包含玻璃基板等透光性基板，可使用以康寧公司的大猩猩玻璃為代表的強化玻璃等。而且，在圖1中，將前面層1的設(shè)有各要素的一側(cè)稱為非接觸面la。在本發(fā)明的靜電電容型輸入裝置10中，用手指等對前面板1的接觸面（la非接觸面的相反面）進行接觸等而進行輸入。以下，有時將前面板稱為"基材"。[0101]而且，在前面板1的非接觸面上，經(jīng)由裝飾層2a而設(shè)有包含無機層的層疊體或金屬的反射層2b、掩膜層2c。通過使包含無機層的層疊體或金屬的反射層2b與上述裝飾層2a組合使用，可滿足裝飾層2a的亮度及白度。掩膜層2c是在觸摸屏前面板的非接觸側(cè)所形成的顯示區(qū)域周圍的邊框狀圖案，是為了使引出配線等看不見而形成。[0102]裝飾層2a是以裝飾為目的而形成于包含無機層的層疊體或金屬的反射層2b上、亦即觸摸屏前面板的非接觸側(cè)與反射層2b之間。[0103]在本發(fā)明的靜電電容型輸入裝置10中，優(yōu)選的是如圖2所示那樣，以覆蓋前面板1的一部分區(qū)域（在圖2中為輸入面以外的區(qū)域）的方式設(shè)置裝飾層2a、包含無機層的層疊體或金屬的反射層2b、掩膜層2c。另外，在前面板1上，可如圖2所示那樣在上述前面板的一部分設(shè)置開口部8。在開口部8可設(shè)置利用按壓的機械開關(guān)。用作基材的強化玻璃的強度高、難以加工，因此為了形成上述開口部8,一般情況下是在強化處理前形成開口部8，然后進行強化處理。然而，若在具有所述開口部8的強化處理后的基板上，欲使用裝飾層形成用液體抗蝕劑或網(wǎng)板印刷墨水而形成裝飾層2a，則有時產(chǎn)生如下的問題：產(chǎn)生抗蝕劑成分自開口部漏出、或者在必須將遮光圖案形成至前面板的最邊界的且被設(shè)于掩膜層與前面板之間的裝飾層中抗蝕劑成分自玻璃端滲出，從而污染基板背面?zhèn)?，但在具有開口部8的基材上使用上述轉(zhuǎn)印膜而形成裝飾層2a的情形時，也可解決此種問題。[0104]在前面板1的非接觸面形成有：多個墊部分經(jīng)由連接部分在第一方向上延伸而形成的多個第一透明電極圖案3,與第一透明電極圖案3電絕緣、在與第一方向交叉的方向上延伸而形成的包含多個墊部分的多個第二透明電極圖案4,使第一透明電極圖案3與第二透明電極圖案4電絕緣的絕緣層5。上述第一透明電極圖案3、第二透明電極圖案4、后述的導(dǎo)電性要素6例如可利用氧化銦錫（IndiumTinOxide,ΙΤ0)或氧化銦鋅（IndiumZincOxide,IZO)等透光性導(dǎo)電性金屬氧化膜而制作。此種金屬膜可列舉：ΙΤ0膜、Al、Zn、Cu、Fe、Ni、Cr、Mo等的金屬膜、SiO2等的金屬氧化膜等。此時，各要素的膜厚可設(shè)為10nm?200nm。而且，由于煅燒而使非晶體（amorphous)的ITO膜成為多晶的ITO膜，因此也可減低電阻（resistance)。而且，上述第一透明電極圖案3、第二透明電極圖案4、后述的導(dǎo)電性要素6也可使用后述的具有使用有導(dǎo)電性纖維的導(dǎo)電性光硬化性樹脂層的轉(zhuǎn)印膜，轉(zhuǎn)印上述轉(zhuǎn)印膜的導(dǎo)電性光硬化性樹脂層而制造。另外，在利用ITO等形成第一透明電極圖案等的情形時，可參考日本專利第4506785號公報的段落[0014]?段落[0016]等。[0105]而且，第一透明電極圖案3及第二透明電極圖案4的至少一個可設(shè)置成跨在前面板1的非接觸面及掩膜層2c的與前面板1相反側(cè)的面的雙方區(qū)域。在圖1中表示第二透明電極圖案設(shè)置成跨在前面板1的非接觸面及掩膜層2c的與前面板1相反側(cè)的面的雙方區(qū)域的圖。這樣，即使在將轉(zhuǎn)印膜層疊成跨在必需一定厚度的掩模層與前面板背面的情形，通過使用具有特定的層構(gòu)成的轉(zhuǎn)印膜，即使不使用真空層疊機等昂貴的設(shè)備，也可利用簡單的步驟而在掩膜部分邊界不會產(chǎn)生泡地進行層疊。[0106]使用圖3對第一透明電極圖案3及第二透明電極圖案4加以說明。圖3是表示本發(fā)明的第一透明電極圖案及第二透明電極圖案的一例的說明圖。如圖3所示那樣，第一透明電極圖案3是墊部分3a經(jīng)由連接部分3b在第一方向上延伸而形成的。而且，第二透明電極圖案4是利用絕緣層5而與第一透明電極圖案3電絕緣，由在與第一方向交叉的方向(圖3中的第二方向）上延伸而形成的多個墊部分而構(gòu)成。此處，在形成第一透明電極圖案3的情形時，可使上述墊部分3a與連接部分3b成為一體地制作，也可僅僅制作連接部分3b，使墊部分3a與第二透明電極圖案4成為一體而制作（圖案化）。在使墊部分3a與第二透明電極圖案4成為一體而制作（圖案化）的情形時，如圖3所示那樣將連接部分3b的一部分與墊部分3a的一部分連結(jié)，且以由絕緣層5使第一透明電極圖案3與第二透明電極圖案4電絕緣的方式形成各層。[0107]在圖1中，在掩膜層2c的與前面板1相反側(cè)的面?zhèn)仍O(shè)置有導(dǎo)電性要素6。導(dǎo)電性要素6是與第一透明電極圖案3及第二透明電極圖案4的至少一個電性連接、且與第一透明電極圖案3及第二透明電極圖案4不同的要素。在圖1中表示導(dǎo)電性要素6與第二透明電極圖案4連接的圖。[0108]而且，在圖1中，以覆蓋各構(gòu)成要素的全部的方式設(shè)置透明保護層7。也能以僅覆蓋各構(gòu)成要素的一部分的方式構(gòu)成透明保護層7。絕緣層5與透明保護層7可為相同的材料，也可為不同的材料。構(gòu)成絕緣層5與透明保護層7的材料優(yōu)選的是表面硬度、耐熱性高的材料，可使用公知的感光性硅氧烷樹脂材料、丙烯酸樹脂材料等。[0109]以下，關(guān)于本發(fā)明的制造方法，對各層的詳細情況加以說明。[0110]作為本發(fā)明的制造方法的過程中所形成的形態(tài)例，可列舉圖4?圖8的形態(tài)。圖4是表示形成有開口部8的強化處理玻璃11的一例的俯視圖。圖5是表示形成有裝飾層2a、包含無機層的層疊體或金屬的反射層2b、掩膜層2c的前面板的一例的俯視圖。圖6是表不形成有第一透明電極圖案3的前面板的一例的俯視圖。圖7表不形成有第一透明電極圖案3與第二透明電極圖案4的前面板的一例的俯視圖。圖8是表示形成有與第一及第二透明電極圖案不同的導(dǎo)電性要素6的前面板的一例的俯視圖。這些表示將上述說明具體化的例，本發(fā)明的范圍并不由這些附圖而限定性地解釋。[0111]〈⑴裝飾層〉[0112]本發(fā)明的制造方法包含在上述前面板的非接觸側(cè)形成上述（1)包含無機白色顏料及粘合劑、膜厚為1μm以上且不足30μm的裝飾層的步驟。[0113]自薄層化的觀點考慮，作為上述裝飾層的厚度，優(yōu)選的是1μm以上且不足30μm，自提高裝飾層的遮蔽能力的觀點考慮，更優(yōu)選的是1μm?25μm，特別優(yōu)選的是I.5μm?20μm，進一步特別優(yōu)選的是1.8μm?18μm，更進一步特別優(yōu)選的是1.8μm?13μm。[0114]利用本發(fā)明的制造方法而形成的裝飾層可使用著色性組合物而制作，優(yōu)選的是至少包含白色無機顏料及粘合劑。作為上述（1)裝飾層的形成方法，并無特別限制，例如可將著色性組合物直接涂布在基板上，也可使用轉(zhuǎn)印膜（上述轉(zhuǎn)印膜包含涂布著色性組合物而形成的著色層）而形成，還可利用網(wǎng)板印刷等印刷而形成。[0115]作為上述網(wǎng)板印刷，可并無特別限制地使用公知的方法，例如可使用日本專利4021925號中所記載的方法等。而且，通過進行多次網(wǎng)板印刷，即使是網(wǎng)板印刷也可使膜厚變厚。[0116]本發(fā)明的制造方法優(yōu)選的是使用轉(zhuǎn)印膜至少形成上述（1)裝飾層。關(guān)于使用轉(zhuǎn)印膜進行轉(zhuǎn)印而形成上述（1)裝飾層的方法，如后所述。[0117]而且，上述（1)裝飾層可使轉(zhuǎn)印膜與網(wǎng)板印刷組合而形成。[0118]而且，在任意的情形時，本發(fā)明中的所謂上述（1)裝飾層的厚度均是表示全層的膜厚的合計。[0119]在圖2的構(gòu)成的具有開口部8的靜電電容型輸入裝置中，若使用后述的包含著色層的轉(zhuǎn)印膜或后述的包含光硬化性樹脂層的轉(zhuǎn)印膜而形成圖1中所記載的上述裝飾層2a或后述的掩膜層2c等，則即使在具有開口部的基板（前面板）也不產(chǎn)生抗蝕劑成分自開口部分漏出，特別是在必須將遮光圖案形成至前面板的最邊界的裝飾層或掩膜層中抗蝕劑成分并不自玻璃端滲出，因此不會污染基板背面?zhèn)?，變得能夠以簡略的步驟制造具有薄層/輕量化的優(yōu)點的觸摸屏。[0120](轉(zhuǎn)印膜的構(gòu)成）[0121]在本發(fā)明的制造方法中所可使用的轉(zhuǎn)印膜優(yōu)選的是包含臨時支撐體與著色層，且上述著色層至少包含白色無機顏料及粘合劑。[0122]通過使用具有此種構(gòu)成的轉(zhuǎn)印膜而形成上述裝飾層，且通過與后述的反射層組合設(shè)置，能夠以高產(chǎn)率獲得轉(zhuǎn)印后的亮度及白度、網(wǎng)紋及密接性良好的白色裝飾層。[0123]可在本發(fā)明的制造方法中使用的轉(zhuǎn)印膜優(yōu)選的是包含臨時支撐體與著色層。而且，在臨時支撐體與著色層之間也可包含熱塑性樹脂層。[0124]-臨時支撐體-[0125]臨時支撐體可使用具有可撓性、在加壓下或加壓及加熱下不會產(chǎn)生顯著的變形、收縮或延伸的材料。此種支撐體的例可列舉聚對苯二甲酸乙二酯膜、三乙酸纖維素膜、聚苯乙烯膜、聚碳酸酯膜等，其中特別優(yōu)選的是雙軸延伸聚對苯二甲酸乙二酯膜。[0126]臨時支撐體的厚度并無特別限制，一般是5μm?200μm的范圍，就操作容易性、通用性等方面而言，特別優(yōu)選的是IOym?150μm的范圍。[0127]而且，臨時支撐體可透明，也可含有染料化硅、氧化鋁溶膠、鉻鹽、鋯鹽等。[0128]而且，可利用日本專利特開2005-221726號公報中所記載的方法等而對臨時支撐體賦予導(dǎo)電性。[0129]-著色層-[0130]-白色無機顏料一[0131]作為上述著色層中所使用的上述白色無機顏料，可使用日本專利特開2009-191118號公報的段落[0019]或日本專利特開2000-175718號公報的段落[0109]中所記載的白色顏料。[0132]具體而言，在本發(fā)明中，上述白色無機顏料優(yōu)選的是氧化鈦（金紅石型）、氧化鈦(銳鈦礦型）、氧化鋅、鋅鋇白、輕質(zhì)碳酸鈣、白碳（whitecarbon)、氧化鋁、氫氧化鋁、硫酸鋇，更優(yōu)選的是氧化鈦（金紅石型）、氧化鈦（銳鈦礦型）、氧化鋅，進一步更優(yōu)選的是氧化鈦（金紅石型）、氧化鈦（銳鈦礦型），進一步更優(yōu)選的是金紅石型氧化鈦。