一種觸控面板及其制作方法
【專利摘要】本發(fā)明公開了一種觸控面板及其制作方法，觸控面板的制作方法是采用負性光刻膠材料在襯底基板上形成凸起結(jié)構(gòu)的圖形，且形成的凸起結(jié)構(gòu)的圖形為截面從襯底基板指向外表面逐漸增大的類似于倒梯形的圖形，并以形成的凸起結(jié)構(gòu)的圖形為掩模板形成相互絕緣的觸控電極和浮空電極的圖形，由于所形成的觸控電極與浮空電極的圖形是通過凸起結(jié)構(gòu)的斷差而斷開，從俯視圖來看觸控電極與浮空電極的圖形覆蓋了整個襯底基板，使整個觸控面板表面具有相同的光學特性，從而可以削弱或消除觸控面板中觸控電極金屬圖案對視覺效果的影響，提高了觸控面板整體的觀看效果，相較于現(xiàn)有技術(shù)中觸控面板的制作，省去制作防反射層也可以達到較好的視覺效果，可以節(jié)省制作成本。
【專利說明】一種觸控面板及其制作方法

【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本發(fā)明涉及觸控【技術(shù)領(lǐng)域】，尤其涉及一種觸控面板及其制作方法。

【背景技術(shù)】
[0002]隨著顯示技術(shù)的飛速發(fā)展，觸摸屏(Touch Screen Panel)已經(jīng)逐漸遍及人們的生活中，相應的觸摸面板的市場規(guī)模也越來越大，為了提高競爭實力，各觸摸面板的生產(chǎn)商以簡化生產(chǎn)工藝，降低生產(chǎn)成本，提高性能為目標，不斷提高觸控面板的生產(chǎn)科技水平。
[0003]目前，為了降低生產(chǎn)成本，各廠商采用單層導電層設(shè)計生產(chǎn)觸控面板，即在基板上沉積單層金屬，通過構(gòu)圖工藝形成觸控電極，這樣的設(shè)計由于單層導電層和基板的折射率不同，金屬的反光作用會使得用戶看到觸控面板出現(xiàn)金屬觸控電極的圖案，這樣就影響了觸控面板的視覺效果，因此需要增加防反射層，這樣又會增加了觸控面板的生產(chǎn)工藝復雜度和生產(chǎn)成本，且防反射層的作用有限，無法有效改善觸控面板的視覺效果。
[0004]因此，如何簡化觸控面板的生產(chǎn)工藝，降低生產(chǎn)成本，有效改善觸控面板的視覺效果，是本領(lǐng)域技術(shù)人員亟待解決的問題。


【發(fā)明內(nèi)容】

[0005]本發(fā)明實施例提供了一種觸控面板及其制作方法，用以解決現(xiàn)有技術(shù)中存在的觸控面板制作工藝較復雜，且視覺效果較差的問題。
[0006]本發(fā)明實施例提供了一種觸控面板，包括:襯底基板，位于所述襯底基板之上的凸起結(jié)構(gòu)，以及位于所述凸起結(jié)構(gòu)和所述襯底基板之上且相互絕緣的觸控電極和浮空電極；其中，
[0007]所述凸起結(jié)構(gòu)的截面寬度沿襯底基板指向遠離所述襯底基板的方向逐漸遞增；
[0008]所述凸起結(jié)構(gòu)使所述觸控電極和所述浮空電極在所述凸起結(jié)構(gòu)邊緣處斷開。
[0009]在一種可能的實施方式中，本發(fā)明實施例提供的上述觸控面板中，所述觸控電極的圖形與所述凸起結(jié)構(gòu)的圖形一致，所述浮空電極的圖形與所述凸起結(jié)構(gòu)的圖形互補。
[0010]在一種可能的實施方式中，本發(fā)明實施例提供的上述觸控面板中，所述觸控電極的圖形與所述凸起結(jié)構(gòu)的圖形互補，所述浮空電極的圖形與所述凸起結(jié)構(gòu)的圖形一致。
