本公開涉及可視顯示，特別地，涉及一種電阻式觸摸屏。

背景技術(shù)：

1、隨著技術(shù)的不斷進(jìn)步，觸摸屏的不斷發(fā)展給我們的生活帶來了巨大的變化。觸摸屏不僅可以提升用戶體驗，也使得人與技術(shù)之間的互動更加自然，促進(jìn)了智能化時代的到來。

2、電阻式觸摸屏具有價格較低、可靠性較高、兼容性強且精度較高等優(yōu)點，尤其是在工業(yè)、醫(yī)療和零售等領(lǐng)域非常受歡迎。

3、但是，在使用長方形電阻式觸摸屏?xí)r，經(jīng)常發(fā)現(xiàn)邊緣或角落位置的觸摸準(zhǔn)確性較差，嚴(yán)重影響使用體驗。

技術(shù)實現(xiàn)思路

1、有鑒于此，本發(fā)明提供一種電阻式觸摸屏，旨在解決傳統(tǒng)的電阻式觸摸屏的邊緣或角落位置的觸摸準(zhǔn)確性較差的問題。

2、本公開提供的電阻式觸摸屏包括ito層、多條第一金屬線段、四條第二金屬線和多個補償塊。ito層包括可視區(qū)和非可視區(qū)。多條第一金屬線段，位于非可視區(qū)且圍繞可視區(qū)設(shè)置。四條第二金屬線，四條第二金屬線位于多條第一金屬線段的外側(cè)，四條第二金屬線中的每條第二金屬線的一端在ito層的一個直角處與ito膜電連接，第二金屬線的另一端與電阻式觸摸屏的外部。多個補償塊，貫穿ito層設(shè)置，位于第一金屬線內(nèi)側(cè)且位于非可視區(qū)。多個補償塊的被設(shè)置成使得可視區(qū)的電場分布比未設(shè)置多個補償塊時可視區(qū)的電場分布更均勻。

3、由于多個補償塊貫穿ito層后形成絕緣區(qū)，絕緣區(qū)對電場有較強的阻礙作用，因而有助于降低周圍電場的強度。補償塊的加入，相對于傳統(tǒng)只通過第一金屬線補償邊緣電場，不僅快速有效，而且提升可視區(qū)與非可視區(qū)的面積比，還降低工藝難度和成本。而且，圍繞可視區(qū)設(shè)置的多條第一金屬線段提供了額外的電場控制，確保電場的分布更加均勻，減少了電場強度的集中或不均勻現(xiàn)象。此外，圍繞可視區(qū)設(shè)置的多條第一金屬線段與補償塊可以協(xié)同作用，不僅提高了可視區(qū)內(nèi)邊緣和角落位置電場的均勻性，也有利于整體ito層的電場分布更加均衡。這種均勻的電場分布使得用戶在操作過程中可以更靈敏、準(zhǔn)確地獲得反饋，從而有助于提升用戶體驗。

技術(shù)特征：

1.一種電阻式觸摸屏，其特征在于，包括

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的電阻式觸摸屏，其特征在于，所述電阻式觸摸屏還包括第一基板，所述ito層、所述第一金屬線、所述多個補償塊和所述第二金屬線位于所述第一基板。

3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的電阻式觸摸屏，其特征在于，所述電阻式觸摸屏還包括設(shè)置有ito層的第一基板和第二基板，所述多條第一金屬線和第二金屬線位于所述第一基板，所述多個補償塊和位于所述第二基板。

4.根據(jù)權(quán)利要求2或3所述的電阻式觸摸屏，其特征在于，所述多個補償塊中位于所述第一金屬線中同一條金屬邊內(nèi)側(cè)設(shè)置的至少兩個補償塊中，靠近所述可視區(qū)的中心位置的補償塊在所述ito的正投影的面積小于遠(yuǎn)離所述可視區(qū)的中心位置的補償塊在所述ito的正投影的面積。

5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的電阻式觸摸屏，其特征在于，所述多個補償塊中位于所述第一金屬線中任意相對設(shè)置的兩條金屬邊內(nèi)側(cè)的多個補償塊對稱設(shè)置。

6.根據(jù)權(quán)利要求4所述的電阻式觸摸屏，其特征在于，所述多個補償塊中位于所述第一金屬線中同一條金屬邊內(nèi)側(cè)的所述多個補償塊對稱分布。

7.根據(jù)權(quán)利要求2或3所述的電阻式觸摸屏，其特征在于，所述多條第一金屬線段包括疊層設(shè)置的多個折線段和多個線段。

8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的電阻式觸摸屏，其特征在于，所述第一金屬線中位于所述ito層中同一邊設(shè)置的多個折線段和多個線段對稱設(shè)置。

9.根據(jù)權(quán)利要求7所述的電阻式觸摸屏，其特征在于，所述多條第一金屬線段中位于所述ito層中任意相對設(shè)置的兩條邊的多個折線段和多個線段對稱設(shè)置。

10.根據(jù)權(quán)利要求1所述的電阻式觸摸屏，其特征在于，所述ito層的至少一層為ito玻璃。

技術(shù)總結(jié)
本發(fā)明提供的電阻式觸摸屏包括基板、ITO層、多條第一金屬線段、四條第二金屬線和多個補償塊。多個補償塊貫穿ITO層設(shè)置，位于第一金屬線內(nèi)側(cè)且位于非可視區(qū)。多個補償塊的被設(shè)置成使得可視區(qū)的電場分布比未設(shè)置多個補償塊時可視區(qū)的電場分布更均勻。由于多個補償塊貫穿ITO層后形成絕緣區(qū)，絕緣區(qū)對電場有較強的阻礙作用，因而有助于降低周圍電場的強度。而且，圍繞可視區(qū)設(shè)置的多條第一金屬線段提供了額外的電場控制，確保電場的分布更加均勻。此外，圍繞可視區(qū)設(shè)置的多條第一金屬線段與補償塊可以協(xié)同作用，不僅提高了可視區(qū)內(nèi)邊緣和角落位置電場的均勻性，也有利于整體ITO層的電場分布更加均衡。

技術(shù)研發(fā)人員：黃威龍,林行,陳志榮,薛玉芳,洪繼
受保護(hù)的技術(shù)使用者：無錫變格新材料科技有限公司
技術(shù)研發(fā)日：
技術(shù)公布日：2024/12/19