金屬網(wǎng)格觸摸屏結(jié)構(gòu)及其制作方法
【專利摘要】本發(fā)明涉及一種消除金屬網(wǎng)格觸摸屏中產(chǎn)生的莫爾效應(yīng)的金屬網(wǎng)格觸摸屏結(jié)構(gòu)及其制作方法。該金屬網(wǎng)格觸摸屏結(jié)構(gòu)，包括依次設(shè)置的AMOLED結(jié)構(gòu)層、像素層、封裝層、貼合層、以及觸摸層，所述像素層中包括具有第一分布圖形的像素定義層，而所述貼合層中包括具有第二分布圖形的金屬網(wǎng)格層，所述第一分布圖形與所述第二分布圖形相對(duì)應(yīng)設(shè)置。采用金屬網(wǎng)格與像素層中像素定義層對(duì)應(yīng)設(shè)置，可以有效改善金屬網(wǎng)格應(yīng)用于觸摸屏中的莫爾效應(yīng)(Moire effect)的問題。
【專利說明】
金屬網(wǎng)格觸摸屏結(jié)構(gòu)及其制作方法
技術(shù)領(lǐng)域
[0001]本發(fā)明涉及觸摸屏領(lǐng)域，尤其涉及一種消除金屬網(wǎng)格觸摸屏中產(chǎn)生的莫爾效應(yīng)的金屬網(wǎng)格觸摸屏結(jié)構(gòu)及其制作方法。
【背景技術(shù)】
[0002]在現(xiàn)有的觸摸屏結(jié)構(gòu)中，采用金屬網(wǎng)格(Metal mesh)替代氧化銦錫物(ITO)，解決在觸摸面板中使用氧化銦錫物材料所產(chǎn)生的兩個(gè)主要問題:一是氧化銦錫物應(yīng)用在玻璃傳感器上的光學(xué)問題，氧化銦錫物會(huì)使整體光學(xué)尤其是穿透率下降，而金屬網(wǎng)格為網(wǎng)格狀，若能完全匹配 AMOLED (Active Matrix Organic Light Emitting D1de，主動(dòng)矩陣有機(jī)發(fā)光二極體面板)的像素定義層，將不會(huì)有穿透率的損失。二是片電阻值過高的問題，現(xiàn)在業(yè)界氧化銦錫物的沉積技術(shù)，在玻璃基材上的片電阻可以達(dá)到50ohm/s，而金屬網(wǎng)格雖然是金屬材料，但因?yàn)榫W(wǎng)格的尺寸為每英寸上有250個(gè)孔，線寬為5um，導(dǎo)致原本的0.5ohm/s的片電阻需重新計(jì)算為等效片電阻，以模擬軟體計(jì)算出的等效片電阻為50ohm/s，實(shí)際量測(cè)為30ohm/s,甚至更低，故在片電阻值上可以取代氧化銦錫物。
[0003]但是使用金屬網(wǎng)格觸控面板，其網(wǎng)格結(jié)構(gòu)在顯示屏上造成視覺波紋的莫爾效應(yīng)(Moire effect)，莫爾效應(yīng)是當(dāng)注視一組線或點(diǎn)與另一組線或點(diǎn)的疊層時(shí)的一種視覺效果，這兩組線或點(diǎn)相對(duì)大小，角落或間距上不同。有時(shí)也稱為莫瑞效應(yīng)、摩爾紋、或水波紋等。這樣的波紋對(duì)于肉眼是可視的，使用者對(duì)于這種現(xiàn)象不能接受。金屬網(wǎng)格在使用時(shí)會(huì)與AMOLED的像素層(Pixel Define Layer)產(chǎn)生莫爾效應(yīng)，其中有兩種情況莫爾效應(yīng)會(huì)特別嚴(yán)重，第一種是當(dāng)金屬網(wǎng)格與像素層為一特殊夾角時(shí)，莫爾效應(yīng)的情況容易看見，如圖1所示，顯示了金屬網(wǎng)格與像素層存在夾角時(shí)，產(chǎn)生莫爾效應(yīng)的示意圖。第二種是當(dāng)金屬網(wǎng)格的網(wǎng)格平行于像素層的時(shí)候，因網(wǎng)格與像素層形成周期性的條紋，導(dǎo)致莫爾效應(yīng)的出現(xiàn)，如圖2所示，顯示了金屬網(wǎng)格與像素層平行時(shí)，產(chǎn)生莫爾效應(yīng)的示意圖。

【發(fā)明內(nèi)容】

[0004]本發(fā)明的目的在于克服現(xiàn)有技術(shù)的缺陷，提供一種金屬網(wǎng)格觸控屏結(jié)構(gòu)及其制作方法，可以解決采用金屬網(wǎng)格實(shí)現(xiàn)觸控屏?xí)r產(chǎn)生莫爾效應(yīng)的問題。
[0005]實(shí)現(xiàn)上述目的的技術(shù)方案是:
[0006]本發(fā)明一種金屬網(wǎng)格觸摸屏結(jié)構(gòu)，包括依次設(shè)置的AMOLED結(jié)構(gòu)層、像素層、封裝層、貼合層、以及觸摸層，所述像素層中包括具有第一分布圖形的像素定義層，而所述貼合層中包括具有第二分布圖形的金屬網(wǎng)格層，所述第一分布圖形與所述第二分布圖形相對(duì)應(yīng)設(shè)置。
