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      指紋識別系統(tǒng)處理方法及指紋識別系統(tǒng)的制作方法

      文檔序號:10697747閱讀:538來源:國知局
      指紋識別系統(tǒng)處理方法及指紋識別系統(tǒng)的制作方法
      【專利摘要】本發(fā)明公開了一種指紋識別系統(tǒng)處理方法及指紋識別系統(tǒng),設(shè)計(jì)指紋識別技術(shù)領(lǐng)域。本發(fā)明的指紋識別系統(tǒng)處理方法包括:第一芯片和第二芯片采集用戶的指紋圖像數(shù)據(jù);將采集到的所述圖像數(shù)據(jù)傳送至處理單元;所述處理單元依次處理兩個芯片采集到的圖像數(shù)據(jù),并將處理后的圖像數(shù)據(jù)進(jìn)行拼接處理,以形成指紋圖像。由于本發(fā)明指紋識別系統(tǒng)處理方法及指紋識別系統(tǒng)將兩個小面陣芯片拼接成大面陣芯片,分別采集圖像數(shù)據(jù)后,再集中處理后拼接成指紋識別圖像,使得用戶在設(shè)計(jì)小面陣芯片后,無需再設(shè)計(jì)大面陣芯片,減少了設(shè)計(jì)成本、開模成本以及開模時間。
      【專利說明】
      指紋識別系統(tǒng)處理方法及指紋識別系統(tǒng)
      技術(shù)領(lǐng)域
      [0001]本發(fā)明涉及指紋識別技術(shù)領(lǐng)域,特別是涉及指紋識別系統(tǒng)處理方法及指紋識別系統(tǒng)。
      【背景技術(shù)】
      [0002]為了辨別指紋,目前的指紋識別器主要可以分為光學(xué)式指紋識別器以及電容式指紋識別器。其中,電容式指紋識別器的指紋識別芯片一般包括小面陣的芯片和大面陣的芯片。
      [0003]大面陣的芯片適合市面上大多指紋識別器,其要求識別精確、錄入次數(shù)少,其芯片的算法的代碼量少、計(jì)算量少,當(dāng)存儲多個指紋時,可及時提取數(shù)據(jù)進(jìn)行比對。而小面陣的芯片適合手機(jī)等移動終端,用于精準(zhǔn)識別,由于其芯片的算法要求精準(zhǔn)度,且代碼量大,無法支持多個指紋,該算法無法提取足夠的特征值,即小面陣的芯片不適合市面上大多精度要求不高的指紋識別器,所以小面陣的芯片與大面陣的芯片無法相互替代。而由于小面陣的芯片與大面陣的芯片設(shè)計(jì)、開模等均不相同,需要的流片成本增加,且開模的費(fèi)用、開模的時間也會增加。

      【發(fā)明內(nèi)容】

      [0004]本發(fā)明的主要目的在于提供一種指紋識別系統(tǒng)處理方法及指紋識別系統(tǒng),旨在減少指紋識別系統(tǒng)的開模時間、開模成本。
      [0005]為實(shí)現(xiàn)上述目的,本發(fā)明提供一種指紋識別系統(tǒng)處理方法,其特征在于,所述指紋識別系統(tǒng)處理方法包括以下步驟:
      第一芯片和第二芯片采集用戶的指紋圖像數(shù)據(jù);
      將采集到的所述圖像數(shù)據(jù)傳送至處理單元;
      所述處理單元依次處理兩個芯片采集到的圖像數(shù)據(jù),并將處理后的圖像數(shù)據(jù)進(jìn)行拼接處理;
      重復(fù)以上步驟,直至形成完整的指紋圖像。
      [0006]
      優(yōu)選地,所述處理單元依次處理兩個芯片采集到的圖像數(shù)據(jù),包括:
      將所述第一芯片與所述第二芯片之間的距離設(shè)為空白點(diǎn),所述處理單元依次處理第一芯片、空白點(diǎn)、第二芯片的圖像數(shù)據(jù),并將處理后的圖像數(shù)據(jù)進(jìn)行拼接處理,以形成指紋圖像。
