使用帶電粒子束的半自動(dòng)粒子分析的方法和數(shù)據(jù)分析系統(tǒng)的制作方法
【專利摘要】公開了用于根據(jù)由帶電粒子顯微鏡生成的對象的微觀數(shù)據(jù)來生成分析數(shù)據(jù)的數(shù)據(jù)分析系統(tǒng)。微觀數(shù)據(jù)包括示出結(jié)構(gòu)的圖像。通過圖形用戶界面在顯示器上顯示結(jié)構(gòu)的圖形表示。生成代表分離切割的至少一條路徑的分離數(shù)據(jù)，分離切割將結(jié)構(gòu)的像素相互分離。根據(jù)分離數(shù)據(jù)，通過不同地標(biāo)記表示的不同區(qū)域部分來通過圖形用戶界面可視化地標(biāo)記分離切割，表示的不同區(qū)域部分代表通過分離切割相互分離的結(jié)構(gòu)的不同的像素。根據(jù)微觀數(shù)據(jù)并且根據(jù)分離數(shù)據(jù)，生成針對對象的至少兩個(gè)部分中的每個(gè)部分的分離分析數(shù)據(jù)。
【專利說明】使用帶電粒子束的半自動(dòng)粒子分析的方法和數(shù)據(jù)分析系統(tǒng)

【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本發(fā)明一般涉及數(shù)據(jù)分析系統(tǒng)和用于操作數(shù)據(jù)分析系統(tǒng)的方法，該數(shù)據(jù)分析系統(tǒng)被配置用于由帶電粒子顯微鏡生成的微觀數(shù)據(jù)的自動(dòng)或半自動(dòng)數(shù)據(jù)分析。更具體地，本發(fā)明涉及數(shù)據(jù)分析系統(tǒng)和用于操作數(shù)據(jù)分析系統(tǒng)的方法，該數(shù)據(jù)分析系統(tǒng)被配置為生成多個(gè)對象粒子的統(tǒng)計(jì)數(shù)據(jù)。

【背景技術(shù)】
[0002]存在公知的321(掃描電子顯微鏡)系統(tǒng)，其配備有￡1^(能量分散型X射線譜)系統(tǒng)。初級電子束(即丨胍!^ 61601:1-011 1368111)從樣品激發(fā)特征X射線的發(fā)射?！??系統(tǒng)具有能量分散光譜儀，其檢測X射線的數(shù)量和能量。這允許進(jìn)行樣品的元素分析或化學(xué)特性。
[0003]這樣的321系統(tǒng)被廣泛用于粒子礦物分析。在用于粒子礦物分析的典型樣品制備技術(shù)中，巖石例如通過使用研缽和研件(￠681:16)壓碎，被分解成它的組成顆粒(#411)。樣品顆粒然后與石墨粒子混合，石墨粒子充當(dāng)分離物以區(qū)分單獨(dú)粒子。樣品顆粒和石墨的混合物被放置在環(huán)氧樹脂中并被拋光。在可替換的樣品制備方法中，樣品顆粒被保持在雙面粘結(jié)碳膠帶上。然后，在表面上涂覆碳膜以形成傳導(dǎo)涂層，以防止電子束充電。然后對象被插入到321的真空室中。
[0004]為了獲得準(zhǔn)確的顆粒礦物分析的結(jié)果，必須確定321圖像中的每個(gè)單獨(dú)粒子。然而，因?yàn)橛捎陲@微鏡圖像的分辨率有限而導(dǎo)致一些粒子相互接觸或者似乎相互接觸，所以難以進(jìn)行單獨(dú)粒子的自動(dòng)檢測。忽視這些效應(yīng)導(dǎo)致粒子礦物分析結(jié)果不準(zhǔn)確。
[0005]因此，需要提供一種方法和數(shù)據(jù)分析系統(tǒng)，其允許基于帶電粒子顯微鏡的數(shù)據(jù)有效地進(jìn)行粒子礦物分析。


【發(fā)明內(nèi)容】

[0006]實(shí)施例提供了一種操作數(shù)據(jù)分析系統(tǒng)的方法，該數(shù)據(jù)分析系統(tǒng)用于根據(jù)帶電粒子顯微鏡的微觀數(shù)據(jù)來生成分析數(shù)據(jù)。微觀數(shù)據(jù)包括示出表示對象的一部分的結(jié)構(gòu)的圖像。數(shù)據(jù)分析系統(tǒng)可以包括圖形用戶界面和顯示器。該方法可以包括通過所述圖形用戶界面在所述顯示器上顯示所述結(jié)構(gòu)的圖形表示。該方法還可以包括生成代表分離切割的至少一條路徑的分離數(shù)據(jù)，所述分離切割將所述結(jié)構(gòu)的像素相互分離。該方法還可以包括根據(jù)所述分離數(shù)據(jù)，通過不同地標(biāo)記所述表示的不同區(qū)域部分來通過所述圖形用戶界面可視化地標(biāo)記所述分離切割，所述表示的不同區(qū)域部分代表通過所述分離切割而相互分離的所述結(jié)構(gòu)的不同的像素。該方法還可以包括根據(jù)所述微觀數(shù)據(jù)并且根據(jù)所述分離數(shù)據(jù)，生成針對所述對象的至少兩個(gè)部分中的每個(gè)部分的分離分析數(shù)據(jù)。
[0007]因此，提供了一種方法，它允許準(zhǔn)確地切割開帶電粒子顯微鏡的顯微圖像的結(jié)構(gòu)供以后分析。特別地，可見地標(biāo)記分離切割可以準(zhǔn)確地將表示多個(gè)粒子的圖像結(jié)構(gòu)分離為代表單獨(dú)粒子的結(jié)構(gòu)。
[0008]這允許以每個(gè)粒子為基礎(chǔ)獲得準(zhǔn)確的分析數(shù)據(jù)。從而，當(dāng)檢查多個(gè)粒子時(shí)，可以獲得可靠的統(tǒng)計(jì)數(shù)據(jù)。由此，該方法可以有利地應(yīng)用于地球科學(xué)領(lǐng)域(諸如環(huán)境地質(zhì)和取證地球科學(xué)〉、考古學(xué)、取證分析(諸如槍擊殘留物或漆片分析〉、以及空氣粒子材料的粒子分析。進(jìn)一步可能的應(yīng)用領(lǐng)域包括醫(yī)藥領(lǐng)域的片劑材料檢查、汽車部件清潔、磨損表征
(16)31-18 01181-801:61-1281:1011)、建筑行業(yè)中的批量材料檢查。
[0009]帶電粒子顯微鏡可以是掃描帶電粒子顯微鏡。特別地，帶電粒子顯微鏡可以是掃描電子顯微鏡(321)和/或聚焦離子束$18)顯微鏡。聚焦離子束顯微鏡可以包括氣場離子源、等離子體離子源和/或液態(tài)金屬離子源。通過舉例的方式，聚焦離子束顯微鏡是惰性氣體離子顯微鏡或氦離子顯微鏡。
[0010]圖像可以是掃描圖像。圖像可以是相鄰像素的二維陣列。生成微觀數(shù)據(jù)可以包括檢測帶電粒子的強(qiáng)度，所述帶電粒子是從帶電粒子顯微鏡的初級束與對象在其中交互的交互區(qū)域發(fā)射的。帶電粒子可以是二次電子后向散射電子、后向散射離子和/或二次離子
(860011(181-7 1011)。
[0011]帶電粒子可以包括從交互區(qū)域散射的初級束的初級粒子?？商鎿Q地或附加地，帶電粒子可以包括從交互區(qū)域發(fā)射的對象的對象粒子。如果掃描粒子顯微鏡被配置為掃描電子顯微鏡，則從交互區(qū)域散射的初級粒子可以是后向散射電子，而且對象粒子可以是二次電子。如果掃描粒子顯微鏡被配置為聚焦離子束顯微鏡，則從對象散射的初級粒子可以是后向散射離子，而且對象粒子可以是二次電子和/或二次離子。
[0012]另外地或可替代地，生成微觀數(shù)據(jù)可以包括檢測從交互區(qū)域發(fā)射的X射線的X射線強(qiáng)度。檢測X射線可以包括檢測X射線譜。X射線譜可以通過能量分散型X射線譜)和/或胃03 (波長分散型X射線譜)進(jìn)行檢測。
[0013]數(shù)據(jù)分析系統(tǒng)可以是計(jì)算機(jī)系統(tǒng)。計(jì)算機(jī)系統(tǒng)可以包括以下組件中的一個(gè)或組合:處理器、數(shù)據(jù)存儲(chǔ)設(shè)備、輸出設(shè)備和/或輸入設(shè)備。輸出設(shè)備可以是顯示器。
[0014]“結(jié)構(gòu)”可以指圖像內(nèi)的像素區(qū)域。結(jié)構(gòu)可以是圖像的一部分。結(jié)構(gòu)可以通過確定與對象的一個(gè)或多個(gè)粒子相對應(yīng)的像素區(qū)域來確定。結(jié)構(gòu)可以根據(jù)圖像的像素?cái)?shù)據(jù)值來確定。像素?cái)?shù)據(jù)值可以根據(jù)檢測到的初級粒子(諸如后向散射電子)來確定。結(jié)構(gòu)可以具有由圖像的像素?cái)?shù)據(jù)值定義的一個(gè)或多個(gè)邊緣。結(jié)構(gòu)的空間范圍和/或形狀可以由一個(gè)或多個(gè)邊緣限定。結(jié)構(gòu)可以由一個(gè)或多個(gè)邊緣圍繞。結(jié)構(gòu)可以通過將邊緣檢測濾波器應(yīng)用于圖像來確定。通過示例的方式，結(jié)構(gòu)可以由圖像的多個(gè)像素形成，其中所述多個(gè)像素代表對象的一個(gè)或多個(gè)粒子。
[0015]結(jié)構(gòu)可以通過使用圖像處理算法(如邊緣檢測濾波器)來檢測。結(jié)構(gòu)可以表示對象的一個(gè)或多個(gè)粒子。每個(gè)粒子可以包括一個(gè)或多個(gè)顆粒。術(shù)語顆?？梢员欢x為指代礦物顆粒或單礦物顆粒。結(jié)構(gòu)的兩個(gè)或更多個(gè)粒子可以相互接觸，和/或可以具有分離距離，其無法由微觀圖像分辨。結(jié)構(gòu)可以是未劃分的圖像區(qū)域。對于每個(gè)粒子，各粒子的最大直徑可以在50納米到500微米的范圍內(nèi)，或在0.5微米到100微米的范圍內(nèi)。還可以想到，通過將對象劃分為單一結(jié)構(gòu)來檢查單一對象。然后與結(jié)構(gòu)相對應(yīng)的對象部分可以具有上述范圍內(nèi)的最大直徑。
