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      資源上圖的方法、裝置、電子設(shè)備及存儲(chǔ)介質(zhì)與流程

      文檔序號(hào):40468059發(fā)布日期:2024-12-27 09:33閱讀:7來源:國(guó)知局
      資源上圖的方法、裝置、電子設(shè)備及存儲(chǔ)介質(zhì)與流程

      本公開涉及計(jì)算機(jī),尤其涉及一種資源上圖的方法、裝置、電子設(shè)備及存儲(chǔ)介質(zhì)。


      背景技術(shù):

      1、在資源上圖的相關(guān)技術(shù)中,用戶通常需要通過自定義繪制的方式在底圖上逐個(gè)框選出目標(biāo)區(qū)域(如停車場(chǎng)、電子圍欄、人防區(qū)域等),并將其與待上圖資源綁定,可以根據(jù)待上圖資源的上圖規(guī)范設(shè)置目標(biāo)區(qū)域的屬性,例如可以根據(jù)待上圖資源為教室,調(diào)整對(duì)應(yīng)的目標(biāo)區(qū)域的顏色為紅色,以便進(jìn)行可視化展示。

      2、相關(guān)技術(shù)中,通常通過點(diǎn)擊連線框選或矩形框選方式先確定一個(gè)目標(biāo)區(qū)域,再選擇關(guān)聯(lián)的待上圖資源進(jìn)行關(guān)聯(lián),這種上圖耗時(shí)較長(zhǎng),尤其是在目標(biāo)區(qū)域數(shù)量較多時(shí),重復(fù)上圖操作極大影響資源上圖的效率。


      技術(shù)實(shí)現(xiàn)思路

      1、本公開實(shí)施例的目的是提供一種資源上圖的方法、裝置、電子設(shè)備及存儲(chǔ)介質(zhì)。

      2、為解決上述技術(shù)問題,本公開實(shí)施例是通過以下各方面實(shí)現(xiàn)的。

      3、根據(jù)本公開實(shí)施例的第一方面,提供一種資源上圖的方法,所述方法包括:獲取待上圖資源對(duì)應(yīng)的目標(biāo)區(qū)域的第一區(qū)域參數(shù),所述第一區(qū)域參數(shù)用于表征所述目標(biāo)區(qū)域的形狀和尺寸;基于所述第一區(qū)域參數(shù)、預(yù)設(shè)的生成規(guī)則、以及以下至少之一生成若干個(gè)區(qū)域圖形:上圖區(qū)域的第二區(qū)域參數(shù),觸控操作形成的第一路徑;其中,所述第二區(qū)域參數(shù)用于表征所述上圖區(qū)域的形狀和尺寸;將所述區(qū)域圖形與待上圖資源進(jìn)行關(guān)聯(lián)。

      4、根據(jù)本公開實(shí)施例的第二方面,提供一種資源上圖的裝置,所述裝置包括:獲取模塊,用于獲取待上圖資源對(duì)應(yīng)的目標(biāo)區(qū)域的第一區(qū)域參數(shù),所述第一區(qū)域參數(shù)用于表征所述目標(biāo)區(qū)域的形狀和尺寸;生成模塊,用與基于所述第一區(qū)域參數(shù)、預(yù)設(shè)的生成規(guī)則、以及以下至少之一生成若干個(gè)區(qū)域圖形:上圖區(qū)域的第二區(qū)域參數(shù),觸控操作形成的第一路徑;其中,所述第二區(qū)域參數(shù)用于表征所述上圖區(qū)域的形狀和尺寸;上圖模塊,用于將所述區(qū)域圖形與待上圖資源進(jìn)行關(guān)聯(lián)。

      5、根據(jù)本公開實(shí)施例的第三方面,提供一種電子設(shè)備,包括:處理器;用于存儲(chǔ)所述處理器可執(zhí)行指令的存儲(chǔ)器;其中,所述處理器用于執(zhí)行上述第一方面所述的資源上圖的方法的步驟。

      6、根據(jù)本公開實(shí)施例的第四方面,提供一種計(jì)算機(jī)可讀存儲(chǔ)介質(zhì),所述計(jì)算機(jī)可讀存儲(chǔ)介質(zhì)存儲(chǔ)一個(gè)或多個(gè)程序,所述一個(gè)或多個(gè)程序當(dāng)被包括多個(gè)應(yīng)用程序的電子設(shè)備執(zhí)行時(shí),使得所述電子設(shè)備執(zhí)行第一方面所述的資源上圖的方法的步驟。