      [0007]
      優(yōu)選地,所述將所述第一芯片與所述第二芯片之間的距離設(shè)為空白點(diǎn),包括:
      所述空白點(diǎn)的面積與所述第一芯片和所述芯片上的像素點(diǎn)面積相等,所述空白點(diǎn)的列數(shù)與所述像素點(diǎn)的列數(shù)相等,所述空白點(diǎn)的行數(shù)與所述第一芯片和所述第二芯片之間的距離相關(guān)。
      [0008]
      優(yōu)選地,當(dāng)所述第一芯片與所述第二芯片之間的距離是所述像素點(diǎn)邊長的整數(shù)倍時,所述處理單元將所述第一芯片與所述第二芯片之間的距離處理成與所述像素點(diǎn)面積相等的空白點(diǎn),所述處理單元依次處理第一芯片、空白點(diǎn)、第二芯片的圖像數(shù)據(jù),以形成指紋圖像。
      [0009]
      優(yōu)選地,當(dāng)所述第一芯片與所述第二芯片之間的距離大于所述像素點(diǎn)邊長的整數(shù)倍時,則保持所述空白點(diǎn)的行數(shù)與該倍數(shù)相等,并增加每行空白點(diǎn)的寬度,以將所述第一芯片與所述第二芯片之間的距離分成所述像素點(diǎn)邊長的整數(shù)倍,所述處理單元依次處理第一芯片、空白點(diǎn)、第二芯片的圖像數(shù)據(jù),以形成指紋圖像。
      [0010]
      優(yōu)選地,所述保持所述空白點(diǎn)的行數(shù)與該倍數(shù)相等,并增加每行的所述空白點(diǎn)的寬度,包括:
      當(dāng)所述第一芯片與所述第二芯片之間的距離大于所述像素點(diǎn)邊長的整數(shù)倍時,將該大于所述像素點(diǎn)邊長整數(shù)倍的部分平均分為空白點(diǎn)行數(shù)份,以使所述第一芯片與所述第二芯片之間的距離被處理為近似于所述像素點(diǎn)的空白點(diǎn)。
      [0011]
      優(yōu)選地,所述重復(fù)步驟包括:
      用戶不斷移動手指與所述第一芯片和所述第二芯片的采集區(qū)的相對位置,以使所述第一芯片和所述第二芯片采集到完整的指紋圖像數(shù)據(jù)。
      [0012]
      本發(fā)明還提供一種指紋識別系統(tǒng),包括設(shè)置在同一基板上的第一芯片和第二芯片,所述第一芯片和所述第二芯片分別連接于處理器,并將兩者采集到的圖像數(shù)據(jù)傳送至處理器進(jìn)行處理。
      [0013]
      優(yōu)選地,所述處理器還包括拼接單元,用于將處理后的圖像數(shù)據(jù)進(jìn)行拼接,以形成指紋圖像。
      [0014]
      與現(xiàn)有技術(shù)相比,本發(fā)明的有益效果是:由于本發(fā)明指紋識別系統(tǒng)處理方法及指紋識別系統(tǒng)將兩個小面陣芯片拼接成大面陣芯片,分別采集圖像數(shù)據(jù)后,再集中處理后拼接成指紋識別圖像,使得用戶在設(shè)計(jì)小面陣芯片后,無需再設(shè)計(jì)大面陣芯片,減少了設(shè)計(jì)成本、開模成本以及開模時間。
      【附圖說明】
      [0015]圖1為本發(fā)明指紋識別系統(tǒng)處理方法的原理示意圖;
      圖2為本發(fā)明指紋識別系統(tǒng)結(jié)構(gòu)示意圖;
      圖3為圖2中A的放大示意圖;
      圖4為本發(fā)明第一芯片和第二芯片之間的空白部分示意圖。
      [0016]本發(fā)明目的的實(shí)現(xiàn)、功能特點(diǎn)及優(yōu)點(diǎn)將結(jié)合實(shí)施例,參照附圖做進(jìn)一步說明。
      [0017]
      【具體實(shí)施方式】