[0016]圖形表示可以根據(jù)微觀數(shù)據(jù)來生成。圖形表示可以指示定義所述結(jié)構(gòu)的一個(gè)或多個(gè)邊緣。圖形表示的空間范圍和丨或形狀可以代表和丨或?qū)?yīng)于結(jié)構(gòu)的空間范圍和丨或形狀。
[0017]分離切割可以將圖像的結(jié)構(gòu)切割成至少兩個(gè)分離的結(jié)構(gòu)部分。每個(gè)分離的結(jié)構(gòu)部分可以表示對象的一個(gè)或多個(gè)單獨(dú)的粒子。
[0018]該方法還可以包括根據(jù)分離數(shù)據(jù)確定至少兩個(gè)對象部分。對象部分可以對應(yīng)于由分離切割所生成的圖像的結(jié)構(gòu)部分。因此，每個(gè)對象部分可以表示一個(gè)或多個(gè)單獨(dú)的粒子。
[0019]對于每個(gè)對象部分，生成分離分析數(shù)據(jù)。分離分析數(shù)據(jù)可以表示對象部分的物理和/或化學(xué)屬性。這樣的屬性可以包括下列參數(shù)中的一個(gè)或組合:對象部分的大小和重量、化學(xué)組成、對象部分中包含的礦物顆粒的數(shù)量和類、以及每個(gè)顆粒的面積重量(虹@
和顆粒大小。
[0020]分離切割的路徑可以是連續(xù)的或不連續(xù)的。分離切割的路徑可以包括一個(gè)或多個(gè)直線和/或彎曲的路徑段。路徑可以有支鏈或沒有支鏈。
[0021]分離數(shù)據(jù)可以自動(dòng)地和/或交互式地生成。在這個(gè)上下文中，術(shù)語交互可以被定義為是指根據(jù)用戶輸入生成分離數(shù)據(jù)的步驟。用戶輸入可以經(jīng)由圖形用戶界面來接收。
[0022]通過示例的方式，用戶輸入可以包括在顯示器上生成和/或改寫用于分離切割的路徑的指示器(1=(11(3社沉)。指示器可以經(jīng)由圖形用戶界面生成和/或改寫。指示器可以通過使用輸入設(shè)備，例如鼠標(biāo)，來生成和/或改寫。
[0023]可以通過以不同的顏色或不同的顏色色調(diào)標(biāo)記不同的區(qū)域部分來不同地標(biāo)記結(jié)構(gòu)的圖形表示的區(qū)域部分。在多維顏色坐標(biāo)系的一個(gè)或多個(gè)坐標(biāo)值中，不同的顏色可以彼此不同。通過示例的方式，顏色坐標(biāo)系是三色系統(tǒng)(例如1--)、亮度/雙色系統(tǒng)(例如，
圖像、^等等)、或亮度、飽和度和色調(diào)系統(tǒng)(例如肥乂)。
[0024]根據(jù)實(shí)施例，該方法還包括:響應(yīng)于分離數(shù)據(jù)的改變，通過圖形用戶界面更新分離切割的標(biāo)記。改變分離數(shù)據(jù)可以包括接收用戶輸入。用戶輸入可以經(jīng)由輸入設(shè)備和/或圖形用戶界面來接收。
[0025]根據(jù)進(jìn)一步的實(shí)施例，分離數(shù)據(jù)被配置為使得由分離切割將結(jié)構(gòu)無縫地切割開。
[0026]因此，可以將結(jié)構(gòu)切割開而不丟棄表示信息的像素。由此，對象的分析的準(zhǔn)確度得以提聞。
[0027]術(shù)語“無縫切割開”可以被定義為指代，結(jié)構(gòu)包括通過分離切割相互分離的相鄰像素。分離數(shù)據(jù)可以被配置為使得分離切割的路徑無窮薄。
[0028]數(shù)據(jù)分析系統(tǒng)被配置為針對結(jié)構(gòu)的每個(gè)像素確定各像素的中間點(diǎn)相對于分離切割的路徑的位置和/或相對于結(jié)構(gòu)的像素的其他中間點(diǎn)的位置。中間點(diǎn)可以是無窮小。根據(jù)確定的中間點(diǎn)的位置，數(shù)據(jù)分析系統(tǒng)可以確定哪些像素通過分離切割相互分離。通過示例的方式，數(shù)據(jù)分析系統(tǒng)可以被配置為確定兩個(gè)中點(diǎn)之間的連接線是否穿過分離切割的路徑。如果連接線穿過分離切斷的路徑，則與兩個(gè)中間點(diǎn)相對應(yīng)的像素被分離切割分離。如果連接線沒有穿過分離切割的路徑，則與中間點(diǎn)相對于的像素沒有被分離切割分離。連接線可以是直的連接線。
[0029]當(dāng)分離切割的路徑是無限薄的線時(shí)，只有其中中間點(diǎn)精確地位于分離切割的路徑上的幾個(gè)像素。這些像素可以由數(shù)據(jù)分析系統(tǒng)進(jìn)行標(biāo)記，以使得用戶可以將它們分配到結(jié)構(gòu)的分離的部分中的一個(gè)。可替換地，數(shù)據(jù)分析系統(tǒng)可以決定將這些像素分配給分離的結(jié)構(gòu)部分中的哪些部分。這個(gè)決定可以取決于圖像處理例程的結(jié)果?？商鎿Q地，數(shù)據(jù)處理系統(tǒng)可以被配置為從生成的分析數(shù)據(jù)排除這些像素。
[0030]根據(jù)進(jìn)一步的實(shí)施例，通過所述圖形用戶界面相對于所述分離數(shù)據(jù)的生成以時(shí)間關(guān)系或?qū)崟r(shí)時(shí)間關(guān)系執(zhí)行所述分離切割的標(biāo)記。
[0031]因此，操作者可以看到，分離路徑如何分離結(jié)構(gòu)。這允許操作者反復(fù)改變分離數(shù)據(jù)。時(shí)間關(guān)系可以是實(shí)時(shí)關(guān)系或基本實(shí)時(shí)關(guān)系。
[0032]根據(jù)進(jìn)一步的實(shí)施例，該方法還包括通過檢測從對象上的帶電粒子顯微鏡的初級束的多個(gè)碰撞位置中的每一個(gè)發(fā)射的X射線來生成X射線強(qiáng)度數(shù)據(jù)。標(biāo)記分離還可以包括根據(jù)所生成的X射線強(qiáng)度數(shù)據(jù)可視地標(biāo)記表示的不同的部分。
[0033]因此，操作者可以生成分離數(shù)據(jù)以使得可以實(shí)現(xiàn)微觀數(shù)據(jù)的更準(zhǔn)確的分析。
[0034]碰撞位置可以位于由結(jié)構(gòu)表示的對象的部分內(nèi)。X射線強(qiáng)度數(shù)據(jù)可以包括由20父和/或103檢測器生成的數(shù)據(jù)。X射線強(qiáng)度數(shù)據(jù)可以包括在一個(gè)或多個(gè)選定的X射線波長處的頻譜和/或測量。
[0035]根據(jù)實(shí)施例，該方法還可以包括根據(jù)所生成的各碰撞位置的X射線強(qiáng)度數(shù)據(jù)，將初級束的每個(gè)碰撞位置分配到多個(gè)預(yù)定義的類之一。標(biāo)記分離還可以包括根據(jù)所分配的預(yù)定義的類可視地標(biāo)記像素。
[0036]預(yù)定義的類可以代表一種礦物或一組礦物。通過示例的方式，類可以通過元素組成的范圍、元素比率和/或應(yīng)用于元素組成的數(shù)學(xué)運(yùn)算來定義。
[0037]根據(jù)進(jìn)一步的實(shí)施例，標(biāo)記分離還包括通過圖形用戶界面顯示所述分離切割的路徑的分離指示器。分離指示器可以在顯示器上顯示。
[0038]分離指示器可以包括線或多個(gè)線段。線段可以是彎曲的或直線的。分離指示器可以有支鏈或沒有支鏈。
[0039]根據(jù)進(jìn)一步的實(shí)施例，分離指示器具有一個(gè)或多個(gè)位置可調(diào)的錨固點(diǎn)。錨固點(diǎn)的位置可以根據(jù)用戶輸入調(diào)整。一個(gè)或多個(gè)錨固點(diǎn)的位置可以定義分離指示器的路線(00111-86)。
[0040]這允許用戶準(zhǔn)確地定義分離指示器相對于將被分離的結(jié)構(gòu)表示的路線。
[0041]錨固點(diǎn)可以被定義為位于線或線段的一端或兩端的點(diǎn)。錨固點(diǎn)可以連接兩個(gè)線段。錨固點(diǎn)的位置可調(diào)。換句話說，圖形用戶界面被配置為根據(jù)用戶輸入調(diào)整錨固點(diǎn)的位置。錨固點(diǎn)可通過使用鼠標(biāo)的指針來定位。
[0042]因此，通過相對于結(jié)構(gòu)的圖形表示定位錨固點(diǎn)時(shí)，用戶可以調(diào)整用于分離切割的路徑的指示器的路線。
[0043]根據(jù)實(shí)施例，生成分離數(shù)據(jù)包括通過調(diào)整分離指示器的路線來調(diào)整分離切割的路徑的路線。分離指示器的路線可以經(jīng)由圖形用戶界面來調(diào)整。分離指示器的路線可以通過在顯示器上調(diào)整一個(gè)或多個(gè)錨固點(diǎn)的位置來調(diào)整。
[0044]實(shí)施例提供了一種數(shù)據(jù)分析系統(tǒng)，以用于根據(jù)由帶電粒子顯微鏡生成的對象的微觀數(shù)據(jù)來生成分析數(shù)據(jù)。微觀數(shù)據(jù)可以包括示出結(jié)構(gòu)的圖像。數(shù)據(jù)分析系統(tǒng)可以包括圖形用戶界面和顯示器。數(shù)據(jù)分析系統(tǒng)可以被配置為通過所述圖形用戶界面在所述顯示器上顯示所述結(jié)構(gòu)的圖形表示。數(shù)據(jù)分析系統(tǒng)還可以被配置為生成代表分離切割的至少一條路徑的分離數(shù)據(jù)，所述分離切割將所述結(jié)構(gòu)的像素相互分離。數(shù)據(jù)分析系統(tǒng)還可以被配置為根據(jù)所述分離數(shù)據(jù)，通過不同地標(biāo)記所述表示的不同部分來通過所述圖形用戶界面可視化地標(biāo)記所述分離切割，所述表示的不同部分代表通過所述分離切割相互分離的所述結(jié)構(gòu)的不同的像素。數(shù)據(jù)分析系統(tǒng)還可以被配置為根據(jù)所述微觀數(shù)據(jù)并且根據(jù)所述分離數(shù)據(jù)，生成針對所述對象的至少兩個(gè)部分中的每個(gè)部分的分離分析數(shù)據(jù)。