[0133]二氧化鈦的具體例可列舉JR、JRNC、JR-301、403、405、600A、605、600E、603、701、800、805、806、JA-1、C、3、4、5、MT-01、02、03、04、05、100AQ、100SA、100SAK、100SAS、100TV、100Z、100ZR、150W、500B、500H、500SA、500SAK、500SAS、500T、SMT-100SAM、100SAS、500SAM、500SAS(帝國化工（Tayca)公司制造）、CR-50、50-2、57、58、58-2、60、60-2、63、67、80、85、90、90-2、93、95、97、953、Super70、PC-3、PF-690、691、711、736、737、739、740、742、R-550、580、630、670、680、780、780-2、820、830、850、855、930、980、S-305、UT771、TT0-51(A)、51(C)、55(A)、55(B)、55(C)、55(D)、S-l、S-2、S-3、S-4、V-3、V-4、MPT-136、FTL-100、110、200、300(石原產(chǎn)業(yè)公司制造）、KA-10、15、20、30、KR-310、380、KV-200、STT-30EHJ、65C-S、455、4855六15、495厘、495厘(：（鈦工業(yè)公司制造）、丁六-100、200、300、400、500、了1?-600、700、750、840、900(富士鈦工業(yè)公司制造）等，這些可單獨或混合使用。[0134]在本發(fā)明中，上述白色無機顏料（特別是氧化鈦）的表面可進行二氧化硅處理、氧化鋁處理、二氧化鈦處理、氧化鋯處理、有機物處理以及并用這些處理。[0135]由此可抑制上述白色無機顏料（特別是氧化鈦）的催化劑活性，可改善耐熱性、褪光性等。[0136]自加熱后的裝飾層的白度的觀點考慮，在本發(fā)明中上述白色顏料優(yōu)選的是經(jīng)無機物進行了表面處理的金紅石型氧化鈦，更優(yōu)選的是利用氧化鋁處理及氧化鋯處理中的至少一個進行了表面處理的金紅石型氧化鈦，特別優(yōu)選的是通過并用氧化鋁/氧化鋯的處理進行了表面處理的金紅石型氧化鈦。[0137]自形成亮度及白度良好、且同時滿足其他要求的特性的裝飾層的觀點考慮，優(yōu)選的是上述白色無機顏料相對于上述著色層的所有固體成分的含有率為20質(zhì)量％?75質(zhì)量％。而且，在后述的本發(fā)明的靜電電容型輸入裝置的制造方法中使用上述轉(zhuǎn)印膜時，自充分縮短顯影時間的觀點考慮，也優(yōu)選的是上述白色無機顏料相對于上述裝飾層的所有固體成分的含有率為20質(zhì)量％?75質(zhì)量％。[0138]上述白色無機顏料相對于上述著色層的所有固體成分的含有率更優(yōu)選的是25質(zhì)量％?60質(zhì)量％，進一步更優(yōu)選的是30質(zhì)量％?50質(zhì)量％。[0139]本說明書中所謂的所有固體成分是表示自上述著色層除去溶劑等的不揮發(fā)成分的總質(zhì)量。[0140]上述白色無機顏料（另外，關(guān)于后述的掩膜層中所使用的其他著色劑也同樣）理想的是作為分散液而使用。所述分散液可通過如下方式而制備：將上述白色無機顏料與顏料分散劑預(yù)先混合而所得的組合物添加于后述的有機溶劑（或載色劑（vehicle))中使其分散。上述載色劑是指涂料處于液體狀態(tài)時使顏料分散的介質(zhì)的部分，包含為液狀且與上述顏料結(jié)合而形成涂膜的成分（粘合劑）、對其進行溶解稀釋的成分（有機溶劑）。[0141]作為使上述白色無機顏料分散時所使用的分散機，并無特別限制，例如可列舉朝倉邦造著的"顏料事典"、第一版、朝倉書店、2000年、第438項中所記載的捏合機(kneader)、輥磨機、磨碎機、超級研磨機、溶解器、均質(zhì)混合機、砂磨機等公知的分散機。另夕卜，也可利用所述文獻第310頁中所記載的機械性磨碎，利用摩擦力而進行微粉碎。[0142]作為本發(fā)明中所使用的上述白色無機顏料（裝飾層形成用著色劑）的白色無機顏料，自分散穩(wěn)定性及遮蔽能力的觀點考慮，優(yōu)選的是一次粒子的平均粒徑為〇.16μm?0.3μm，更優(yōu)選的是一次粒子的平均粒徑為0.18μm?0.27μm。進一步特別優(yōu)選的是一次粒子的平均粒徑為0.19μm?0.25μm。若一次粒子的平均粒徑為0.16μm，則存在遮蔽能力急遽降低而變得容易看到掩膜層的基底，或產(chǎn)生粘度上升的現(xiàn)象。另一方面，若一次粒子的平均粒徑超過0.3μm，則白度降低，同時遮蔽能力急遽降低，而且涂布時的表面性狀惡化。[0143]另外，此處所謂的"一次粒子的平均粒徑"是指將粒子的電子顯微照片圖像設(shè)為同面積的圓時的直徑，而且所謂"數(shù)量平均粒徑"是指對多個粒子求出上述粒徑，其100個的平均值。[0144]另一方面，在利用分散液、涂布液中的平均粒徑進行測定的情形時，可使用激光散射堀場（HORIBA)H(堀場先進技術(shù)股份有限公司制造）。[0145]-粘合劑一[0146]本發(fā)明中所可使用的轉(zhuǎn)印材料中，可使用公知的粘合劑作為上述著色層的粘合齊IJ。例如優(yōu)選的是選自乙烯與丙烯酸酯共聚物的皂化物、苯乙烯與（甲基）丙烯酸酯共聚物的皂化物、乙烯基甲苯與（甲基）丙烯酸酯共聚物的皂化物、聚（甲基）丙烯酸酯、及（甲基）丙烯酸丁酯與乙酸乙烯酯等的（甲基）丙烯酸酯共聚物等皂化物等的至少1種。另夕卜，也可使用"塑料性能便覽"（日本塑料工業(yè)聯(lián)盟、全日本塑料成形工業(yè)聯(lián)合會編著、工業(yè)調(diào)查會發(fā)行、1968年10月25日發(fā)行）的有機高分子中的可溶于堿性水溶液的。這些可單獨使用1種，也可并用2種以上。而且，這些熱塑性樹脂中優(yōu)選的是軟化點為80°C以下的。另外，在本發(fā)明中，所謂"（甲基）丙烯酸"是總稱丙烯酸及甲基丙烯酸，其衍生物的情形也同樣。[0147]在著色層利用堿性顯影而形成圖案的情形時，有效的是堿可溶性樹脂，可使用日本專利特開2011-95716號公報的段落[0025]、日本專利特開2010-237589號公報的段落[0033]?段落[0052]中所記載的聚合物。[0148]而且，在形成圖案時不需要堿性顯影，著色層需要耐熱性的情形時，優(yōu)選的是氟刑樹脂及硅酮系樹脂。[0149]上述硅酮系樹脂可使用公知的硅酮系樹脂。例如可使用甲基系線性硅酮樹脂、甲基苯基系線性硅酮樹脂、丙烯酸樹脂改性硅酮樹脂、聚酯樹脂改性硅酮樹脂、環(huán)氧樹脂改性硅酮樹脂、醇酸樹脂、改性硅酮樹脂及橡膠系硅酮樹脂等。[0150]此處，作為上述轉(zhuǎn)印膜，上述著色層不需要利用光硬化性樹脂與光聚合引發(fā)劑的組合的光硬化，上述著色層可包含光硬化性樹脂或光聚合引發(fā)劑也可不含光硬化性樹脂或光聚合引發(fā)劑。其中，在上述著色層包含后述的抗氧化劑的情形時，自不會由于對光聚合引發(fā)劑進行曝光時所生成的自由基而阻礙上述抗氧化劑的功能，且充分提高烘烤后的白度的觀點考慮，優(yōu)選的是不含光聚合引發(fā)劑。因此，上述（B)硅酮系樹脂優(yōu)選的是熱固性。[0151]更優(yōu)選的是甲基系線性硅酮樹脂、甲基苯基系線性硅酮樹脂、丙烯酸樹脂改性硅酮樹脂，特別優(yōu)選的是甲基系線性硅酮樹脂、甲基苯基系線性硅酮樹脂。這些硅酮系樹脂可單獨使用也可并用2種以上，優(yōu)選的是甲基系線性硅酮樹脂及甲基苯基系線性硅酮樹脂的并用，可通過以任意比率將這些混合而控制膜物性。[0152]作為上述著色層中所使用的上述粘合劑，只要不違反本發(fā)明的宗旨則并無特別限制，可使用公知的聚合性化合物。[0153]在上述轉(zhuǎn)印膜為負型材料的情形時，優(yōu)選的是在上述著色層中包含堿可溶性樹月旨、聚合性化合物、聚合引發(fā)劑或聚合起始系統(tǒng)。進一步使用著色劑、添加劑等，但并不限定于此。[0154]-光聚合引發(fā)劑一[0155]作為上述著色層中所使用的上述光聚合引發(fā)劑，可使用日本專利特開2011-95716號公報中所記載的[0031]?[0042]中所記載的聚合性化合物。[0156]--單體一[0157]作為上述著色層中所使用的上述單體，只要不違反本發(fā)明的宗旨，則并無特別限制，可使用公知的聚合性化合物。[0158]作為上述聚合性化合物，可使用日本專利第4098550號的段落[0023]?段落[0024]中所記載的聚合性化合物。[0159]在上述感光性膜為正型材料的情形時，在著色層中使用例如日本專利特開2005-221726中所記載的材料等，但并不限定于此。[0160]-抗氧化劑一[0161]作為上述轉(zhuǎn)印膜，自對由轉(zhuǎn)印膜轉(zhuǎn)印上述著色層時所得的裝飾層，提高烘烤后的白度的觀點考慮，優(yōu)選的是上述著色層包含抗氧化劑。此處，在靜電電容型輸入裝置中形成ITO等的透明電極圖案的情形時，變得必須在高溫下進行烘烤，但通過添加抗氧化劑可提高烘烤后的白度。[0162]上述抗氧化劑可使用公知的抗氧化劑。例如可使用受阻酚系、半受阻（semihindered)酚系、磷酸系、在分子內(nèi)具有磷酸/受阻酚的混合型抗氧化劑。[0163]優(yōu)選的是磷酸系、磷酸系與受阻酚系或半受阻酚系的并用、或在分子內(nèi)具有磷酸/受阻酚的混合型抗氧化劑。[0164]上述抗氧化劑相對于上述著色層的所有固體成分的相對于上述的添加量并無特別限制，優(yōu)選的是〇.001質(zhì)量％?10質(zhì)量％，更優(yōu)選的是〇.01質(zhì)量％?1質(zhì)量％，特別優(yōu)選的是0.05質(zhì)量％?0.2質(zhì)量％。[0165]-溶劑一[0166]而且，作為利用涂布而制造轉(zhuǎn)印膜的上述著色層時的溶劑，可使用日本專利特開2011-95716號公報的段落[0043]?段落[0044]中所記載的溶劑。[0167]-添加劑一[0168]另外，在上述著色層中也可使用其他添加劑。上述添加劑例如可列舉日本專利第4502784號公報的段落[0017]、日本專利特開2009-237362號公報的段落[0060]?段落[0071]中所記載的表面活性劑、或者日本專利第4502784號公報的段落[0018]中所記載的熱聚合抑制劑、以及日本專利特開2000-310706號公報的段落[0058]?段落[0071]中所記載的其他添加劑。[0169]以上，以上述轉(zhuǎn)印膜為非感光性材料的情形為中心加以說明，但上述轉(zhuǎn)印膜也可視需要為負型材料或正型材料。[0170]-厚度一[0171]上述著色層的厚度優(yōu)選的是1μm以上且不足30μm，自為了提高將上述包含著色層的轉(zhuǎn)印膜用作靜電電容型輸入裝置的裝飾層時的裝飾層的遮蔽能力的觀點考慮，更優(yōu)選白勺:?Iym~25μm。