      [0018]應(yīng)當(dāng)理解,此處所描述的具體實(shí)施例僅僅用以解釋本發(fā)明,并不用于限定本發(fā)明。
      [0019]下面結(jié)合附圖對本發(fā)明進(jìn)一步說明。
      [0020]如圖1至圖4所示,本發(fā)明的指紋識別系統(tǒng)處理方法,包括以下步驟:
      51、第一芯片2和第二芯片3采集用戶的指紋圖像數(shù)據(jù);
      本發(fā)明的指紋識別系統(tǒng)通過兩個小面陣的芯片拼接而成,在使用時同時采集用戶的指紋信息。由于拼接而成的面陣同時增加了面積,更加適用于用戶的手指形狀,使得采集指紋信息更加完整、精確。
      [0021]
      52、將采集到的所述圖像數(shù)據(jù)傳送至處理單元;
      在指紋識別系統(tǒng)中,設(shè)有一個處理單元,所述處理單元具體可以為MCU,即兩個小面陣的芯片同時與一個MCU連接。該MCU使用大面陣算法,即基于特征值算法,使得指紋識別系統(tǒng)在處理圖像數(shù)據(jù)時計(jì)算量更少,同時用戶在錄入指紋時的次數(shù)更少。
      [0022]
      53、處理單元依次處理兩個芯片采集到的圖像數(shù)據(jù),包括:
      S31、如圖4所示,將所述第一芯片2與所述第二芯片3之間的距離設(shè)為空白點(diǎn),所述處理單元依次處理第一芯片2、空白點(diǎn)、第二芯片3的圖像數(shù)據(jù),并將處理后的圖像數(shù)據(jù)進(jìn)行拼接處理,以形成指紋圖像。
      [0023]由于本發(fā)明的指紋識別系統(tǒng)中的芯片是由兩個小面陣的指紋識別芯片拼而成,在工藝上,兩個芯片之間會有一個微米級的縫隙,如圖3所示,即第一芯片2與第二芯片3之間的距離D。在處理單元處理圖像數(shù)據(jù)時,首先處理第一芯片2采集的圖像數(shù)據(jù),然后處理兩芯片之間的空白部分,最后再處理第二芯片3采集的圖像數(shù)據(jù)。
      [0024]在【具體實(shí)施方式】中,將所述第一芯片2與所述第二芯片3之間的距離設(shè)為空白點(diǎn),包括:
      空白點(diǎn)的面積與第一芯片2和第二芯片3上的像素點(diǎn)面積相等,所述空白點(diǎn)的列數(shù)與所述像素點(diǎn)的列數(shù)相等,所述空白點(diǎn)的行數(shù)與所述第一芯片2和所述第二芯片3之間的距離相關(guān)。
      [0025]如圖3、圖4所示,本發(fā)明指紋識別系統(tǒng)處理方法將第一芯片2和第二芯片3之間的距離分為與像素點(diǎn)面積相等的空白點(diǎn),以使處理器在處理兩芯片之間的空白時,將其識別為像素點(diǎn),即該指紋識別系統(tǒng)的采集區(qū)域分別對應(yīng)為:第一芯片2的采集區(qū)域、第二芯片3的采集區(qū)域,以及第一芯片2與第二芯片3之間的空白部分。
      [0026]具體地,在一實(shí)施例中,當(dāng)所述第一芯片2與所述第二芯片3之間的距離是所述像素點(diǎn)邊長的整數(shù)倍時,所述處理單元將所述第一芯片2與所述第二芯片3之間的距離處理成與所述像素點(diǎn)面積相等的空白點(diǎn),所述處理單元依次處理第一芯片2、空白點(diǎn)、第二芯片3的圖像數(shù)據(jù),以形成指紋圖像。如圖4所示,設(shè)像素點(diǎn)的邊長為d,當(dāng)D=N*d,即當(dāng)兩芯片之間的空白部分剛好可以被多數(shù)個空白點(diǎn)填充時,則處理器直接以第一芯片2、空白部分、第二芯片3的順序分別讀取、處理圖像數(shù)據(jù)。