[0007]采用金屬網(wǎng)格層中的以第二分布圖形設(shè)置的金屬網(wǎng)格與像素層中以第一分布圖形設(shè)置的像素定義層相對(duì)應(yīng)設(shè)置，即將金屬網(wǎng)格與像素定義層對(duì)齊設(shè)置，可以有效改善金屬網(wǎng)格應(yīng)用于觸摸屏中的莫爾效應(yīng)的問題。將金屬網(wǎng)格的第二分布圖形匹配于像素定義層的第一分布圖形，縱向上看，金屬網(wǎng)格完全設(shè)于像素定義層的范圍內(nèi)，在視覺效果上不會(huì)產(chǎn)生莫爾效應(yīng)。
[0008]本發(fā)明金屬網(wǎng)格觸摸屏結(jié)構(gòu)的進(jìn)一步改進(jìn)在于，所述金屬網(wǎng)格層形成于所述貼合層內(nèi)，且位于所述封裝層的上表面。將金屬網(wǎng)格層設(shè)于封裝層上表面，由于在AMOELD的背偵牝?qū)ξ还钚∮趌Oum，可以減小第二分布圖形和第一分布圖形的對(duì)應(yīng)匹配誤差，保證消除莫爾效應(yīng)現(xiàn)象。
[0009]本發(fā)明金屬網(wǎng)格觸摸屏結(jié)構(gòu)的進(jìn)一步改進(jìn)在于，所述金屬網(wǎng)格層形成于所述貼合層的上表面，且位于所述觸摸層內(nèi)。
[0010]本發(fā)明金屬網(wǎng)格觸摸屏結(jié)構(gòu)的進(jìn)一步改進(jìn)在于，其特征在于，所述像素定義層具有第一寬度，所述金屬網(wǎng)格層具有第二寬度，所述第一寬度大于所述第二寬度。
[0011]本發(fā)明金屬網(wǎng)格觸摸屏結(jié)構(gòu)的進(jìn)一步改進(jìn)在于，所述第一寬度為18um至22um，所述第二寬度為4um至6um。
[0012]本發(fā)明一種金屬網(wǎng)格觸摸屏結(jié)構(gòu)，包括依次設(shè)置的AMOLED結(jié)構(gòu)層、像素層、封裝層、貼合層、以及觸摸層，所述像素層中包括具有第一分布圖形的像素定義層，所述AMOLED結(jié)構(gòu)層上包括具有第二分布圖形的金屬網(wǎng)格層，所述第一分布圖形與所述第二分部圖形相對(duì)應(yīng)設(shè)置。
[0013]本發(fā)明金屬網(wǎng)格觸摸屏結(jié)構(gòu)的進(jìn)一步改進(jìn)在于，所述金屬網(wǎng)格層設(shè)于所述AMOLED結(jié)構(gòu)層和所述像素層之間，且位于所述AMOLED結(jié)構(gòu)層的上表面。金屬網(wǎng)格層設(shè)于像素層和AMOLED結(jié)構(gòu)層之間，由于在AMOELD的內(nèi)側(cè)，對(duì)位公差小于10um，可以減小第二分布圖形和第一分布圖形的對(duì)應(yīng)匹配誤差，保證消除莫爾效應(yīng)現(xiàn)象。
[0014]本發(fā)明金屬網(wǎng)格觸摸屏結(jié)構(gòu)的進(jìn)一步改進(jìn)在于，所述像素定義層具有第一寬度，所述金屬網(wǎng)格層具有第二寬度，所述第一寬度大于所述第二寬度。金屬網(wǎng)格的線寬小于像素定義層，使得金屬網(wǎng)格的周期排布匹配于像素層的周期成為可能，進(jìn)而可以實(shí)現(xiàn)消除莫爾效應(yīng)的現(xiàn)象。
[0015]本發(fā)明金屬網(wǎng)格觸摸屏結(jié)構(gòu)的進(jìn)一步改進(jìn)在于，所述第一寬度為18um至22um，所述第二寬度為4um至6um。
[0016]本發(fā)明一種金屬網(wǎng)格觸摸屏結(jié)構(gòu)的制作方法，
[0017]制作AMOLED 結(jié)構(gòu)；
[0018]于AMOLED結(jié)構(gòu)層之上制作像素層，所述像素層包括具有第一分布圖形的像素定義層；
[0019]于像素層之上制作封裝層；
[0020]于封裝層之上制作具有第二分布圖形的金屬網(wǎng)格層，將所述第二分布圖形與所述第一分布圖形對(duì)應(yīng)設(shè)置；
[0021 ] 于所述金屬網(wǎng)格層之上貼合觸摸層。
[0022]本發(fā)明金屬網(wǎng)格觸摸屏結(jié)構(gòu)的制作方法的進(jìn)一步改進(jìn)在于，將所述像素定義層以第一寬度進(jìn)行設(shè)置，將所述金屬網(wǎng)格層中的金屬網(wǎng)格以第二寬度進(jìn)行設(shè)置，所述第一寬度大于所述第二寬度。
[0023]本發(fā)明一種金屬網(wǎng)格觸摸屏結(jié)構(gòu)的制作方法，