[0045]實(shí)施例提供了一種操作數(shù)據(jù)分析系統(tǒng)的方法，該數(shù)據(jù)分析系統(tǒng)用于分析由帶電粒子顯微鏡從包括多個(gè)樣品粒子的對象獲取的微觀數(shù)據(jù)。微觀數(shù)據(jù)可以包括通過在第一掃描區(qū)域和第二掃描區(qū)域中掃描所述帶電粒子顯微鏡的初級束而獲取的X射線強(qiáng)度測量數(shù)據(jù)和帶電粒子強(qiáng)度測量數(shù)據(jù)。第一掃描區(qū)域和第二掃描區(qū)域可以彼此相鄰或彼此部分地重疊。該方法可以包括識(shí)別所述多個(gè)樣品粒子中的至少一個(gè)樣品粒子，其至少部分地位于第一掃描區(qū)域和第二掃描區(qū)域中。該方法可以還包括根據(jù)第一掃描區(qū)域的X射線強(qiáng)度測量數(shù)據(jù)的至少一部分、第二掃描區(qū)域的X射線強(qiáng)度測量數(shù)據(jù)的至少一部分，而且還根據(jù)從第一掃描區(qū)域和第二掃描區(qū)域中獲取的粒子強(qiáng)度測量數(shù)據(jù)的至少一部分，來生成分配到所識(shí)別的樣品粒子的表面位置的X射線強(qiáng)度數(shù)據(jù)。分配到表面位置的X射線強(qiáng)度數(shù)據(jù)可以根據(jù)第一掃描區(qū)域的粒子強(qiáng)度測量數(shù)據(jù)的至少一部分，而且還根據(jù)第二掃描區(qū)域的粒子強(qiáng)度測量數(shù)據(jù)的至少一部分來生成。
[0046]掃描區(qū)域可以是對象表面的部分。X射線強(qiáng)度測量數(shù)據(jù)和/或X射線強(qiáng)度數(shù)據(jù)可以特定于波長。X射線強(qiáng)度測量數(shù)據(jù)和/或X射線強(qiáng)度數(shù)據(jù)可以包括一定波長范圍的X射線譜。每個(gè)譜可以在對象表面的位置(例如，初級束的撞擊位置或已經(jīng)向其分配所生成的X射線強(qiáng)度數(shù)據(jù)的所識(shí)別的粒子的表面位置)處獲取。X射線強(qiáng)度數(shù)據(jù)可以包括對象表面上的一個(gè)或多個(gè)位置的￡1?和/或103測量的數(shù)據(jù)。帶電粒子強(qiáng)度測量數(shù)據(jù)可以通過檢測二次電子后向散射電子、后向散射離子和/或二次離子進(jìn)行測量。
[0047]根據(jù)進(jìn)一步的實(shí)施例，所識(shí)別的粒子的每個(gè)表面位置位于第一和/或第二掃描區(qū)域中。由此，被分配到所識(shí)別的粒子的表面位置處的所生成的X射線數(shù)據(jù)可以根據(jù)第一掃描區(qū)域和第二掃描區(qū)域的X射線強(qiáng)度測量數(shù)據(jù)。
[0048]根據(jù)進(jìn)一步的實(shí)施例，生成所分配的X射線強(qiáng)度數(shù)據(jù)包括針對第一掃描區(qū)域和第二掃描區(qū)域中的每一個(gè)，來生成根據(jù)各掃描區(qū)域的粒子強(qiáng)度測量數(shù)據(jù)的圖像。圖像可以被定義為相鄰像素的二維陣列。
[0049]該方法還可以包括根據(jù)第一掃描區(qū)域和第二掃描區(qū)域的圖像生成所分配的X射線強(qiáng)度數(shù)據(jù)。第一掃描區(qū)域和/或第二掃描區(qū)域的圖像還可以根據(jù)各掃描區(qū)域的X射線強(qiáng)度測量數(shù)據(jù)來確定。生成所分配的X射線強(qiáng)度數(shù)據(jù)可以包括對準(zhǔn)和/或縫合(01化卜丨叩)第一掃描區(qū)域和第二掃描區(qū)域的圖像。生成所分配的X射線強(qiáng)度數(shù)據(jù)可以包括形成包括第一掃描區(qū)域和第二掃描區(qū)域的圖像的合成圖像。
[0050]根據(jù)進(jìn)一步的實(shí)施例，生成所分配的X射線強(qiáng)度數(shù)據(jù)包括將第一掃描區(qū)域的圖像與第二掃描區(qū)域的圖像進(jìn)行比較。
[0051]根據(jù)進(jìn)一步的實(shí)施例，生成所分配的X射線強(qiáng)度數(shù)據(jù)和/或?qū)⒌谝粧呙鑵^(qū)域的圖像與第二掃描區(qū)域的圖像進(jìn)行比較包括應(yīng)用圖像處理程序。圖像處理程序可以被應(yīng)用到第一掃描區(qū)域的圖像和/或第二掃描區(qū)域的圖像。圖像處理程序可以包括對齊和/或縫合第一掃描區(qū)域的圖像和第二掃描區(qū)域的圖像。
[0052]根據(jù)進(jìn)一步的實(shí)施例，生成所分配的X射線強(qiáng)度數(shù)據(jù)包括確定第一掃描區(qū)域的圖像相對于第二掃描區(qū)域的圖像的位置和/或方向。
[0053]根據(jù)圖像處理程序和/或根據(jù)所確定的第一掃描區(qū)域的圖像相對于第二掃描區(qū)域的圖像的位置和/或方向，可以形成合成圖像，它包括第一掃描區(qū)域的圖像和第二掃描區(qū)域的圖像。
[0054]根據(jù)進(jìn)一步的實(shí)施例，生成所分配的X射線強(qiáng)度數(shù)據(jù)還包括相對于彼此地在第一掃描區(qū)域和第二掃描區(qū)域中確定初級束的碰撞位置的地點(diǎn)，其中，在碰撞位置處已經(jīng)獲取第一掃描區(qū)域和第二掃描區(qū)域的X射線強(qiáng)度測量數(shù)據(jù)的部分。由此，第一掃描區(qū)域的初級束的撞擊位置的地點(diǎn)可以相對于第二掃描區(qū)域的初級束的撞擊位置的地點(diǎn)被確定。撞擊位置的至少一部分可以位于第一掃描區(qū)域的非重疊區(qū)域和/或第二掃描區(qū)域的非重疊區(qū)域。在非重疊區(qū)域中，第一掃描區(qū)域不與第二掃描區(qū)域重疊。
[0055]根據(jù)進(jìn)一步的實(shí)施例，相對于彼此確定碰撞位置的地點(diǎn)包括將第一掃描區(qū)域的圖像與第二掃描區(qū)域的圖像進(jìn)行比較。根據(jù)進(jìn)一步的實(shí)施例，相對于彼此確定碰撞位置的地點(diǎn)包括應(yīng)用圖像處理程序。應(yīng)用圖像處理程序可以包括對齊和/或縫合。
[0056]根據(jù)進(jìn)一步的實(shí)施例，相對于彼此確定碰撞位置的地點(diǎn)根據(jù)第一圖像區(qū)域和第二圖像區(qū)域的圖像來執(zhí)行。根據(jù)進(jìn)一步的實(shí)施例，相對于彼此確定碰撞位置的地點(diǎn)包括確定第一掃描區(qū)域的圖像相對于第二掃描區(qū)域的圖像的位置和/或方向。
[0057]根據(jù)進(jìn)一步的實(shí)施例，生成所分配的X射線強(qiáng)度數(shù)據(jù)包括:針對第一掃描區(qū)域和第二掃描區(qū)域中的每一個(gè)，根據(jù)各掃描區(qū)域的粒子強(qiáng)度測量數(shù)據(jù)生成圖像；以及相對于彼此，在第一掃描區(qū)域和第二掃描區(qū)域中確定初級束的碰撞位置的地點(diǎn)；其中，在碰撞位置處已經(jīng)獲取第一掃描區(qū)域和第二掃描區(qū)域的X射線強(qiáng)度測量數(shù)據(jù)的部分；其中，相對于彼此確定碰撞位置是根據(jù)第一掃描區(qū)域的圖像和第二掃描區(qū)域的圖像來執(zhí)行的。
[0058]由于相對于彼此的碰撞位置的地點(diǎn)被確定，因此X射線強(qiáng)度數(shù)據(jù)可以以高位置準(zhǔn)確度被分配給表面位置。向其分配X射線強(qiáng)度數(shù)據(jù)的所識(shí)別的粒子的表面位置可以與是撞擊位置相同或基本相同。
[0059]根據(jù)進(jìn)一步的實(shí)施例，所分配的X射線強(qiáng)度數(shù)據(jù)包括X射線譜。X射線譜可以根據(jù)第一掃描區(qū)域的X射線強(qiáng)度測量數(shù)據(jù)的數(shù)據(jù)以及根據(jù)第二掃描區(qū)域的X射線強(qiáng)度測量數(shù)據(jù)的數(shù)據(jù)來生成。X射線可以根據(jù)第一和第二掃描區(qū)域的X射線譜生成的組合光譜。
[0060]實(shí)施例提供了一種數(shù)據(jù)分析系統(tǒng)，以用于分析由帶電粒子顯微鏡從包括多個(gè)樣品粒子的對象獲取的微觀數(shù)據(jù)。微觀數(shù)據(jù)可以包括通過在第一掃描區(qū)域和第二掃描區(qū)域中掃描所述帶電粒子的初級束而獲取的X射線強(qiáng)度測量數(shù)據(jù)和帶電粒子強(qiáng)度測量數(shù)據(jù)。第一掃描區(qū)域和第二掃描區(qū)域可以彼此相鄰或彼此部分地重疊。數(shù)據(jù)分析系統(tǒng)可以被配置為識(shí)別所述多個(gè)樣品粒子中的至少一個(gè)樣品粒子，其至少部分地位于第一掃描區(qū)域和第二掃描區(qū)域中。數(shù)據(jù)分析系統(tǒng)可以進(jìn)一步被配置為根據(jù)第一掃描區(qū)域的X射線強(qiáng)度數(shù)據(jù)的至少一部分、第二掃描區(qū)域的X射線強(qiáng)度數(shù)據(jù)的至少一部分，而且還根據(jù)第一掃描區(qū)域和第二掃描區(qū)域中的粒子強(qiáng)度數(shù)據(jù)的至少一部分，來生成分配到所識(shí)別的樣品粒子的表面位置的X射線強(qiáng)度數(shù)據(jù)。