[0172]上述著色層的厚度特別優(yōu)選的是I.5μm?20μm，進一步特別優(yōu)選的是I.8μm?18μm，更進一步特別優(yōu)選的是1.8μm?13μm。[0173]--著色層的粘度一[0174]優(yōu)選的是著色層在KKTC下測定的粘度處于2000Pa·sec?50000Pa·sec的區(qū)域，進而滿足下式（A)。[0175]式㈧：熱塑性樹脂層的粘度〈著色層的粘度[0176]此處，各層的粘度可如下所述地測定。利用大氣壓及減壓干燥，自熱塑性樹脂層或裝飾層用涂布液中除去溶劑而制成測定樣品，例如使用維布?。╒ibron)(DD-III型；東洋鮑德溫（Baldwin)股份有限公司制造）作為測定器，在測定開始溫度為50°C、測定結(jié)束溫度為150°C、升溫速度為5°C/min及振動頻率lHz/deg的條件下進行測定，可使用KKTC的測定值。[0177]-熱塑性樹脂層_[0178]上述轉(zhuǎn)印膜優(yōu)選的是在上述臨時支撐體與上述著色層之間設(shè)置熱塑性樹脂層。上述熱塑性樹脂層優(yōu)選的是堿可溶性。熱塑性樹脂層是以可吸收基底表面的凹凸（也包含已形成的圖像等的凹凸等）的方式發(fā)揮作為緩沖材的作用，優(yōu)選的是具有可根據(jù)對象面的凹凸而變形的性質(zhì)。[0179]熱塑性樹脂層優(yōu)選的是包含日本專利特開平5-72724號公報中所記載的有機高分子物質(zhì)作為成分的形態(tài)，特別優(yōu)選的是包含選自維卡（Vicat)法[具體而言是美國材料試驗法材料協(xié)會ASTMD1235的聚合物軟化點測定法]的軟化點為約80°C以下的有機高分子物質(zhì)的至少一種的形態(tài)。[0180]具體而言，可列舉聚乙烯、聚丙烯等聚烯烴、乙烯與乙酸乙烯酯或其皂化物等的乙烯共聚物、乙烯與丙烯酸酯或其皂化物的共聚物、聚氯乙烯或氯乙烯與乙酸乙烯酯或其皂化物等的氯乙烯共聚物、聚偏二氯乙烯、偏二氯乙烯共聚物、聚苯乙烯、苯乙烯與（甲基）丙烯酸酯或其皂化物等的苯乙烯共聚物、聚乙烯基甲苯、乙烯基甲苯與（甲基）丙烯酸酯或其皂化物等的乙烯基甲苯共聚物、聚（甲基）丙烯酸酯、（甲基）丙烯酸丁酯與乙酸乙烯酯等的（甲基）丙烯酸酯共聚物、乙酸乙烯酯共聚物、尼龍、共聚尼龍、N-烷氧基甲基化尼龍、N-二甲基氨基化尼龍等聚酰胺樹脂、聚酯等有機高分子。[0181]而且，優(yōu)選的是在熱塑性樹脂層中添加用以控制剝離性的發(fā)泡劑等，可適宜使用日本專利特開2007-225939號公報的段落[0020]?段落[0028]中所記載的發(fā)泡劑等。[0182]也優(yōu)選的是在熱塑性樹脂層中添加表面活性劑，例如可適宜使用日本專利第4502784號公報的段落[0017]、日本專利特開2009-237362號公報的段落[0060]?段落[0071]中所記載的表面活性劑。[0183]熱塑性樹脂層的層厚優(yōu)選的是3μm?30μm。在熱塑性樹脂層的層厚為3μm以上的情形時，層疊時的追隨性充分，容易完全吸收基底表面的凹凸。而且，在層厚為30μm以下的情形時，難以對在臨時支撐體上形成熱塑性樹脂層時的干燥（溶劑除去）帶來負荷，熱塑性樹脂層的顯影不會過于耗費時間，處理適合性變良好。上述熱塑性樹脂層的層厚更優(yōu)選的是4μm?25μm，特別優(yōu)選的是5μm?20μm。[0184]熱塑性樹脂層可涂布包含熱塑性有機高分子的制備液等而形成，涂布等時所使用的制備液可使用溶劑而制備。溶劑若可溶解構(gòu)成所述層的高分子成分，則并無特別限制，例如可列舉甲基乙基酮、環(huán)己酮、丙二醇單甲醚乙酸酯、正丙醇、2-丙醇等。[0185]優(yōu)選的是上述熱塑性樹脂層的在100°C下測定的粘度處于IOOOPa·sec?IOOOOPa·sec的區(qū)域。[0186]-其他層_[0187]在上述轉(zhuǎn)印膜中，可在裝飾層與熱塑性樹脂層之間設(shè)置中間層、或者在裝飾層的表面進一步設(shè)置保護膜等而適宜地構(gòu)成。[0188]在上述轉(zhuǎn)印膜中，優(yōu)選的是以防止涂布多層時及涂布后的保存時成分的混合為目的而設(shè)置中間層。作為中間層，優(yōu)選的是在日本專利特開平5-72724號公報中記載為"分離層"的具有氧阻隔功能的隔氧膜（oxygen-impermeablefilm)，曝光時的感度提高，可減低曝光機的時間負荷，生廣性提1?。[0189]作為上述中間層及保護膜，可適宜使用日本專利特開2006-259138號公報的段落[0083]?段落[0087]及段落[0093]中所記載的。[0190](轉(zhuǎn)印膜的制作方法）[0191]在本發(fā)明中裝飾層的形成中所使用的轉(zhuǎn)印膜可基于日本專利特開2006-259138號公報的段落[0094]?段落[0098]中所記載的感光性轉(zhuǎn)印材料的制作方法而制作。[0192]具體而言，在形成包含中間層的轉(zhuǎn)印膜的情形時，可通過如下方式而適宜地制作：在臨時支撐體上涂布溶解有熱塑性有機高分子以及添加劑的溶解液（熱塑性樹脂層用涂布液），使其干燥而設(shè)置熱塑性樹脂層后，在所述熱塑性樹脂層上涂布制備液（中間層用涂布液），所述制備液在不會溶解熱塑性樹脂層的溶劑中添加樹脂或添加劑而制備，使其干燥而層疊中間層，在所述中間層上進一步涂布使用不會溶解中間層的溶劑而制備的著色層用涂布液，使其干燥而層疊著色層。[0193]對使用轉(zhuǎn)印膜而形成上述裝飾層的方法加以說明。一般在使用轉(zhuǎn)印膜的情形時，若著色層包含光硬化性樹脂，則可利用通常的光刻的方法而形成。此處，作為在本發(fā)明中裝飾層的形成中所使用的轉(zhuǎn)印膜，著色層可包含光硬化性樹脂也可不含光硬化性樹脂，即使在任意的情形時，均可通過利用以下的半切割的轉(zhuǎn)印方法而使用轉(zhuǎn)印膜形成裝飾層。[0194]在利用半切割的轉(zhuǎn)印方法中，首先如圖10?圖12所示那樣用剃刀等預(yù)切裝飾層的圖像部32與非圖像部31的邊界后，利用膠帶將非圖像部31的保護膜、裝飾層及中間層除去，進一步同樣地除去圖像部32的保護膜，在基板上轉(zhuǎn)印裝飾層圖案。[0195]繼而，利用顯影將熱塑性樹脂層與中間層除去，由此可形成裝飾層圖案。[0196]也可視需要組合毛刷或高壓噴射機等公知的顯影設(shè)備。在顯影后，也可視需要進行后曝光、后烘烤，優(yōu)選的是進行后烘烤。[0197]而且，為了提高其后的轉(zhuǎn)印步驟中的利用層疊的裝飾層的密接性，可預(yù)先對基材(前面板）的非接觸面實施表面處理。作為上述表面處理，優(yōu)選的是實施使用硅烷化合物的表面處理（硅烷偶合處理）。作為硅烷偶合劑，優(yōu)選的是具有與感光性樹脂相互作用的官能基的硅烷偶合劑。例如通過噴淋吹附硅烷偶合液（Ν-β-(氨基乙基）_Y-氨基丙基三甲氧基硅烷的0.3質(zhì)量％水溶液、商品名為ΚΒΜ603、信越化學(xué)股份有限公司制造）20秒，進行純水噴淋清洗。其后，通過加熱使其反應(yīng)。也可使用加熱槽，層疊機的基板預(yù)熱也可促進反應(yīng)。[0198]作為形成上述裝飾層的方法，對使用上述轉(zhuǎn)印膜的圖案化方法加以說明。[0199]優(yōu)選的是形成上述裝飾層的方法包含：在上述轉(zhuǎn)印膜的一部分切出貫通上述著色層且并不貫通上述臨時支撐體的深度的切口的步驟；將由上述切口圍成的區(qū)域中的至少一部分區(qū)域的上述著色層除去的步驟；使用除去上述一部分區(qū)域的上述著色層后的上述轉(zhuǎn)印膜而形成上述（1)裝飾層的步驟。[0200]在上述轉(zhuǎn)印膜的一部分切出貫通上述著色層且并不貫通上述臨時支撐體的深度的切口的步驟也稱為預(yù)先預(yù)切著色層中所轉(zhuǎn)印的圖像部的步驟。另外，也將切出此種深度的切口的方法稱為半切割。[0201]除去由上述切口圍成的區(qū)域中的至少一部分區(qū)域的上述著色層的步驟也稱為除去并未轉(zhuǎn)印的非圖像部的著色層的步驟。[0202]另外，在轉(zhuǎn)印膜包含保護膜或中間層或熱塑性樹脂層的情形時，將由上述切口圍成的區(qū)域中的至少一部分區(qū)域的上述著色層除去的步驟優(yōu)選的是將非圖像部的保護膜及著色層、以及圖像部的保護膜除去的步驟。[0203]使用除去上述一部分區(qū)域的上述著色層后的上述轉(zhuǎn)印膜而形成上述（1)裝飾層的步驟也稱為將上述圖像部的著色層轉(zhuǎn)印至基材上的轉(zhuǎn)印步驟。[0204]另外，在轉(zhuǎn)印膜包含保護膜或中間層或熱塑性樹脂層的情形時，使用除去上述一部分區(qū)域的上述著色層后的上述轉(zhuǎn)印膜而形成上述（1)裝飾層的步驟優(yōu)選的是將除去了上述保護膜的上述轉(zhuǎn)印膜的上述圖像部的著色層轉(zhuǎn)印于基材上的轉(zhuǎn)印步驟。[0205]在此情形時，進而使用除去上述一部分區(qū)域的上述著色層后的上述轉(zhuǎn)印膜而形成上述（1)裝飾層的步驟優(yōu)選的是包含將在基材上所轉(zhuǎn)印的臨時支撐體剝離的步驟。[0206]在此情形時，進而使用除去上述一部分區(qū)域的上述著色層后的上述轉(zhuǎn)印膜而形成上述（1)裝飾層的步驟更優(yōu)選的是包含將熱塑性樹脂層與中間層除去的步驟。[0207]形成上述裝飾層的方法更優(yōu)選的是包含如下步驟的方法：預(yù)先預(yù)切轉(zhuǎn)印膜的著色層中所轉(zhuǎn)印的圖像部的步驟；將非圖像部的保護膜及著色層、以及圖像部的保護膜除去的步驟；將除去了上述保護膜的上述轉(zhuǎn)印膜的上述圖像部的著色層轉(zhuǎn)印于基材上的轉(zhuǎn)印步驟；將基材上所轉(zhuǎn)印的臨時支撐體剝離的步驟；將熱塑性樹脂層與中間層除去的步驟。[0208]另一方面，在上述著色層包含光硬化性樹脂層的情形時形成上述裝飾層的方法可列舉包含如下步驟的方法：自上述轉(zhuǎn)印膜除去上述保護膜的保護膜除去步驟；將除去了上述保護膜的上述感光性轉(zhuǎn)印材料的上述光硬化性樹脂層轉(zhuǎn)印于基材上的轉(zhuǎn)印步驟。在此情形時，優(yōu)選的是在上述轉(zhuǎn)印步驟后進而包含對所轉(zhuǎn)印的光硬化性樹脂層進行后曝光的步驟。[0209]-預(yù)切步驟-[0210]形成上述裝飾層的方法在不通過通常的光刻方式形成圖像的情形時，必須在轉(zhuǎn)印以前在著色層形成圖像部。關(guān)于在上述轉(zhuǎn)印膜的一部分切出貫通上述著色層且并不貫通上述臨時支撐體的深度的切口的步驟（預(yù)切步驟），在以下加以說明。[0211]作為上述切出切口的方法，并無特別限制，可利用刀、激光等任意方法而切出切口，優(yōu)選的是利用刀切出切口。而且，刀的結(jié)構(gòu)并無特別限定。