[0011]在一種可能的實施方式中，本發(fā)明實施例提供的上述觸控面板中，所述凸起結(jié)構(gòu)的厚度大于所述觸控電極和所述浮空電極的厚度。
[0012]在一種可能的實施方式中，本發(fā)明實施例提供的上述觸控面板中，所述觸控電極包括構(gòu)成插指結(jié)構(gòu)的觸控感應電極和觸控驅(qū)動電極。
[0013]在一種可能的實施方式中，本發(fā)明實施例提供的上述觸控面板中，所述凸起結(jié)構(gòu)的材料為絕緣材料。
[0014]在一種可能的實施方式中，本發(fā)明實施例提供的上述觸控面板中，所述凸起結(jié)構(gòu)的材料為負性光刻膠材料。
[0015]本發(fā)明實施例提供了一種觸控面板的制作方法，包括:
[0016]在襯底基板上形成凸起結(jié)構(gòu)的圖形，所述凸起結(jié)構(gòu)的截面寬度沿襯底基板指向遠離所述襯底基板的方向逐漸遞增；
[0017]在形成有所述凸起結(jié)構(gòu)的圖形的襯底基板上，以所述凸起結(jié)構(gòu)的圖形為掩模板形成相互絕緣的觸控電極和浮空電極的圖形。
[0018]在一種可能的實施方式中，本發(fā)明實施例提供的上述觸控面板的制作方法中，所述在襯底基板上形成凸起結(jié)構(gòu)的圖形所采用的材料為絕緣材料。
[0019]在一種可能的實施方式中，本發(fā)明實施例提供的上述觸控面板的制作方法中，在形成有所述凸起結(jié)構(gòu)的圖形的襯底基板上，以所述凸起結(jié)構(gòu)的圖形為掩模板形成相互絕緣的觸控電極和浮空電極的圖形，具體包括:
[0020]在形成有所述凸起結(jié)構(gòu)的圖形的襯底基板上形成一層厚度小于所述凸起結(jié)構(gòu)的厚度的導電材料，使在所述凸起結(jié)構(gòu)的圖形邊緣處的所述導電材料斷開，形成相互絕緣的所述觸控電極和浮空電極的圖形。
[0021 ] 在一種可能的實施方式中，本發(fā)明實施例提供的上述觸控面板的制作方法中，形成的相互絕緣的所述觸控電極和浮空電極的圖形具體包括:
[0022]與所述凸起結(jié)構(gòu)的圖形一致的所述觸控電極的圖形，以及與所述凸起結(jié)構(gòu)的圖形互補的浮空電極的圖形。
[0023]在一種可能的實施方式中，本發(fā)明實施例提供的上述觸控面板的制作方法中，所述在襯底基板上形成所述凸起結(jié)構(gòu)的圖形，具體包括:
[0024]在所述襯底基板上形成一層負性光刻膠材料；
[0025]采用第一掩膜板對所述負性光刻膠材料進行曝光顯影，其中，所述第一掩膜板中透光區(qū)域?qū)谛枰纬伤鲇|控電極的圖形區(qū)域，所述第一掩膜板中遮光區(qū)域?qū)谛枰纬伤龈】针姌O的圖形區(qū)域。
[0026]在一種可能的實施方式中，本發(fā)明實施例提供的上述觸控面板的制作方法中，形成的相互絕緣的所述觸控電極和浮空電極的圖形具體包括:
[0027]與所述凸起結(jié)構(gòu)的圖形一致的所述浮空電極的圖形，以及與所述凸起結(jié)構(gòu)的圖形互補的所述觸控電極的圖形。
[0028]在一種可能的實施方式中，本發(fā)明實施例提供的上述觸控面板的制作方法中，所述在襯底基板上形成所述凸起結(jié)構(gòu)的圖形，具體包括:
[0029]在所述襯底基板上形成一層負性光刻膠材料；
[0030]采用第一掩膜板對所述負性光刻膠材料進行曝光顯影，其中，所述第一掩膜板中遮光區(qū)域?qū)谛枰纬伤鲇|控電極的圖形區(qū)域，所述第一掩膜板中透光區(qū)域?qū)谛枰纬伤龈】针姌O的圖形區(qū)域。