[0061]實(shí)施例提供了一種存儲(chǔ)有指令的非臨時(shí)性計(jì)算機(jī)可讀存儲(chǔ)介質(zhì)，當(dāng)所述指令被計(jì)算機(jī)運(yùn)行時(shí)使得所述計(jì)算機(jī)執(zhí)行如前述實(shí)施例中的任一項(xiàng)所述的方法。

【專利附圖】

【附圖說明】
[0062]前述以及其它有利特征將通過參照附圖的示例性實(shí)施例的以下詳細(xì)描述變得更加清楚。應(yīng)該注意的是，并非所有可能的實(shí)施例都必須表現(xiàn)本文所確定的每個(gè)、每一個(gè)或任意優(yōu)點(diǎn)。
[0063]圖1示意性地示出了帶電粒子顯微鏡。帶電粒子顯微鏡與根據(jù)示例性實(shí)施例配置的數(shù)據(jù)分析系統(tǒng)進(jìn)行信號(hào)通信；
[0064]圖2示意性地示出了后向散射電子圖像，其是通過使用圖1所示的帶電粒子顯微鏡獲取的；
[0065]圖3示意性地示出了根據(jù)示例性實(shí)施例的數(shù)據(jù)分析系統(tǒng)的圖形用戶界面的操作；
[0066]圖4和圖5示意性地示出了通過使用根據(jù)示例性實(shí)施例的數(shù)據(jù)分析系統(tǒng)的圖形用戶界面來生成分離數(shù)據(jù)；以及
[0067]圖6八、圖68和圖7示意性地示出了根據(jù)示例性實(shí)施例的數(shù)據(jù)分析系統(tǒng)的數(shù)據(jù)分析。

【具體實(shí)施方式】
[0068]雖然已經(jīng)相對于本公開的某些示例性實(shí)施例描述了本公開，但是很明顯的是，許多替換、修改和變化對于本領(lǐng)域技術(shù)人員而言將顯而易見的。因此，本文中闡述的本公開的示例性實(shí)施例旨在是說明性的，而非以任何方式進(jìn)行限制?？梢栽诓幻撾x本發(fā)明的精神和范圍的情況下進(jìn)行各種改變。
[0069]圖1示出了根據(jù)示例性實(shí)施例的用于從帶電粒子顯微鏡2的微觀數(shù)據(jù)生成分析數(shù)據(jù)的數(shù)據(jù)分析系統(tǒng)4。數(shù)據(jù)分析系統(tǒng)和帶電粒子顯微鏡形成分析系統(tǒng)1。在圖1所示的示例性實(shí)施例中，帶電粒子顯微鏡2是掃描電子顯微鏡。掃描電子顯微鏡2包括粒子光學(xué)系統(tǒng)20，用于掃描穿過被布置在真空室25中的對象10表面的聚焦電子束21。真空室25配備有真空排氣系統(tǒng)27，用于測量聚焦電子束21期間保持預(yù)先確定的真空壓力。
[0070]對象10被安裝的定位系統(tǒng)26上。定位系統(tǒng)26被布置在真空室25內(nèi)，并且被配置為相對于粒子光學(xué)系統(tǒng)20定位對象10，以使得電子束21可掃描對象表面上的感興趣區(qū)域。
[0071〕 掃描電子顯微鏡2配備有后向散射電子檢測器23 (還被表示為832檢測器)。832檢測器23經(jīng)由信號(hào)線50與數(shù)據(jù)分析系統(tǒng)4進(jìn)行信號(hào)通信。數(shù)據(jù)分析系統(tǒng)4被配置為讀出882檢測器23的檢測器信號(hào)，并根據(jù)832檢測器23的信號(hào)生成圖像數(shù)據(jù)。
[0072]掃描電子顯微鏡2還配備有能量分散光譜儀22(21?檢測器)。當(dāng)電子束21從對象10的原子移除內(nèi)殼電子的時(shí)候，在更高能量電子填充原子的內(nèi)殼并且釋放能量時(shí)發(fā)射特征X射線?！??檢測器22被配置為檢測這些特征X射線的強(qiáng)度，從而得到X射線譜。X射線譜可以被用于識(shí)別電子束21與對象10在其中交互的交互區(qū)域的元素組成。這允許測量電子束21的碰撞位置處的特定元素的豐度。
[0073]￡1?檢測器22經(jīng)由信號(hào)線52與數(shù)據(jù)分析系統(tǒng)4進(jìn)行信號(hào)通信。數(shù)據(jù)分析系統(tǒng)4被配置為讀出￡1?檢測器22的檢測器信號(hào)，并根據(jù)￡1?檢測器22的信號(hào)生成X射線譜。
[0074]在圖1中所示的示例性實(shí)施例中，數(shù)據(jù)分析系統(tǒng)4包括計(jì)算機(jī)系統(tǒng)，其包括顯示器43、存儲(chǔ)系統(tǒng)42、和一個(gè)或多個(gè)處理器44。存儲(chǔ)系統(tǒng)42可以包括內(nèi)部和/或外部存儲(chǔ)單元。外部存儲(chǔ)單元可以是，例如，網(wǎng)絡(luò)驅(qū)動(dòng)器或云存儲(chǔ)單元。數(shù)據(jù)分析系統(tǒng)4還包括駐留在存儲(chǔ)系統(tǒng)42中的圖形用戶界面。
[0075]數(shù)據(jù)分析系統(tǒng)4被配置成有效地生成對象10的表面上的多個(gè)粒子中的每一個(gè)的單獨(dú)的分析數(shù)據(jù)。這允許獲得多個(gè)粒子的統(tǒng)計(jì)數(shù)據(jù)。
[0076]數(shù)據(jù)分析系統(tǒng)的檢查例程可以有利地應(yīng)用于地球科學(xué)領(lǐng)域(諸如環(huán)境地質(zhì)和取證地球科學(xué))、考古學(xué)、取證分析(諸如槍擊殘留物或漆片分析)、以及空氣粒子材料的分析。進(jìn)一步可能的應(yīng)用領(lǐng)域包括醫(yī)藥領(lǐng)域的片劑材料檢查、汽車部件清潔、磨損表征、建筑行業(yè)中的批量材料檢查。
[0077]圖2示出了多個(gè)粒子的圖像，其是由數(shù)據(jù)分析系統(tǒng)4根據(jù)832檢測器信號(hào)生成的。圖像示出了由深色背景包圍的對象表面的粒子。
[0078]在示例性樣品制備技術(shù)中，通過使用研缽和研杵壓碎巖石來生成粒子。巖石粒子然后與石墨粒子混合，石墨粒子充當(dāng)分離物以用于利用帶電粒子顯微鏡2來區(qū)分單獨(dú)粒子。粒子和石墨的混合物被放置在環(huán)氧樹脂中，被拋光，并且被涂覆碳以形成傳導(dǎo)涂層。傳導(dǎo)涂層防止電子束21充電(圖1中所示)。
[0079]對象然后被引入到掃描電子顯微鏡的真空室25(圖1中所示)并且使用832檢測器成像。粒子之間的碳緩和后向散射，因?yàn)樘寂c巖石粒子的主要成分相比具有低原子序數(shù)。因此，如圖2所示，巖石粒子被成像為由更暗的背景62包圍的明亮區(qū)域，諸如區(qū)域61。更暗的背景62表示對象表面的只有碳存在的那些部分。
[0080]為了確定存在粒子的那些圖像區(qū)域，數(shù)據(jù)分析系統(tǒng)將閾值濾波器施加到圖像，如圖2所示。閾值可以被選擇，以使得只有碳存在的更暗的背景的像素?cái)?shù)據(jù)值被過濾掉。
[0081]在應(yīng)用閾值過濾器之后，數(shù)據(jù)分析系統(tǒng)4(圖1中所示)確定由像素的單一未劃分的圖像區(qū)域形成的結(jié)構(gòu)。因此，結(jié)構(gòu)的像素的像素?cái)?shù)據(jù)值超過閾值。
[0082]未劃分的圖像區(qū)域或者由單一粒子形成，或者由一組粒子形成。所述一組粒子是由如下的單獨(dú)粒子形成，所述單獨(dú)粒子相互接觸和/或具有相互相距一定距離，其無法由882圖像分辨。
[0083]為了確定未劃分的圖像區(qū)域，數(shù)據(jù)分析系統(tǒng)4可以附加地或可替代地執(zhí)行圖像的切分。切分可以包括以下切分方法中的一個(gè)或組合:面向像素的方法、面向邊緣的方法、面向區(qū)域的方法、和基于模型的方法。
[0084]在識(shí)別結(jié)構(gòu)之后，通過在每個(gè)所確定的結(jié)構(gòu)內(nèi)在初級束1368111)的多個(gè)碰撞位置中的每一個(gè)處檢測X射線強(qiáng)度的光譜，來執(zhí)行￡1?和/或103測量。
[0085]數(shù)據(jù)分析系統(tǒng)包括具有存儲(chǔ)在其中的用于將檢測的X射線譜分配給一個(gè)或多個(gè)類的預(yù)定義的類的數(shù)據(jù)庫。每個(gè)類代表一種礦物或一組礦物。預(yù)定義的類包括被指定為涵蓋不代表礦物的或代表礦物的X射線譜的“未分類”的類，其不被包括在分析中。
[0086]根據(jù)分配的X射線譜，數(shù)據(jù)分析系統(tǒng)被配置為識(shí)別代表礦物或一組礦物的顆粒的每個(gè)結(jié)構(gòu)、區(qū)域。
[0087]圖3示出了數(shù)據(jù)分析系統(tǒng)4如何經(jīng)由圖形用戶界面向用戶呈現(xiàn)分析結(jié)果。圖形用戶界面顯示在窗口 70上。窗口 70包括渲染空間71，在其內(nèi)呈現(xiàn)在832圖像中確定的結(jié)構(gòu)的圖形表示77、72、73、79、93、94。每個(gè)圖形表示77、72、73、79、93、94代表一個(gè)單獨(dú)的粒子或一組單獨(dú)的粒子。圖形表示77、72、73、79、93、94沿一行或多行呈現(xiàn)在渲染空間71中，以允許操作者順序地放映該表示。
