一種觸控屏及其制作方法、外掛式觸摸屏的制作方法
【專利摘要】本發(fā)明公開(kāi)了一種觸控屏及其制作方法、外掛式觸摸屏，用以在降低成本的前提下，解決橋點(diǎn)消影的問(wèn)題，從而提高產(chǎn)品的競(jìng)爭(zhēng)力。所述觸控屏的制作方法，該方法包括：在襯底基板上形成第一觸控檢測(cè)電極的圖形；在所述襯底基板的邊框區(qū)域形成至少與所述第一觸控檢測(cè)電極電性相連的第一金屬走線層的圖形；在具有所述第一金屬走線層的襯底基板上方形成第一絕緣層的圖形；在所述第一絕緣層的上方形成第二觸控檢測(cè)電極的圖形；在所述襯底基板的邊框區(qū)域形成至少與所述第二觸控過(guò)檢測(cè)電極電性相連的第二金屬走線層的圖形。
【專利說(shuō)明】
一種觸控屏及其制作方法、外掛式觸摸屏
技術(shù)領(lǐng)域
[0001]本發(fā)明涉及觸控技術(shù)領(lǐng)域，尤其涉及一種觸控屏及其制作方法、外掛式觸摸屏。
【背景技術(shù)】
[0002]自觸摸技術(shù)興起以來(lái)，其普及度越來(lái)越高，依照感應(yīng)方式的不同，觸摸屏大致可以分為電阻式、電容式、紅外線式、聲波式四類。其中電阻式與電容式目前的市場(chǎng)用量最大，其他技術(shù)短期內(nèi)恐很難趕上。隨著人們對(duì)觸摸的體驗(yàn)認(rèn)可，電容屏正逐漸取代電阻屏。其中，電容式觸摸屏可以分為互容式觸摸屏和自容式觸摸屏，由于互容式觸摸屏可以實(shí)現(xiàn)多點(diǎn)觸控，因此互容式觸摸屏稱為觸摸屏市場(chǎng)上的主流和未來(lái)發(fā)展的趨勢(shì)。
[0003]互容式觸摸屏可以分為外掛式觸摸屏和內(nèi)嵌式觸摸屏。其中，外掛式觸摸屏主要可以分為G+G、GFF、單片式觸控面板(One Glass Solut1n，0GS)和On cell等類型，其中Oncell結(jié)構(gòu)的觸摸屏是指將觸摸屏嵌入到顯示屏的彩色濾光片基板和偏光片之間的方法，SP在液晶面板上設(shè)置觸控模組。無(wú)論是On cell還是OGS都面臨著高開(kāi)發(fā)成本，工藝流程復(fù)雜程度高，Mask數(shù)量多，橋點(diǎn)可視性差等問(wèn)題。
[0004]為了有效降低觸控模塊成本，同時(shí)滿足多點(diǎn)觸控性能，近2年觸控業(yè)者積極著手研發(fā)減少光罩?jǐn)?shù)，降低工藝流程復(fù)雜程度，布局發(fā)展0GS、0n cell或GF薄膜技術(shù)。目前已有部分TP廠家著手生產(chǎn)單層圖案在玻璃上(single layer on cell，SL0C)的產(chǎn)品，SLOC產(chǎn)品因其制作工藝簡(jiǎn)單，制作成本低廉而備受關(guān)注，但其在推廣大規(guī)模生產(chǎn)使用過(guò)程中因其觸控區(qū)域及走線區(qū)域均使用銦錫氧化物半導(dǎo)體(Indium Tin Oxides，ΙΤ0)材料制作，由于ITO方阻較高，通道阻抗過(guò)大，無(wú)法實(shí)現(xiàn)大尺寸多點(diǎn)觸控而止步不前，無(wú)法大規(guī)模推廣應(yīng)用；另外，觸控廠家又通過(guò)將OC材料作為絕緣層且在OC材料中設(shè)計(jì)過(guò)孔，從而減少光罩?jǐn)?shù)，通過(guò)使用ITO橋代替金屬橋解決消影問(wèn)題，使常規(guī)的6掩膜版(Mask)變?yōu)?Mask。然而，這些設(shè)計(jì)并不能從根本上大幅度的減少研發(fā)費(fèi)用、降低生產(chǎn)成本，提升產(chǎn)品綜合競(jìng)爭(zhēng)力，解決橋點(diǎn)可視性問(wèn)題。
[0005]綜上所述，如何從根本上降低研發(fā)費(fèi)用，解決橋點(diǎn)可視性問(wèn)題從而提高產(chǎn)品競(jìng)爭(zhēng)力成為更大觸摸屏廠家亟待解決的難題。

【發(fā)明內(nèi)容】

[0006]有鑒于此，本發(fā)明提供一種觸控屏及其制作方法、外掛式觸摸屏，用以在降低成本的前提下，解決橋點(diǎn)消影的問(wèn)題，從而提高產(chǎn)品的競(jìng)爭(zhēng)力。