[0212]作為上述轉(zhuǎn)印膜，例如在依序?qū)盈B臨時支撐體、熱塑性樹脂層、中間層、著色層、保護膜而被構(gòu)成時，例如可使用刀或激光，自保護膜上切出貫穿保護膜、著色層、中間層，直至熱塑性樹脂層的一部分的切口，由此可將進行轉(zhuǎn)印的圖像部與不進行轉(zhuǎn)印的非圖像部之間分離。[0213]-將非圖像部的著色層除去的步驟_[0214]將預(yù)切的著色層的圖像部選擇性地轉(zhuǎn)印至基板上時必須設(shè)法不轉(zhuǎn)印非圖像部。一種方法是在轉(zhuǎn)印前將非圖像部的著色層除去的方法，是在除去保護膜后，將非圖像部的著色層與中間層同時剝離的方法。另一種是剝?nèi)シ菆D像部上的保護膜，繼而將著色層與中間層同時剝離，進一步剝?nèi)D像部上的保護膜的方法。自直至轉(zhuǎn)印之前保護著色層的圖像部的觀點考慮，優(yōu)選的是后者的方法。[0215]-轉(zhuǎn)印步驟-[0216]上述轉(zhuǎn)印步驟是將除去了上述保護膜的上述轉(zhuǎn)印膜的上述著色層轉(zhuǎn)印至基材上的步驟。[0217]此時，優(yōu)選的是通過如下方式而進行的方法：在將上述轉(zhuǎn)印膜的著色層層疊于基材上之后，將臨時支撐體除去。[0218]著色層在基材表面的轉(zhuǎn)?。ㄙN合）可將著色層重疊于基材表面上，進行加壓、加熱來進行。在貼合中可使用層疊機、真空層疊機、及能夠進一步提高生產(chǎn)性的自動切割層疊機等公知層置機。[0219]-將熱塑性樹脂層除去的步驟、將中間層除去的步驟-[0220]將上述熱塑性樹脂層與中間層除去的步驟一般可使用在光刻方式中所使用的堿性顯影液而進行。在本申請說明書中，所謂顯影并不限定于利用顯影液對進行了圖案曝光的上述著色層或光硬化性樹脂層等進行顯影的狹義的含義的顯影，也包含將熱塑性樹脂層或中間層除去的步驟。作為上述堿性顯影液，并無特別制約，可使用日本專利特開平5-72724號公報中所記載的等公知的顯影液。另外，顯影液優(yōu)選的是進行裝飾層溶解型的顯影舉動的顯影液，例如優(yōu)選的是以〇·〇5mol/L?5mol/L的濃度包含pKa=7?13的化合物的，也可進一步添加少量與水具有混合性的有機溶劑。作為與水具有混合性的有機溶齊U，可列舉：甲醇、乙醇、2-丙醇、1-丙醇、丁醇、二丙酮醇、乙二醇單甲醚、乙二醇單乙醚、乙二醇單正丁醚、苯甲醇、丙酮、甲基乙基酮、環(huán)己酮、ε-己內(nèi)酯、γ-丁內(nèi)酯、二甲基甲酰胺、二甲基乙酰胺、六甲基磷酰胺、乳酸乙酯、乳酸甲酯、ε-己內(nèi)酰胺、N-甲基吡咯烷酮等。所述有機溶劑的濃度優(yōu)選的是〇.1質(zhì)量％?30質(zhì)量％。[0221]而且，在上述堿性顯影液中可進一步添加公知的表面活性劑。表面活性劑的濃度優(yōu)選的是〇.01質(zhì)量％?10質(zhì)量％。[0222]作為將上述熱塑性樹脂層與中間層除去的步驟的方式，可為覆液、噴淋、噴淋&旋涂、浸漬等的任意方法。此處對上述噴淋加以說明，可通過噴淋而吹附顯影液，由此將熱塑性樹脂層或中間層除去。而且，優(yōu)選的是在顯影后，通過噴淋而吹附清洗劑等，一面利用毛刷等擦拭，一面將殘渣除去。液體溫度優(yōu)選的是20°C?40°C，而且其pH優(yōu)選的是8?13。[0223]-后烘烤步驟_[0224]優(yōu)選的是在上述轉(zhuǎn)印步驟后包含后烘烤步驟，更優(yōu)選的是包含在將上述熱塑性樹脂層與中間層除去的步驟后進行后烘烤的步驟。[0225]作為本發(fā)明的制造方法，自兼顧白度與生產(chǎn)性的觀點考慮，優(yōu)選的是將上述轉(zhuǎn)印膜的上述著色層在〇.〇8atm?I.2atm的環(huán)境下加熱至110°C?300°C而形成上述（1)裝飾層。[0226]更優(yōu)選的是在0.Iatm?I.Iatm的環(huán)境下進行上述后烘烤的加熱，自可不使用特別的減壓裝置而減低制造成本的觀點考慮，特別優(yōu)選的是在約Iatm(大氣壓）環(huán)境下進行。此處，在現(xiàn)在通過加熱進行硬化而形成上述（1)裝飾層的情形時，通過在非常低的壓力的減壓環(huán)境下進行，使氧濃度變低而維持烘烤后的白度，但通過使用包含上述著色層的轉(zhuǎn)印膜，即使在上述壓力的范圍內(nèi)進行烘烤后，也可提高裝飾層的白度。[0227]上述后烘烤的溫度更優(yōu)選的是120°C?280°C，特別優(yōu)選的是140°C?260°C。[0228]上述后烘烤的時間更優(yōu)選的是20分鐘?150分鐘，特別優(yōu)選的是30分鐘?100分鐘。[0229]上述后烘烤可在空氣環(huán)境下進行，也可在氮氣置換環(huán)境下進行，自可不使用特別的減壓裝置而減低制造成本的觀點考慮，特別優(yōu)選的是在空氣環(huán)境下進行。[0230]-其他步驟-[0231]形成上述裝飾層的方法也可包含后曝光步驟等其他步驟。[0232]在上述著色層包含光硬化性樹脂層的情形時，在形成上述裝飾層時，優(yōu)選的是包含后曝光步驟。作為上述后曝光步驟，可僅僅自上述著色層的與上述基材接觸的側(cè)的表面方向進行，也可僅僅自不與上述透明基材接觸的側(cè)的表面方向進行，也可自兩個面方向進行。[0233]另外，作為將上述熱塑性樹脂層與中間層除去的步驟、及其他步驟的例，也可在本發(fā)明中適宜地使用日本專利特開2006-23696號公報的段落編號[0035]?段落編號[0051]中所記載的方法。[0234]〈(2)反射層（金屬或無機層的層疊體）>[0235]本發(fā)明的制造方法的特征在于：在上述前面板的非接觸側(cè)依序?qū)盈B上述（1)、上述（2)包含無機層的層疊體或金屬的反射層及上述（3)。[0236]上述包含無機物的層疊體或金屬的反射層可利用公知的方法而制作。[0237]構(gòu)成上述反射層的材料可使用公知的金屬及無機物。作為構(gòu)成上述反射層的材料，其中優(yōu)選的是金屬的薄膜，自反射率的觀點考慮，更優(yōu)選的是銀或鋁，特別優(yōu)選的是銀。也可包含不對其性能造成傷害的程度的金、銅、鎳、鐵、鈷、鎢、鑰、鉭、鉻、銦、錳、鈦、鈀、釹等金屬雜質(zhì)。這些物質(zhì)可使用2種以上，也可形成2層以上。[0238]另一方面，作為上述無機物的層疊體，并無特別限制，例如可列舉交互層疊有低折射率介電體與高折射率介電體的層疊體等，可使用日本專利特開2012-032454號公報中所記載的層置體等。[0239]形成上述（2)包含無機物的層疊體或金屬的反射層的方法存在有濕式法及干式法。[0240]所謂濕式法是鍍敷法的總稱，是使金屬自溶液中析出而形成膜的方法。若列舉具體例，則存在有使用硝酸銀的銀鏡反應(yīng)，或者通過對包含金屬絡(luò)合物（由碳酸銀等制備）的金屬絡(luò)合物溶液進行加熱使其還原而獲得金屬膜的方法等。[0241]另一方面，所謂干式法是真空成膜法的總稱，若具體地例示，則存在有電阻加熱式真空蒸鍍法、電子束加熱式真空蒸鍍法、離子鍍法、離子束輔助真空蒸鍍法、濺鍍法等。[0242]在真空蒸鍍法中，利用電子束、電阻加熱、感應(yīng)加熱等使金屬的原材料熔融，使蒸汽壓上升，優(yōu)選的是在13.3mPa(0.ImTorr)以下蒸發(fā)至基材表面。此時，也可導(dǎo)入13.3mPa以上的氬等氣體，產(chǎn)生高頻波或直流的輝光放電。[0243]濺鍍法可使用直流（DC)磁控濺鍍法、射頻（RF)磁控濺鍍法、離子束濺鍍法、電子回旋加速器（electroncyclotron，ECR)?賤鍍法、傳統(tǒng)RFi賤鍍法、傳統(tǒng)DCi賤鍍法等。在溉鍍法中，原材料使用金屬板狀的靶（target)即可，濺鍍氣體可使用氦、氖、氬、氪、氙等，但優(yōu)選的是使用氬。氣體的純度優(yōu)選的是99%以上，更優(yōu)選的是99.5%以上。而且，透明氧化膜的形成中優(yōu)選的是使用真空成膜法。主要使用濺鍍法，濺鍍氣體使用氦、氖、氬、氪、氙等，有時也可視情況使用氧氣而進行。[0244]作為上述（2)包含無機物的層疊體或金屬的反射層的厚度，是考慮在制成反射片材時透光率不足1%而決定。[0245]上述（2)包含無機物的層疊體或金屬的反射層的厚度優(yōu)選的是70nm?400nm，更優(yōu)選的是IOOnm?300nm，進一步更優(yōu)選的是IOOnm?250nm。在所述層的厚度比70nm薄的情形時，無法形成充分的金屬層，因此無法獲得所期望的反射率。而且，即使比400nm厚，其效果也不變化。[0246]上述（2)包含無機物的層疊體或金屬的反射層可直接形成于上述裝飾層上，也可將包含上述（2)包含無機物的層疊體或金屬的反射層的膜（例如銀蒸鍍膜的銀表面，或在支撐體上涂布包含銀絡(luò)合化合物的溶液之后進行加熱處理而形成的Ag薄膜的表面）貼合于裝飾層上而形成。上述（2)包含無機物的層疊體或金屬的反射層直接形成于上述裝飾層上而制造的方法可列舉：將銀絡(luò)合化合物溶液直接涂布于裝飾層上之后，進行加熱的方法。也可視需要在金屬或無機層的層疊體（例如銀蒸鍍膜的銀表面，或在支撐體上涂布包含銀絡(luò)合化合物的溶液之后進行加熱處理而形成的Ag薄膜的表面）與裝飾層的中間設(shè)置密接賦予層、障壁層等。[0247]在密接賦予層中可使用公知的粘合劑。在密接賦予層中使用粘合劑時，自耐熱性的觀點考慮，優(yōu)選的是硅酮樹脂、氟樹脂。密接賦予層的厚度優(yōu)選的是0.1Pm?4μπι。若為0.1μm以上，則獲得充分的密接力。若為4μm以下，則可防止在其后步驟的掩膜層的層疊步驟中卷入氣泡。[0248]在障壁層中可使用公知的透明氧化物,特別是可優(yōu)選地使用摻雜有0重量％?5重量％氧化鋁的氧化鋅或銦與錫的氧化物（ITO)、二氧化硅等透明氧化物。這些物質(zhì)可使用2種以上，也可形成2層以上。[0249]在障壁層中使用透明氧化物的情形時的厚度優(yōu)選的是Inm?20nm，更優(yōu)選的是5nm?10nm。在所述層的厚度比Inm薄的情形時，未能獲得所期望的障壁效果，有時在以銀為主體的金屬層中產(chǎn)生凝聚，或者產(chǎn)生由于氧、氯、硫等所造成的腐蝕。而且，即使比20nm厚，其效果也無變化。[0250]在障壁層中使用金屬薄膜的情形時，其厚度優(yōu)選的是5nm?50nm，更優(yōu)選的是5nm?30nm。在所述層的厚度比5nm薄的情形時，無法獲得所期望的障壁效果，在上述以銀為主體的金屬層產(chǎn)生凝聚。而且，即使比50nm厚，其效果也無變化。而且，在使用透明氧化物的情形時，所述層的厚度優(yōu)選的是Inm?20nm，更優(yōu)選的是5nm?10nm。在所述層的厚度比Inm薄的情形時，有時無法獲得所期望的障壁效果，變得容易自金屬或無機層的層疊體剝落。而且，即使比IOnm厚，其效果也無變化。[0251]〈（3)掩膜層〉[0252]本發(fā)明的制造方法的特征在于：在上述前面板的非接觸側(cè)依序?qū)盈B上述（I)、上述⑵及上述⑶掩膜層。