與顯示窗一體的電容式接觸感應器以及其制造方法
【專利摘要】本發(fā)明涉及一種電容式接觸感應器，更詳細而言，涉及一種與顯示窗一體的電容式接觸感應器。根據(jù)本發(fā)明的與顯示窗一體的電容式接觸感應器，包括：顯示窗基板，其為透明材料制備；絕緣性不透明裝飾層，其配置在所述基板的一面的邊緣使得在所述基板劃分透明顯示窗區(qū)域(W)；透明電極圖案層，其配置在所述基板的顯示窗區(qū)域(W)和裝飾層的上部；導電性布線圖案層，其配置于所述透明電極圖案層的上部邊緣。所述導電性布線圖案層以由所述不透明裝飾層隱藏的方式配置。根據(jù)本發(fā)明的接觸感應器，在顯示窗下部面一體形成接觸感應器，從而不需要另外透明電極圖案化的基板(PET)，能夠提供薄型接觸感應器。而且，根據(jù)本發(fā)明的接觸感應器不需要粘接基板和感應器的壓合膠粘劑，因此可以減低制造費用。
【專利說明】與顯示窗一體的電容式接觸感應器以及其制造方法
[0001]技術區(qū)域
[0002]本發(fā)明涉及一種電容式接觸感應器，更詳細而言，涉及一種與顯示窗一體的電容式接觸感應器。
[0003]接觸感應器多用作手機、PDA (Personal Digital Assistance)、MP3等便攜式電子設備的輸入裝置。接觸感應器公知的有電阻膜式和電容式。電容式接觸感應器，其耐久性出色、具有多點觸控功能，最近廣泛適用在手機。
【背景技術】
[0004]圖1是安裝了現(xiàn)有電容式接觸感應器組件110的手機的透視圖，圖2是表示在手機內(nèi)部設置了接觸感應器的狀態(tài)的截面圖。
[0005]現(xiàn)有手機100包括上部殼體101、接觸感應器組件110以及下部殼體102。上部殼體101在其中央開口形成有支撐部101a，并在該支撐部IOla設置接觸感應器組件110。并且，在上部殼體101的前面設置開關120。在下部殼體102設置如IXD等顯示裝置140和主PCB1500顯示裝置140配置在接觸感應器110的下部，雖未圖示，用于傳輸信號的柔性電路基板(FPC: flexible printed circuit)連接于接觸感應器組件110和主PCB150。并且,在上部殼體101設有揚聲器130，在側面設有麥克風140。
[0006]最近，為了容易組裝且外觀美麗，將結構設計成接觸感應器的前面與上部殼體的前面相同的高度。即，在上部殼體101的中央開口部周圍形成具有段差的支撐部101a，該段差與接觸感應器組件110的厚度相同。通常，接觸感應器組件110的前面區(qū)分為由顯示裝置140輸出的圖像的透明顯示窗區(qū)域W和圍繞顯示窗區(qū)域的裝飾區(qū)域D。顯示窗區(qū)域W是觸摸的部分。裝飾區(qū)域D是印刷手機的商標或圖形標志的位置，同時發(fā)揮隱藏接觸感應器邊緣的不透明導電性布線圖案的功能。

【發(fā)明內(nèi)容】

[0007]圖3表示用于制造現(xiàn)有接觸感應器組件200的工序。如圖所示，接觸感應器組件200包括顯示窗211和附著于顯示窗211下部的接觸感應器220。
[0008]顯示窗211通常使用強化玻璃或者透明壓克力板(acrylic panel)。在顯示窗211的下部面涂布不透明裝飾層212 (圖3 (h))。不透明裝飾層212的涂布可通過絲網(wǎng)等方法印刷或者可由絕緣性物質的蒸鍍等形成。