[0024]制作AMOLED 結(jié)構(gòu)；
[0025]于AMOLED結(jié)構(gòu)之上制作具有第二分布圖形的金屬網(wǎng)格層以及像素層，所述像素層包括具有第一分布圖形的像素定義層，將所述第一分布圖形與所述第二分布圖形對(duì)應(yīng)設(shè)置；
[0026]于所述像素層之上制作封裝層；
[0027]于所述封裝層貼合觸摸層。
[0028]本發(fā)明金屬網(wǎng)格觸摸屏結(jié)構(gòu)的制作方法的進(jìn)一步改進(jìn)在于，將所述像素定義層以第一寬度進(jìn)行設(shè)置，將所述金屬網(wǎng)格層中的金屬網(wǎng)格以第二寬度進(jìn)行設(shè)置，所述第一寬度大于所述第二寬度。
【附圖說明】
[0029]圖1為現(xiàn)有技術(shù)中金屬網(wǎng)格和像素層成夾角時(shí)產(chǎn)生莫爾效應(yīng)的示意圖；
[0030]圖2為現(xiàn)有技術(shù)中金屬網(wǎng)格和像素層平行時(shí)產(chǎn)生莫爾效應(yīng)的示意圖；
[0031]圖3為本發(fā)明中金屬網(wǎng)格和像素層中的像素定義層周期一致消除莫爾效應(yīng)的示意圖；
[0032]圖4為本發(fā)明金屬網(wǎng)格觸摸屏結(jié)構(gòu)中將金屬網(wǎng)格置于觸摸層中的結(jié)構(gòu)示意圖；
[0033]圖5為本發(fā)明金屬網(wǎng)格觸摸屏結(jié)構(gòu)中將金屬網(wǎng)格置于觸摸層中產(chǎn)生莫瑞效應(yīng)的結(jié)構(gòu)示意圖；
[0034]圖6為本發(fā)明金屬網(wǎng)格觸摸屏結(jié)構(gòu)中將金屬網(wǎng)格置于封裝層之上的結(jié)構(gòu)示意圖；
[0035]圖7為本發(fā)明金屬網(wǎng)格觸摸屏結(jié)構(gòu)中將金屬網(wǎng)格置于AMOLED結(jié)構(gòu)層和像素層之間的結(jié)構(gòu)示意圖；
[0036]圖8為本發(fā)明金屬網(wǎng)格觸摸屏結(jié)構(gòu)的制作方法的第一較佳實(shí)施例；
[0037]圖9為本發(fā)明金屬網(wǎng)格觸摸屏結(jié)構(gòu)的制作方法的第二較佳實(shí)施例。
【具體實(shí)施方式】
[0038]下面結(jié)合附圖和具體實(shí)施例對(duì)本發(fā)明作進(jìn)一步說明。
[0039]請(qǐng)參閱圖3所示，顯示了本發(fā)明中采用金屬網(wǎng)格和像素層中像素定義層對(duì)應(yīng)設(shè)置，使得金屬網(wǎng)格與像素定義層對(duì)齊，兩者的周期一致，藉此消除莫爾效應(yīng)的示意圖。本發(fā)明金屬網(wǎng)格觸摸屏結(jié)構(gòu)及其制作方法，采用金屬網(wǎng)格和像素層中像素定義層的周期一致的方法，金屬網(wǎng)格與像素層中的像素定義層相對(duì)應(yīng)，可實(shí)現(xiàn)消除莫爾效應(yīng)的效果，像素定義層的寬度大于金屬網(wǎng)格的線寬，使得金屬網(wǎng)格置于像素定義層內(nèi)，視覺上不會(huì)產(chǎn)生莫爾效應(yīng)現(xiàn)象，有效改善金屬網(wǎng)格重疊而產(chǎn)生的摩爾紋現(xiàn)象。下面結(jié)合附圖，對(duì)本發(fā)明金屬網(wǎng)格觸摸屏結(jié)構(gòu)及其制作方法進(jìn)行說明。
[0040]請(qǐng)參閱圖4，顯示了本發(fā)明金屬網(wǎng)格觸摸屏結(jié)構(gòu)中將金屬網(wǎng)格置于觸摸層中的結(jié)構(gòu)示意圖。下面結(jié)合圖4，對(duì)本發(fā)明金屬網(wǎng)格觸摸屏結(jié)構(gòu)進(jìn)行說明。如圖4所示，本發(fā)明金屬網(wǎng)格觸摸屏結(jié)構(gòu)包括依次設(shè)置的AMOLED結(jié)構(gòu)層10、像素層20、封裝層30、貼合層40、以及觸摸層50，像素層20中包括具有第一分布圖形的像素定義層201，該像素定義層201于像素層20中呈條形狀間隔設(shè)置，像素定義層201之間的間隔處設(shè)有RGB的像素點(diǎn)。貼合層30中包括具有第二分布圖形的金屬網(wǎng)格層，金屬網(wǎng)格60以第二分布圖形設(shè)置形成了金屬網(wǎng)格層，該第一分布圖形與第二分布圖形相對(duì)應(yīng)設(shè)置，這里的對(duì)應(yīng)是指第二分布圖形的范圍對(duì)應(yīng)設(shè)在第一分布圖形的范圍內(nèi)，該第一分布圖形為間隔分布的條形狀像素定義層201，第二分布圖形為間隔分布的條形狀的金屬網(wǎng)格60，每一金屬網(wǎng)格60對(duì)應(yīng)設(shè)于相應(yīng)的像素定義層201的范圍內(nèi)，也就實(shí)現(xiàn)了金屬網(wǎng)格60與像素定義層201的對(duì)應(yīng)設(shè)置。