[0031 ] 本發(fā)明實施例的有益效果包括:
[0032]本發(fā)明實施例提供了一種觸控面板及其制作方法，其觸控面板的制作方法是采用負性光刻膠材料在襯底基板上形成凸起結(jié)構(gòu)的圖形，且形成的凸起結(jié)構(gòu)的圖形為截面從襯底基板指向外表面逐漸增大的類似于倒梯形的圖形，并以形成的凸起結(jié)構(gòu)的圖形為掩模板形成相互絕緣的觸控電極和浮空電極的圖形，由于所形成的觸控電極與浮空電極的圖形是通過凸起結(jié)構(gòu)的斷差而斷開，從俯視圖來看觸控電極與浮空電極的圖形覆蓋了整個襯底基板，使整個觸控面板表面具有相同的光學特性，從而可以削弱或消除觸控面板中觸控電極金屬圖案對視覺效果的影響，提高了觸控面板整體的觀看效果，相較于現(xiàn)有技術(shù)中的觸控面板的制作，可以省去制作防反射層也可以達到較好的視覺效果，因此可以節(jié)省制作成本。

【專利附圖】

【附圖說明】
[0033]圖1為本發(fā)明實施例提供的觸控面板的結(jié)構(gòu)示意圖之一；
[0034]圖2為本發(fā)明實施例提供的觸控面板的結(jié)構(gòu)示意圖之二 ；
[0035]圖3為本發(fā)明實施例提供的觸控電極的平面結(jié)構(gòu)示意圖之一；
[0036]圖4為本發(fā)明實施例提供的觸控電極的平面結(jié)構(gòu)示意圖之二 ；
[0037]圖5為本發(fā)明實施例提供的觸控面板的制作方法的流程圖；
[0038]圖6為本發(fā)明實施例提供的制作凸起結(jié)構(gòu)的方法流程圖之一；
[0039]圖7為本發(fā)明實施例提供的制作凸起結(jié)構(gòu)的方法流程圖之二。

【具體實施方式】
[0040]下面結(jié)合附圖，對本發(fā)明實施例提供的觸控面板及其制作方法的【具體實施方式】進行詳細地說明。
[0041]本發(fā)明實施例提供了一種觸控面板，如圖1和圖2所示，包括:襯底基板I,位于襯底基板I之上的凸起結(jié)構(gòu)2，以及位于凸起結(jié)構(gòu)2和襯底基板I之上且相互絕緣的觸控電極3和浮空電極(Dummy) 4 ;其中，
[0042]凸起結(jié)構(gòu)2的截面寬度沿襯底基板I指向遠離襯底基板I的方向逐漸遞增，形成類似一個倒梯形的圖形，凸起結(jié)構(gòu)2使觸控電極3和浮空電極4在凸起結(jié)構(gòu)2的邊緣處斷開，這樣才能保證觸控電極3與浮空電極4是相互絕緣的。
[0043]本發(fā)明實施例提供的上述觸控面板中，觸控電極3的圖形和浮空電極4的圖形通過凸起結(jié)構(gòu)2的斷差而斷開，從俯視圖來看觸控電極3與浮空電極4的圖形覆蓋了整個襯底基板1，使整個觸控面板表面具有相同的光學特性，從而可以削弱或消除觸控面板中觸控電極3的圖案對視覺效果的影響，提高了觸控面板整體的觀看效果，相較于現(xiàn)有技術(shù)中的觸控面板的制作，可以省去制作防反射層也可以達到較好的視覺效果，因此可以節(jié)省制作成本。
[0044]在具體實施時，本發(fā)明實施例提供的上述觸控面板中，觸控電極3與浮空電極4在襯底基板I上的排布方式可以有兩種方式，具體地，如圖1所示，可以將觸控電極3的圖形設(shè)置為與凸起結(jié)構(gòu)2的圖形一致，浮空電極4的圖形設(shè)置為與凸起結(jié)構(gòu)2的圖形互補；也可以如圖2所示，將觸控電極3的圖形設(shè)置為與凸起結(jié)構(gòu)2的圖形互補，浮空電極4的圖形設(shè)置為與凸起結(jié)構(gòu)2的圖形一致。采用上述兩種排布方式排布的觸控電極3與浮空電極4覆蓋了整個襯底基板1，使整個觸控面板具有相同的光學特性，從而可以削弱或消除觸控面板中觸控電極3的圖案對視覺效果產(chǎn)生的影響，提高了觸控面板整體的觀看效果。