      [0027]在另一實(shí)施例中,當(dāng)所述第一芯片2與所述第二芯片3之間的距離大于所述像素點(diǎn)邊長的整數(shù)倍時,則保持所述空白點(diǎn)的行數(shù)與該倍數(shù)相等,并增加每行空白點(diǎn)的寬度,以將所述第一芯片2與所述第二芯片3之間的距離分成所述像素點(diǎn)邊長的整數(shù)倍,所述處理單元依次處理第一芯片2、空白點(diǎn)、第二芯片3的圖像數(shù)據(jù),以形成指紋圖像。當(dāng)D=N*d+A,A〈d,即當(dāng)兩芯片之間的距離與像素點(diǎn)邊長除不盡時,則將Λ分為N行,這樣,將每行的空白點(diǎn)增加Λ/Ν的寬度,即可減小空白部分由于帶來的誤差。
      [0028]具體地,保持所述空白點(diǎn)的行數(shù)與該倍數(shù)相等,并增加每行的所述空白點(diǎn)的寬度,包括:
      當(dāng)所述第一芯片2與所述第二芯片3之間的距離大于所述像素點(diǎn)邊長的整數(shù)倍時,將該大于所述像素點(diǎn)邊長整數(shù)倍的部分平均分為空白點(diǎn)行數(shù)份,以使所述第一芯片2與所述第二芯片3之間的距離被處理為近似于所述像素點(diǎn)的空白點(diǎn)。即,將Λ平均分成N行,以使每個空白點(diǎn)面積相當(dāng)。
      [0029]
      54、將處理后的圖像數(shù)據(jù)進(jìn)行拼接處理;
      在進(jìn)行拼接處理時,指紋圖像的上半部分和下半部分即可形成完整的指紋圖像,兩芯片之間無法讀取的部分標(biāo)示為空白部分即可。
      [0030]
      55、重復(fù)S1~S4,直至形成完整的指紋圖像。
      [0031]所述重復(fù)步驟包括:用戶不斷移動手指與所述第一芯片2和所述第二芯片3的采集區(qū)的相對位置,以使所述第一芯片2和所述第二芯片3采集到完整的指紋圖像數(shù)據(jù)。由于兩個芯片拼接形成的空白部分,在注冊指紋時,只需多次移動手指,即可讀取到芯片在第一次無法讀取的部分,以形成完整的指紋圖像。
      [0032]
      本發(fā)明還提供一種指紋識別系統(tǒng),如圖2、圖3所示,包括設(shè)置在同一基板I上的第一芯片2和第二芯片3,所述第一芯片2和所述第二芯片3分別連接于處理器,并將兩者采集到的圖像數(shù)據(jù)傳送至處理器進(jìn)行處理。
      [0033]在一些實(shí)施例中,處理器還包括拼接單元,用于將處理后的圖像數(shù)據(jù)進(jìn)行拼接,以形成指紋圖像。
      [0034]應(yīng)當(dāng)理解的是,以上僅為本發(fā)明的優(yōu)選實(shí)施例,不能因此限制本發(fā)明的專利范圍,凡是利用本發(fā)明說明書及附圖內(nèi)容所作的等效結(jié)構(gòu)或等效流程變換,或直接或間接運(yùn)用在其他相關(guān)的技術(shù)領(lǐng)域,均同理包括在本發(fā)明的專利保護(hù)范圍內(nèi)。
      【主權(quán)項(xiàng)】
      1.一種指紋識別系統(tǒng)處理方法,其特征在于,所述指紋識別系統(tǒng)處理方法包括以下步驟: 第一芯片和第二芯片采集用戶的指紋圖像數(shù)據(jù); 將采集到的所述圖像數(shù)據(jù)傳送至處理單元; 所述處理單元依次處理兩個芯片采集到的圖像數(shù)據(jù),并將處理后的圖像數(shù)據(jù)進(jìn)行拼接處理; 重復(fù)以上步驟,直至形成完整的指紋圖像。2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的指紋識別系統(tǒng)處理方法,其特征在于,所述處理單元依次處理兩個芯片采集到的圖像數(shù)據(jù),包括:將所述第一芯片與所述第二芯片之間的距離設(shè)為空白點(diǎn),所述處理單元依次處理第一芯片、空白點(diǎn)、第二芯片的圖像數(shù)據(jù),并將處理后的圖像數(shù)據(jù)進(jìn)行拼接處理,以形成指紋圖像。