[0041]在本實(shí)施例中，金屬網(wǎng)格60形成于貼合層40的上表面，且位于觸摸層50內(nèi)，像素定義層201具有第一寬度，金屬網(wǎng)格層60具有第二寬度，該第一寬度大于第二寬度，確保設(shè)置后金屬網(wǎng)格60在對(duì)應(yīng)的像素定義層60的范圍內(nèi)。
[0042]金屬網(wǎng)格層中的金屬網(wǎng)格60的第二寬度為4um至6um，優(yōu)選采用5um。像素層20中的像素定義層201的第一寬度為18um至22um，優(yōu)選采用20um。該金屬網(wǎng)格層中的金屬網(wǎng)格60設(shè)于觸摸層50內(nèi)，將金屬網(wǎng)格60與像素定義層201 —一對(duì)應(yīng)，將金屬網(wǎng)格60置于像素定義層201的范圍內(nèi)，從視覺上看，如圖4中顯示的帶箭頭的虛線，代表視覺效果，一個(gè)金屬網(wǎng)格60處的兩個(gè)視線相隔距離近，且金屬網(wǎng)格置于像素定義層201范圍內(nèi)，視覺上不會(huì)產(chǎn)生莫爾效應(yīng)現(xiàn)象。具體效果參見圖3所示，顯示了金屬網(wǎng)格和像素層周期一致消除莫爾效應(yīng)的示意圖。從理論上講，將金屬網(wǎng)格60的周期與像素定義層201的周期設(shè)為一致，金屬網(wǎng)格60置于像素定義層201的范圍內(nèi)，能夠消除莫爾效應(yīng)現(xiàn)象。但是實(shí)際操作時(shí)，將金屬網(wǎng)格60置于觸摸層50內(nèi)有可能會(huì)產(chǎn)生莫爾效應(yīng)現(xiàn)象，其實(shí)際的效果為圖5所示，請(qǐng)參閱圖5，顯示了本發(fā)明金屬網(wǎng)格觸摸屏結(jié)構(gòu)中將金屬網(wǎng)格置于觸摸層中的結(jié)構(gòu)示意圖，下面結(jié)合圖5對(duì)本發(fā)明金屬網(wǎng)格觸摸屏結(jié)構(gòu)進(jìn)行說明。
[0043]如圖5所不，本發(fā)明金屬網(wǎng)格觸摸屏結(jié)構(gòu)中的金屬網(wǎng)格60設(shè)于觸摸層50內(nèi)，觸摸層50通過貼合層40貼合于封裝層30之上，在貼合過程中，觸摸層50的對(duì)位公差大于10um，其中，金屬網(wǎng)格60的第二寬度為5um，像素定義層201的第一寬度為20um，如果將金屬網(wǎng)格60與像素定義層201中心對(duì)齊，金屬網(wǎng)格60再加上觸摸層50在貼合過程中產(chǎn)生的1um公差，使得金屬網(wǎng)格60會(huì)有部分超出像素定義層201的范圍，這樣就出現(xiàn)了金屬網(wǎng)格與像素層平行時(shí)產(chǎn)生莫爾效應(yīng)的現(xiàn)象。將金屬網(wǎng)格60置于觸摸層50內(nèi)而制作的觸摸屏結(jié)構(gòu)中，金屬網(wǎng)格60由于觸摸層50的對(duì)位公差較大，偏移了像素定義層201，與像素定義層201不能很好的對(duì)應(yīng)，這時(shí)視覺上會(huì)產(chǎn)生莫爾效應(yīng)現(xiàn)象。如果將金屬網(wǎng)格60設(shè)于靠近像素定義層201的一端，即使加上偏移公差10um，金屬網(wǎng)格60也不會(huì)超出像素定義層201的范圍，所以，金屬網(wǎng)格60設(shè)于觸摸層50內(nèi)，需要考慮對(duì)位公差的因素，才能徹底消除莫爾效應(yīng)現(xiàn)象的產(chǎn)生。
[0044]將金屬網(wǎng)格設(shè)于觸摸層時(shí)，可能會(huì)產(chǎn)生莫爾效應(yīng)現(xiàn)象，不能完全消除莫爾效應(yīng)。而且還要考慮對(duì)位公差的因素，對(duì)于制程和設(shè)計(jì)均需要更高的要求，不容易實(shí)現(xiàn)。基于上述問題的考慮，提出將金屬網(wǎng)格60設(shè)于AMOLED的結(jié)構(gòu)內(nèi)或者結(jié)構(gòu)之上，由于現(xiàn)有制程技術(shù)中，AMOLED的結(jié)構(gòu)內(nèi)和結(jié)構(gòu)之上的制程公差在1um以內(nèi)，可以滿足金屬網(wǎng)格與像素定義層周期一致的要求。另外，金屬網(wǎng)格60不在觸摸層內(nèi)，觸摸層存在的對(duì)位公差，不會(huì)影響到金屬網(wǎng)格60的位置，所以可以解決金屬網(wǎng)格60設(shè)于觸摸層內(nèi)所產(chǎn)生的問題。