[0088]在由一個(gè)以上的顆粒組成的粒子中，圖形表示顯示子區(qū)域，其中每個(gè)子區(qū)域指示各顆粒的幾何形狀。在圖3中，這是由圖形表示72示出的示例，圖形表示72由子區(qū)域75和74形成。因此，圖形表示72表示包括兩個(gè)顆粒的粒子。
[0089]每個(gè)子區(qū)域75、74以各顆粒的顏色顯示，所述顏色表示礦物或一組礦物。列表78將每種顏色映射到礦物或一組礦物的名稱，在窗口 70的單獨(dú)的窗格76中將其顯示給用戶。
[0090]圖3所示的表示和子區(qū)域的階梯邊界表示￡1?測量的采樣距離。采樣距離可以被定義為獲取X射線譜的初級束的相鄰碰撞位置之間的距離。
[0091]圖形表示73表示最有可能包括多個(gè)粒子80、81、82、83的結(jié)構(gòu)，其中，粒子80、81、82、83可以由操作者的經(jīng)訓(xùn)練的眼睛識(shí)別。
[0092]數(shù)據(jù)分析系統(tǒng)被配置以使得結(jié)構(gòu)73基于用戶輸入可分離成代表單個(gè)粒子的結(jié)構(gòu)部分。如圖3中所示，操作者可以，例如，通過使用鼠標(biāo)的指針95在表示73的周圍繪制矩形，或者通過利用鼠標(biāo)點(diǎn)擊表示73來選擇表示73。當(dāng)鼠標(biāo)的指針95位于表示上時(shí)，該表示73可以由圖形用戶界面突出顯示。
[0093]在操作者選擇圖形表示73之后，圖形用戶界面在第二窗口 88的渲染空間87中以放大模式顯示結(jié)構(gòu)的表示73。這在圖4中示意性地示出。
[0094]圖形用戶界面被配置為根據(jù)用戶輸入來顯示線84，其是用于分離由圖形表示73表示的結(jié)構(gòu)的分離切割路徑的指示器。在線84的每個(gè)端部，設(shè)置有位置可調(diào)的錨固點(diǎn)85、86。圖形用戶界面被配置以使得，通過使用鼠標(biāo)的指針，操作者可以相對于圖形表示73，在渲染空間87中調(diào)整各錨固點(diǎn)85、86的位置。這允許操作者調(diào)整分離切割的路線。
[0095]數(shù)據(jù)分析系統(tǒng)被配置以使得響應(yīng)于線84的生成，不同地標(biāo)記由分離切割所分離的表不73的部分。
[0096]在圖4所示的示例性實(shí)施例中，利用以不同的色調(diào)來標(biāo)記相互分離的表示73的部分。在圖4中，這是通過字母I？和6來指示，字母I？指示所述表示當(dāng)中以紅色色調(diào)顯示的部分。字母6指示所述表示當(dāng)中以綠色色調(diào)顯示的部分。
[0097]在每個(gè)部分的內(nèi)部，利用顏色外觀的其它參數(shù)的不同值(諸如色彩度、色度、飽和度、明度和亮度)來標(biāo)記與不同的顆粒相對應(yīng)的區(qū)域。在圖4中，這由不同的陰影線或虛線區(qū)域所示。
[0098]這允許操作者更精細(xì)地調(diào)整線84，以準(zhǔn)確地分離結(jié)構(gòu)。
[0099]數(shù)據(jù)分析系統(tǒng)進(jìn)一步被配置為相對于線84的路線實(shí)時(shí)地不同地標(biāo)記表示73的相互分離的部分。
[0100]這允許操作者反復(fù)地調(diào)整線84的位置和/或方向，以使得分離切割準(zhǔn)確地將結(jié)構(gòu)分離成代表單一粒子的區(qū)域。
[0101]數(shù)據(jù)分析系統(tǒng)被配置成根據(jù)線84的位置和/或方向，生成定義由表示73所代表的結(jié)構(gòu)的分離的分離數(shù)據(jù)。
[0102]分離數(shù)據(jù)被配置為使得由分離切割將結(jié)構(gòu)無縫地切割開。因此，可以將結(jié)構(gòu)切割開而不丟棄表示信息的像素。由此，對象的分析的準(zhǔn)確度得以提高。
[0103]術(shù)語無縫切割開可以被定義為指代，結(jié)構(gòu)包括通過分離切割相互分離的相鄰像素。分離數(shù)據(jù)可以被配置為使得分離切割的路徑無窮薄。
[0104]數(shù)據(jù)分析系統(tǒng)被配置為針對結(jié)構(gòu)的每個(gè)像素確定各像素的中間點(diǎn)相對于分離切割的路徑的位置。根據(jù)確定的中間點(diǎn)的位置，數(shù)據(jù)分析系統(tǒng)可以確定哪些像素通過分離切割相互分離。
[0105]圖5示出了多條線84、96、97，每條線代表已經(jīng)由操作者生成的用于分離結(jié)構(gòu)的切開((11886(:1:1011)指示器，以將由表示73表示的結(jié)構(gòu)分成四個(gè)區(qū)域，每個(gè)區(qū)域代表單一粒子。圖形用戶界面被配置為允許用戶生成扭結(jié)的切開指示器，諸如線96。這向用戶提供更多的靈活性，以準(zhǔn)確地將結(jié)構(gòu)切割開。圖形用戶界面進(jìn)一步被配置為在每條線84、96、97的紐結(jié)的位置和端部處提供用戶可定位的錨固點(diǎn)91。
[0106]如圖5所示，數(shù)據(jù)分析系統(tǒng)不同地標(biāo)記由線84、96、97所定義的切開路徑彼此分離的像素。圖5中的字母I？表示以紅色色調(diào)顯示的那些像素。在圖5中，字母表示以綠色色調(diào)顯示的那些像素。在圖5中，字母V表示以黃色色調(diào)顯示的那些像素，而且字母8表示以藍(lán)色色調(diào)顯示的那些像素。
[0107]由此，操作者已經(jīng)將結(jié)構(gòu)切割分成四個(gè)區(qū)域，每一個(gè)區(qū)域代表單一粒子。在操作者提交改變之后，數(shù)據(jù)分析系統(tǒng)生成關(guān)于已經(jīng)被識(shí)別的多個(gè)粒子的分析數(shù)據(jù)。對于每個(gè)礦物或每組礦物，可以獲得以下數(shù)據(jù)中的一個(gè)或組合:含有各礦物或各組礦物的顆粒的粒子的數(shù)量、面積百分比、重量百分比、平均粒徑大小(以長度為單位測量〉、粒徑大小標(biāo)準(zhǔn)偏差、測定法(￡188217)、分布、平均組成、析出方式、累積析出指數(shù)11)361^1:1011
。
[0108]圖6八和圖68示出了通過使用帶電粒子顯微鏡獲取對象的微觀數(shù)據(jù)的兩種成像模式。對象是通過將巖石粒子和石墨的混合物放置在環(huán)氧樹脂中，拋光對象表面并且利用碳涂覆對象表面來制備的。然后將對象引入到真空室25(圖1中所示)以供檢查。圖6八和圖68在俯視圖中示出對象10。對象10可以具有在1到50毫米之間或在1到70毫米之間的直徑。對象可以包括多個(gè)分離的對象部分，其被安裝在公共的樣品保持器中。
[0109]對象10由帶電粒子顯微鏡通過多次成像掃描來成像。每次成像掃描通過在對象表面上的不同的掃描區(qū)域中掃描主電子束來執(zhí)行，所述掃描區(qū)域由圖6八中示出的成像模式中的參考符號(hào)96-1...96-59表不，并且由圖68中不出的成像模式中的參考符號(hào)97-1...97-59表不。每個(gè)掃描區(qū)域可以按多個(gè)平行或基本平行的掃描行的掃描圖案來掃描。掃描區(qū)域可以具有基本矩形的形狀。
[0110]為了在成像掃描之間切換，對象通過定位系統(tǒng)來轉(zhuǎn)移((1181)12106)和/或粒子光學(xué)系統(tǒng)將初級束偏轉(zhuǎn)到隨后成像掃描的開始位置。
[0111]在圖6八中所示的成像模式中，掃描區(qū)域彼此相鄰。在圖68中所示的成像模式中，掃描區(qū)域部分重疊。
[0112]在每個(gè)掃描區(qū)域中，當(dāng)掃描穿過各掃描區(qū)域的主粒子束時(shí)，帶電粒子顯微鏡檢測粒子強(qiáng)度和X射線強(qiáng)度。數(shù)據(jù)分析系統(tǒng)讀出檢測器信號(hào)，并針對每個(gè)掃描區(qū)域生成X射線強(qiáng)度測量數(shù)據(jù)和粒子強(qiáng)度測量數(shù)據(jù)。
[0113]檢測到的粒子強(qiáng)度可以是后向散射電子和/或二次電子的強(qiáng)度。檢測到的粒子強(qiáng)度可以表示每單位時(shí)間測量的粒子的數(shù)量。粒子強(qiáng)度測量數(shù)據(jù)可以包括針對每個(gè)掃描區(qū)域的圖像。通過示例的方式，圖像可以是832(后向散射電子)圖像和/或32( 二次電子)圖像。
[0114]X射線強(qiáng)度測量數(shù)據(jù)可以包括，針對目標(biāo)表面上初級束的多個(gè)碰撞位置中的每一個(gè)的X射線譜。對象表面上獲取X射線譜的碰撞位置可以根據(jù)832圖像和/或根據(jù)32圖像來確定。
[0115]通過示例的方式，數(shù)據(jù)分析系統(tǒng)可以根據(jù)832圖像和/或根據(jù)32圖像，確定對象表面上存在樣品粒子的位置。然后在樣品粒子的表面上的多個(gè)碰撞位置處獲取X射線譜。
[0116]圖2示出了在多個(gè)掃描區(qū)域96-1...96-59,97-1...97-59 (圖64和圖68中所示)之一中獲取的832圖像60。832圖像60示出了僅部分成像于832圖像60中的粒子64、65、66。這些粒子60的補(bǔ)充部分可以位于與由圖2所示的832圖像60成像的掃描區(qū)域相鄰或重疊的掃描區(qū)域中。這是由圖6八和圖68中的樣品粒子98所示。
[0117]數(shù)據(jù)分析系統(tǒng)被配置為合并用于兩個(gè)掃描區(qū)域97-42和97-43的樣品粒子98的X射線強(qiáng)度測量數(shù)據(jù)。這將參考圖7描述。