[0007]本發(fā)明實(shí)施例提供了一種觸控屏的制作方法，該方法包括:
[0008]在襯底基板上形成第一觸控檢測(cè)電極的圖形；
[0009]在所述襯底基板的邊框區(qū)域形成至少與所述第一觸控檢測(cè)電極電性相連的第一金屬走線層的圖形；
[0010]在具有所述第一金屬走線層的襯底基板上方形成第一絕緣層的圖形；
[0011]在所述第一絕緣層的上方形成第二觸控檢測(cè)電極的圖形；
[0012]在所述襯底基板的邊框區(qū)域形成至少與所述第二觸控過(guò)檢測(cè)電極電性相連的第二金屬走線層的圖形。
[0013]在一種可能的實(shí)施方式中，本發(fā)明實(shí)施例提供的上述觸控屏的制作方法中，采用同一掩膜版形成所述第一金屬走線層和所述第二金屬走線層的圖形。
[0014]在一種可能的實(shí)施方式中，本發(fā)明實(shí)施例提供的上述觸控屏的制作方法中，采用同一掩膜版形成所述第一金屬走線層和所述第二金屬走線層的圖形，具體包括:
[0015]采用同一掩膜板形成與所述第一觸控檢測(cè)電極連接的第一金屬線，和與所述第二觸控檢測(cè)電極連接的第二金屬線的圖形。
[0016]在一種可能的實(shí)施方式中，本發(fā)明實(shí)施例提供的上述觸控屏的制作方法中，形成第二金屬走線層的圖形之后，該方法還包括:
[0017]采用蒸鍍工藝在具有所述第二金屬走線層的襯底基板上方形成第二絕緣層的圖形。
[0018]在一種可能的實(shí)施方式中，本發(fā)明實(shí)施例提供的上述觸控屏的制作方法中，在襯底基板上形成第一觸控檢測(cè)電極的圖形之前，該方法還包括:
[0019]在襯底基板的邊框區(qū)域形成黑矩陣的圖形。
[0020]相應(yīng)地，本發(fā)明實(shí)施例還提供了一種觸控屏，所述觸控屏包括:
[0021]襯底基板；
[0022]設(shè)置在所述襯底基板上的第一觸控檢測(cè)電極；
[0023]設(shè)置在所述第一觸控檢測(cè)電極所在膜層之上且位于邊框區(qū)域的至少與所述第一觸控檢測(cè)電極電性相連的第一金屬走線層；
[0024]設(shè)置在所述第一金屬走線層之上的第一絕緣層；
[0025]設(shè)置在所述第一絕緣層之上的第二觸控檢測(cè)電極；
[0026]以及設(shè)置在所述第一觸控檢測(cè)電極所在膜層之上且位于邊框區(qū)域的至少與所述第二觸控檢測(cè)電極電性相連的第二金屬走線層
[0027]在一種可能的實(shí)施方式中，本發(fā)明實(shí)施例提供的上述觸控屏中，所述第一金屬走線層和第二金屬走線層的圖形相同，包括:
[0028]與所述第一觸控檢測(cè)電極連接的第一金屬線，和與所述第二觸控檢測(cè)電極連接的第二金屬線。
[0029]在一種可能的實(shí)施方式中，本發(fā)明實(shí)施例提供的上述觸控屏中，所述觸控屏還包括:
[0030]設(shè)置在所述襯底基板和所述第一觸控檢測(cè)電極之間的邊框區(qū)域的黑矩陣。
[0031]在一種可能的實(shí)施方式中，本發(fā)明實(shí)施例提供的上述觸控屏中，所述觸控屏還包括:
[0032]設(shè)置在所述第二金屬走線層之上的第二絕緣層。
[0033]相應(yīng)地，本發(fā)明實(shí)施例還提供了一種外掛式觸摸屏，包括對(duì)盒設(shè)置的陣列基板和對(duì)向基板，以及位于所述對(duì)向基板遠(yuǎn)離所述陣列基板一側(cè)的，本發(fā)明實(shí)施例提供的任一種觸控屏。
[0034]本發(fā)明有益效果如下:
[0035]本發(fā)明實(shí)施例提供了一種觸控屏及其制作方法、外掛式觸摸屏，所述觸控屏的制作方法，包括:在襯底基板上形成第一觸控檢測(cè)電極的圖形;在所述襯底基板的邊框區(qū)域形成至少與所述第一觸控檢測(cè)電極電性相連的第一金屬走線層的圖形;在具有所述第一金屬走線層的襯底基板上方形成第一絕緣層的圖形;在所述第一絕緣層的上方形成第二觸控檢測(cè)電極的圖形;在所述襯底基板的邊框區(qū)域形成至少與所述第二觸控過(guò)檢測(cè)電極電性相連的第二金屬走線層的圖形。因此，本發(fā)明實(shí)施例提供的上述觸控屏的制作方法中，通過(guò)在襯底基板上形成異層結(jié)構(gòu)的第一觸控檢測(cè)電極和第二觸控檢測(cè)電極，且在襯底基板的邊框區(qū)域形成與第一觸控檢測(cè)電極連接的第一金屬走線層和與第二觸控檢測(cè)電極連接的第二金屬走線層，使得金屬走線層僅位于邊框區(qū)域，且觸控區(qū)域中的第一觸控檢測(cè)電極和第二觸控電極之間通過(guò)第一絕緣層相互絕緣，無(wú)需設(shè)計(jì)橋接實(shí)現(xiàn)第一觸控檢測(cè)電極或第二觸控檢測(cè)電極的相連，從而避免了解決了橋點(diǎn)消影的問(wèn)題，且本發(fā)明實(shí)施例提供的觸控屏，在邊框區(qū)域的金屬走線區(qū)無(wú)需采用ITO材料進(jìn)行制作，且觸控區(qū)域也無(wú)需設(shè)計(jì)OC絕緣層，從而降低了設(shè)計(jì)的成本。因此，本發(fā)明實(shí)施例提供的觸控屏，在降低成本的前提下，解決橋點(diǎn)消影的問(wèn)題，從而提高產(chǎn)品的競(jìng)爭(zhēng)力。
【附圖說(shuō)明】
[0036]圖1為本發(fā)明實(shí)施例提供的一種觸控屏的制作方法的流程示意圖；
[0037]圖2(a)-圖2(h)為本發(fā)明實(shí)施例提供的一種觸控屏的制作方法在每個(gè)步驟執(zhí)行后的結(jié)構(gòu)示意圖；
[0038]圖3為本發(fā)明實(shí)施例提供的一種觸控屏的結(jié)構(gòu)示意圖；
[0039]圖4為本發(fā)明實(shí)施例提供的一種金屬走線層的結(jié)構(gòu)示意圖；
[0040]圖5為本發(fā)明實(shí)施例提供的第二種觸控屏的結(jié)構(gòu)示意圖；
[0041 ]圖6為本發(fā)明實(shí)施例提供的第三種觸控屏的結(jié)構(gòu)示意圖；
[0042]圖7為本發(fā)明實(shí)施例提供的一種外掛式觸摸屏的結(jié)構(gòu)示意圖；
[0043]圖8為本發(fā)明實(shí)施例提供的第二種外掛式觸摸屏的結(jié)構(gòu)示意圖；
[0044]圖9為本發(fā)明實(shí)施例提供的第三種外掛式觸摸屏的結(jié)構(gòu)示意圖；。
【具體實(shí)施方式】
[0045]為了使本發(fā)明的目的、技術(shù)方案和優(yōu)點(diǎn)更加清楚，下面將結(jié)合附圖對(duì)本發(fā)明作進(jìn)一步地詳細(xì)描述，顯然，所描述的實(shí)施例僅僅是本發(fā)明一部分實(shí)施例，而不是全部的實(shí)施例?；诒景l(fā)明中的實(shí)施例，本領(lǐng)域普通技術(shù)人員在沒(méi)有做出創(chuàng)造性勞動(dòng)前提下所獲得的所有其它實(shí)施例，都屬于本發(fā)明保護(hù)的范圍。
[0046]本發(fā)明提供一種觸控屏及其制作方法、外掛式觸摸屏，用以在降低成本的前提下，解決橋點(diǎn)消影的問(wèn)題，從而提高產(chǎn)品的競(jìng)爭(zhēng)力。
[0047]下面結(jié)合附圖，對(duì)本發(fā)明實(shí)施例提供的觸控屏及其制作方法、外掛式觸摸屏的【具體實(shí)施方式】進(jìn)行詳細(xì)地說(shuō)明。
[0048]附圖中各膜層的厚度和形狀不反映真實(shí)比例，目的只是示意說(shuō)明本
【發(fā)明內(nèi)容】
。
[0049]參見(jiàn)圖1，本發(fā)明實(shí)施例提供的一種觸控屏的制作方法，該方法包括:
[0050]S101、在襯底基板上形成第一觸控檢測(cè)電極的圖形；
[0051 ] S102、在襯底基板的邊框區(qū)域形成至少與第一觸控檢測(cè)電極電性相連的第一金屬走線層的圖形；
[0052]S103、在具有第一金屬走線層的襯底基板上方形成第一絕緣層的圖形；
[0053]S104、在第一絕緣層的上方形成第二觸控檢測(cè)電極的圖形；
[0054]S105、在襯底基板的邊框區(qū)域形成至少與第二觸控過(guò)檢測(cè)電極電性相連的第二金屬走線層的圖形。