[0045]在具體實施時，本發(fā)明實施例提供的上述觸控面板中，為了使觸控電極3與浮空電極4相互絕緣，凸起結(jié)構(gòu)2的厚度要大于觸控電極3和浮空電極4的厚度，這樣，在以凸起結(jié)構(gòu)2的圖形為掩模板，在形成有凸起結(jié)構(gòu)2的襯底基板I上沉積導電材料時，導電材料才會在凸起結(jié)構(gòu)2的斷差處自然斷開，形成觸控電極3和浮空電極4的圖形。
[0046]在具體實施時，本發(fā)明實施例提供的上述觸控面板中，觸控電極3要實現(xiàn)觸控功能，因此觸控電極3可以具體包括觸控感應電極301和觸控驅(qū)動電極302，觸控感應電極301 一般與觸摸信號輸出線303相連，觸控驅(qū)動電極302 —般與驅(qū)動線304相連，且為了使觸控感應電極301與觸控驅(qū)動電極302在一個平面內(nèi)相互絕緣，因此可以將觸控感應電極301與觸控驅(qū)動電極302設(shè)置成插指結(jié)構(gòu)，其中插指結(jié)構(gòu)的具體地結(jié)構(gòu)可以有多種實現(xiàn)方式，例如圖3所示，可以將觸控感應電極301設(shè)置為U形圖案，對應的可以將觸控驅(qū)動電極302設(shè)置為插入U形開口位置的長方形圖案，兩者構(gòu)成插指結(jié)構(gòu)，其余空白部分為浮空電極4 ;也可以如圖4所示，將觸控感應電極301設(shè)置為三角形圖案，對應的可以將觸控驅(qū)動電極302設(shè)置為與觸控感應電極的圖案斜邊相對的三角形圖案，兩者互補也可以構(gòu)成類似于插指結(jié)構(gòu)，其余空白部分為浮空電極4。在具體實施時，觸控感應電極301和觸控驅(qū)動電極302的圖形還可以為其他符合工藝要求的圖形，在此不作限定。
[0047]在具體實施時，本發(fā)明實施例提供的上述觸控面板中，凸起結(jié)構(gòu)2的材料可以采用氮化硅、二氧化硅等絕緣材料，本發(fā)明實施例提供的上述觸控面板中，凸起結(jié)構(gòu)2的材料優(yōu)選負性光刻膠材料，采用負性光刻膠材料制作凸起結(jié)構(gòu)2既可以實現(xiàn)絕緣的功能，又容易實現(xiàn)倒角構(gòu)圖工藝，有利于制作截面為倒梯形的凸起結(jié)構(gòu)2圖形。
[0048]基于同一發(fā)明構(gòu)思，本發(fā)明實施例提供了一種觸控面板的制作方法，如圖5所示，包括如下步驟:
[0049]S101、在襯底基板上形成凸起結(jié)構(gòu)的圖形，凸起結(jié)構(gòu)的截面寬度沿從襯底基板指向遠離襯底基板的方向逐漸遞增；
[0050]S102、在形成有凸起結(jié)構(gòu)的圖形的襯底基板上，以凸起結(jié)構(gòu)的圖形為掩模板形成相互絕緣的觸控電極和浮空電極的圖形。
[0051]本發(fā)明實施例提供的上述觸控面板的制作方法中，由于采用負性光刻膠材料在襯底基板上形成凸起結(jié)構(gòu)的圖形，因此，形成的凸起結(jié)構(gòu)的圖形為截面從襯底基板指向外表面逐漸增大的類似于倒梯形的圖形，因此在之后以凸起結(jié)構(gòu)的圖形為掩膜板制作出的觸控電極與浮空電極的圖形在凸起結(jié)構(gòu)的斷差處會斷開而相互絕緣，而從俯視圖來看觸控電極與浮空電極的圖形又覆蓋了整個襯底基板，使整個觸控面板表面具有相同的光學特性，從而可以削弱或消除觸控面板中由于觸控電極圖案對視覺效果產(chǎn)生的影響，提高了觸控面板整體的觀看效果，相較于現(xiàn)有技術(shù)中的觸控面板的制作，可以省去制作防反射層也可以達到較好的視覺效果，因此可以節(jié)省制作成本。