      7、上述技術(shù)方案中的一個(gè)技術(shù)方案具有如下的優(yōu)點(diǎn)或有益效果,通過獲取待上圖資源對(duì)應(yīng)的目標(biāo)區(qū)域的第一區(qū)域參數(shù),基于第一區(qū)域參數(shù)、預(yù)設(shè)的生成規(guī)則、以及以下至少之一生成若干個(gè)區(qū)域圖形:上圖區(qū)域的第二區(qū)域參數(shù),觸控操作形成的第一路徑,通過將區(qū)域圖形與待上圖資源進(jìn)行關(guān)聯(lián)。能夠自動(dòng)生成區(qū)域圖形,并自動(dòng)完成區(qū)域圖形和待上圖資源的綁定,減少批量手動(dòng)資源上圖的操作成本,提高資源上圖的效率。

      8、應(yīng)當(dāng)理解的是,以上的一般描述和后文的細(xì)節(jié)描述僅是示例性和解釋性的,并不能限制本公開。

      9、本公開的其他特征和優(yōu)點(diǎn)將在隨后的具體實(shí)施方式部分予以詳細(xì)說明。



      技術(shù)特征:

      1.一種資源上圖的方法,其特征在于,所述方法包括:

      2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法,其特征在于,所述基于所述第一區(qū)域參數(shù)、預(yù)設(shè)的生成規(guī)則、以及以下至少之一生成若干個(gè)區(qū)域圖形:上圖區(qū)域的第二區(qū)域參數(shù),觸控操作形成的第一路徑;包括:

      3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法,其特征在于,所述預(yù)設(shè)的生成規(guī)則包括區(qū)域范圍生成規(guī)則,所述生成若干個(gè)區(qū)域圖形,包括:

      4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的方法,其特征在于,所述確定所述待上圖資源對(duì)應(yīng)的上圖區(qū)域,包括:

      5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法,其特征在于,所述預(yù)設(shè)的生成規(guī)則包括路徑跟隨生成規(guī)則,所述生成若干個(gè)區(qū)域圖形包括:

      6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的方法,其特征在于,所述根據(jù)所述外接圖形的尺寸,在所述第一路徑的繪制過程中生成所述至少一個(gè)區(qū)域圖形,包括:

      7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法,其特征在于,所述生成區(qū)域圖形,包括:

      8.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法,其特征在于,所述將所述區(qū)域圖形與待上圖資源進(jìn)行關(guān)聯(lián),包括:

      9.根據(jù)權(quán)利要求1-8中任一項(xiàng)所述的方法,其特征在于,所述方法還包括以下至少之一:

      10.一種資源上圖的裝置,其特征在于,所述裝置包括:

      11.一種電子設(shè)備,其特征在于,包括:存儲(chǔ)器、處理器及存儲(chǔ)在所述存儲(chǔ)器上并可在所述處理器上運(yùn)行的計(jì)算機(jī)程序,所述計(jì)算機(jī)程序被所述處理器執(zhí)行時(shí)實(shí)現(xiàn)如權(quán)利要求1至9中任一項(xiàng)所述的資源上圖的方法。

      12.一種計(jì)算機(jī)可讀存儲(chǔ)介質(zhì),其特征在于,所述計(jì)算機(jī)可讀存儲(chǔ)介質(zhì)上存儲(chǔ)有計(jì)算機(jī)程序,所述計(jì)算機(jī)程序被處理器執(zhí)行時(shí)實(shí)現(xiàn)如權(quán)利要求1至9中任一項(xiàng)所述的資源上圖的方法。


      技術(shù)總結(jié)
      本公開實(shí)施例提供了一種資源上圖的方法、裝置、電子設(shè)備及存儲(chǔ)介質(zhì),涉及計(jì)算機(jī)技術(shù)領(lǐng)域。包括:獲取待上圖資源對(duì)應(yīng)的目標(biāo)區(qū)域的第一區(qū)域參數(shù),所述第一區(qū)域參數(shù)用于表征所述目標(biāo)區(qū)域的形狀和尺寸;基于所述第一區(qū)域參數(shù)、預(yù)設(shè)的生成規(guī)則以及以下至少之一生成若干個(gè)區(qū)域圖形:上圖區(qū)域的第二區(qū)域參數(shù),觸控操作形成的第一路徑,其中,所述第二區(qū)域參數(shù)用于表征所述上圖區(qū)域的形狀和尺寸;將所述區(qū)域圖形與待上圖資源進(jìn)行關(guān)聯(lián)。能夠自動(dòng)生成區(qū)域圖形,并自動(dòng)完成區(qū)域圖形和待上圖資源的綁定,減少批量手動(dòng)資源上圖的操作成本,提高資源上圖的效率。

      技術(shù)研發(fā)人員:阮麗毓,魯欣如,沈敏捷
      受保護(hù)的技術(shù)使用者:杭州??低曄到y(tǒng)技術(shù)有限公司
      技術(shù)研發(fā)日:
      技術(shù)公布日:2024/12/26
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