[0055]需要說(shuō)明的是，第一觸控檢測(cè)電極可以作為觸控驅(qū)動(dòng)電極，第二觸控檢測(cè)電極作為觸控感應(yīng)電極;或者，第一觸控檢測(cè)電極作為觸控感應(yīng)電極，第二觸控檢測(cè)電極作為觸控驅(qū)動(dòng)電極，在此不做具體限定。其中，第一觸控檢測(cè)電極的圖形包括呈陣列排布的多個(gè)菱形電極塊，或者呈陣列排布的任何形狀的電極塊，第二觸控檢測(cè)電極的圖形可以與第一觸控檢測(cè)電極的圖形完全相同，或者與第一觸控電極的圖形在襯底基板基板上投影不重疊。
[0056]其中，觸控屏包括觸控區(qū)域和邊框區(qū)域，本發(fā)明實(shí)施例提供的觸控屏的觸控區(qū)域不包括金屬走線層，僅有邊框區(qū)域形成金屬走線層，從而避免了金屬消影的問(wèn)題。
[0057]本發(fā)明實(shí)施例提供了觸控屏的制作方法，包括:在襯底基板上形成第一觸控檢測(cè)電極的圖形;在襯底基板的邊框區(qū)域形成至少與第一觸控檢測(cè)電極電性相連的第一金屬走線層的圖形;在具有第一金屬走線層的襯底基板上方形成第一絕緣層的圖形;在第一絕緣層的上方形成第二觸控檢測(cè)電極的圖形;在襯底基板的邊框區(qū)域形成至少與第二觸控過(guò)檢測(cè)電極電性相連的第二金屬走線層的圖形。因此，本發(fā)明實(shí)施例提供的上述觸控屏的制作方法中，通過(guò)在襯底基板上形成異層結(jié)構(gòu)的第一觸控檢測(cè)電極和第二觸控檢測(cè)電極，且在襯底基板的邊框區(qū)域形成與第一觸控檢測(cè)電極連接的第一金屬走線層和與第二觸控檢測(cè)電極連接的第二金屬走線層，使得金屬走線層僅位于邊框區(qū)域，且觸控區(qū)域中的第一觸控檢測(cè)電極和第二觸控電極之間通過(guò)第一絕緣層相互絕緣，無(wú)需設(shè)計(jì)橋接實(shí)現(xiàn)第一觸控檢測(cè)電極或第二觸控檢測(cè)電極的相連，從而避免了解決了橋點(diǎn)消影的問(wèn)題，且本發(fā)明實(shí)施例提供的觸控屏，在邊框區(qū)域的金屬走線區(qū)無(wú)需采用ITO材料進(jìn)行制作，且觸控區(qū)域也無(wú)需設(shè)計(jì)OC絕緣層，從而降低了設(shè)計(jì)的成本。因此，本發(fā)明實(shí)施例提供的觸控屏，在降低成本的前提下，解決橋點(diǎn)消影的問(wèn)題，從而提高產(chǎn)品的競(jìng)爭(zhēng)力。
[0058]在具體實(shí)施例中，本發(fā)明實(shí)施例提供的上述觸控屏的制作方法中，為了進(jìn)一步減少觸控屏的制作成本，減少光罩次數(shù)，本發(fā)明實(shí)施例中，采用同一掩膜版形成第一金屬走線層和第二金屬走線層的圖形。因此，本發(fā)明實(shí)施例提供的觸控屏的制作方法中，可以實(shí)現(xiàn)第一金屬走線層和第二金屬走線層分布制作，同時(shí)導(dǎo)通的作用，實(shí)現(xiàn)大尺寸多點(diǎn)觸控，觸控效果好的目的。
[0059]具體地，在形成第一金屬走線層和第二金屬走線層時(shí)采用同一掩膜版，使得形成第一金屬走線層和第二金屬走線層僅需要一個(gè)Mask。本發(fā)明實(shí)施例提供的觸控屏的制作方法可以采用3個(gè)Mask制作，第一個(gè)掩膜版用于在襯底基板上形成第一觸控檢測(cè)電極，第二個(gè)掩膜版用于在邊框區(qū)域形成第一金屬走線層和第二金屬走線層，第三個(gè)掩膜版用于在第一絕緣層上方形成第二觸控檢測(cè)電極。因此，本發(fā)明實(shí)施例提供的觸控屏的制作方法，通過(guò)在形成第一金屬走線層和第二金屬走線層時(shí)采用同一掩膜版，使得在形成觸控屏?xí)r，可以采用4道制程，3個(gè)掩膜版形成。
[0060]在具體實(shí)施例中，本發(fā)明實(shí)施例提供的上述觸控屏的制作方法中，采用同一掩膜版形成第一金屬走線層和第二金屬走線層的圖形，具體包括:采用同一掩膜板形成與第一觸控檢測(cè)電極連接的第一金屬線，和與第二觸控檢測(cè)電極連接的第二金屬線的圖形。