[0118]圖7以放大模式示出了粒子98和掃描區(qū)域97-42和97-43。對于每個(gè)掃描區(qū)域97-42和97-43，已經(jīng)獲取X射線強(qiáng)度測量數(shù)據(jù)和粒子強(qiáng)度測量數(shù)據(jù)。
[0119]根據(jù)已經(jīng)在掃描區(qū)域97-42和97-43中獲取的X射線強(qiáng)度測量數(shù)據(jù)和粒子強(qiáng)度測量數(shù)據(jù)的至少一部分，數(shù)據(jù)分析系統(tǒng)生成被分配給粒子98的表面上的、表示為圖7中的點(diǎn)(例如點(diǎn)100、101和102)的多個(gè)表面位置的X射線強(qiáng)度數(shù)據(jù)。分配的X射線強(qiáng)度數(shù)據(jù)可以包括針對樣品粒子98的表面位置的至少一部分中的每個(gè)部分的光譜。
[0120]由于已經(jīng)在兩個(gè)不同的掃描區(qū)域97-42和97-43中在初級束的碰撞位置獲取X射線強(qiáng)度測量數(shù)據(jù)，因此必須在掃描區(qū)域97-42和97-43中相對于彼此確定碰撞位置的地點(diǎn)。
[0121]這允許以高位置準(zhǔn)確度來合并掃描區(qū)域97-42的X射線強(qiáng)度測量數(shù)據(jù)和掃描區(qū)域97-43的X射線強(qiáng)度測量數(shù)據(jù)。
[0122]高位置準(zhǔn)確度導(dǎo)致通過分析包含在樣品粒子98中的顆粒所確定的幾何數(shù)據(jù)的高準(zhǔn)確度。這增加了統(tǒng)計(jì)分析的準(zhǔn)確度。
[0123]根據(jù)從每個(gè)掃描區(qū)域97-42和97-43中的成像掃描所生成的粒子強(qiáng)度測定數(shù)據(jù)，數(shù)據(jù)分析系統(tǒng)生成每個(gè)掃描區(qū)域的圖像。每個(gè)圖像可以是832圖像和/或32圖像。
[0124]通過比較掃描區(qū)域97-42的圖像與掃描區(qū)域97-43的圖像來確定區(qū)域97-42和97-43中已經(jīng)獲取X射線強(qiáng)度測量數(shù)據(jù)的碰撞位置的相對地點(diǎn)。這允許以高準(zhǔn)確度相對于彼此確定掃描區(qū)域的碰撞位置的相對地點(diǎn)。由此，可以相對于掃描區(qū)域97-43的碰撞位置來確定掃描區(qū)域97-42的碰撞位置。
[0125]掃描區(qū)域97-42的圖像與掃描區(qū)域97-43的圖像的比較可以包括應(yīng)用圖像處理程序，諸如對準(zhǔn)和/或縫合。根據(jù)比較，可以確定圖像相對于彼此的位置和/或方向。
[0126]根據(jù)相對于彼此的初級束的碰撞位置的已確定的地點(diǎn)，數(shù)據(jù)分析系統(tǒng)生成被分配到具有外邊界線103的粒子98的表面位置(例如位置100301102)的X射線強(qiáng)度數(shù)據(jù)。
[0127]由此，以高位置準(zhǔn)確度合并掃描區(qū)域97-42和97-43的獲取的X射線強(qiáng)度測量數(shù)據(jù)。
[0128]通過示例的方式，分配到位置100的X射線強(qiáng)度數(shù)據(jù)值被設(shè)置為已經(jīng)在碰撞位置獲取的X射線強(qiáng)度測量值的值，所述碰撞位置基本上與位置100相同或接近位置100?？商娲兀峙涞轿恢?00的X射線強(qiáng)度數(shù)據(jù)值被設(shè)置為已經(jīng)在碰撞位置獲取的X射線強(qiáng)度數(shù)據(jù)值的平均值，所述碰撞位置接近位置100。
[0129]在兩個(gè)掃描區(qū)域的樣品粒子98的碰撞位置相同或基本相同(例如，在重疊區(qū)域中)的情況下，可以組合兩個(gè)掃描區(qū)域的X射線譜。組合兩個(gè)或更多個(gè)光譜可以包括加和(8^ 光譜。因此，合并的光譜基于增加的計(jì)數(shù)的數(shù)量，其增加了組合光譜的信噪比。
[0130]分配給粒子98的對象表面上的位置(諸如圖7中由點(diǎn)100、101、102所示的位置)的已生成的X射線強(qiáng)度數(shù)據(jù)允許對粒子98執(zhí)行分析，以識(shí)別粒子內(nèi)的顆粒。顆?？梢员环峙涞揭粋€(gè)或多個(gè)預(yù)定義的類，其代表礦物或一組礦物。由此，樣品粒子98的表示可以并入表示的列表，其在窗口 70的渲染空間71(如圖3所示)中顯示。這允許將樣品粒子98包括在對象的多個(gè)樣品粒子的統(tǒng)計(jì)分析中。
[0131]數(shù)據(jù)分析系統(tǒng)被配置為從在窗口 70的渲染空間71(如圖3所示)中顯示的表示的列表中移除僅部分成像的未合并的粒子(例如粒子64、65、66〉的圖形表示，以避免在統(tǒng)計(jì)分析中雙重計(jì)數(shù)。從而，統(tǒng)計(jì)分析的更高的可靠性得以實(shí)現(xiàn)。
[0132]本公開包括以下各項(xiàng):
[0133]項(xiàng)1: 一種操作數(shù)據(jù)分析系統(tǒng)的方法，該數(shù)據(jù)分析系統(tǒng)用于根據(jù)由帶電粒子顯微鏡生成的對象的微觀數(shù)據(jù)來生成分析數(shù)據(jù)；其中，所述微觀數(shù)據(jù)包括示出結(jié)構(gòu)的圖像；其中，所述數(shù)據(jù)分析系統(tǒng)包括圖形用戶界面和顯示器；其中，所述方法包括:通過所述圖形用戶界面在所述顯示器上顯示所述結(jié)構(gòu)的圖形表示；生成代表分離切割的至少一條路徑的分離數(shù)據(jù)，所述分離切割將所述結(jié)構(gòu)的像素相互分離；根據(jù)所述分離數(shù)據(jù)，通過不同地標(biāo)記所述表示的不同區(qū)域部分來通過所述圖形用戶界面可視化地標(biāo)記所述分離切割，所述表示的不同區(qū)域部分代表通過所述分離切割相互分離的所述結(jié)構(gòu)的不同的像素；以及根據(jù)所述微觀數(shù)據(jù)并且根據(jù)所述分離數(shù)據(jù)，生成針對所述對象的至少兩個(gè)部分中的每個(gè)部分的分離分析數(shù)據(jù)。
[0134]項(xiàng)2:如項(xiàng)1所述的方法，其中，所述分離數(shù)據(jù)被配置為使得由所述分離切割將所述結(jié)構(gòu)無縫地切割開。
[0135]項(xiàng)3:如項(xiàng)1或2所述的方法，其中，所述分離切割的路徑無窮薄。
[0136]項(xiàng)4:如項(xiàng)1到3中的任一項(xiàng)所述的方法，其中，通過所述圖形用戶界面相對于所述分離數(shù)據(jù)的生成以時(shí)間關(guān)系或?qū)崟r(shí)時(shí)間關(guān)系執(zhí)行所述分離切割的標(biāo)記。
[0137]項(xiàng)5:如項(xiàng)1到4中的任一項(xiàng)所述的方法，還包括:通過檢測從所述對象上的帶電粒子顯微鏡的初級束的多個(gè)碰撞位置中的每一個(gè)發(fā)射的X射線來生成X射線強(qiáng)度數(shù)據(jù)；其中，標(biāo)記所述分離還包括根據(jù)所生成的X射線強(qiáng)度數(shù)據(jù)可視地標(biāo)記所述表示的不同的部分。
[0138]項(xiàng)6:如項(xiàng)1到5中的任一項(xiàng)所述的方法，還包括:生成針對所述對象的一部分上的帶電粒子顯微鏡的初級束的多個(gè)碰撞位置中的每一個(gè)的X射線強(qiáng)度數(shù)據(jù)；根據(jù)各碰撞位置的所生成的X射線強(qiáng)度數(shù)據(jù)，將每個(gè)碰撞位置分配到多個(gè)預(yù)定義的類之一；其中，標(biāo)記所述分離還包括根據(jù)所分配的預(yù)定義的類可視地標(biāo)記所述像素。
[0139]項(xiàng)7:如項(xiàng)1到6中的任一項(xiàng)所述的方法，其中，標(biāo)記所述分離還包括由所述圖形用戶界面顯示表示所述分離切割的路徑的分離指示器。
[0140]項(xiàng)8:如項(xiàng)7所述的方法，其中，所述分離指示器具有一個(gè)或多個(gè)位置可調(diào)的錨固點(diǎn)。
[0141]項(xiàng)9:如項(xiàng)7或8所述的方法，其中，生成所述分離數(shù)據(jù)包括通過調(diào)整所述分離指示器的路線來調(diào)整所述分離切割的路徑的路線。
[0142]項(xiàng)10:如項(xiàng)1到9中的任一項(xiàng)所述的方法，其中，所述結(jié)構(gòu)是未劃分的圖像區(qū)域。
[0143]項(xiàng)11: 一種存儲(chǔ)有指令的非臨時(shí)性計(jì)算機(jī)可讀存儲(chǔ)介質(zhì)，當(dāng)所述指令被計(jì)算機(jī)運(yùn)行時(shí)使得所述計(jì)算機(jī)執(zhí)行如項(xiàng)1到10中的任一項(xiàng)所述的方法。
[0144]項(xiàng)12:—種數(shù)據(jù)分析系統(tǒng)，用于根據(jù)由帶電粒子顯微鏡生成的對象的微觀數(shù)據(jù)來生成分析數(shù)據(jù)；其中，所述微觀數(shù)據(jù)包括示出結(jié)構(gòu)的圖像；其中，所述數(shù)據(jù)分析系統(tǒng)包括圖形用戶界面和顯示器；其中，所述數(shù)據(jù)分析系統(tǒng)被配置為:通過所述圖形用戶界面在所述顯示器上顯示所述結(jié)構(gòu)的圖形表示；生成代表分離切割的至少一條路徑的分離數(shù)據(jù)，所述分離切割將所述結(jié)構(gòu)的像素相互分離；根據(jù)所述分離數(shù)據(jù)，通過不同地標(biāo)記所述表示的不同部分來通過所述圖形用戶界面可視化地標(biāo)記所述分離切割，所述表示的不同部分代表通過所述分離切割相互分離的所述結(jié)構(gòu)的不同的像素；以及根據(jù)所述微觀數(shù)據(jù)并且根據(jù)所述分離數(shù)據(jù)，生成針對所述對象的至少兩個(gè)部分中的每個(gè)部分的分離分析數(shù)據(jù)。