[0009]制造電容式接觸感應器220的工序如下，首先，在由玻璃或者PET薄膜而成的基板216的上面涂布透明導電性薄膜215。透明導電性薄膜215的涂布由濺射或蒸鍍氧化銦錫(ITO)、氧化鋅銦(IZO)、氧化鋅(ZnO)、氧化鎘錫(CTO)等完成(圖3(b))。接著除去涂布的透明導電性薄膜215的一部分形成透明電極圖案215(圖3(c))。透明電極圖案可利用公知的光刻技術或者激光加工形成。然后，涂布與透明電極圖案電連接的導電性電路布線214(圖3(d))。導電性電路布線214的涂布可通過絲網(wǎng)印刷法涂布導電性油墨。涂布用于與顯示窗基板211結合的壓合膠粘劑213 (PSA, Pressure Sensitive Adhesive),結合顯示窗基板211和接觸感應器220。然后，將用于與接觸感應器200電連接的FPC218用異方性導電膠膜(ACF:anisotropic conductive film)連接在導電性布線圖案214的端部。
[0010]粘合如所述制造的電容式接觸感應器220和印刷了裝飾層212的顯示窗211完成接觸感應器組件200。此時，接觸感應器的不透明導電性布線圖案214或接觸感應器的死區(qū)(Dead zone)配置在裝飾區(qū)域D的下部。
[0011]通過所述工序制造的接觸感應器組件200存在如下問題。
[0012]第一，在粘合顯示窗211和接觸感應器220的工序中，在顯示窗區(qū)域殘留氣泡217，或進入異物，這會導致接觸感應器組件200的瑕疵。發(fā)生氣泡而引起的瑕疵，是因被印刷在顯示窗下部面的不透明裝飾層212和沒有印刷裝飾層的顯示窗區(qū)域W之間發(fā)生高度之差而發(fā)生的。
[0013]第二，在粘合顯示窗和接觸感應器時發(fā)生位置不準。這是因顯示窗和接觸感應器的收縮率之差和對準誤差而導致的。
[0014]第三，需要結合顯示窗211和接觸感應器200的工序和為此工序所需的設備投資。由此，制造工序變長，瑕疵發(fā)生率變高，需要很多工作人力，從而制造費用上升。
[0015]第四，雖然僅由顯示窗211的強度能保護顯示裝置140，但是由于使用另外的基板216，因此，接觸感應器組件的厚度變厚，材料費用上升。而且，由于接觸感應器組件的厚度變厚，因此其接觸感應度以及光透射率變低。
[0016]本發(fā)明為解決所述問題點而提出的。本發(fā)明的目的在于，提供一種能夠提供薄型電子裝置的新構造接觸感應器。本發(fā)明的第二目的在于，提供一種制造薄型新構造接觸感應器的方法。
[0017]如以下說明，所述本發(fā)明的目的可通過在顯示窗一體形成接觸感應器的方法所達成。
[0018]根據(jù)本發(fā)明的一側面的與顯示窗一體的電容式接觸感應器，包括:顯示窗基板，其為透明材料制備；絕緣性不透明裝飾層，其配置在所述基板的一面邊緣使得在所述基板劃分透明顯示窗區(qū)域W ;導電性透明電極圖案層，其配置在所述基板的顯示窗區(qū)域W和裝飾層的上部；導電性電路布線層，其配置于所述導電性透明電極圖案層的上部邊緣。
[0019]為了防止因透明電極圖案層和顯示窗基板折射率之差可見透明電極圖案，可在透明電極圖案層的上部進一步涂布抗反射層。
[0020]另外，在形成有裝飾層的顯示窗基板涂布SiO2薄膜來代替涂布抗反射層，由此能減少可見電極圖案的現(xiàn)象。此時，在所述SiO2薄膜的上部形成透明導電性電極圖案。所述SiO2薄膜的厚度在30?2000 Ω范圍。
[0021]為了保護所述導電性透明電極圖案層和導電性布線層，并防止在顯示窗基板破碎時碎片散射，在抗反射層的上部或導電性透明電極圖案層的上部進一步涂布散射防護層。
[0022]所述絕緣性不透明裝飾層將絕緣性油墨絲網(wǎng)印刷在顯示窗基板上而形成或者將絕緣性金屬合金或者絕緣性金屬氧化物或者絕緣性金屬氮化物涂布在顯示窗基板后，使得在涂膜上劃分顯示窗區(qū)域W絲網(wǎng)印刷絕緣性油墨所形成。