[0045]參閱圖6，顯示了本發(fā)明金屬網(wǎng)格觸摸屏結(jié)構(gòu)中將金屬網(wǎng)格置于封裝層30之上的結(jié)構(gòu)示意圖。下面結(jié)合圖6對(duì)本發(fā)明金屬網(wǎng)格觸摸結(jié)構(gòu)進(jìn)行說明。所述像素層中包括具有第一分布圖形的像素定義層，而所述貼合層中包括具有第二分布圖形的金屬網(wǎng)格層，所述第一分布圖形與所述第二分布圖形相對(duì)應(yīng)設(shè)置。
[0046]如圖6所示，本發(fā)明金屬網(wǎng)格觸摸屏結(jié)構(gòu)包括依次設(shè)置的AMOLED結(jié)構(gòu)層10、像素層20、封裝層30、貼合層40、以及觸摸層50，像素層20中包括具有第一分布圖形的像素定義層201，像素定義層201與圖4的實(shí)施例中的結(jié)構(gòu)相同，本實(shí)施例與圖4的實(shí)施例的區(qū)別在于，金屬網(wǎng)格層設(shè)于貼合層40內(nèi)，且位于封裝層30的上表面，金屬網(wǎng)格60設(shè)于封裝層30上表面，且貼合層40包覆于金屬網(wǎng)格60的外表面。利用半導(dǎo)體制程將金屬網(wǎng)格60制作于封裝層30之上，該制程的對(duì)位公差在1um以內(nèi)，通過制程將金屬網(wǎng)格60置于封裝層30之上后，在對(duì)位公差范圍內(nèi)，很容易保證金屬網(wǎng)格層60對(duì)應(yīng)設(shè)在像素定義層201范圍內(nèi)，從視覺上看，如圖4中顯示的帶箭頭的虛線，代表視覺效果，一個(gè)金屬網(wǎng)格處的兩個(gè)視線相隔距離近，且金屬網(wǎng)格置于像素定義層201范圍內(nèi)，視覺上不會(huì)產(chǎn)生莫爾效應(yīng)現(xiàn)象。具體效果參見圖3所示，顯示了金屬網(wǎng)格和像素層周期一致消除莫爾效應(yīng)的示意圖。
[0047]參閱圖7，顯示了本發(fā)明金屬網(wǎng)格觸摸屏結(jié)構(gòu)中將金屬網(wǎng)格置于AMOLED結(jié)構(gòu)層和像素層之間的結(jié)構(gòu)示意圖。下面結(jié)合圖7對(duì)本發(fā)明金屬網(wǎng)格觸摸結(jié)構(gòu)進(jìn)行說明。
[0048]如圖7所示，本發(fā)明金屬網(wǎng)格觸摸屏結(jié)構(gòu)包括依次設(shè)置的AMOLED結(jié)構(gòu)層10、像素層20、封裝層30、貼合層40、以及觸摸層50，像素層20中包括具有第一分布圖形的像素定義層201，該像素定義層201于像素層20中呈條形狀間隔設(shè)置，像素定義層201之間的間隔處設(shè)有RGB的像素點(diǎn)。貼合層30中包括具有第二分布圖形的金屬網(wǎng)格層，金屬網(wǎng)格60以第二分布圖形設(shè)置形成了金屬網(wǎng)格層，該第一分布圖形與第二分布圖形相對(duì)應(yīng)設(shè)置，這里的對(duì)應(yīng)是指第二分布圖形的范圍對(duì)應(yīng)設(shè)在第一分布圖形的范圍內(nèi)，該第一分布圖形為間隔分布的條形狀像素定義層201，第二分布圖形為間隔分布的條形狀的金屬網(wǎng)格60，每一金屬網(wǎng)格60對(duì)應(yīng)設(shè)于相應(yīng)的像素定義層201的范圍內(nèi)，也就實(shí)現(xiàn)了金屬網(wǎng)格60與像素定義層201的對(duì)應(yīng)設(shè)置。像素定義層201具有第一寬度，金屬網(wǎng)格層60具有第二寬度，該第一寬度大于第二寬度，確保設(shè)置后金屬網(wǎng)格60在對(duì)應(yīng)的像素定義層60的范圍內(nèi)。金屬網(wǎng)格層中的金屬網(wǎng)格60的第二寬度為4um至6um，優(yōu)選采用5um。像素層20中的像素定義層201的第一寬度為18um至22um，優(yōu)選采用20um。