[0145]項(xiàng)13:—種操作數(shù)據(jù)分析系統(tǒng)的方法，該數(shù)據(jù)分析系統(tǒng)用于分析由帶電粒子顯微鏡從包括多個(gè)樣品粒子的對象獲取的微觀數(shù)據(jù)；其中，所述微觀數(shù)據(jù)包括通過在第一掃描區(qū)域和第二掃描區(qū)域中掃描所述帶電粒子顯微鏡的初級束獲取的X射線強(qiáng)度測量數(shù)據(jù)和帶電粒子強(qiáng)度測量數(shù)據(jù)；其中，第一掃描區(qū)域和第二掃描區(qū)域彼此相鄰或彼此部分地重疊；其中，所述方法包括:識(shí)別所述多個(gè)樣品粒子中的至少一個(gè)樣品粒子，其至少部分地位于第一掃描區(qū)域和第二掃描區(qū)域中；以及根據(jù)第一掃描區(qū)域的X射線強(qiáng)度測量數(shù)據(jù)的至少一部分、第二掃描區(qū)域的X射線強(qiáng)度測量數(shù)據(jù)的至少一部分，而且還根據(jù)第一掃描區(qū)域和第二掃描區(qū)域中的粒子強(qiáng)度測量數(shù)據(jù)的至少一部分，生成分配到所識(shí)別的樣品粒子的表面位置的X射線強(qiáng)度數(shù)據(jù)。
[0146]項(xiàng)14:如項(xiàng)13所述的方法，其中，生成所分配的X射線強(qiáng)度數(shù)據(jù)包括:針對第一掃描區(qū)域和第二掃描區(qū)域中的每一個(gè)，根據(jù)各掃描區(qū)域的粒子強(qiáng)度測量數(shù)據(jù)生成圖像；以及根據(jù)第一掃描區(qū)域和第二掃描區(qū)域的圖像，生成所分配的X射線強(qiáng)度數(shù)據(jù)。
[0147]項(xiàng)15:如項(xiàng)14所述的方法，其中，生成所分配的X射線強(qiáng)度數(shù)據(jù)包括將第一掃描區(qū)域的圖像與第二掃描區(qū)域的圖像進(jìn)行比較。
[0148]項(xiàng)16:如項(xiàng)14或15所述的方法，其中，生成所分配的X射線強(qiáng)度數(shù)據(jù)包括應(yīng)用圖像處理程序。
[0149]項(xiàng)17:如項(xiàng)14到16中的任一項(xiàng)所述的方法，其中，生成所分配的X射線強(qiáng)度數(shù)據(jù)包括確定第一掃描區(qū)域的圖像相對于第二掃描區(qū)域的圖像的位置和/或方向。
[0150]項(xiàng)18:如項(xiàng)13到17中的任一項(xiàng)所述的方法，其中，生成所分配的X射線強(qiáng)度數(shù)據(jù)包括:相對于彼此，在第一掃描區(qū)域和第二掃描區(qū)域中確定所述初級束的碰撞位置的地點(diǎn)；其中，在所述碰撞位置處已經(jīng)獲取第一掃描區(qū)域和第二掃描區(qū)域的X射線強(qiáng)度測量數(shù)據(jù)的部分。
[0151]項(xiàng)19:如項(xiàng)13到18中的任一項(xiàng)所述的方法，其中，生成所分配的X射線強(qiáng)度數(shù)據(jù)包括:針對第一掃描區(qū)域和第二掃描區(qū)域中的每一個(gè)，根據(jù)各掃描區(qū)域的粒子強(qiáng)度測量數(shù)據(jù)生成圖像；以及相對于彼此，在第一掃描區(qū)域和第二掃描區(qū)域中確定所述初級束的碰撞位置的地點(diǎn)；其中，在所述碰撞位置處已經(jīng)獲取第一掃描區(qū)域和第二掃描區(qū)域的X射線強(qiáng)度測量數(shù)據(jù)的部分；其中，相對于彼此確定所述碰撞位置是根據(jù)第一掃描區(qū)域的圖像和第二掃描區(qū)域的圖像來執(zhí)行的。
[0152]項(xiàng)20:如項(xiàng)19所述的方法，其中，確定所述碰撞位置的地點(diǎn)包括將第一掃描區(qū)域的圖像與第二掃描區(qū)域的圖像進(jìn)行比較。
[0153]項(xiàng)21:如項(xiàng)19或20所述的方法，其中，確定所述碰撞位置的地點(diǎn)包括應(yīng)用圖像處理程序。
[0154]項(xiàng)22.如項(xiàng)19到21中的任一項(xiàng)所述的方法，其中，確定所述碰撞位置的地點(diǎn)包括確定第一掃描區(qū)域的圖像相對于第二掃描區(qū)域的圖像的位置和/或方向。
[0155]項(xiàng)23:如項(xiàng)13到22中的任一項(xiàng)所述的方法，其中，所分配的X射線強(qiáng)度數(shù)據(jù)包括X射線譜。
[0156]項(xiàng)25:—種存儲(chǔ)有指令的非臨時(shí)性計(jì)算機(jī)可讀存儲(chǔ)介質(zhì)，當(dāng)所述指令被計(jì)算機(jī)運(yùn)行時(shí)使得所述計(jì)算機(jī)執(zhí)行如項(xiàng)13到23中的任一項(xiàng)所述的方法。
[0157]項(xiàng)26:—種數(shù)據(jù)分析系統(tǒng)，用于分析由帶電粒子顯微鏡從包括多個(gè)樣品粒子的對象獲取的微觀數(shù)據(jù)；其中，所述微觀數(shù)據(jù)包括通過在第一掃描區(qū)域和第二掃描區(qū)域中掃描所述帶電粒子顯微鏡的初級束獲取的X射線強(qiáng)度測量數(shù)據(jù)和帶電粒子強(qiáng)度測量數(shù)據(jù)；其中，第一掃描區(qū)域和第二掃描區(qū)域彼此相鄰或彼此部分地重疊；其中，所述數(shù)據(jù)分析系統(tǒng)被配置為:識(shí)別所述多個(gè)樣品粒子中的至少一個(gè)樣品粒子，其至少部分地位于第一掃描區(qū)域和第二掃描區(qū)域中；以及根據(jù)第一掃描區(qū)域的X射線強(qiáng)度測量數(shù)據(jù)的至少一部分、第二掃描區(qū)域的X射線強(qiáng)度測量數(shù)據(jù)的至少一部分，而且還根據(jù)第一掃描區(qū)域和第二掃描區(qū)域中的粒子強(qiáng)度測量數(shù)據(jù)的至少一部分，生成分配到所識(shí)別的樣品粒子的表面位置的X射線強(qiáng)度數(shù)據(jù)。
[0158]項(xiàng)27:—種數(shù)據(jù)分析系統(tǒng)，被在配置為執(zhí)行如項(xiàng)1到10中的任一項(xiàng)所述的方法。
[0159]項(xiàng)28:—種數(shù)據(jù)分析系統(tǒng)，被在配置為執(zhí)行如項(xiàng)13到23中的任一項(xiàng)所述的方法。
【權(quán)利要求】
1.一種操作數(shù)據(jù)分析系統(tǒng)(4)的方法，所述數(shù)據(jù)分析系統(tǒng)(4)用于根據(jù)由帶電粒子顯微鏡(2)生成的對象(10)的微觀數(shù)據(jù)來生成分析數(shù)據(jù)； 其中，所述微觀數(shù)據(jù)包括示出結(jié)構(gòu)的圖像(60)； 其中，所述數(shù)據(jù)分析系統(tǒng)(4)包括圖形用戶界面和顯示器(43)； 其中，所述方法包括: 通過所述圖形用戶界面在所述顯示器(43)上顯示所述結(jié)構(gòu)的圖形表示(73)； 生成代表分離切割的至少一條路徑的分離數(shù)據(jù)，所述分離切割將所述結(jié)構(gòu)的像素相互分離； 根據(jù)所述分離數(shù)據(jù)，通過不同地標(biāo)記所述表示(73)的不同區(qū)域部分來通過所述圖形用戶界面可視化地標(biāo)記所述分離切割，所述表示(73)的不同區(qū)域部分代表通過所述分離切割相互分離的所述結(jié)構(gòu)的不同的像素；以及 根據(jù)所述微觀數(shù)據(jù)并且根據(jù)所述分離數(shù)據(jù)，生成針對所述對象(10)的至少兩個(gè)部分中的每個(gè)部分的分離分析數(shù)據(jù)。
2.如權(quán)利要求1所述的方法，其中，所述分離數(shù)據(jù)被配置為使得由所述分離切割將所述結(jié)構(gòu)無縫地切割開。
3.如權(quán)利要求1或2所述的方法，其中，所述分離切割的路徑無窮薄。
4.如前述權(quán)利要求中的任一項(xiàng)所述的方法，其中，通過所述圖形用戶界面相對于所述分離數(shù)據(jù)的生成以時(shí)間關(guān)系或?qū)崟r(shí)時(shí)間關(guān)系執(zhí)行所述分離切割的標(biāo)記。
5.如前述權(quán)利要求中的任一項(xiàng)所述的方法，還包括: 通過檢測從所述對象(10)上的帶電粒子顯微鏡(2)的初級束的多個(gè)碰撞位置中的每一個(gè)發(fā)射的X射線來生成X射線強(qiáng)度數(shù)據(jù)； 其中，標(biāo)記所述分離還包括根據(jù)所生成的X射線強(qiáng)度數(shù)據(jù)可視地標(biāo)記所述表示的不同的部分。