[0052]在具體實施時，本發(fā)明實施例提供的上述觸控面板的制作方法中，制作凸起結(jié)構(gòu)圖形采用的材料，一般地可以采用氮化硅、二氧化硅等絕緣材料，本發(fā)明實施例提供的上述觸控面板的制作方法中，優(yōu)選負性光刻膠材料制作凸起結(jié)構(gòu)2，采用負性光刻膠材料制作凸起結(jié)構(gòu)2的圖形既可以實現(xiàn)絕緣的功能，又容易實現(xiàn)倒角構(gòu)圖工藝，有利于制作截面為倒梯形的凸起結(jié)構(gòu)2圖形。
[0053]在具體實施時，為了達到采用凸起結(jié)構(gòu)的圖形作為掩模板而使形成的觸控電極和浮空電極相互絕緣的效果，本發(fā)明實施例提供的上述觸控面板的制作方法中的步驟S102可以采用下述方式實現(xiàn):在形成有凸起結(jié)構(gòu)的圖形的襯底基板上形成一層厚度小于凸起結(jié)構(gòu)的厚度的導電材料，由于步驟SlOl形成的凸起結(jié)構(gòu)的圖形為截面從襯底基板指向外表面逐漸增大的類似于倒梯形的圖形，因此以步驟SlOl所形成的凸起結(jié)構(gòu)的圖形為掩模板，會使得厚度小于凸起結(jié)構(gòu)的導電材料在凸起結(jié)構(gòu)的圖形的斷差處自然斷開，斷開的導電材料分別形成兩部分圖形，這樣就可以自然形成相互絕緣的觸控電極和浮空電極的圖形。
[0054]在具體實施時，本發(fā)明實施例提供的上述觸控面板的制作方法中，采用上述步驟S102形成相互絕緣的觸控電極和浮空電極的圖形，由于在凸起結(jié)構(gòu)的圖形上方形成的圖形與該凸起結(jié)構(gòu)的圖形一致，因此，可以如圖1所示，將形成的觸控電極3的圖形設(shè)置為與凸起結(jié)構(gòu)2的圖形一致，對應地，將形成的浮空電極4的圖形設(shè)置為與凸起結(jié)構(gòu)2的圖形互補。
[0055]進一步地，為了得到上述結(jié)構(gòu)的觸控電極3與浮空電極4，具體地，本發(fā)明實施例提供的上述觸控面板的制作方法中的步驟SlOl可以采用如下方式實現(xiàn)，如圖6所示，可以具體包括如下步驟:
[0056]S201、在襯底基板上形成一層負性光刻膠材料；
[0057]S202、米用第一掩膜板對負性光刻膠材料進行曝光顯影,其中，第一掩膜板中透光區(qū)域?qū)谛枰纬捎|控電極的圖形區(qū)域，第一掩膜板中遮光區(qū)域?qū)谛枰纬筛】针姌O的圖形區(qū)域。這樣，在經(jīng)過曝光顯影后，與第一掩膜板的透光區(qū)域?qū)呢撔怨饪棠z被保留，保留區(qū)域的圖形與觸控電極的圖形一致，與第一掩膜板的遮光區(qū)域?qū)呢撔怨饪棠z被刻蝕掉，刻蝕掉區(qū)域的圖形與浮空電極的圖形一致。
[0058]在具體實施時，本發(fā)明實施例提供的上述觸控面板的制作方法中，采用步驟S102形成相互絕緣的觸控電極和浮空電極的圖形，由于在凸起結(jié)構(gòu)的圖形上方形成的圖形與該凸起結(jié)構(gòu)的圖形一致，因此，還可以如圖2所示，將形成的浮空電極4的圖形設(shè)置為與凸起結(jié)構(gòu)2的圖形一致，對應的，將形成的觸控電極3的圖形設(shè)置為與凸起結(jié)構(gòu)2的圖形互補。