[0023]所述導電性透明電極圖案層在由氧化銦錫(ITO)、氧化鋅銦(IZO)、氧化鋅(ZnO)、氧化鎘錫(CTO)而成的群中選擇適當?shù)难趸锒褂谩?br> [0024]根據(jù)本發(fā)明另一側面的制造與顯示窗一體的電容式接觸感應器的方法，包括:提供透明材質的顯示窗基板的步驟；使得在所述顯示窗基板劃分透明顯示窗區(qū)域W，在所述接觸顯示窗基板的一面的邊緣提供絕緣性不透明裝飾層的步驟；除去所述導電性電極薄膜的一部分形成預定導電性電極圖案的步驟；在所述顯示窗區(qū)域和裝飾層的上部涂布透明導電性電極薄膜的步驟；除去局部所述導電性電極薄膜形成規(guī)定導電性電極圖案的步驟；在所述導電性電極圖案的邊緣涂布導電性電路布線層的步驟。
[0025]所述絕緣性不透明裝飾層可在顯示窗基板直接絲網(wǎng)印刷絕緣性油墨所形成。并且，為了使裝飾層的外觀更加美麗，在顯示窗基板涂布絕緣性金屬合金或者絕緣性金屬氧化物或者絕緣性金屬氮化物之后，使得在涂膜上劃分顯示窗區(qū)域W絲網(wǎng)印刷絕緣性油墨所形成。此時，通過蝕刻工序去除顯示窗區(qū)域的絕緣性涂膜。所述絕緣性金屬氧化物包括二氧化鈦(Tio2)或者二氧化硅(SiO2)。并且，所述絕緣性金屬合金包括錫或者硅鋁合金。
[0026]根據(jù)本發(fā)明的另一方法，進一步包括在所述透明電極圖案和導電性電極圖案的上部涂布抗反射層的步驟?？狗瓷鋵拥耐坎伎梢允褂脼R射法或者蒸鍍法。
[0027]在涂布導電性電極薄膜之前，可進進行在形成有裝飾層的顯示窗基板涂布SiO2薄膜的步驟。若在SiO2薄膜的上部形成電極圖案，則不需另外涂布抗反射層也可以防止可見電極圖案的現(xiàn)象。SiO2薄膜的厚度優(yōu)選在30?2000 Ω范圍。
[0028]根據(jù)本發(fā)明的另一方法，在使用強化玻璃時，優(yōu)選進一步包括在涂布所述抗反射層之后涂布散射防護層115的步驟。涂布散射防護層可以使用絲網(wǎng)印刷法。
[0029]根據(jù)本發(fā)明的接觸感應器，由于在顯示窗下面一體形成有接觸感應器，因此不需另外使用基板(涂布ITO的PET膜或者涂布ITO的玻璃基板)可提供薄型接觸感應器。即，提供比現(xiàn)有接觸感應器更薄且光透射率更出色的接觸感應器。并且，根據(jù)本發(fā)明的接觸感應器不需要粘接基板和感應器的壓合膠粘劑因此可以減低制造費用。
[0030]根據(jù)本發(fā)明的接觸感應器的制造方法，通過將電容式接觸感應器直接形成在涂布裝飾層的顯示窗基板的下部，由此可以解除按照現(xiàn)有方法在感應器粘接在顯示窗時發(fā)生的氣泡或者異物的混入而引起的不良。并根本解除按照現(xiàn)有方法制造時粘合工序中發(fā)生的對準不良。而且，根據(jù)本發(fā)明的接觸感應器的制造方法，解除粘接顯示窗基板和接觸感應器的工序，由此縮短生產(chǎn)工序，減少不良的發(fā)生并減低制造費用。另外，由于不需要用于粘接顯示窗和接觸感應器的其他設備，因此可以減低因設備投資而引起的制造費用。
【專利附圖】

【附圖說明】
[0031]圖1是安裝了電容式接觸感應器的手機的透視圖。
[0032]圖2是表示在手機設置了接觸感應器的截面圖。
[0033]圖3是制造現(xiàn)有接觸顯示窗和電容式接觸感應器的工序的說明圖。
[0034]圖4是用于說明根據(jù)本發(fā)明的與顯示窗一體的電容式接觸感應器的結構的概略圖。
[0035]圖5是用于說明根據(jù)本發(fā)明的與顯示窗一體的電容式接觸感應器的結構的展開透視圖。
[0036]圖6是說明制造根據(jù)本發(fā)明的與顯示窗一體的電容式接觸感應器的方法的工序圖。
[0037]200:接觸感應器組件，211、311:顯示窗基板，212、312:裝飾層，213:壓合膠粘劑(PSA), 214:布線圖案層，215:導電性電極圖案層，216:基板(PET薄膜)，310:與顯示窗一體的接觸感應器，313:導電性電極圖案層，314:電路布線層，315:抗反射層，316:散射防護