[0253]上述掩膜層的厚度優(yōu)選的是0·2μm?10μm，更優(yōu)選的是0·5μm?8μm，特別優(yōu)選的是〇·8μm?6μm。[0254]在本發(fā)明的制造方法中，優(yōu)選的是使用依序包含臨時支撐體與光硬化性樹脂層的轉(zhuǎn)印膜，轉(zhuǎn)印上述轉(zhuǎn)印膜的光硬化性樹脂層而形成上述（3)掩膜層2c、第一透明電極圖案3、第二透明電極圖案4、絕緣層5、導(dǎo)電性要素6、視需要的透明保護層7的至少一個要素。此處，作為上述依序包含臨時支撐體與光硬化性樹脂層的轉(zhuǎn)印膜，優(yōu)選的是在上述裝飾層的形成中所使用的上述轉(zhuǎn)印膜或者在臨時支撐體上層疊有光硬化性樹脂層的包含光硬化性樹脂層的轉(zhuǎn)印膜。另外，上述依序包含臨時支撐體與硬化性樹脂層的轉(zhuǎn)印膜更優(yōu)選的是在上述臨時支撐體與硬化性樹脂層之間包含上述熱塑性樹脂層作為在上述裝飾層的形成中所用的上述轉(zhuǎn)印膜所包含的層。另外，上述依序包含臨時支撐體與硬化性樹脂層的轉(zhuǎn)印膜中的"硬化性樹脂層"是指上述裝飾層的形成中所使用的上述轉(zhuǎn)印膜中的"著色層"、或包含光硬化性樹脂層的轉(zhuǎn)印膜中的"光硬化性樹脂層"。[0255]更優(yōu)選的是使用包含光硬化性樹脂層的轉(zhuǎn)印膜，轉(zhuǎn)印上述轉(zhuǎn)印膜的光硬化性樹脂層而形成上述（3)掩膜層2c、第一透明電極圖案3、第二透明電極圖案4、絕緣層5、導(dǎo)電性要素6、視需要的透明保護層7的至少一個要素；特別優(yōu)選的是使用依序包含臨時支撐體、熱塑性樹脂層、光硬化性樹脂層的包含光硬化性樹脂層的轉(zhuǎn)印膜而形成。[0256]例如，在形成黑色的掩膜層2c的情形時，可通過使用包含黑色裝飾層作為上述裝飾層的且包含上述著色層的轉(zhuǎn)印膜、或包含黑色光硬化性樹脂層的且包含光硬化性樹脂層的轉(zhuǎn)印膜，在上述前面板1的表面轉(zhuǎn)印上述黑色裝飾層而形成。[0257]另外，在必需遮光性的掩膜層2c的形成中，使用具有在光硬化性樹脂層與臨時支撐體之間具有熱塑性樹脂層的特定的層構(gòu)成的轉(zhuǎn)印膜，由此可防止層疊轉(zhuǎn)印膜時產(chǎn)生氣泡，形成并無漏光的高品質(zhì)的掩膜層2b等。[0258]在將上述轉(zhuǎn)印膜的著色層、或上述包含光硬化性樹脂層的轉(zhuǎn)印膜的上述光硬化性樹脂層用作掩膜層的情形時，可在上述轉(zhuǎn)印膜的著色層或上述包含光硬化性樹脂層的光硬化性樹脂層中使用著色劑。作為上述著色劑，可適宜地使用公知的著色劑（有機顏料、無機顏料、染料等）。另外，在本發(fā)明中，可使用白、黑、紅、藍、綠色等顏料的混合物等。[0259]特別是在將上述掩膜層用作黑色的掩膜層的情形時，自光學(xué)密度的觀點考慮，優(yōu)選的是使用黑色著色劑。黑色著色劑例如可列舉碳黑、鈦碳、氧化鐵、氧化鈦、石墨等，其中優(yōu)選的是碳黑。[0260]為了用作其他顏色的掩膜層，也可將日本專利第4546276號公報的段落[0183]?段落[0185]等中所記載的顏料、或染料混合而用。具體而言可適宜地使用日本專利特開2005-17716號公報的段落編號[0038]?段落編號[0054]中所記載的顏料及染料、日本專利特開2004-361447號公報的段落編號[0068]?段落編號[0072]中所記載的顏料、日本專利特開2005-17521號公報的段落編號[0080]?段落編號[0088]中所記載的著色劑等。[0261]作為上述裝飾層以外中所使用的著色劑，自分散穩(wěn)定性的觀點考慮，優(yōu)選的是數(shù)量平均粒徑為0.001μm?0.1μm，更優(yōu)選的是0.01μm?0.08μm。另外，此處所謂的"粒徑"是指將粒子的電子顯微照片圖像設(shè)為同面積的圓時的直徑，而且所謂"數(shù)量平均粒徑"是指對多個粒子求出上述粒徑，其100個的平均值。[0262]上述包含光硬化性樹脂層的轉(zhuǎn)印膜除了上述光硬化性樹脂層、上述臨時支撐體與上述熱塑性樹脂層之外，也可包含保護膜或中間層。作為各層的優(yōu)選構(gòu)成與層疊順序，除了在上述的轉(zhuǎn)印膜中使用光硬化性樹脂層代替著色層以外，其他相同。[0263]上述包含光硬化性樹脂層的轉(zhuǎn)印膜的光硬化性樹脂層優(yōu)選的是以下的構(gòu)成。[0264]作為上述光硬化性樹脂層中所使用的上述單體，只要不違反本發(fā)明的宗旨則并無特別限制，可使用公知的聚合性化合物。[0265]上述聚合性化合物可使用日本專利第4098550號的段落[0023]?段落[0024]中所記載的聚合性化合物。[0266]作為上述光硬化性樹脂層中所使用的上述上述粘合劑，只要不違反本發(fā)明的宗旨則并無特別限制，可使用公知的聚合性化合物。[0267]在包含光硬化性樹脂層的轉(zhuǎn)印膜為負型材料的情形時，優(yōu)選的是在光硬化性樹脂層中包含堿可溶性樹脂、聚合性化合物、聚合引發(fā)劑或聚合引發(fā)系統(tǒng)（PolymerizationInitiationsystem)。另外可使用著色劑、添加劑等，但并不限定于此。[0268]作為上述包含光硬化性樹脂層的光硬化性樹脂層中所含的堿可溶性樹脂，可使用日本專利特開2011-95716號公報的段落[0025]、日本專利特開2010-237589號公報的段落[0033]?段落[0052]中所記載的聚合物。[0269]在包含光硬化性樹脂層的轉(zhuǎn)印膜為正型材料的情形時，在光硬化性樹脂層使用例如日本專利特開2005-221726中所記載的材料等，但并不限定于此。[0270]作為上述光硬化性樹脂層中所使用的上述光聚合引發(fā)劑，可使用日本專利特開2011-95716號公報中所記載的[0031]?[0042]中所記載的聚合性化合物。[0271]-添加劑_[0272]另外，上述光硬化性樹脂層也可使用添加劑。作為上述添加劑，例如可列舉日本專利第4502784號公報的段落[0017]、日本專利特開2009-237362號公報的段落[0060]?段落[0071]中所記載的表面活性劑，或日本專利第4502784號公報的段落[0018]中所記載的熱聚合抑制劑，另外日本專利特開2000-310706號公報的段落[0058]?段落[0071]中所記載的其他添加劑。[0273]-溶劑-[0274]而且，作為利用涂布制造包含光硬化性樹脂層的轉(zhuǎn)印膜時的溶劑，可使用日本專利特開2011-95716號公報的段落[0043]?段落[0044]中所記載的溶劑。[0275]以上，以包含光硬化性樹脂層的轉(zhuǎn)印膜為負型材料的情形為中心進行了說明，但上述感光性膜也可為正型材料。[0276](光硬化性樹脂層的粘度）[0277]優(yōu)選的是光硬化性樹脂層的在100°C下測定的粘度處于2000Pa·sec?50000Pa·sec的區(qū)域，另外滿足下式。[0278]熱塑性樹脂層的粘度〈光硬化性樹脂層的粘度[0279]此處，各層的粘度可如下所述地測定。利用大氣壓及減壓干燥，自熱塑性樹脂層或光硬化性樹脂層用涂布液中除去溶劑而作為測定樣品，例如使用維布?。╒ibron)(DD-III型；東洋鮑德溫（Baldwin)股份有限公司制造）作為測定器，在測定開始溫度為50°C、測定結(jié)束溫度為150°C、升溫速度為5°C/min及振動頻率為lHz/deg的條件下進行測定，可使用100°C下的測定值。[0280]〈(4)多個墊部分經(jīng)由連接部分而在第一方向上延伸而形成的多個第一透明電極圖案〉[0281]本發(fā)明的靜電電容型輸入裝置的制造方法優(yōu)選的是使用通過依序包含臨時支撐體與硬化性樹脂層的轉(zhuǎn)印膜而形成的蝕刻圖案對透明導(dǎo)電材料進行蝕刻處理，由此而形成上述第一透明電極圖案、上述第二透明電極圖案及上述導(dǎo)電性要素的至少一個；更優(yōu)選的是使用通過依序包含臨時支撐體、熱塑性樹脂層與硬化性樹脂層的轉(zhuǎn)印膜而形成的蝕刻圖案對透明導(dǎo)電材料進行蝕刻處理而形成上述第一透明電極圖案、上述第二透明電極圖案及上述導(dǎo)電性要素的至少一個。[0282]另外，更優(yōu)選的是使用通過包含臨時支撐體與光硬化性樹脂層的且包含光硬化性樹脂層的轉(zhuǎn)印膜而形成的蝕刻圖案而形成上述第一透明電極圖案、上述第二透明電極圖案及上述導(dǎo)電性要素的至少一個；特別優(yōu)選的是使用通過依序包含臨時支撐體、熱塑性樹脂層與光硬化性樹脂層的包含光硬化性樹脂層的轉(zhuǎn)印膜而形成的蝕刻圖案。[0283]另一方面，本發(fā)明的靜電電容型輸入裝置的制造方法優(yōu)選的是使用依序包含臨時支撐體與導(dǎo)電性硬化性樹脂層的轉(zhuǎn)印膜而形成上述第一透明電極圖案、上述第二透明電極圖案及上述導(dǎo)電性要素的至少一個，更優(yōu)選的是使用依序包含臨時支撐體、熱塑性樹脂層與導(dǎo)電性硬化性樹脂層的轉(zhuǎn)印膜而形成上述第一透明電極圖案、上述第二透明電極圖案及上述導(dǎo)電性要素的至少一個。[0284]亦即，上述第一透明電極圖案3優(yōu)選的是使用蝕刻處理或包含導(dǎo)電性硬化性樹脂層的轉(zhuǎn)印膜而形成。[0285](蝕刻處理）[0286]在通過蝕刻處理形成上述第一透明電極圖案3的情形時，優(yōu)選的是首先利用濺鍍在形成有掩膜層2b等的前面板1的非接觸面上形成ITO等的透明電極層。其次，優(yōu)選的是在上述透明電極層上，使用包含蝕刻用光硬化性樹脂層作為上述光硬化性樹脂層、除此以外與上述掩膜層的形成中所使用的轉(zhuǎn)印膜同樣的轉(zhuǎn)印膜，利用曝光、顯影而形成蝕刻圖案。其后，可通過對透明電極層進行蝕刻而對透明電極進行圖案化，將蝕刻圖案除去而形成第一透明電極圖案3等。[0287]在將上述包含光硬化性樹脂層的轉(zhuǎn)印膜用作蝕刻抗蝕劑（蝕刻圖案）的情形時，可與上述方法同樣地進行而獲得抗蝕劑圖案。上述蝕刻可利用日本專利特開2010-152155公報的段落[0048]?段落[0054]等中所記載的公知方法而適用蝕刻、抗蝕劑剝離。[0288]例如作為蝕刻的方法，可列舉一般所進行的浸漬于蝕刻液中的濕式蝕刻法。濕式蝕刻中所使用的蝕刻液可根據(jù)蝕刻對象而適宜選擇酸性型或堿性型的蝕刻液即可。酸性型的蝕刻液可例示鹽酸、硫酸、氫氟酸、磷酸等酸性成分的單獨水溶液，酸性成分與氯化鐵、氟化銨、高錳酸鉀等鹽的混合水溶液等。酸性成分也可使用多種酸性成分組合而成的。而且，堿性型的蝕刻液可例示氫氧化鈉、氫氧化鉀、氨、有機胺、四甲基氫氧化銨這樣的有機胺的鹽等堿成分的單獨水溶液，堿成分與高錳酸鉀等鹽的混合水溶液等。堿成分也可使用多種堿成分組合而成的。[0289]蝕刻液的溫度并無特別限定，優(yōu)選的是45°C以下。