一種生成截面圖的方法
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001] 一種生成截面圖的方法是平板顯示器（FPD)設(shè)計(jì)EDA工具領(lǐng)域的觀察液晶面板截 面結(jié)構(gòu)的方法。本發(fā)明屬于平板顯示器設(shè)計(jì)和EDA設(shè)計(jì)工具領(lǐng)域。
【背景技術(shù)】
[0002] 平板顯示產(chǎn)業(yè)簡(jiǎn)稱為Fro產(chǎn)業(yè)，是我國(guó)的戰(zhàn)略性新興產(chǎn)業(yè)。平板顯示產(chǎn)業(yè)是當(dāng)今 蓬勃發(fā)展的平板電腦、電視、智能手機(jī)等產(chǎn)業(yè)的基石，生產(chǎn)產(chǎn)品主要有液晶面板、等離子面 板及OLED面板等。液晶顯不面板簡(jiǎn)稱LCD面板，是液晶顯不屏的關(guān)鍵部件。其基本原理是 在兩塊導(dǎo)電玻璃基板之間填充液晶材料，利用外界電場(chǎng)發(fā)生變化時(shí)其中的液晶材料可以阻 擋或改變光線的特性來(lái)實(shí)現(xiàn)顯示。上下導(dǎo)電玻璃基板通電時(shí)形成電場(chǎng)，當(dāng)電壓改變時(shí)，內(nèi)部 的液晶分子排列狀況隨之發(fā)生變化，在不同角度下液晶分子表現(xiàn)出不同的遮光透光性；在 兩導(dǎo)電玻璃基板上加上三元色的彩色濾光片就可顯示彩色圖像。
[0003] 從制造的角度來(lái)看液晶面板的話，可分為TFT陣列工序、液晶單元工序、液晶模塊 工序三類。各工序使用專用制造裝置及部件和材料。在這些液晶面板制造工序中，尤其是 TFT陣列工序和液晶單元工序決定液晶面板顯示性能的重要工序。其中，TFT陣列工序?qū)γ?板制造成本的影響尤為突出。TFT陣列是對(duì)液晶進(jìn)行驅(qū)動(dòng)的電路基板。TFT和顯示像素電 極被排列在玻璃基板上，用于驅(qū)動(dòng)TFT的柵極布線、輸送加載在像素上的電壓信號(hào)的信號(hào) 布線縱橫交錯(cuò)。TFT陣列工序與半導(dǎo)體的制造工序相似。與在硅晶圓上制造半導(dǎo)體電路一 樣，通過(guò)反復(fù)實(shí)施成膜、光刻及蝕刻工序，在玻璃基板上制造出TFT陣列。制造TFT陣列的 各工序所使用的制造裝置在原理上也與半導(dǎo)體制造裝置相同。制造裝置的性能會(huì)影響液晶 面板的性能。同時(shí)，制造裝置的生產(chǎn)效率(玻璃基板的處理能力以及工藝材料的使用量)，以 及制造裝置的集合體即制造生產(chǎn)線的整體效率也會(huì)大大影響液晶面板的成本。
[0004] 液晶面板由多層光罩曝光工藝形成。玻璃基板法向的截面結(jié)構(gòu)是設(shè)計(jì)人員主要專 注的問(wèn)題之一，該結(jié)構(gòu)決定了TFT管是否正常工作。截面圖功能可以幫助工程師準(zhǔn)確地觀 察到版圖不同位置的剖面結(jié)構(gòu)，檢驗(yàn)平面版圖對(duì)應(yīng)的截面結(jié)構(gòu)是否能夠形成正確電場(chǎng)，是 否能夠按照設(shè)計(jì)意圖正常工作，有助于對(duì)設(shè)計(jì)的判斷和加工的改進(jìn)。

【發(fā)明內(nèi)容】

[0005] 本發(fā)明提出一種生成截面圖的方法，英文為SectionView，這種方法根據(jù)用戶輸 入的每層工藝層的參數(shù)和劃線位置自動(dòng)生成截面結(jié)構(gòu)圖。
[0006] 本發(fā)明提出了一種生成截面圖的流程操作方法，在版圖上通過(guò)鼠標(biāo)點(diǎn)擊兩個(gè)點(diǎn)確 定一條線段，生成該線段位置版圖的截面結(jié)構(gòu)圖。
[0007] 本發(fā)明提出了一種同時(shí)觀察上基板、液晶層和下基板截面結(jié)構(gòu)的顯示方式。
[0008] 本發(fā)明提出了截面圖上下基板工藝層的一系列參數(shù)，并根據(jù)這些參數(shù)繪制截面圖 形。下面逐一介紹： I)Material,表示該層的材料名，如Metal、Active、Glass等。當(dāng)該層材料為Metal或 Glass時(shí)，則該層無(wú)法被刻蝕。
[0009] 2)Display,表示該層的顯示顏色。
[0010] 3)Thickness,表示該層的厚度。
[0011] 4)Type,表示3種類型，如圖2所示： ①Deposition,表示那些標(biāo)記為不允許刻蝕的層； @Deposition&Etch，表示那些標(biāo)記為沉積并允許刻蝕的層； ③Etch，表示那些標(biāo)記為刻蝕的層。
[0012] 5)Flat，兩種沉積類型ON和OFF。ON表示沉積圖形的上表面是水平的，如圖3所 示；OFF表示沉積圖形的上表面平行于底層圖形輪廓，如圖4所示。