[0061]具體地，在采用同一掩膜版形成第一金屬走線層和第二金屬走線層時(shí)，在形成于第一觸控檢測(cè)電極相連的第一金屬走線層時(shí)，該掩膜版中包括用于形成第二金屬走線層的圖形，因此，同時(shí)形成用于與第二觸控檢測(cè)電極相連的第二金屬走線層。在實(shí)際應(yīng)用中，第一金屬走線層包括與第一觸控檢測(cè)電極連接的第一金屬線和與第一金屬線同層設(shè)置的第一連接線，該第一連接線的圖形與第二金屬線的圖形相同。較佳地，可以在第一絕緣層中設(shè)置過(guò)孔使得第一連接線與第二觸控檢測(cè)電極電性相連，或者不設(shè)置過(guò)孔，使得第一連接線與第二觸控檢測(cè)電極相絕緣。同理，第二金屬走線層包括與第二觸控檢測(cè)電極連接的第二金屬線和與第二金屬線同層設(shè)置的第二連接線，該第二連接線的圖形與第一金屬線的圖形相同。較佳地，可以在第一絕緣層中設(shè)置過(guò)孔使得第二連接線與第一觸控檢測(cè)電極電性相連，或者不設(shè)置過(guò)孔，使得第二連接線與第一觸控檢測(cè)電極相絕緣。
[0062]在具體實(shí)施例中，本發(fā)明實(shí)施例提供的上述觸控屏的制作方法中，形成第二金屬走線層的圖形之后，該方法還包括:采用蒸鍍工藝在具有第二金屬走線層的襯底基板上方形成第二絕緣層的圖形。其中，第二絕緣層可以作為觸控屏的保護(hù)層，提高了觸控屏的圖案的消影效果。
[0063]在具體實(shí)施例中，本發(fā)明實(shí)施例提供的上述觸控屏的制作方法中，絕緣層的材料為氮氧化硅或二氧化硅。其中，本發(fā)明實(shí)施例中的絕緣層包括第一絕緣層和第二絕緣層，因此，第一絕緣層和第二絕緣層的材料可以均為氮氧化硅或二氧化硅中的任一種或兩種的組合;或者，第一絕緣層或第二絕緣層的材料氮氧化硅或二氧化硅中的任一種或兩種的組合，在此不作具體限定。其中，將氮氧化硅或二氧化硅制作的第二絕緣層可以作為觸控屏的保護(hù)層，從而進(jìn)一步避免橋點(diǎn)消影，提高了觸控屏的圖案的消影效果。
[0064]在具體實(shí)施例中，本發(fā)明實(shí)施例提供的上述觸控屏的制作方法中，在襯底基板上形成第一觸控檢測(cè)電極的圖形之前，該方法還包括:在襯底基板的邊框區(qū)域形成黑矩陣的圖形。形成黑矩陣的圖形用于遮擋邊框區(qū)域的第一金屬走線層和第二金屬走線層。
[0065]另外，由于本發(fā)明實(shí)施例中黑矩陣位于邊框區(qū)域的第一觸控檢測(cè)電極的下方，因此，黑矩陣與第一觸控檢測(cè)電極搭接的部分形成了閉合回路，從而將黑矩陣上方的第一觸控過(guò)檢測(cè)電極上的靜電通過(guò)該黑矩陣的閉合回路釋放到GND走線上，然后通過(guò)印刷電路板上的GND pin引腳與GND線相連，將靜電進(jìn)行釋放。因此，進(jìn)一步避免了觸控屏中黑矩陣被靜電擊穿，防止觸控區(qū)域形成導(dǎo)電通道或短路現(xiàn)象。
[0066]下面通過(guò)一個(gè)具體實(shí)施例說(shuō)明本發(fā)明實(shí)施例提供的上述觸控屏的制作方法，該方法包括:
[0067]步驟1、在襯底基板01的邊框區(qū)域形成黑矩陣02的圖形，如圖2(a)所示;其中，在襯底基板基板上經(jīng)過(guò)涂覆、曝光、顯影的構(gòu)圖工藝形成黑矩陣的圖形；
[0068]需要說(shuō)明的是，形成黑矩陣的圖形為可選步驟，可以直接執(zhí)行步驟2。
[0069]步驟2、在襯底基板01的邊框區(qū)域和觸控區(qū)域形成第一觸控檢測(cè)電極03的圖形，如圖2(b)所示，其中為了進(jìn)一步說(shuō)明第一觸控檢測(cè)電極的結(jié)構(gòu)，參見(jiàn)圖2(c)所示，第一觸控檢測(cè)電極03的結(jié)構(gòu)可以為呈陣列排布的菱形結(jié)構(gòu)；其中，在襯底基板上進(jìn)行鍍膜一層ITO膜層、涂覆光刻膠、對(duì)光刻膠進(jìn)行曝光、顯影，最后對(duì)ITO膜層進(jìn)行刻蝕，形成第一觸控檢測(cè)電極的圖形；
[0070]需要說(shuō)明的是，第一觸控檢測(cè)電極的形狀不僅包括圖2(c)所示的結(jié)構(gòu)，可以為其他形狀的結(jié)構(gòu)，在此不做具體限定。