[0059]進一步地，為了得到上述結(jié)構(gòu)的浮空電極4和觸控電極3，具體地，本發(fā)明實施例提供的上述觸控面板的制作方法中的步驟SlOl可以采用如下方式實現(xiàn)，如圖7所示，可以具體包括如下步驟:
[0060]S301、在襯底基板上形成一層負性光刻膠材料；
[0061]S302、米用第一掩膜板對負性光刻膠材料進行曝光顯影,其中，第一掩膜板中遮光區(qū)域?qū)谛枰纬捎|控電極的圖形區(qū)域，第一掩膜板中透光區(qū)域?qū)谛枰纬筛】针姌O的圖形區(qū)域。這樣，在經(jīng)過曝光顯影后，與第一掩膜板的透光區(qū)域?qū)呢撔怨饪棠z被保留，保留區(qū)域的圖形與浮空電極的圖形一致，與第一掩膜板的遮光區(qū)域?qū)呢撔怨饪棠z被刻蝕掉，刻蝕掉區(qū)域的圖形與觸控電極的圖形一致。
[0062]具體地，本發(fā)明實施例提供的上述觸控面板及其制作方法中，凸起結(jié)構(gòu)的材料還可以是有機光阻材料、無機材料，以及通過曝光刻蝕可以形成截面為倒梯形圖形、且能滿足絕緣、透明的要求的材料都可以。
[0063]在具體實施時，本發(fā)明實施例提供的上述觸控面板的制作方法可以應用于外掛式觸控技術(shù)或內(nèi)嵌式觸控技術(shù)等多種觸控技術(shù)方案中，應用于不同觸控技術(shù)方案需要增加對應的工藝步驟，以滿足對應方案的需求，在此不作詳述。
[0064]本發(fā)明實施例提供了一種觸控面板及其制作方法，其觸控面板的制作方法是采用負性光刻膠材料在襯底基板上形成凸起結(jié)構(gòu)的圖形，且形成的凸起結(jié)構(gòu)的圖形為截面從襯底基板指向外表面逐漸增大的類似于倒梯形的圖形，并以形成的凸起結(jié)構(gòu)的圖形為掩模板形成相互絕緣的觸控電極和浮空電極的圖形，由于所形成的觸控電極與浮空電極的圖形是通過凸起結(jié)構(gòu)的斷差而斷開，從俯視圖來看觸控電極與浮空電極的圖形覆蓋了整個襯底基板，使整個襯底基板表面具有相同的光學特性，從而可以削弱或消除觸控面板中觸控電極圖案對視覺效果的影響，提高了觸控面板整體的觀看效果，相較于現(xiàn)有技術(shù)中的觸控面板的制作，可以省去制作防反射層也可以達到較好的視覺效果，因此可以節(jié)省制作成本。
[0065]顯然，本領(lǐng)域的技術(shù)人員可以對本發(fā)明進行各種改動和變型而不脫離本發(fā)明的精神和范圍。這樣，倘若本發(fā)明的這些修改和變型屬于本發(fā)明權(quán)利要求及其等同技術(shù)的范圍之內(nèi)，則本發(fā)明也意圖包含這些改動和變型在內(nèi)。
【權(quán)利要求】
1.一種觸控面板，其特征在于，包括:襯底基板，位于所述襯底基板之上的凸起結(jié)構(gòu)，以及位于所述凸起結(jié)構(gòu)和所述襯底基板之上且相互絕緣的觸控電極和浮空電極；其中， 所述凸起結(jié)構(gòu)的截面寬度沿襯底基板指向遠離所述襯底基板的方向逐漸遞增； 所述凸起結(jié)構(gòu)使所述觸控電極和所述浮空電極在所述凸起結(jié)構(gòu)邊緣處斷開。
2.如權(quán)利要求1所述的觸控面板，其特征在于，所述觸控電極的圖形與所述凸起結(jié)構(gòu)的圖形一致，所述浮空電極的圖形與所述凸起結(jié)構(gòu)的圖形互補。
3.如權(quán)利要求1所述的觸控面板，其特征在于，所述觸控電極的圖形與所述凸起結(jié)構(gòu)的圖形互補，所述浮空電極的圖形與所述凸起結(jié)構(gòu)的圖形一致。