[0049]在本實(shí)施例中，金屬網(wǎng)格層設(shè)于AMOLED結(jié)構(gòu)10的上表面，設(shè)于AMOLED結(jié)構(gòu)10和像素層20之間，該金屬網(wǎng)格60設(shè)于AMOLED結(jié)構(gòu)層10和像素層20之間，利用半導(dǎo)體制程將金屬網(wǎng)格60制作于AMOLED結(jié)構(gòu)層10和像素層20之間，該制程的對(duì)位公差在1um以內(nèi)，在對(duì)位公差范圍內(nèi)，使得金屬網(wǎng)格60很容易保證在像素定義層201的范圍內(nèi)，從視覺上看，如圖7中顯示的帶箭頭的虛線，代表視覺效果，一個(gè)金屬網(wǎng)格處的兩個(gè)視線相隔距離近，且金屬網(wǎng)格置于像素定義層201的范圍內(nèi)，視覺上不會(huì)產(chǎn)生莫爾效應(yīng)現(xiàn)象。具體效果參見圖3所示，顯示了金屬網(wǎng)格和像素層中的像素定義層周期一致消除莫爾效應(yīng)的示意圖。
[0050]將金屬網(wǎng)格層設(shè)于AMOLED的內(nèi)側(cè)或者背側(cè)，現(xiàn)有制程中的對(duì)位公差在1um以內(nèi)，可以保證金屬網(wǎng)格60和像素層20中的像素定義層201的周期一致，金屬網(wǎng)格60和像素定義層201相對(duì)應(yīng)，使得金屬網(wǎng)格60在像素定義層201的范圍內(nèi)，可以有效避免莫爾效應(yīng)的產(chǎn)生。
[0051]本發(fā)明金屬網(wǎng)格觸摸屏的有益效果為:
[0052]通過將金屬網(wǎng)格60設(shè)置為與像素層20中像素定義層201的對(duì)應(yīng)設(shè)置，可以避免金屬網(wǎng)格產(chǎn)生的莫爾效應(yīng)問題。將金屬網(wǎng)格60設(shè)于AMOLED的內(nèi)側(cè)或者背側(cè)，保證對(duì)位公差在1um以內(nèi)，具體位置為AMOLED中的封裝層之上或者為AMOLED結(jié)構(gòu)層和像素層之間，可以確保金屬網(wǎng)格與像素定義層相對(duì)應(yīng)，有效消除金屬網(wǎng)格所產(chǎn)生的莫爾效應(yīng)現(xiàn)象。采用金屬網(wǎng)格的觸摸屏結(jié)構(gòu)，還具有等效片電阻值低，在電性上反應(yīng)為收發(fā)頻率上升，還可提高掃描次數(shù)，增加過濾環(huán)境噪音的效果，提升線性度的表現(xiàn)。
[0053]參閱圖8，顯示了本發(fā)明金屬網(wǎng)格觸摸屏結(jié)構(gòu)的制作方法的第一較佳實(shí)施例。下面結(jié)合圖8，對(duì)本發(fā)明金屬網(wǎng)格觸摸屏結(jié)構(gòu)的制作方法進(jìn)行說明。
[0054]如圖8所示，本發(fā)明金屬網(wǎng)觸摸屏結(jié)構(gòu)的制作方法包括:
[0055]執(zhí)行步驟Sll，制作AMOLED結(jié)構(gòu)。結(jié)合圖6所示，利用一般半導(dǎo)體制程制作AMOLED結(jié)構(gòu)，得到AMOLED結(jié)構(gòu)層10。接著執(zhí)行步驟S12。
[0056]執(zhí)行步驟S12，在AMOLED結(jié)構(gòu)層10之上制作像素層。將像素層20制作于AMOLED結(jié)構(gòu)層之上，該像素層20包括具有第一分布圖形的像素定義層201，該像素定義層201于像素層20中呈條形狀間隔設(shè)置，像素定義層201之間的間隔處設(shè)有RGB的像素點(diǎn)，得到像素層20。接著執(zhí)行步驟S13。
[0057]執(zhí)行步驟S13，在像素層20之上制作封裝層。利用封裝層將像素層20和AMOLED結(jié)構(gòu)層10封裝起來。接著執(zhí)行步驟S14。
[0058]執(zhí)行步驟S14，在封裝層30之上制作具有第二分布圖形的金屬網(wǎng)格層，將第二分布圖形與第一分布圖形對(duì)應(yīng)設(shè)置，將金屬網(wǎng)格60以第二分布圖形設(shè)置形成金屬網(wǎng)格層，該第二分布圖形與第一分布圖形對(duì)應(yīng)設(shè)置，使得金屬網(wǎng)格60的范圍置于對(duì)應(yīng)的像素定義層201的范圍內(nèi)，金屬網(wǎng)格60與像素層20中的像素定義層201相對(duì)應(yīng)。金屬網(wǎng)格60具有第二寬度，像素定義層201具有第一寬度，第一寬度大于第二寬度。較佳地，該第二寬度為4um至6um，優(yōu)選采用5um。第一寬度為18um至22um，優(yōu)選采用20um。采用一般半導(dǎo)體制程得到金屬網(wǎng)格層，其制作過程中的公差在1um以內(nèi)，符合公差范圍要求，得到的金屬網(wǎng)格層中的金屬網(wǎng)格60仍在像素定義層201的范圍內(nèi)，有效確保了消除莫爾效應(yīng)的現(xiàn)象。接著執(zhí)行步驟S15。