層
【具體實施方式】
[0038]圖4是用于說明根據(jù)本發(fā)明的與顯示窗一體的電容式接觸感應器的結構的概略圖，圖5是用于說明根據(jù)本發(fā)明的與顯示窗一體的電容式接觸感應器的結構的展開透視圖。
[0039]根據(jù)圖4及圖5，說明根據(jù)本發(fā)明的與顯示窗一體的接觸感應器的一實施例。
[0040]本實施例的接觸感應器310包括:強化玻璃構成的顯示窗基板311、涂布于顯示窗基板311的上表面邊緣的裝飾層312、被涂布于顯示窗基板311的上表面的導電性透明電極圖案層313。而且，在電極圖案層313的邊緣上部涂布導電性電路布線層314。本實施例的接觸感應器，在電極圖案層313的上部涂布抗反射層315，在抗反射層的上部涂布散射防護層 315。
[0041]顯示窗基板311使用透明壓克力板或強化玻璃基板。將壓克力板用作顯示窗基板311時可以不涂布散射防護層315。在顯示窗基板311的上表面邊緣形成涂布絕緣性物質的不透明裝飾層312，使得在顯示窗基板311的中央部劃分透明接觸區(qū)域W。裝飾層312構成顯示窗311的裝飾區(qū)域D。
[0042]本實施例中，裝飾層312以薄膜形式涂布錫或者硅鋁合金等絕緣性金屬或者涂布絕緣性氧化物(TiO2以及SiO2的層疊)，在裝飾區(qū)域D印刷絕緣性油墨后，通過蝕刻工序去除涂布于顯示窗區(qū)域W的絕緣性薄膜。在裝飾層312可以形成表示產(chǎn)品的商標或圖形標志等裝飾圖案。在裝置區(qū)域D形成商標或圖形標志等裝飾圖案時，可以用形成顯示窗區(qū)域的方法來形成。在裝飾圖案也可以進一步附加彩色印刷形成彩色圖案。與本實施例不同，也可以在顯示窗基板311的上表面直接印刷絕緣性油墨來形成裝飾層312。
[0043]本實施例中，透明電極圖案層313涂布于顯示窗區(qū)域W和裝飾層312的局部。當然，電極圖案層313也可以涂布于整個顯示窗區(qū)域W和整個裝飾層312。電極圖案層313是通過光刻技術去除由濺射形成的ITO薄膜(參照圖6(d))的一部分而形成的。而且，在形成電極圖案層313時，除氧化銦錫(ITO)外還可以在氧化鋅銦(IZO)、氧化鋅(ZnO)、氧化鎘錫(CTO)中適當選擇使用。
[0044]用于連接電極圖案層313的導電性電路布線層314涂布在位于裝飾區(qū)域D的電極圖案層313的上部。不透明裝飾層312被不透明導電性電路布線層314隱藏，使得在外部看不見。導電性電路布線層314通過絲網(wǎng)印刷導電性油墨而形成。并且，為了使顯示窗區(qū)域W最大，通過濺射工序涂布金屬薄膜之后，通過光刻技術形成電路布線層314。為了確保透明顯示窗區(qū)域W，印刷不透明導電性油墨而成的電路布線層314僅在裝飾區(qū)域D配置。由此，透明電極圖案層313的一部分邊緣延伸到裝飾區(qū)域D，配置于裝飾區(qū)域D的導電性布線層314涂布于透明電極圖案層313的邊緣。
[0045]為了利用光的相消干涉現(xiàn)象，防止因透明電極圖案313和顯示窗基板311的折射率之差而使得電極圖案可以被看見的現(xiàn)象，抗反射層(AR層,AntiReflection layer)涂布于導電性透明電極圖案層313上。抗反射層在真空中利用TiO2或SiO2通過濺射或蒸鍍而形成。
[0046]如本實施例，代替在透明電極圖案313的上部蒸鍍抗反射層315，也可以在形成有裝飾層312的顯示窗基板311的上表面蒸鍍SiO2薄膜，在該薄膜上也可以形成ITO電極圖案。
[0047]散射防護層316保護透明電極圖案層313和電路布線層314，在由強化玻璃而成的顯示窗基板311破損時防止碎片散射。散射防護層316是印刷UV硬化性樹脂后照射UV而形成的。