作為蝕刻掩膜（蝕刻圖案）而使用的樹脂圖案是使用上述裝飾層而形成的，因此對于此種溫度區(qū)域的酸性及堿性的蝕刻液發(fā)揮特別優(yōu)異的耐受性。因此防止在蝕刻步驟中樹脂圖案剝離，使不存在樹脂圖案的部分被選擇性蝕刻。[0290]在上述蝕刻后，為了防止線污染而也可視需要進行清洗步驟、干燥步驟。關(guān)于清洗步驟，例如在常溫下利用純水對基材清洗10秒?300秒而進行，關(guān)于干燥步驟，使用吹風(airblow)，適宜調(diào)整吹風壓力（0·lkg/cm2?5kg/cm2左右）而進行即可。[0291]其次，作為樹脂圖案的剝離方法，并無特別限定，例如可列舉在30°C?80°C、優(yōu)選的是50°C?80°C下，將基材浸漬于攪拌中的剝離液中5分鐘?30分鐘的方法。作為蝕刻掩膜而使用的樹脂圖案是如上所述地在45°C以下顯示出優(yōu)異的耐藥液性的樹脂圖案，若藥液溫度成為50°C以上，則顯示出由于堿性剝離液而膨潤的性質(zhì)。由于此種性質(zhì)，具有若使用50°C?80°C的剝離液而進行剝離步驟，則步驟時間縮短、樹脂圖案的剝離殘渣變少的優(yōu)點。亦即，通過在上述蝕刻步驟與剝離步驟之間設(shè)置藥液溫度的差，作為蝕刻掩膜而使用的樹脂圖案在蝕刻步驟中發(fā)揮良好的耐藥液性，另一方面在剝離步驟中顯示出良好的剝離性，可同時滿足耐藥液性與剝離性的相反特性。[0292]剝離液例如可列舉使氫氧化鈉、氫氧化鉀等無機堿成分或三級胺、四級銨鹽等有機堿成分溶解于水、二甲基亞砜、N-甲基吡咯烷酮、或這些的混合溶液中而成的。也可使用上述剝離液，利用噴霧法、噴淋法、覆液法等而進行剝離。[0293](使用包含導(dǎo)電性硬化性樹脂層的轉(zhuǎn)印膜的方法）[0294]而且，也可使用包含臨時支撐體及硬化性樹脂層的轉(zhuǎn)印膜作為剝離（lift-off)材，形成第一透明電極圖案、第二電極圖案及其他導(dǎo)電性構(gòu)件，上述轉(zhuǎn)印膜可列舉包含上述著色層的上述轉(zhuǎn)印膜、或上述包含光硬化性樹脂層的轉(zhuǎn)印膜。在此情形時，也優(yōu)選的是上述包含臨時支撐體及硬化性樹脂層的轉(zhuǎn)印膜在上述臨時支撐體及上述硬化性樹脂層之間包含上述熱塑性樹脂層。在此情形時，使用包含上述著色層的上述轉(zhuǎn)印膜或包含光硬化性樹脂層的轉(zhuǎn)印膜而進行圖案化后，在基材整個面上形成透明導(dǎo)電層，然后連同所堆積的透明導(dǎo)電層一起溶解除去包含上述著色層的上述轉(zhuǎn)印膜中的著色層或包含光硬化性樹脂層的轉(zhuǎn)印膜中的所述光硬化性樹脂層，由此可獲得所期望的透明導(dǎo)電層圖案（剝離法）。[0295]在使用包含導(dǎo)電性硬化性樹脂層的轉(zhuǎn)印膜而形成上述第一透明電極圖案3的情形時，可通過在上述前面板1的表面轉(zhuǎn)印上述導(dǎo)電性硬化性樹脂層而形成。[0296]若使用上述包含導(dǎo)電性硬化性樹脂層的轉(zhuǎn)印膜而形成上述第一透明電極圖案3，則即使在具有開口部的基板（前面板），抗蝕劑成分也不自開口部分漏出，可在不污染基板背面?zhèn)鹊那闆r下，以簡略的步驟而制造具有薄層/輕量化的優(yōu)點的觸摸屏。[0297]另外，在第一透明電極圖案3的形成中，通過使用具有在導(dǎo)電性硬化性樹脂層與臨時支撐體之間包含熱塑性樹脂層的特定的層構(gòu)成的轉(zhuǎn)印膜，可防止層疊轉(zhuǎn)印膜時產(chǎn)生氣泡，形成導(dǎo)電性優(yōu)異、電阻小的第一透明電極圖案3。[0298]而且，在上述轉(zhuǎn)印膜包含導(dǎo)電性硬化性樹脂層的情形時，上述導(dǎo)電性硬化性樹脂層中含有導(dǎo)電性纖維等。[0299]?導(dǎo)電性硬化性樹脂層（導(dǎo)電性纖維）?[0300]將上述層疊有導(dǎo)電性硬化性樹脂層的轉(zhuǎn)印膜用于形成透明電極圖案、或其他導(dǎo)電性要素的情形時，可將以下的導(dǎo)電性纖維等用于裝飾層中。[0301]導(dǎo)電性纖維的結(jié)構(gòu)并無特別限制，可視需要而適宜選擇，優(yōu)選的是實心結(jié)構(gòu)及中空結(jié)構(gòu)的任意的。[0302]此處，有時將實心結(jié)構(gòu)的纖維稱為"線"，將中空結(jié)構(gòu)的纖維稱為"管"。而且，有時將平均短軸長度為5nm?1，OOOnm、平均長軸長度為1μm?100μm的導(dǎo)電性纖維稱為"納米線"。[0303]而且，有時將平均短軸長度為Inm?1，OOOnm、平均長軸長度為0·1μm?1，000μm、且具有中空結(jié)構(gòu)的導(dǎo)電性纖維稱為"納米管"。[0304]作為上述導(dǎo)電性纖維的材料，若具有導(dǎo)電性則并無特別限制，可視需要而適宜選擇，優(yōu)選的是金屬及碳的至少任意的，在這些中，上述導(dǎo)電性纖維特別優(yōu)選的是金屬納米線、金屬納米管、及碳納米管的至少任意的。[0305]-金屬納米線-[0306]--金屬一[0307]上述金屬納米線的材料并無特別限制，例如優(yōu)選的是選自由長周期表(IUPAC1991)的第4周期、第5周期、及第6周期所構(gòu)成的群組的至少1種金屬，更優(yōu)選的是選自第2族?第14族的至少1種金屬，進一步更優(yōu)選的是選自第2族、第8族、第9族、第10族、第11族、第12族、第13族、及第14族的至少1種金屬，特別優(yōu)選的是包含這些金屬作為主成分。[0308]上述金屬例如可列舉銅、銀、金、鉬、鈀、鎳、錫、鈷、銠、銥、鐵、釕、鋨、錳、鑰、鎢、鈮、鉭、鈦、鉍、銻、鉛、這些的合金等。就導(dǎo)電性優(yōu)異的方面而言，這些中優(yōu)選的是主要含有銀的材料、或含有銀與銀以外的金屬的合金的材料。[0309]上述所謂主要含有銀是表示在金屬納米線中含有50質(zhì)量％以上、優(yōu)選的是90質(zhì)量％以上的銀。[0310]上述與銀的合金中所使用的金屬可列舉鉬、鋨、鈀及銥等。這些金屬可單獨使用1種，也可并用2種以上。[0311]-形狀一[0312]作為上述金屬納米線的形狀，并無特別限制，可視需要適宜選擇，例如可使用圓柱狀、長方體狀、剖面為多邊形的柱狀等任意形狀，在必需高透明性的用途中，優(yōu)選的是圓柱狀、剖面的多邊形的角圓滑的剖面形狀。[0313]上述金屬納米線的剖面形狀可通過在基材上涂布金屬納米線水分散液，利用透射式電子顯微鏡（TransmissionElectronMicroscope，TEM)觀察剖面而調(diào)查。[0314]上述金屬納米線剖面的角是表示將剖面的各邊延長，與自相鄰邊落下的垂線相交的點的周邊部。而且，"剖面的各邊"是這些相鄰的角與角連結(jié)而成的直線。在此情形時，將上述"剖面的外周長度"相對于上述"剖面的各邊"的合計長度的比例作為銳利度。作為銳利度，例如在如圖9所示的金屬納米線剖面中，可利用以實線表示的剖面的外周長度與以虛線表示的五邊形的外周長度的比例而表示。將所述銳利度為75%以下的剖面形狀定義為角圓滑的剖面形狀。上述銳利度優(yōu)選的是60%以下，更優(yōu)選的是50%以下。若上述銳利度超過75%，則有時在所述角處局部存在電子，等離子體激元（plasmon)吸收增加，因此殘存黃色調(diào)等而造成透明性惡化。而且，有時圖案的邊緣部的直線性降低，產(chǎn)生粗糙。上述銳利度的下限優(yōu)選的是30%，更優(yōu)選的是40%。[0315]-平均短軸長度徑及平均長軸長度一[0316]上述金屬納米線的平均短軸長度（有時也稱為"平均短軸徑"、"平均直徑"）優(yōu)選的是150nm以下，更優(yōu)選的是Inm?40nm，進一步更優(yōu)選的是IOnm?40nm，特別優(yōu)選的是15nm?35nm〇[0317]若上述平均短軸長度不足lnm，則存在耐氧化性惡化，耐久性變差的現(xiàn)象；若超過150nm，則存在產(chǎn)生由于金屬納米線所引起的散射，無法獲得充分的透明性的現(xiàn)象。[0318]上述金屬納米線的平均短軸長度可使用透射式電子顯微鏡（TEM;日本電子股份有限公司制造、JEM-2000FX)，對300個金屬納米線進行觀察，根據(jù)其平均值求出金屬納米線的平均短軸長度。另外，上述金屬納米線的短軸并非圓形的情形時的短軸長度可將最長的作為短軸長度。[0319]上述金屬納米線的平均長軸長度（有時稱為"平均長度"）優(yōu)選的是Iym?40μm，更優(yōu)選的是3μm?35μm，進一步更優(yōu)選的是5μm?30μm。[0320]若上述平均長軸長度不足1μm，則存在難以形成致密的網(wǎng)狀物（network)，無法獲得充分的導(dǎo)電性的現(xiàn)象；若超過40μm，則存在金屬納米線過長而在制造時纏繞，在制造過程中生成凝聚物的現(xiàn)象。[0321]上述金屬納米線的平均長軸長度例如可使用透射式電子顯微鏡（TEM;日本電子股份有限公司制造、JEM-2000FX)，對300個金屬納米線進行觀察，根據(jù)其平均值求出金屬納米線的平均長軸長度。另外，在上述金屬納米線彎曲的情形時，考慮以此為弧的圓，將根據(jù)其半徑及曲率而算出的值作為長軸長度。[0322]自涂布液的穩(wěn)定性或涂布時的干燥或圖案化時的顯影時間等工藝適合性的觀點考慮，導(dǎo)電性硬化性樹脂層的層厚優(yōu)選的是〇·1μm?20μm，更優(yōu)選的是0·5μm?18μm，特別優(yōu)選的是1μm?15μm。自導(dǎo)電性與涂布液的穩(wěn)定性的觀點考慮，上述導(dǎo)電性纖維相對于上述導(dǎo)電性硬化性樹脂層的所有固體成分的含量優(yōu)選的是〇.01質(zhì)量％?50質(zhì)量％，更優(yōu)選的是〇.05質(zhì)量％?30質(zhì)量％，特別優(yōu)選的是0.1質(zhì)量％?20質(zhì)量％。[0323]〈(5)與上述第一電極圖案電絕緣，在與上述第一方向交叉的方向上延伸而形成的包含多個墊部分的多個第二電極圖案〉[0324]本發(fā)明的靜電電容型輸入裝置的第二電極圖案也可為透明電極圖案。另外，在本說明書中，以第二透明電極圖案代替第二電極圖案而加以說明，但第二電極圖案的優(yōu)選的實施方式也與第二透明電極圖案的優(yōu)選的實施方式相同。[0325]上述第二透明電極圖案4可使用上述蝕刻處理或上述包含導(dǎo)電性硬化性樹脂層的轉(zhuǎn)印膜而形成。此時的優(yōu)選的實施方式與上述第一透明電極圖案3的形成方法相同。[0326]〈(6)使上述第一透明電極圖案與上述第二電極圖案電絕緣的絕緣層〉[0327]在形成絕緣層5的情形時，可通過如下方式而形成：使用包含絕緣性著色層作為上述著色層的上述轉(zhuǎn)印膜、或者包含絕緣性光硬化性樹脂層作為上述光硬化性樹脂層的上述包含光硬化性樹脂層的轉(zhuǎn)印膜，在形成有第一透明電極圖案的上述前面板1的表面轉(zhuǎn)印上述絕緣性著色層或光硬化性樹脂層。