3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的指紋識別系統(tǒng)處理方法,其特征在于,所述將所述第一芯片與所述第二芯片之間的距離設(shè)為空白點(diǎn),包括: 所述空白點(diǎn)的面積與所述第一芯片和所述第二芯片上的像素點(diǎn)面積相等,所述空白點(diǎn)的列數(shù)與所述像素點(diǎn)的列數(shù)相等,所述空白點(diǎn)的行數(shù)與所述第一芯片和所述第二芯片之間的距離相關(guān)。4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的指紋識別系統(tǒng)處理方法,其特征在于,當(dāng)所述第一芯片與所述第二芯片之間的距離是所述像素點(diǎn)邊長的整數(shù)倍時,所述處理單元將所述第一芯片與所述第二芯片之間的距離處理成與所述像素點(diǎn)面積相等的空白點(diǎn),所述處理單元依次處理第一芯片、空白點(diǎn)、第二芯片的圖像數(shù)據(jù),以形成指紋圖像。5.根據(jù)權(quán)利要求3所述的指紋識別系統(tǒng)處理方法,其特征在于,當(dāng)所述第一芯片與所述第二芯片之間的距離大于所述像素點(diǎn)邊長的整數(shù)倍時,則保持所述空白點(diǎn)的行數(shù)與該倍數(shù)相等,并增加每行空白點(diǎn)的寬度,以將所述第一芯片與所述第二芯片之間的距離分成所述像素點(diǎn)邊長的整數(shù)倍,所述處理單元依次處理第一芯片、空白點(diǎn)、第二芯片的圖像數(shù)據(jù),以形成指紋圖像。6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的指紋識別系統(tǒng)處理方法,其特征在于,所述保持所述空白點(diǎn)的行數(shù)與該倍數(shù)相等,并增加每行的所述空白點(diǎn)的寬度,包括: 當(dāng)所述第一芯片與所述第二芯片之間的距離大于所述像素點(diǎn)邊長的整數(shù)倍時,將該大于所述像素點(diǎn)邊長整數(shù)倍的部分平均分為空白點(diǎn)行數(shù)份,以使所述第一芯片與所述第二芯片之間的距離被處理為近似于所述像素點(diǎn)的空白點(diǎn)。7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的指紋識別系統(tǒng)處理方法,其特征在于,所述重復(fù)步驟包括: 用戶不斷移動手指與所述第一芯片和所述第二芯片的采集區(qū)的相對位置,以使所述第一芯片和所述第二芯片采集到完整的指紋圖像數(shù)據(jù)。8.—種指紋識別系統(tǒng),其特征在于,所述指紋識別系統(tǒng)包括設(shè)置在同一基板上的第一芯片和第二芯片,所述第一芯片和所述第二芯片分別連接于處理器,并將兩者采集到的圖像數(shù)據(jù)傳送至處理器進(jìn)行處理。9.根據(jù)權(quán)利要求8所述的指紋識別系統(tǒng),其特征在于,所述處理器還包括拼接單元,用于將處理后的圖像數(shù)據(jù)進(jìn)行拼接,以形成指紋圖像。
      【文檔編號】G06K9/00GK106067005SQ201610385119
      【公開日】2016年11月2日
      【申請日】2016年6月3日 公開號201610385119.4, CN 106067005 A, CN 106067005A, CN 201610385119, CN-A-106067005, CN106067005 A, CN106067005A, CN201610385119, CN201610385119.4
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