[0048]未說明符號317是用于電連接接觸感應器的柔性電路基板(FPC)，通過異方導電性膜(ACF)連接于電路布線層314的終端部。
[0049]本實施例的與顯示窗一體的感應器310可以比現(xiàn)有接觸感應器組件200更薄，降低工藝瑕疵，縮短工序時間數(shù)并減低制造費用。即，現(xiàn)有接觸感應器組件200從下部以基板(涂布ITO的PET薄膜或涂布ITO的玻璃基板)、ITO圖案層、電極圖案層、抗反射層、壓合膠粘劑層(PSA)、裝飾印刷層、顯示窗基板的順序層疊，因此其制造工序繁雜且又厚。相反，本實施例的接觸感應器310通過將接觸感應器一體型成在顯示窗基板，省略將感應器粘接在顯示窗基板的工序，由此不需要壓合膠粘劑層(PSA)和基板(涂布ITO的PET薄膜或涂布ITO的玻璃基板)而成為薄型，解決粘接時發(fā)生的氣泡而引起的瑕疵、進入異物而引起的瑕疵、位置不準引起的對準瑕疵。
[0050]以下，說明制造本實施例的與顯示窗一體的接觸感應器的工序。圖6是概略地表示圖4所示的與顯示窗一體的電容式接觸感應器的制造工序。
[0051]首先，準備適當尺寸的強化玻璃基板或壓克力基板(圖6(a))。
[0052]接著，涂布用于形成裝飾層312的絕緣性材質薄膜312'(圖6(b))。絕緣性材質薄膜312,在真空中蒸鍍絕緣性金屬或者絕緣性氧化物或者氮化物。
[0053]然后，利用絲網(wǎng)印刷機在絕緣性材質的薄膜312'上印刷絕緣性油墨形成裝飾層312之后，用熱風干燥器在80度下干燥60分鐘。干燥印刷的裝飾層312后，除涂布于被印刷的裝飾層312下部的絕緣性薄膜外，利用蝕刻溶液去除蒸鍍于顯示窗區(qū)域W的絕緣性薄膜(圖6(c))。實際上，被印刷的裝飾層312的厚度比絕緣性材質薄膜312'的厚度厚數(shù)百倍以上，在圖6中，為了方便，不考慮厚度比例而進行圖示。
[0054]本實施例中說明了在蒸鍍絕緣性材質薄膜312'后印刷裝飾層312進行蝕刻的方法，但是，也可以不蒸鍍絕緣性材質薄膜312'，可以利用絲網(wǎng)印刷機直接將絕緣性油墨印刷在顯示窗基板而印刷裝飾層。被印刷的裝飾層312在熱風干燥器中在80度下干燥60分鐘或者可以使用近紅外線(IR)進行干燥。
[0055]接著，在顯示窗區(qū)域W和裝飾層312涂布透明導電性薄膜(ΙΤ0薄膜)313'(圖6(d))。ITO薄膜313'，優(yōu)選其表面電阻為100至700 Ω范圍，可見光線透射率為87%以上。涂布ITO薄膜313'的工序可以利用與現(xiàn)有電容式接觸感應器相同的工序，因此省略詳細說明。此處，裝飾層312在被印刷的顯示窗基板311直接涂布ITO而形成電極圖案制造接觸感應器的方法需要轉換構思。尤其，被印刷的裝飾層312的厚度為10 μ m左右，相反，ITO薄膜313'的厚度為0.01?0.1ym左右。S卩，ITO薄膜313'的厚度比裝飾印刷層的厚度薄很多。因此，在印刷了裝飾層的顯示窗基板上直接涂布ITO薄膜然后選擇性地蝕刻形成圖案從來沒有被探究過。為了制作與顯示窗一體的接觸感應器，在涂布ITO薄膜313'時，被印刷的裝飾層312和顯示窗區(qū)域W之間有很大的厚度之差，應精細地涂布ITO薄膜使得具有均勻的表面電阻和透射率。
[0056]然后，部分地去除透明導電性薄膜313'形成規(guī)定透明電極圖案313(圖6(e))。在ITO薄膜313'上形成電極圖案的工序與制造現(xiàn)有電容式接觸感應器的工序相同，因此省略詳細說明。