[0328]另外，在使用轉(zhuǎn)印膜形成絕緣層的情形時，自維持絕緣性的觀點考慮，絕緣層的層厚優(yōu)選的是〇·Iμm?5μm，更優(yōu)選的是0·3μm?3μm，特別優(yōu)選的是0·5μm?2μm。[0329]〈(7)與上述第一透明電極圖案及上述第二電極圖案的至少一個電性連接，與上述第一透明電極圖案及上述第二電極圖案不同的導(dǎo)電性要素〉[0330]上述其他導(dǎo)電性要素6可使用上述蝕刻處理或上述包含導(dǎo)電性硬化性樹脂層的轉(zhuǎn)印膜而形成。[0331]〈(8)透明保護層〉[0332]在形成透明保護層7的情形時，可通過如下方式而形成：使用包含透明著色層作為上述著色層的上述轉(zhuǎn)印膜、或包含透明光硬化性樹脂層作為上述光硬化性樹脂層的上述包含光硬化性樹脂層的轉(zhuǎn)印膜，在形成有各要素的上述前面板1的表面轉(zhuǎn)印上述透明著色層或透明光硬化性樹脂層。[0333]在使用轉(zhuǎn)印膜形成透明保護層的情形時，自發(fā)揮充分的表面保護能力的觀點考慮，透明保護層的層厚優(yōu)選的是〇·5μm?10μm，更優(yōu)選的是0·8μm?5μm，特別優(yōu)選的是Ιμπι?3μηι〇[0334]〈〈靜電電容型輸入裝置、及包含靜電電容型輸入裝置作為構(gòu)成要素的圖像顯示裝置》[0335]利用本發(fā)明的制造方法而所得的靜電電容型輸入裝置、及包含所述靜電電容型輸入裝置作為構(gòu)成要素的圖像顯示裝置可適用《最新觸摸屏技術(shù)》（2009年7月6日發(fā)行，技術(shù)時代股份有限公司（TechnoTimesCo.,Ltd))、三谷雄二主編，《觸摸屏的技術(shù)與開發(fā)》、CMC出版（2004,12)，2009年國際平板顯示器展（FPDInternational2009Forum)T-ll講座教材（textbook)，賽普拉斯半導(dǎo)體公司（CypressSemiconductorCorporation)應(yīng)用注解AN2292等中所揭示的構(gòu)成。[0336][實施例][0337]以下，利用實施例對本發(fā)明加以更具體的說明。[0338]以下實施例中所示的材料、使用量、比例、處理內(nèi)容、處理順序等只要不偏離本發(fā)明的宗旨則可適宜變更。因此，本發(fā)明的范圍并不由于以下所示的具體例而限定性地解釋。另外，只要無特別說明，則"％"及"份"是質(zhì)量基準。[0339][實施例1][0340]〈裝飾層形成用轉(zhuǎn)印膜Ll的制備〉[0341]在厚度為75μπι的聚對苯二甲酸乙二酯膜臨時支撐體上，使用狹縫（slit)狀噴嘴而涂布包含下述配方Hl的熱塑性樹脂層用涂布液，在100°C下使其干燥2分鐘后進一步在120°C下使其干燥1分鐘，形成干燥層厚為15μm的熱塑性樹脂層。此處，干燥條件中的溫度"KKTC"及"120°C"均為干燥風的溫度。以下的干燥條件中的溫度也同樣。其次，涂布包含下述配方Pl的中間層用涂布液，在KKTC下使其干燥2分鐘后，進一步在120°C下使其干燥10分鐘而進行干燥。進一步涂布包含下述配方Ll的著色層用涂布液而使其干燥。如上所述而在臨時支撐體上設(shè)置干燥膜厚為15.1μm的熱塑性樹脂層、干燥膜厚為1.6μm的中間層、干燥膜厚為2.5μm的白色著色層，最后壓接保護膜（厚度為12μm的聚丙烯膜）。如上所述而制作臨時支撐體、熱塑性樹脂層、中間層（隔氧膜）、著色層、保護膜成為一體的轉(zhuǎn)印材料，將樣品名設(shè)為裝飾層形成用轉(zhuǎn)印膜L1。[0342](熱塑性樹脂層用涂布液：配方Hl)[0343]甲醇：11.1質(zhì)量份丙二醇單甲釀乙酸_:6.36質(zhì)量份?甲基乙基酮：52.4廣量份?甲基丙?酸甲酯/丙烯酸-2-乙基己酯/甲基丙烯酸芐酯/甲基丙烯酸共聚物（共聚組成比(摩爾比）=55/11.7/4.5/28.8、分子量=10萬、Tg=70°C):5.83質(zhì)量份苯乙烯/丙烯酸共聚物（共聚組成比（摩爾比）=63/37、重量平均分子量=1萬、Tg=1000C);13.6質(zhì)量份?篳體1(商品名：BPE-500、新中村化學(xué)工業(yè)股份有限公司制）:9.1質(zhì)量份?表面活性劑（氟系聚合物、商品名：美佳法（Megafoe)F780F、大日本油墨化學(xué)工業(yè)股份有限公司制造）：0.54質(zhì)量份[0344]上述氟系聚合物是40份C6F13CH2CH2OCOCh=012與55份H(OCH(CH3)CH2)70C0CH=012與5份!1(001012)700)01=012的共聚物，重量平均分子量為3萬、甲基乙基酮為30質(zhì)量％的溶液。[0345]另外，熱塑性樹脂層用涂布液Hl的除去溶劑后的120°C的粘度為1500Pa·sec。[0346](中間層用涂布液：配方PI)[0347]聚乙烯醇：32.2質(zhì)量份(商品名：PVA205、可樂麗（Kuraray)股份有限公司制造、皂化度=88%、聚合度為550)聚乙烯吡咯烷_:14.9質(zhì)量份(商品名：K-30、ISP日本（ISPJapan)股份有限公司制造）蒸餾水：524質(zhì)量份?甲醇：429質(zhì)量份[0348](著色層用涂布液：配方LI)甲基乙基酮（東燃化學(xué)股份有限公司制造）：15.7質(zhì)量份.硅_樹脂KR-300(信越化學(xué)工業(yè)股份有限公司制造：線性硅酮二甲苯溶液（固體成分為50質(zhì)量％))··104.5質(zhì)量份硅_樹脂KR-3U(信越化學(xué)工業(yè)股份有限公司制造；線性硅酮二甲苯溶液（固體成分為50質(zhì)量％)):104.5質(zhì)量份'白色顏料分散物1(下述組成）：123質(zhì)量份抗氧化劑（蘇米萊澤（Sumilizer)GP、住友化學(xué)股份有限公司制造）:0.195質(zhì)量份-表面活性劑（商品名：美佳法（Megafae)F-780F、迪爰生（DIO股份有限公司制造）:0.78質(zhì)量份[0349]-白色顏料分散物1的組成_[0350]?氧化tt(石M產(chǎn)業(yè)制造的CR97:氧化鋁/氧化鋯處理金紅石型、一次粒徑為025μπΟ:70.0質(zhì)量％?甲基丙烯酸芐議/甲基丙烯酸=72/28摩爾比的無規(guī)共聚物、重量平均分子量為3.7萬:3.5質(zhì)量％·￥基乙基_(東燃化學(xué)股份有限公司制造）：26.5質(zhì)量％[0351]〈本發(fā)明的靜電電容型輸入裝置的制造〉[0352]使用上述所得的轉(zhuǎn)印膜作為裝飾層形成用轉(zhuǎn)印膜，通過以下的方法制造實施例1的靜電電容型輸入裝置。[0353]〈〈裝飾層的形成》[0354]對于形成有開口部（15mmΦ)的強化處理玻璃（300mmX400mmX0.7mm)，一面通過噴淋吹附調(diào)整為25°C的玻璃清洗劑溶液20秒，一面用具有尼龍毛的旋轉(zhuǎn)毛刷進行清洗，在純水噴淋清洗后，通過噴淋吹附硅烷偶合溶液（N-β-(氨基乙基）-γ-氨基丙基三甲氧基硅烷為〇.3質(zhì)量％水溶液、商品名：ΚΒΜ603、信越化學(xué)工業(yè)股份有限公司制造）20秒，進行純水噴淋清洗。將所述基材在基材預(yù)熱裝置中在90°C下進行2分鐘的預(yù)熱。[0355]自所得的裝飾層形成用轉(zhuǎn)印膜Ll的保護膜25側(cè)，如圖10及圖11中所記載那樣切入貫通保護膜25、著色層24、中間層23,直至熱塑性樹脂層22的一部分的切口，分成用以轉(zhuǎn)印著色層的圖像部32、不轉(zhuǎn)印著色層的非圖像部31。其次，使用膠帶而僅僅將非圖像部31的保護膜25剝離，同樣地使用膠帶將非圖像部31的著色層24與中間層23這2層同時剝離。進一步僅僅將與圖像部32對應(yīng)的區(qū)域的保護膜25剝離。[0356]以將保護膜25剝離后所露出的圖像部32的著色層24的表面、與上述在90°C下經(jīng)預(yù)熱且進行了硅烷偶合處理的強化玻璃基材的表面相接的方式進行疊合，使用層疊機（日立工業(yè)（industries)股份有限公司制造（拉米克（Lamic)II型）），在橡膠棍溫度為120°C、線性壓力為lOON/cm、搬送速度為2.5m/min下進行層疊。繼而在與熱塑性樹脂層22的表面將聚對苯二甲酸乙二酯的臨時支撐體21剝離，除去臨時支撐體21。[0357]由此由裝飾層形成用轉(zhuǎn)印膜Ll在上述玻璃基材的圖像部32轉(zhuǎn)印著色層24、中間層23及熱塑性樹脂層22,由裝飾層形成用轉(zhuǎn)印膜Ll在上述玻璃基材的非圖像部31僅僅轉(zhuǎn)印熱塑性樹脂層22。[0358]其次，用三乙醇胺系顯影液（含有30質(zhì)量％的三乙醇胺、利用純水將商品名T-PD2(富士膠片株式會社制造）稀釋10倍而成的液體）在30°C下，在扁嘴（flatnozzle)壓力為0.IMPa下進行60秒的噴淋顯影，將上述玻璃基材的圖像部32的熱塑性樹脂層22與中間層23、以及非圖像部31的熱塑性樹脂層22除去。繼而，對所述玻璃基材的上表面吹附空氣而脫液（drainliquidoff)后,通過噴淋吹附純水10秒,進行純水噴淋清洗,其次吹附空氣而除去玻璃基材上的水分。[0359]其后，在大氣壓（Iatm)下、空氣中、在240°C下進行45分鐘的后烘烤處理而使著色層24成為裝飾層，獲得形成有裝飾層的前面板。[0360]〈〈裝飾層的評價》[0361](膜厚測定）[0362]使用表面粗糙度計P-IO(科磊（TENCOR)公司制造）而測定強化處理玻璃上形成有裝飾層的前面板的裝飾層的膜厚。將其結(jié)果記載于下述表1中。另外，在下述表1中，"μ"表示"μ--"。[0363](轉(zhuǎn)印性的評價）[0364]將如上述所示而制作的裝飾層形成用轉(zhuǎn)印膜Ll的保護膜剝離，將裝飾層形成用轉(zhuǎn)印膜Ll的著色層疊合在后述的本發(fā)明的靜電電容型輸入裝置的制造中所制備的進行了硅烷偶合處理的強化玻璃的表面，用層疊機進行貼合后，將聚對苯二甲酸乙二酯膜制的臨時支撐體剝離，觀察所剝離的臨時支撐體的膜表面，根據(jù)以下基準進行評價。C以上為實用級別。[0365]〈評價基準〉[0366]A:在整個面完全轉(zhuǎn)印，轉(zhuǎn)印性極其良好。[0367]B:僅僅膜的邊緣存在稍許轉(zhuǎn)印殘留，轉(zhuǎn)印性良好。[0368]C:在膜全體存在輕微的轉(zhuǎn)印殘留，轉(zhuǎn)印性普通。[0369]D:膜上到處存在膜狀著色層（感光性樹脂）的轉(zhuǎn)印殘留，轉(zhuǎn)印性差。[0370]將評價結(jié)果記載于下述表1中。