[0013] 6)Mask，對(duì)應(yīng)版圖中的工藝層物體。
[0014] 7)CellGap，上下玻璃基板之間的距離值。
[0015] 參數(shù)設(shè)置完畢后，鼠標(biāo)劃線指定生成截面圖的位置，在命令窗口的顯示區(qū)域內(nèi)將 顯現(xiàn)生成的截面圖。
[0016]
【附圖說(shuō)明】
[0017] 圖I Section View的工藝層參數(shù)設(shè)置示意圖 圖2 Section View的Tpye類型不意圖 圖3 Section View參數(shù)Flat類型為ON的不意圖 圖4 Section View參數(shù)Flat類型為OFF的不意圖 圖5 Section View的實(shí)例參數(shù)設(shè)置示意圖 圖6Section View劃線示意圖 圖7Section View的生成結(jié)果示意圖 具體實(shí)施步驟： 結(jié)合一個(gè)具體的實(shí)例說(shuō)明SectionView生成截面圖的方法，操作流程步驟如下： 1) 在AetherFPD工具中啟動(dòng)SectionView命令，如圖5所示，在窗口表格中設(shè)置相應(yīng)參 數(shù)； 2) 點(diǎn)擊Hide按鈕隱藏命令窗口，用鼠標(biāo)在想要關(guān)注的版圖位置劃線，如圖6所示； 3) 生成截面圖，如圖7所示。
【主權(quán)項(xiàng)】
1. 一種生成截面圖的方法，其主要特征為：提出了一種生成截面圖的流程操作方法， 在版圖上通過(guò)兩個(gè)點(diǎn)確定一條線段，生成該線段位置版圖的截面結(jié)構(gòu)圖。
2. -種生成截面圖的方法，其主要特征為：特征1中的2個(gè)線段端點(diǎn)通過(guò)鼠標(biāo)點(diǎn)擊來(lái) 確定。
3. -種生成截面圖的方法，其主要特征為：特征1中的截面圖可同時(shí)顯示上基板、液晶 層和下基板的截面結(jié)構(gòu)。
4. 一種生成截面圖的方法，其主要特征為：提出了截面圖工藝層參數(shù)Material，表示 該層的材料名，如Metal、Active、Glass等；當(dāng)該層材料為Metal或Glass時(shí)，則該層無(wú)法 被刻蝕。
5. -種生成截面圖的方法，其主要特征為：提出了截面圖工藝層參數(shù)Type，表示3種 類型，如下所示： (1) Deposition,表示那些標(biāo)記為不允許刻蝕的層； (2) Deposition&Etch，表示那些標(biāo)記為沉積并允許刻蝕的層； (3) Etch，表示那些標(biāo)記為刻蝕的層。
6. -種生成截面圖的方法，其主要特征為：提出了截面圖工藝層參數(shù)Display，表示 該層的顯示顏色。
7. -種生成截面圖的方法，其主要特征為：提出了截面圖工藝層參數(shù)Thickness，表 示該層的厚度。
8. -種生成截面圖的方法，其主要特征為：提出了截面圖工藝層參數(shù)Flat，表示兩種 沉積類型ON和OFF;0N表示沉積圖形的上表面是水平的，OFF表示沉積圖形的上表面平行 于底層圖形輪廓。
9. 一種生成截面圖的方法，其主要特征為：提出了截面圖工藝層參數(shù)Mask，表示該層 對(duì)應(yīng)于版圖上的工藝層物體。
【專利摘要】本發(fā)明提出一種生成截面圖的方法，這種方法根據(jù)用戶輸入的每層工藝層的參數(shù)和劃線位置自動(dòng)生成截面結(jié)構(gòu)圖。本發(fā)明在版圖上通過(guò)鼠標(biāo)點(diǎn)擊兩個(gè)點(diǎn)確定一條線段，生成該線段位置版圖的截面結(jié)構(gòu)圖，并且可同時(shí)觀察上基板、液晶層和下基板。本發(fā)明提出了截面圖上下基板工藝層的一系列參數(shù)，分別為Material、Display、Thickness、Type、Flat、Mask和CellGap，這些參數(shù)定義了每層截面圖形的形狀。截面圖功能可以幫助工程師準(zhǔn)確地觀察到版圖不同位置的剖面結(jié)構(gòu)，檢驗(yàn)平面版圖對(duì)應(yīng)的截面結(jié)構(gòu)是否能夠形成正確電場(chǎng)，是否能夠按照設(shè)計(jì)意圖正常工作，有助于對(duì)設(shè)計(jì)的判斷和加工的改進(jìn)。
【IPC分類】G06F17-50, G02F1-1333
【公開號(hào)】CN104765893
【申請(qǐng)?zhí)枴緾N201410003521
【發(fā)明人】張亞?wèn)|, 楊祖聲, 魏芳偉
【申請(qǐng)人】北京華大九天軟件有限公司
【公開日】2015年7月8日
【申請(qǐng)日】2014年1月6日