[0071]步驟3、采用掩膜版在襯底基板01的邊框區(qū)域形成與第一觸控檢測(cè)電極電性相連的第一金屬走線層04的圖形，如圖2(d)所示;其中，在襯底基板的邊框區(qū)域進(jìn)行金屬鍍膜、涂覆光刻膠、對(duì)光刻膠進(jìn)行曝光、顯影，然后對(duì)金屬鍍膜進(jìn)行刻蝕，形成第一金屬走線層的圖形；
[0072]步驟4、在第一金屬走線層上方形成第一絕緣層05的圖形，如圖2(e)所示;其中，形成第一絕緣層的圖形時(shí)可以通過(guò)蒸鍍的方式，且第一絕緣層的圖形為整層結(jié)構(gòu)；
[0073]步驟5、在第一絕緣層05的上方形成第二觸控檢測(cè)電極06的圖形，如圖2(f)所示；其中，第一絕緣層位于第一金屬走線層與第二觸控檢測(cè)電極之間，且位于第一觸控檢測(cè)電極和第二觸控檢測(cè)電極之間；
[0074]其中，第二觸控檢測(cè)電極的形狀與圖2(c)中的第一觸控檢測(cè)電極的形狀相同，且每一第二觸控檢測(cè)電極在襯底基板上的投影與第一觸控檢測(cè)電極在襯底基板上的投影不重疊。
[0075]步驟6、采用同一掩膜版在第二觸控檢測(cè)電極06的上方形成第二金屬走線層07的圖形，如圖2(g)所示;其中，第二金屬走線層與第一金屬走線層采用的掩膜版相同，包括在襯底基板的邊框區(qū)域的第二觸控檢測(cè)電極上方進(jìn)行金屬鍍膜、涂覆光刻膠、對(duì)光刻膠進(jìn)行曝光、顯影，然后對(duì)金屬鍍膜進(jìn)行刻蝕，形成第二金屬走線層的圖形；
[0076]步驟7、在第二金屬走線層07的上方形成第二絕緣層08的圖形，如圖2(h)所示；其中，第二絕緣層位于邊框區(qū)域和觸控區(qū)域，第二絕緣層的圖形可以通過(guò)蒸鍍的方式形成。
[0077]其中，第一絕緣層和第二絕緣層的材料為SiNxOy或Si02。
[0078]較佳地，第一觸控檢測(cè)電極和第二觸控檢測(cè)電極的材料為氧化銦錫。
[0079]具體地，通過(guò)上述步驟I至7形成觸控屏，步驟I至7中均需要采用構(gòu)圖工藝進(jìn)行構(gòu)圖。構(gòu)圖工藝可只包括光刻工藝，或，可以包括光刻工藝以及刻蝕步驟，同時(shí)還可以包括打印、噴墨等其他用于形成預(yù)定圖形的工藝;光刻工藝是指包括成膜、曝光、顯影等工藝過(guò)程的利用光刻膠、掩模板、曝光機(jī)等形成圖形的工藝。在具體實(shí)施時(shí)，可根據(jù)本發(fā)明中所形成的結(jié)構(gòu)選擇相應(yīng)的構(gòu)圖工藝。
[0080]基于同一發(fā)明思想，本發(fā)明實(shí)施例還提供了一種觸控屏，參見(jiàn)圖3，觸控屏包括:襯底基板01;設(shè)置在襯底基板上的第一觸控檢測(cè)電極03;設(shè)置在第一觸控檢測(cè)電極03所在膜層之上且位于邊框區(qū)域的至少與第一觸控檢測(cè)電極電性相連的第一金屬走線層04;設(shè)置在第一金屬走線層04之上的第一絕緣層05;設(shè)置在第一絕緣層05之上的第二觸控檢測(cè)電極06;以及設(shè)置在第一觸控檢測(cè)電極所在膜層之上且位于邊框區(qū)域的至少與第二觸控檢測(cè)電極06電性相連的第二金屬走線層07。
[0081]在具體實(shí)施例中，本發(fā)明實(shí)施例提供的觸控屏中，第一金屬走線層和第二金屬走線層的圖形相同。其中，第一金屬走線層和第二金屬走線層的圖形相同，使得在制備第一金屬走線層和第二金屬走線層時(shí)，可以采用同一掩膜版形成，從而節(jié)省了制作觸控屏的掩膜版次數(shù)，節(jié)省了成本。
[0082]在具體實(shí)施例中，本發(fā)明實(shí)施例提供的上述觸控屏中，參見(jiàn)圖4，第一金屬走線層和第二金屬走線層的圖形相同，包括:與第一觸控檢測(cè)電極03連接的第一金屬線031，和與第二觸控檢測(cè)電極06(圖4中虛線框僅代表用于形成第二觸控檢測(cè)電極的區(qū)域)連接的第二金屬線032。其中，第一金屬線用于連接印刷電路板和第一觸控檢測(cè)電極，第二金屬線用于連接印刷電路板和第二觸控檢測(cè)電極。