4.如權(quán)利要求1-3任一項所述的觸控面板，其特征在于，所述凸起結(jié)構(gòu)的厚度大于所述觸控電極和所述浮空電極的厚度。
5.如權(quán)利要求1-3任一項所述的觸控面板，其特征在于，所述觸控電極包括構(gòu)成插指結(jié)構(gòu)的觸控感應電極和觸控驅(qū)動電極。
6.如權(quán)利要求1-3任一項所述的觸控面板，其特征在于，所述凸起結(jié)構(gòu)的材料為絕緣材料。
7.如權(quán)利要求6所述的觸控面板，其特征在于，所述凸起結(jié)構(gòu)的材料為負性光刻膠材料。
8.—種觸控面板的制作方法，其特征在于，包括: 在襯底基板上形成凸起結(jié)構(gòu)的圖形，所述凸起結(jié)構(gòu)的截面寬度沿襯底基板指向遠離所述襯底基板的方向逐漸遞增； 在形成有所述凸起結(jié)構(gòu)的圖形的襯底基板上，以所述凸起結(jié)構(gòu)的圖形為掩模板形成相互絕緣的觸控電極和浮空電極的圖形。
9.如權(quán)利要求8所述的方法，其特征在于，所述在襯底基板上形成凸起結(jié)構(gòu)的圖形所采用的材料為絕緣材料。
10.如權(quán)利要求8所述的方法，其特征在于，在形成有所述凸起結(jié)構(gòu)的圖形的襯底基板上，以所述凸起結(jié)構(gòu)的圖形為掩模板形成相互絕緣的觸控電極和浮空電極的圖形，具體包括: 在形成有所述絕凸起結(jié)構(gòu)的圖形的襯底基板上形成一層厚度小于所述凸起結(jié)構(gòu)的厚度的導電材料，使在所述凸起結(jié)構(gòu)的圖形邊緣處的所述導電材料斷開，形成相互絕緣的所述觸控電極和浮空電極的圖形。
11.如權(quán)利要求9或10所述的方法，其特征在于，形成的相互絕緣的所述觸控電極和浮空電極的圖形具體包括: 與所述凸起結(jié)構(gòu)的圖形一致的所述觸控電極的圖形，以及與所述凸起結(jié)構(gòu)的圖形互補的浮空電極的圖形。
12.如權(quán)利要求11所述的方法，其特征在于，所述在襯底基板上形成所述凸起結(jié)構(gòu)的圖形，具體包括: 在所述襯底基板上形成一層負性光刻膠材料； 采用第一掩膜板對所述負性光刻膠材料進行曝光顯影，其中，所述第一掩膜板中透光區(qū)域?qū)谛枰纬伤鲇|控電極的圖形區(qū)域，所述第一掩膜板中遮光區(qū)域?qū)谛枰纬伤龈】针姌O的圖形區(qū)域。
13.如權(quán)利要求9或10所述的方法，其特征在于，形成的相互絕緣的所述觸控電極和浮空電極的圖形具體包括: 與所述凸起結(jié)構(gòu)的圖形一致的所述浮空電極的圖形，以及與所述凸起結(jié)構(gòu)的圖形互補的所述觸控電極的圖形。
14.如權(quán)利要求13所述的方法，其特征在于，所述在襯底基板上形成所述凸起結(jié)構(gòu)的圖形，具體包括: 在所述襯底基板上形成一層負性光刻膠材料； 采用第一掩膜板對所述負性光刻膠材料進行曝光顯影，其中，所述第一掩膜板中遮光區(qū)域?qū)谛枰纬伤鲇|控電極的圖形區(qū)域，所述第一掩膜板中透光區(qū)域?qū)谛枰纬伤龈】针姌O的圖形區(qū)域。
【文檔編號】G06F3/041GK104238816SQ201410448652
【公開日】2014年12月24日 申請日期:2014年9月4日 優(yōu)先權(quán)日:2014年9月4日
【發(fā)明者】張方振, 呂志軍, 高濤, 劉震 申請人:京東方科技集團股份有限公司