[0057]其次，在配置于裝飾層312上部的透明導電性電極圖案313的邊緣部形成導電性電路布線層314(圖6(f))。電路布線層314通過絲網(wǎng)印刷法印刷導電性油墨而形成。布線層314使用絲網(wǎng)上圖案化的罩子，利用印刷設備印刷銀漿形成。布線層314的布線寬度在50?200μπι范圍。另外，為了使顯示窗區(qū)域最大，在真空中蒸鍍金屬薄膜之后通過光刻技術形成布線層。此時，布線寬度可在5?ΙΟμπι范圍。
[0058]接著，在電極圖案313的上部涂布抗反射層315 (圖6 (g))。由于透明電極圖案313和顯示窗基板311具有折射率之差，因此發(fā)生顯示窗區(qū)域W的電極圖案可以看見的現(xiàn)象。由此，為了隱藏透明電極圖案313并提高光透射率進行低反射涂布處理。低反射涂布主要利用濺射法和真空蒸鍍法。使用二氧化鈦、二氧化硅、氟化鎂等作為抗反射層，也可以以兩層或四層層疊氧化鈦和氧化硅形成抗反射層315，從而，隱藏透明電極圖案，并在可見光區(qū)域減低反射率提高透射率。
[0059]然后，顯示窗基板為強化玻璃時涂布散射防護層316，該散射防護層用于保護透明電極圖案層313以及布線層314，并且在顯示窗基板311破碎時防止碎片散射。抗放射層311利用絲網(wǎng)印刷涂布熱硬化性樹脂后在80度下干燥60分鐘。
[0060]最后，在導電性電極圖案層314的終端部連結PCB317。
[0061]根據(jù)本實施例的方法，提供制造工序簡單的與顯示窗一體的接觸感應器。尤其，與現(xiàn)有接觸感應器組件的制造工序相比，省略了接合顯示窗和接觸感應器的工序，因此提高生產(chǎn)性，并且由于除去壓合膠粘劑層(PSA層)，因此可以薄型化，從而可以提供光投射率出色的與顯示窗一體的接觸感應器。并且，由于省略了顯示窗和接觸感應器的結合工序，因此，也解決了因裝飾層的段差而發(fā)生的氣泡所引起的不良、進入異物而引起的不良以及對準不良。
[0062]在根據(jù)本發(fā)明的實施例中舉例說明了制造接觸感應器的工序，雖未圖示在大面積圓盤同時制造多個接觸感應器的方法，但，此對本技術人員來說是自明的。
[0063]所述本發(fā)明的實施例不能解釋為限定本發(fā)明的技術思想。本發(fā)明的保護范圍僅通過權利要求范圍來限定，對于本發(fā)明的技術思想屬于本發(fā)明的【技術領域】中的技術人員可以改變?yōu)楦鞣N形態(tài)。這些改良以及變更對本【技術領域】的技術人員來說是自明的，因此應理解為屬于本發(fā)明的保護范圍。
[0064]根據(jù)本發(fā)明的與顯示窗一體的接觸感應器可以用作手機、照相機等便攜式電子裝置的輸入裝置。尤其，使用根據(jù)本發(fā)明的接觸感應器，可以使便攜式電子裝置薄型化。而且，具有可以提高透射率的優(yōu)點。
【權利要求】
1.一種與顯不窗一體的電容式接觸感應器，其包括: 顯示窗基板(311)，其為透明材料； 絕緣性不透明裝飾層(312)，其配置在所述基板一表面的邊緣以在所述基板劃分出透明顯示窗區(qū)域(W)； 導電性透明電極圖案層(313)，其配置在所述基板的顯示窗區(qū)域(W)和裝飾層的上部； 導電性電路布線層(314)，其配置于所述導電性透明電極圖案層(313)上表面的邊緣。
2.根據(jù)權利要求1所述的與顯示窗一體的電容式接觸感應器，其特征在于進一步包括: 抗反射層(315)，其配置于所述導電性透明電極圖案層(313)的上部。
3.根據(jù)權利要求1所述的與顯示窗一體的電容式接觸感應器，其特征在于進一步包括: SiO2層， 其涂布于所述顯示窗基板(311)和透明電極圖案層(313)之間。
4.根據(jù)權利要求2所述的與顯示窗一體的電容式接觸感應器，其特征在于進一步包括: 散射防護層(316)，其配置于所述抗反射層(315)的上部。
5.根據(jù)權利要求1至4中任一項所述的與顯示窗一體的電容式接觸感應器，其特征在于: 所述絕緣性不透明裝飾層(112)是用絕緣性油墨通過絲網(wǎng)印刷而形成的。