[0083]在具體實(shí)施例中，本發(fā)明實(shí)施例提供的上述觸控屏中，參見(jiàn)圖5，觸控屏還包括:設(shè)置在襯底基板01和第一觸控檢測(cè)電極03之間的邊框區(qū)域的黑矩陣02。其中，黑矩陣用于遮擋邊框區(qū)域的第一金屬走線層和第二金屬走線層，由于本發(fā)明實(shí)施例中黑矩陣位于邊框區(qū)域的第一觸控檢測(cè)電極的下方，因此，黑矩陣與第一觸控檢測(cè)電極搭接的部分形成了閉合回路，從而將黑矩陣上方的第一觸控過(guò)檢測(cè)電極上的靜電通過(guò)該黑矩陣的閉合回路釋放到GND走線上，然后通過(guò)印刷電路板上的GND pin引腳與GND線相連，將靜電進(jìn)行釋放。因此，進(jìn)一步避免了觸控屏中黑矩陣被靜電擊穿，防止觸控區(qū)域形成導(dǎo)電通道或短路現(xiàn)象。
[0084]在具體實(shí)施例中，本發(fā)明實(shí)施例提供的上述觸控屏中，參見(jiàn)圖6，觸控屏還包括:設(shè)置在第二金屬走線層07之上的第二絕緣層08。
[0085]較佳地，本發(fā)明實(shí)施例提供的觸控屏中，第一絕緣層和第二絕緣層的材料均為氮氧化硅或二氧化硅。其中，將氮氧化硅或二氧化硅制作的第二絕緣層可以作為觸控屏的保護(hù)層，從而進(jìn)一步避免橋點(diǎn)消影，且提高了觸控屏的圖案的消影效果。
[0086]基于同一發(fā)明思想，本發(fā)明實(shí)施例還提供了一種外掛式觸摸屏，參見(jiàn)圖7，包括對(duì)盒設(shè)置的陣列基板I和對(duì)向基板2，以及位于對(duì)向基板I遠(yuǎn)離陣列基板I一側(cè)的，本發(fā)明實(shí)施例提供的任一種觸控屏3。
[0087]在具體實(shí)施例中，本發(fā)明實(shí)施例提供的上述外掛式觸摸屏中，針對(duì)oncell結(jié)構(gòu)的外掛式觸摸屏，參見(jiàn)圖8，觸控屏3的襯底基板01為對(duì)向基板2。較佳地，外掛式觸摸屏還包括位于觸控屏3上方的偏光片4，位于偏光片上方的光學(xué)透明樹(shù)脂層(optical clear resin,OCR) 5，以及位于OCR上方的蓋板6。
[0088]在具體實(shí)施例中，本發(fā)明實(shí)施例提供的上述外掛式觸摸屏中，針對(duì)OGS結(jié)構(gòu)的外掛式觸摸屏，參見(jiàn)圖9，觸控屏3的襯底基板01為外掛式觸摸屏的蓋板。較佳地，外掛式觸摸屏還包括:位于觸控屏和對(duì)向基板之間的偏光片4，以及位于偏光片4和觸控屏3之間的0CR5。
[0089]本發(fā)明實(shí)施例提供了一種觸控屏及其制作方法、外掛式觸摸屏，所述觸控屏的制作方法，包括:在襯底基板上形成第一觸控檢測(cè)電極的圖形;在所述襯底基板的邊框區(qū)域形成至少與所述第一觸控檢測(cè)電極電性相連的第一金屬走線層的圖形;在具有所述第一金屬走線層的襯底基板上方形成第一絕緣層的圖形;在所述第一絕緣層的上方形成第二觸控檢測(cè)電極的圖形;在所述襯底基板的邊框區(qū)域形成至少與所述第二觸控過(guò)檢測(cè)電極電性相連的第二金屬走線層的圖形。因此，本發(fā)明實(shí)施例提供的上述觸控屏的制作方法中，通過(guò)在襯底基板上形成異層結(jié)構(gòu)的第一觸控檢測(cè)電極和第二觸控檢測(cè)電極，且在襯底基板的邊框區(qū)域形成與第一觸控檢測(cè)電極連接的第一金屬走線層和與第二觸控檢測(cè)電極連接的第二金屬走線層，使得金屬走線層僅位于邊框區(qū)域，且觸控區(qū)域中的第一觸控檢測(cè)電極和第二觸控電極之間通過(guò)第一絕緣層相互絕緣，無(wú)需設(shè)計(jì)橋接實(shí)現(xiàn)第一觸控檢測(cè)電極或第二觸控檢測(cè)電極的相連，從而避免了解決了橋點(diǎn)消影的問(wèn)題，且本發(fā)明實(shí)施例提供的觸控屏，在邊框區(qū)域的金屬走線區(qū)無(wú)需采用ITO材料進(jìn)行制作，且觸控區(qū)域也無(wú)需設(shè)計(jì)OC絕緣層，從而降低了設(shè)計(jì)的成本。因此，本發(fā)明實(shí)施例提供的觸控屏，在降低成本的前提下，解決橋點(diǎn)消影的問(wèn)題，從而提高產(chǎn)品的競(jìng)爭(zhēng)力。