[0059]執(zhí)行步驟S15，在金屬網(wǎng)格之上貼合觸摸層。通過貼合層40將觸摸層50貼合于金屬網(wǎng)格之上。
[0060]這樣就得到了金屬網(wǎng)格觸摸屏結(jié)構(gòu)。該金屬網(wǎng)格觸摸屏結(jié)構(gòu)由于包含有金屬網(wǎng)格60，使其具有等效片電阻值低，在電性上反應(yīng)為收發(fā)頻率上升，還可提高掃描次數(shù)，增加過濾環(huán)境噪音的效果，提升線性度的表現(xiàn)。通過將金屬網(wǎng)格60設(shè)置為與像素層20中的像素定義層201相對(duì)應(yīng)，可以避免金屬網(wǎng)格產(chǎn)生的莫爾效應(yīng)問題。將金屬網(wǎng)格60設(shè)于AMOLED的背側(cè)，保證對(duì)位公差在1um以內(nèi)，具體位置為AMOLED中的封裝層之上或，可以確保金屬網(wǎng)格與像素定義層相對(duì)應(yīng)，有效消除金屬網(wǎng)格所產(chǎn)生的莫爾效應(yīng)現(xiàn)象。
[0061]參閱圖9，顯示了本發(fā)明金屬網(wǎng)格觸摸屏結(jié)構(gòu)的制作方法的第二較佳實(shí)施例。下面結(jié)合圖9對(duì)本發(fā)明金屬網(wǎng)格觸摸屏結(jié)構(gòu)的制作方法進(jìn)行說明。
[0062]如圖9所示，本發(fā)明金屬網(wǎng)格觸摸屏結(jié)構(gòu)的制作方法包括:
[0063]執(zhí)行步驟S21，制作AMOLED結(jié)構(gòu)，結(jié)合圖7所示，利用一般半導(dǎo)體制程制作AMOLED結(jié)構(gòu)，得到AMOLED結(jié)構(gòu)層10。接著執(zhí)行步驟S12。
[0064]執(zhí)行步驟S22，在AMOLED結(jié)構(gòu)之上制作具有第二分布圖形的金屬網(wǎng)格層和像素層20，該像素層20包括具有第一分布圖形的像素定義層201，將第一分布圖形與第二分布圖形對(duì)應(yīng)設(shè)置，金屬網(wǎng)格60置于像素層20和AMOLED結(jié)構(gòu)層10之間，金屬網(wǎng)格60與像素層20中的像素定義層201對(duì)應(yīng)設(shè)置，使得金屬網(wǎng)格60的范圍置于對(duì)應(yīng)的像素定義層201的范圍內(nèi)。金屬網(wǎng)格60具有第二寬度，像素定義層201具有第一寬度，第一寬度大于第二寬度。較佳地，第二寬度為4um至6um，優(yōu)選采用5um。第二寬度為18um至22um，優(yōu)選采用20um。采用一般半導(dǎo)體制程得到金屬網(wǎng)格，其制作過程中的公差在1um以內(nèi)，符合公差范圍要求，得到的金屬網(wǎng)格層中的金屬網(wǎng)格60仍在像素定義層201的范圍內(nèi)，有效確保了消除莫爾效應(yīng)的現(xiàn)象。接著執(zhí)行步驟S23。
[0065]執(zhí)行步驟S23，像素層之上制作封裝層。利用封裝層30將像素層20、金屬網(wǎng)格層50、以及AMOLED結(jié)構(gòu)層10封裝起來。接著執(zhí)行步驟S24。
[0066]執(zhí)行步驟S24，在封裝層之上制作貼合觸摸層。通過貼合層40將觸摸層50制作于封裝層30之上。
[0067]這樣就得到了金屬網(wǎng)格觸摸屏結(jié)構(gòu)。該金屬網(wǎng)格觸摸屏結(jié)構(gòu)由于包含有金屬網(wǎng)格，使其具有等效片電阻值低，在電性上反應(yīng)為收發(fā)頻率上升，還可提高掃描次數(shù)，增加過濾環(huán)境噪音的效果，提升線性度的表現(xiàn)。通過將金屬網(wǎng)格60設(shè)置為與像素層20的周期一致，可以避免金屬網(wǎng)格產(chǎn)生的莫爾效應(yīng)問題。將金屬網(wǎng)格60設(shè)于AMOLED的內(nèi)側(cè)，保證對(duì)位公差在1um以內(nèi)，具體位置為AMOLED結(jié)構(gòu)層和像素層之間，可以確保金屬網(wǎng)格與像素定義層相對(duì)應(yīng)，有效消除金屬網(wǎng)格所產(chǎn)生的莫爾效應(yīng)現(xiàn)象。