6.如前述權(quán)利要求中的任一項(xiàng)所述的方法，還包括: 生成針對所述對象(10)的一部分上的帶電粒子顯微鏡(2)的初級束的多個(gè)碰撞位置中的每一個(gè)的X射線強(qiáng)度數(shù)據(jù)； 根據(jù)各碰撞位置的所生成的X射線強(qiáng)度數(shù)據(jù)，將每個(gè)碰撞位置分配到多個(gè)預(yù)定義的類之一； 其中，標(biāo)記所述分離還包括根據(jù)所分配的預(yù)定義的類可視地標(biāo)記所述像素。
7.如前述權(quán)利要求中的任一項(xiàng)所述的方法，其中，標(biāo)記所述分離還包括由所述圖形用戶界面顯示表示所述分離切割的路徑的分離指示器。
8.如權(quán)利要求7所述的方法，其中，所述分離指示器具有一個(gè)或多個(gè)位置可調(diào)的錨固點(diǎn)(85,86,91)ο
9.如權(quán)利要求7或8所述的方法，其中，生成所述分離數(shù)據(jù)包括通過調(diào)整所述分離指示器的路線來調(diào)整所述分離切割的路徑的路線。
10.如前述權(quán)利要求中的任一項(xiàng)所述的方法，其中，所述結(jié)構(gòu)是未劃分的圖像區(qū)域。
11.一種存儲(chǔ)有指令的非臨時(shí)性計(jì)算機(jī)可讀存儲(chǔ)介質(zhì)，當(dāng)所述指令被計(jì)算機(jī)運(yùn)行時(shí)使得所述計(jì)算機(jī)執(zhí)行如前述權(quán)利要求中的任一項(xiàng)所述的方法。
12.—種數(shù)據(jù)分析系統(tǒng)(4)，用于根據(jù)由帶電粒子顯微鏡(2)生成的對象(10)的微觀數(shù)據(jù)來生成分析數(shù)據(jù)；其中，所述微觀數(shù)據(jù)包括示出結(jié)構(gòu)的圖像(60)； 其中，所述數(shù)據(jù)分析系統(tǒng)(4)包括圖形用戶界面和顯示器(43)； 其中，所述數(shù)據(jù)分析系統(tǒng)(4)被配置為: 通過所述圖形用戶界面在所述顯示器(43)上顯示所述結(jié)構(gòu)的圖形表示(73)； 生成代表分離切割的至少一條路徑的分離數(shù)據(jù)，所述分離切割將所述結(jié)構(gòu)的像素相互分離； 根據(jù)所述分離數(shù)據(jù)，通過不同地標(biāo)記所述表示(73)的不同部分來通過所述圖形用戶界面可視化地標(biāo)記所述分離切割，所述表示(73)的不同部分代表通過所述分離切割相互分離的所述結(jié)構(gòu)的不同的像素；以及 根據(jù)所述微觀數(shù)據(jù)并且根據(jù)所述分離數(shù)據(jù)，生成針對所述對象(10)的至少兩個(gè)部分中的每個(gè)部分的分離分析數(shù)據(jù)。
13.一種操作數(shù)據(jù)分析系統(tǒng)(4)的方法，所述數(shù)據(jù)分析系統(tǒng)(4)用于分析由帶電粒子顯微鏡(2)從包括多個(gè)樣品粒子的對象(10)獲取的微觀數(shù)據(jù)； 其中，所述微觀數(shù)據(jù)包括通過在第一掃描區(qū)域和第二掃描區(qū)域(97-42,97-43)中掃描所述帶電粒子顯微鏡的初級束獲取的X射線強(qiáng)度測量數(shù)據(jù)和帶電粒子強(qiáng)度測量數(shù)據(jù)； 其中，第一掃描區(qū)域和第二掃描區(qū)域(97-42,97-43)彼此相鄰或彼此部分地重疊； 其中，所述方法包括: 識(shí)別所述多個(gè)樣品粒子中的至少一個(gè)樣品粒子(98)，其至少部分地位于第一掃描區(qū)域和第二掃描區(qū)域(97-42,97-43)中；以及 根據(jù)第一掃描區(qū)域(97-42)的X射線強(qiáng)度測量數(shù)據(jù)的至少一部分、第二掃描區(qū)域(97-43)的X射線強(qiáng)度測量數(shù)據(jù)的至少一部分，而且還根據(jù)第一掃描區(qū)域和第二掃描區(qū)域(97-42,97-43)中的粒子強(qiáng)度測量數(shù)據(jù)的至少一部分，生成分配到所識(shí)別的樣品粒子(98)的表面位置(100，101，102)的X射線強(qiáng)度數(shù)據(jù)。
14.如權(quán)利要求13所述的方法，其中，生成所分配的X射線強(qiáng)度數(shù)據(jù)包括: 針對第一掃描區(qū)域和第二掃描區(qū)域(97-42,97-43)中的每一個(gè)，根據(jù)各掃描區(qū)域(97-42,97-43)的粒子強(qiáng)度測量數(shù)據(jù)生成圖像；以及 根據(jù)第一掃描區(qū)域和第二掃描區(qū)域(97-42,97-43)的圖像，生成所分配的X射線強(qiáng)度數(shù)據(jù)。
15.如權(quán)利要求14所述的方法，其中，生成所分配的X射線強(qiáng)度數(shù)據(jù)包括將第一掃描區(qū)域(97-42)的圖像與第二掃描區(qū)域(97-43)的圖像進(jìn)行比較。
16.如權(quán)利要求14或15所述的方法，其中，生成所分配的X射線強(qiáng)度數(shù)據(jù)包括應(yīng)用圖像處理程序。
17.如權(quán)利要求14到16中的任一項(xiàng)所述的方法，其中，生成所分配的X射線強(qiáng)度數(shù)據(jù)包括確定第一掃描區(qū)域(97-42)的圖像相對于第二掃描區(qū)域(97-43)的圖像的位置和/或方向。
18.如權(quán)利要求13到17中的任一項(xiàng)所述的方法，其中，生成所分配的X射線強(qiáng)度數(shù)據(jù)包括: 相對于彼此，在第一掃描區(qū)域和第二掃描區(qū)域(97-42,97-43)中確定所述初級束的碰撞位置的地點(diǎn)； 其中，在所述碰撞位置處已經(jīng)獲取第一掃描區(qū)域和第二掃描區(qū)域(97-42,97-43)的X射線強(qiáng)度測量數(shù)據(jù)的部分。
19.如權(quán)利要求13到18中的任一項(xiàng)所述的方法，其中，生成所分配的X射線強(qiáng)度數(shù)據(jù)包括: 針對第一掃描區(qū)域和第二掃描區(qū)域(97-42,97-43)中的每一個(gè)，根據(jù)各掃描區(qū)域(97-42,97-43)的粒子強(qiáng)度測量數(shù)據(jù)生成圖像；以及 相對于彼此，在第一掃描區(qū)域和第二掃描區(qū)域中確定所述初級束的碰撞位置的地點(diǎn)；其中，在所述碰撞位置處已經(jīng)獲取第一掃描區(qū)域和第二掃描區(qū)域的X射線強(qiáng)度測量數(shù)據(jù)的部分； 其中，相對于彼此確定所述碰撞位置是根據(jù)第一掃描區(qū)域(97-42)的圖像和第二掃描區(qū)域(97-43)的圖像來執(zhí)行的。
20.如權(quán)利要求19所述的方法，其中，確定所述碰撞位置的地點(diǎn)包括將第一掃描區(qū)域(97-42)的圖像與第二掃描區(qū)域(97-43)的圖像進(jìn)行比較。
21.如權(quán)利要求19或20所述的方法，其中，確定所述碰撞位置的地點(diǎn)包括應(yīng)用圖像處理程序。
22.如權(quán)利要求19到21中的任一項(xiàng)所述的方法，其中，確定所述碰撞位置的地點(diǎn)包括確定第一掃描區(qū)域(97-42)的圖像相對于第二掃描區(qū)域(97-43)的圖像的位置和/或方向。
23.如權(quán)利要求13到22中的任一項(xiàng)所述的方法，其中，所分配的X射線強(qiáng)度數(shù)據(jù)包括X射線譜。
24.一種存儲(chǔ)有指令的非臨時(shí)性計(jì)算機(jī)可讀存儲(chǔ)介質(zhì)，當(dāng)所述指令被計(jì)算機(jī)運(yùn)行時(shí)使得所述計(jì)算機(jī)執(zhí)行如權(quán)利要求13到23中的任一項(xiàng)所述的方法。
25.一種數(shù)據(jù)分析系統(tǒng)(4)，用于分析由帶電粒子顯微鏡(2)從包括多個(gè)樣品粒子的對象(10)獲取的微觀數(shù)據(jù)； 其中，所述微觀數(shù)據(jù)包括通過在第一掃描區(qū)域和第二掃描區(qū)域(97-42,97-43)中掃描所述帶電粒子顯微鏡(2)的初級束獲取的X射線強(qiáng)度測量數(shù)據(jù)和帶電粒子強(qiáng)度測量數(shù)據(jù)； 其中，第一掃描區(qū)域和第二掃描區(qū)域(97-42,97-43)彼此相鄰或彼此部分地重疊； 其中，所述數(shù)據(jù)分析系統(tǒng)(4)被配置為: 識(shí)別所述多個(gè)樣品粒子中的至少一個(gè)樣品粒子(98)，其至少部分地位于第一掃描區(qū)域和第二掃描區(qū)域(97-42,97-43)中；以及 根據(jù)第一掃描區(qū)域(97-42)的X射線強(qiáng)度測量數(shù)據(jù)的至少一部分、第二掃描區(qū)域(97-43)的X射線強(qiáng)度測量數(shù)據(jù)的至少一部分，而且還根據(jù)第一掃描區(qū)域和第二掃描區(qū)域(97-42,97-43)中的粒子強(qiáng)度測量數(shù)據(jù)的至少一部分，生成分配到所識(shí)別的樣品粒子(98)的表面位置(100，101，102)的X射線強(qiáng)度數(shù)據(jù)。
【文檔編號(hào)】G06F17/30GK104346437SQ201410392594
【公開日】2015年2月11日 申請日期:2014年8月11日 優(yōu)先權(quán)日:2013年8月9日
【發(fā)明者】C.格西爾, R.莫拉里 申請人:卡爾蔡司顯微鏡有限責(zé)任公司