[0090]顯然，本領(lǐng)域的技術(shù)人員可以對(duì)本發(fā)明進(jìn)行各種改動(dòng)和變型而不脫離本發(fā)明的精神和范圍。這樣，倘若本發(fā)明的這些修改和變型屬于本發(fā)明權(quán)利要求及其等同技術(shù)的范圍之內(nèi)，則本發(fā)明也意圖包含這些改動(dòng)和變型在內(nèi)。
【主權(quán)項(xiàng)】
1.一種觸控屏的制作方法，其特征在于，該方法包括: 在襯底基板上形成第一觸控檢測(cè)電極的圖形； 在所述襯底基板的邊框區(qū)域形成至少與所述第一觸控檢測(cè)電極電性相連的第一金屬走線層的圖形； 在具有所述第一金屬走線層的襯底基板上方形成第一絕緣層的圖形； 在所述第一絕緣層的上方形成第二觸控檢測(cè)電極的圖形； 在所述襯底基板的邊框區(qū)域形成至少與所述第二觸控過(guò)檢測(cè)電極電性相連的第二金屬走線層的圖形。2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法，其特征在于，采用同一掩膜版形成所述第一金屬走線層和所述第二金屬走線層的圖形。3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的方法，其特征在于，采用同一掩膜版形成所述第一金屬走線層和所述第二金屬走線層的圖形，具體包括: 采用同一掩膜板形成與所述第一觸控檢測(cè)電極連接的第一金屬線，和與所述第二觸控檢測(cè)電極連接的第二金屬線的圖形。4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的方法，其特征在于，形成第二金屬走線層的圖形之后，該方法還包括: 采用蒸鍍工藝在具有所述第二金屬走線層的襯底基板上方形成第二絕緣層的圖形。5.根據(jù)權(quán)利要求1-4任一權(quán)項(xiàng)所述的方法，其特征在于，在襯底基板上形成第一觸控檢測(cè)電極的圖形之前，該方法還包括: 在襯底基板的邊框區(qū)域形成黑矩陣的圖形。6.一種觸控屏，其特征在于，所述觸控屏包括: 襯底基板； 設(shè)置在所述襯底基板上的第一觸控檢測(cè)電極； 設(shè)置在所述第一觸控檢測(cè)電極所在膜層之上且位于邊框區(qū)域的至少與所述第一觸控檢測(cè)電極電性相連的第一金屬走線層； 設(shè)置在所述第一金屬走線層之上的第一絕緣層； 設(shè)置在所述第一絕緣層之上的第二觸控檢測(cè)電極； 以及設(shè)置在所述第一觸控檢測(cè)電極所在膜層之上且位于邊框區(qū)域的至少與所述第二觸控檢測(cè)電極電性相連的第二金屬走線層。7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的觸控屏，其特征在于，所述第一金屬走線層和第二金屬走線層的圖形相同，包括: 與所述第一觸控檢測(cè)電極連接的第一金屬線，和與所述第二觸控檢測(cè)電極連接的第二金屬線。8.根據(jù)權(quán)利要求6所述的觸控屏，其特征在于，所述觸控屏還包括: 設(shè)置在所述襯底基板和所述第一觸控檢測(cè)電極之間的邊框區(qū)域的黑矩陣。9.根據(jù)權(quán)利要求6或8所述的觸控屏，其特征在于，所述觸控屏還包括: 設(shè)置在所述第二金屬走線層之上的第二絕緣層。10.一種外掛式觸摸屏，其特征在于，包括對(duì)盒設(shè)置的陣列基板和對(duì)向基板，以及位于所述對(duì)向基板遠(yuǎn)離所述陣列基板一側(cè)的，如權(quán)利要求6-9任一權(quán)項(xiàng)所述的觸控屏。
【文檔編號(hào)】G06F3/041GK106020562SQ201610631632
【公開(kāi)日】2016年10月12日
【申請(qǐng)日】2016年8月4日
【發(fā)明人】王靜, 謝曉冬, 朱順成, 何敏, 張貴玉, 鄭啟濤, 許鄒明, 李冬
【申請(qǐng)人】京東方科技集團(tuán)股份有限公司, 合肥鑫晟光電科技有限公司