[0371](預(yù)切性的評價）[0372]自裝飾層形成用轉(zhuǎn)印膜的保護膜25側(cè)，如圖12所記載那樣切入貫通保護膜25、著色層24、中間層23,直至熱塑性樹脂層22的一部分的切口而進行預(yù)切后，進行所形成的著色層的圖像圖案輪廓部分及周邊部分的光學(xué)顯微鏡觀察，根據(jù)下述基準評價在輪廓及周邊是否殘存切割屑。實用級別為D以上，優(yōu)選的是C以上。[0373]〈評價基準〉[0374]A:剖面被干凈地切斷，完全無刀的污垢，預(yù)切適合性極其良好。[0375]B:僅僅剖面的邊緣存在稍許的污垢或剝落，完全無刀的污垢，預(yù)切適合性良好。[0376]C:在剖面存在稍許污垢或剝落，但烘烤后光滑而無問題，刀的污垢也極其少，預(yù)切適合性普通。[0377]D:在剖面存在數(shù)mm寬的污垢或剝落，即使進行烘烤也不恢復(fù)，實用上需要修復(fù)。刀的污垢嚴重，必須每隔數(shù)次進行一次清洗，預(yù)切適合性差。[0378]E:以剖面的缺落為起點而圖像部分被破壞，存在實用上的問題?；蛘叩兜奈酃竾乐?，必須每次進行清洗，非常差。[0379]將評價結(jié)果記載于下述表1中。[0380]〈〈反射層的形成》[0381]〈反射層形成用轉(zhuǎn)印膜Ml的制備〉[0382]在真空腔體內(nèi)安放2.0μm的聚酰亞胺膜，使用Ag革巴（原子比率Ag/Ga=98.5/1.5)，利用DC磁控濺鍍（極限真空0.27XmPa以下、Ar氣壓：0.27Pa、濺鍍功率：200W、極間距離：55mm、基板溫度：室溫），在其上形成厚度為200nm的Ag薄膜。[0383]在所述Ag蒸鍍面上涂布下述密接賦予層用涂布液，在KKTC下進行2分鐘的干燥，制作0.6μm的附有密接賦予層的銀反射層膜。[0384](密接賦予層用涂布液：配方Pl)[0385]?丙二醇單甲11乙酸酯：42質(zhì)量份?甲基乙基酬（東燃化學(xué)股份有限公司制造）：48質(zhì)量份二甲苯：24質(zhì)量份?硅酮樹脂KR-+282(信越化學(xué)工業(yè)股份有限公司制造；線性硅酮二甲苯溶液（固體成分為50質(zhì)童％)):209質(zhì)量份?抗氧化劑（蘇米萊澤（Sumilizer)GP、住友化學(xué)股份有限公司制造）:0.195質(zhì)量份?表面活性劑（商品名：美佳法（Megafae)F-780F、迪愛生（DIC)股份有限公司制造）:0.78質(zhì)量份[0386]對所述附有保護層的銀反射層膜，自密接賦予層的面放入剃刀。以與邊框形狀的裝飾層的內(nèi)側(cè)重疊的部分與前面板重疊時錐角（coneangle)成為約30度的方式切入切□。[0387]利用硅烷偶合液對前面板進行處理，進行純水噴淋清洗。在基材預(yù)熱裝置中，將所述基材在90°C下進行2分鐘的加熱。繼而，與實施例1的裝飾層的形成同樣地以前面板的裝飾層與銀反射層膜的密接賦予層重疊的方式進行層疊。[0388]在冷卻后，使銀反射層膜成為下側(cè)而將所層疊的前面板移至平的金屬板上，沿著前面板的邊緣接觸剃刀，將伸出的銀反射層膜切落。[0389]自前面板的未形成裝飾層的面測定亮度，結(jié)果L值為87.0、b值為1.62。[0390]而且，利用目視判斷前面板的裝飾層的白度，結(jié)果是并無問題，為良好的級別。[0391]〈〈掩膜層的形成》[0392]〈掩膜層形成用轉(zhuǎn)印膜Kl的制備〉[0393]在上述裝飾層形成用轉(zhuǎn)印膜Ll的制備中，將包含上述配方Ll的著色層用涂布液替代為包含下述配方Kl的掩膜層形成用涂布液，除此以外與裝飾層形成用轉(zhuǎn)印膜Ll的制備同樣地進行而獲得臨時支撐體、熱塑性樹脂層、中間層（隔氧膜）、掩膜層形成用光硬化性樹脂層及保護膜成為一體的掩膜層形成用轉(zhuǎn)印膜K1。掩膜層形成用光硬化性樹脂層的膜厚為2.2μm。[0394](掩膜層形成用涂布液：配方ΚΙ)[0395]?Κ顏料分散物1(下述的組成）：19.5質(zhì)量份?白色顏料分散物1(與著色層用涂布液中所使用的相同）；3.65質(zhì)量份MMPGAo(大賽璐化學(xué)股份有限公司制造）：6.+2質(zhì)量份甲基乙基酬（東燃化學(xué)股份有限公司制造）：34.0質(zhì)量份?環(huán)己_C關(guān)東電化工業(yè)股份有限公司制造）：8.5質(zhì)量份[0396]粘合劑2(甲基丙烯酸芐酯/甲基丙烯酸=78/22摩爾比的無規(guī)共聚物、重量平均分子量為3.8萬）：10.8質(zhì)量份俯__(phenothiazine)(東京化成股份有限公苛制造）：0.01質(zhì)量份-DPHA(二季戊四醇六丙烯酸||、日本化薬殷份有限公司制造）的丙二醇單甲_乙酸B溶液（76質(zhì)量％):5.5質(zhì)量份2-(二甲基氨基)-2-[(4-甲基苯基)甲基]-l-[4-(4-嗎啉基)苯基]-1-丁麗（商品名：艷佳固(Irgacure)379、巴斯夫（BASF)制造）：0.17質(zhì)量份表面活性劑（商品名：美佳法（Megafac)F-780F、大日+油墨股份有[?公司制造）:0.〗M量份[0397]-K顏料分散物1的組成-[0398]碳黑（商品名：尼派克斯（Nipex)35、德固賽（Degussa)公司_造）:B.1質(zhì)量％?下述分散劑1:0.65質(zhì)量％?粘合?H￥基丙?酸芐酯/甲基丙烯酸=72/28摩爾比的無規(guī)共聚物、重量平均分子量為3.7萬.）：6J2質(zhì)量。/〇?丙二醇單甲11乙酸β:79.53質(zhì)m%【權(quán)利要求】1.一種靜電電容型輸入裝置的制造方法，所述靜電電容型輸入裝置包含前面板、在所述前面板的非接觸側(cè)至少包含下述（1)?（3)的要素，所述靜電電容型輸入裝置的制造方法的特征在于：在所述前面板的非接觸側(cè)依序?qū)盈B所述（1)、所述⑵及所述（3)，(1)包含無機白色顏料及粘合劑，膜厚為1Um以上且不足30ym的裝飾層；(2)包含無機物的層疊體或金屬的反射層；(3)掩膜層。2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的靜電電容型輸入裝置的制造方法，其特征在于：所述反射層包含金屬。3.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的靜電電容型輸入裝置的制造方法，其特征在于：所述反射層的厚度為lOOnm以上。4.根據(jù)權(quán)利要求1至3中任一項所述的靜電電容型輸入裝置的制造方法，其特征在于：使用包含著色層的轉(zhuǎn)印膜而至少形成所述（1)。5.根據(jù)權(quán)利要求1至4中任一項所述的靜電電容型輸入裝置的制造方法，其特征在于：包含在層疊所述（1)裝飾層之后，在0.08atm?1.2atm的環(huán)境下加熱至110°C?300°C的步驟。6.根據(jù)權(quán)利要求1至5中任一項所述的靜電電容型輸入裝置的制造方法，其特征在于：在所述（3)的要素上層疊透明電極圖案。7.根據(jù)權(quán)利要求1至5中任一項所述的靜電電容型輸入裝置的制造方法，其特征在于：在所述（3)的要素上層疊下述（4)?（6)的要素：(4)多個墊部分經(jīng)由連接部分而在第一方向上延伸而形成的多個第一透明電極圖案(5)與所述第一透明電極圖案電絕緣，在與所述第一方向交叉的方向上延伸而形成的包含所述多個墊部分的多個第二電極圖案(6)使所述第一透明電極圖案與所述第二電極圖案電絕緣的絕緣層。8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的靜電電容型輸入裝置的制造方法，其特征在于：將所述第一透明電極圖案及所述第二電極圖案的至少一個設(shè)置成跨在所述前面板的非接觸面及所述掩模層的與所述前面板側(cè)相反側(cè)的面的雙方區(qū)域。9.根據(jù)權(quán)利要求7或8所述的靜電電容型輸入裝置的制造方法，其特征在于：所述第二電極圖案是透明電極圖案。10.根據(jù)權(quán)利要求7至9中任一項所述的靜電電容型輸入裝置的制造方法，其特征在于：所述靜電電容型輸入裝置進一步包含（7)與所述第一透明電極圖案及所述第二電極圖案的至少一個電性連接、與所述第一透明電極圖案及所述第二電極圖案不同的導(dǎo)電性要素。11.根據(jù)權(quán)利要求10所述的靜電電容型輸入裝置的制造方法，其特征在于：至少在所述掩膜層的與前面板相反側(cè)的面?zhèn)仍O(shè)置所述（7)其他導(dǎo)電性要素。12.根據(jù)權(quán)利要求10或11所述的靜電電容型輸入裝置的制造方法，其特征在于：進一步以覆蓋所述（1)?（7)的要素的全部或一部分的方式設(shè)置（8)透明保護層。13.根據(jù)權(quán)利要求12所述的靜電電容型輸入裝置的制造方法，其特征在于：使用依序包含臨時支撐體、熱塑性樹脂層、光硬化性樹脂層的轉(zhuǎn)印膜，轉(zhuǎn)印所述轉(zhuǎn)印膜的光硬化性樹脂層而形成所述透明保護層。14.根據(jù)權(quán)利要求10至13中任一項所述的靜電電容型輸入裝置的制造方法，其特征在于：使用通過依序包含臨時支撐體、熱塑性樹脂層、光硬化性樹脂層的轉(zhuǎn)印膜而形成的蝕刻圖案對透明導(dǎo)電材料進行蝕刻處理，由此形成所述第一透明電極圖案、所述第二電極圖案及所述導(dǎo)電性要素的至少一個。15.根據(jù)權(quán)利要求10至14中任一項所述的靜電電容型輸入裝置的制造方法，其特征在于：使用依序包含臨時支撐體、熱塑性樹脂層、導(dǎo)電性光硬化性樹脂層的轉(zhuǎn)印膜，轉(zhuǎn)印所述轉(zhuǎn)印膜的導(dǎo)電性光硬化性樹脂層而形成所述第一透明電極圖案、所述第二電極圖案及所述導(dǎo)電性要素的至少一個。16.根據(jù)權(quán)利要求1至15中任一項所述的靜電電容型輸入裝置的制造方法，其特征在于：對所述前面板的非接觸面進行表面處理，在實施了所述表面處理的所述前面板的非接觸面上設(shè)置裝飾層。17.根據(jù)權(quán)利要求16所述的靜電電容型輸入裝置的制造方法，其特征在于：在所述前面板的表面處理中使用硅烷化合物。18.根據(jù)權(quán)利要求1至17中任一項所述的靜電電容型輸入裝置的制造方法，其特征在于：所述前面板在至少一部分具有開口部。19.一種靜電電容型輸入裝置，其特征在于：利用根據(jù)權(quán)利要求1至18中任一項所述的靜電電容型輸入裝置的制造方法制造而成。20.-種圖像顯示裝置，其特征在于：包含根據(jù)權(quán)利要求19所述的靜電電容型輸入裝置作為構(gòu)成要素?！疚臋n編號】G06F3/041GK104508608SQ201380035907【公開日】2015年4月8日申請日期:2013年8月30日優(yōu)先權(quán)日:2012年9月19日【發(fā)明者】后藤英范,吉成伸一申請人:富士膠片株式會社