[0068]以上結(jié)合附圖實(shí)施例對(duì)本發(fā)明進(jìn)行了詳細(xì)說明，本領(lǐng)域中普通技術(shù)人員可根據(jù)上述說明對(duì)本發(fā)明做出種種變化例。因而，實(shí)施例中的某些細(xì)節(jié)不應(yīng)構(gòu)成對(duì)本發(fā)明的限定，本發(fā)明將以所附權(quán)利要求書界定的范圍作為本發(fā)明的保護(hù)范圍。
【主權(quán)項(xiàng)】
1.一種金屬網(wǎng)格觸摸屏結(jié)構(gòu)，包括依次設(shè)置的AMOLED結(jié)構(gòu)層、像素層、封裝層、貼合層、以及觸摸層，其特征在于，所述像素層中包括具有第一分布圖形的像素定義層，而所述貼合層中包括具有第二分布圖形的金屬網(wǎng)格層，所述第一分布圖形與所述第二分布圖形相對(duì)應(yīng)設(shè)置。2.如權(quán)利要求1所述的金屬網(wǎng)格觸摸屏結(jié)構(gòu)，其特征在于，所述金屬網(wǎng)格層形成于所述貼合層內(nèi)，且位于所述封裝層的上表面。3.如權(quán)利要求1所述的金屬網(wǎng)格觸摸屏結(jié)構(gòu)，其特征在于，所述金屬網(wǎng)格層形成于所述貼合層的上表面，且位于所述觸摸層內(nèi)。4.如權(quán)利要求1至3任一項(xiàng)所述的金屬網(wǎng)格觸摸屏結(jié)構(gòu)，其特征在于，所述像素定義層具有第一寬度，所述金屬網(wǎng)格層具有第二寬度，所述第一寬度大于所述第二寬度。5.如權(quán)利要求4所述的金屬網(wǎng)格觸摸屏結(jié)構(gòu)，其特征在于，所述第一寬度為ISum至22um，所述第二寬度為4um至6um。6.—種金屬網(wǎng)格觸摸屏結(jié)構(gòu)，包括依次設(shè)置的AMOLED結(jié)構(gòu)層、像素層、封裝層、貼合層、以及觸摸層，其特征在于，所述像素層中包括具有第一分布圖形的像素定義層，所述AMOLED結(jié)構(gòu)層上包括具有第二分布圖形的金屬網(wǎng)格層，所述第一分布圖形與所述第二分部圖形相對(duì)應(yīng)設(shè)置。7.如權(quán)利要求5所述的金屬網(wǎng)格觸摸屏結(jié)構(gòu)，其特征在于，所述金屬網(wǎng)格層設(shè)于所述AMOLED結(jié)構(gòu)層和所述像素層之間，且位于所述AMOLED結(jié)構(gòu)層的上表面。8.如權(quán)利要求6或7所述的金屬網(wǎng)格觸摸屏結(jié)構(gòu)，其特征在于，所述像素定義層具有第一寬度，所述金屬網(wǎng)格層具有第二寬度，所述第一寬度大于所述第二寬度。9.如權(quán)利要求8所述的金屬網(wǎng)格觸摸屏結(jié)構(gòu)，其特征在于，所述第一寬度為ISum至22um，所述第二寬度為4um至6um。10.一種金屬網(wǎng)格觸摸屏結(jié)構(gòu)的制作方法，其特征在于， 制作AMOLED結(jié)構(gòu)； 于AMOLED結(jié)構(gòu)層之上制作像素層，所述像素層包括具有第一分布圖形的像素定義層； 于像素層之上制作封裝層； 于封裝層之上制作具有第二分布圖形的金屬網(wǎng)格層，將所述第二分布圖形與所述第一分布圖形對(duì)應(yīng)設(shè)置； 于所述金屬網(wǎng)格層之上貼合觸摸層。11.如權(quán)利要求10所述的金屬網(wǎng)格觸摸屏結(jié)構(gòu)的制作方法，其特征在于，將所述像素定義層以第一寬度進(jìn)行設(shè)置，將所述金屬網(wǎng)格層中的金屬網(wǎng)格以第二寬度進(jìn)行設(shè)置，所述第一寬度大于所述第二寬度。12.—種金屬網(wǎng)格觸摸屏結(jié)構(gòu)的制作方法，其特征在于， 制作AMOLED結(jié)構(gòu)； 于AMOLED結(jié)構(gòu)之上制作具有第二分布圖形的金屬網(wǎng)格層以及像素層，所述像素層包括具有第一分布圖形的像素定義層，將所述第一分布圖形與所述第二分布圖形對(duì)應(yīng)設(shè)置； 于所述像素層之上制作封裝層； 于所述封裝層貼合觸摸層。13.如權(quán)利要求12所述的金屬網(wǎng)格觸摸屏結(jié)構(gòu)的制作方法，其特征在于，將所述像素定義層以第一寬度進(jìn)行設(shè)置，將所述金屬網(wǎng)格層中的金屬網(wǎng)格以第二寬度進(jìn)行設(shè)置，所述第一寬度大于所述第二寬度。
【文檔編號(hào)】G06F3/041GK105892737SQ201510039240
【公開日】2016年8月24日
【申請(qǐng)日】2015年1月26日
【發(fā)明人】林育蔚, 杜娟
【申請(qǐng)人】上海和輝光電有限公司