6.根據(jù)權利要求1至5中任一項所述的與顯示窗一體的電容式接觸感應器，其特征在于: 所述絕緣性不透明裝飾層(112)包括由絕緣性金屬合金或者絕緣性金屬氧化物構成的涂層，絕緣性油墨被印刷在所述涂層上。
7.根據(jù)權利要求6所述的與顯示窗一體的電容式接觸感應器，其特征在于: 所述絕緣性金屬氧化物包括二氧化鈦(Ti O2)或者二氧化硅(SiO2)。
8.根據(jù)權利要求6所述的與顯示窗一體的電容式接觸感應器，其特征在于: 所述絕緣性金屬合金包括錫或者硅鋁合金。
9.根據(jù)權利要求1至5中任一項所述的與顯示窗一體的電容式接觸感應器，其特征在于: 所述導電性電極圖案層由選自氧化銦錫(Ι--)、氧化鋅銦(IZO)、氧化鋅(ZnO)、氧化鎘錫(CTO)所組成的組中的氧化物形成。
10.一種制造與顯示窗一體的電容式接觸感應器的方法，其包括: 提供透明材質的顯示窗基板(311)的步驟； 在所述顯示窗基板一表面的邊緣提供絕緣性不透明裝飾層(312)以在所述顯示窗基板劃分出透明顯示窗區(qū)域(W)的步驟； 在所述顯示窗區(qū)域(W)和裝飾層(D)上涂布透明導電性電極薄膜(313')的步驟； 部分地除去所述導電性電極薄膜以形成預定透明導電性電極圖案(313)的步驟； 在所述透明導電性電極圖案(313)的邊緣涂布導電性電路布線層(314)的步驟。
11.根據(jù)權利要求10所述的制造與顯示窗一體的電容式接觸感應器的方法，其特征在于進一步包括:在透明電極圖案和導電性布線層的上部涂布抗反射層(315)的步驟。
12.根據(jù)權利要求11所述的制造與顯示窗一體的電容式接觸感應器的方法，其特征在于進一步包括: 在所述抗反射層的上部涂布散射防護層(316)的步驟。
13.根據(jù)權利要求10所述的制造與顯示窗一體的電容式接觸感應器的方法，其特征在于進一步包括: 在涂布所述透明導電性電極薄膜(313^ )之前涂布二氧化硅層(SiO2)的步驟。
14.根據(jù)權利要求10至13中的任一項所述的制造與顯示窗一體的電容式接觸感應器的方法，其特征在于提供絕緣性不透明裝飾層(312)的步驟進一步包括: 在所述顯示窗基板(311)的一面涂布絕緣性金屬合金層(312')或者絕緣性金屬氧化層(312')的步驟； 在裝飾區(qū)域(D)的所述絕緣性金屬合金層或者金屬氧化物層上的涂布絕緣性油墨以在所述顯示窗基板(311)劃分出顯示窗區(qū)域(W)的步驟； 通過蝕刻除去涂布于所述顯示窗區(qū)域(W)的金屬合金層或者絕緣性金屬氧化物層的步驟。
15.根據(jù)權利 要求14所述的制造與顯示窗一體的電容式接觸感應器的方法，其特征在于: 所述絕緣性金屬氧化物包括二氧化鈦(Tio2)或者二氧化硅(SiO2)。
16.根據(jù)權利要求14所述的制造與顯示窗一體的電容式接觸感應器的方法，其特征在于: 所述絕緣性金屬合金包括錫或者硅鋁合金。
17.根據(jù)權利要求10至13中的任一項所述的制造與顯示窗一體的電容式接觸感應器的方法，其特征在于: 提供所述絕緣性不透明裝飾層(112)的步驟通過絲網(wǎng)印刷絕緣性油墨來完成。
18.根據(jù)權利要求10至13中的任一項所述的制造與顯示窗一體的電容式接觸感應器的方法，其特征在于: 所述透明電極薄膜的涂布是通過濺射選自由氧化銦錫(ITO)、氧化鋅銦(IZO)、氧化鋅(ZnO)、氧化鎘錫(CTO)所組成的組中的一種氧化物而形成的。
【文檔編號】G06F3/044GK103927068SQ201410198578
【公開日】2014年7月16日 申請日期:2009年3月30日 優(yōu)先權日:2008年6月27日
【發(fā)明者】樸宰范 申請人:世景有限公司, 樸宰范