低色差觸控基板的制作方法
【技術領域】
[0001] 本實用新型涉及一種基板，特別是涉及一種低色差觸控基板。
【背景技術】
[0002] 常見的觸控基板主要區(qū)分為電阻式、電容式、紅外線與表面聲波式等，在結構上， 通常是在透光板材上形成圖形化分布的透明導電層（ITO)以感應點選的位置。不過，隨著 觸控面板尺寸增大的需求，便需要加長圖形化分布的透明導電層的長度以使其能分布于尺 寸較大的透光板材，然而長度加長后卻會產生電阻增加的問題。
[0003] 為了克服前述技術阻礙，最常見的作法便是增加透明導電層的厚度以降低其電 阻。此作法雖能解決電阻的問題，但透明導電層變厚又會導致嚴重的色散現(xiàn)象產生，致使該 觸控面板的透光度不平均，使透明導電層的圖形輪廓明顯，在外觀上顯現(xiàn)導電膜對于透光 板材之間的顏色差異性，因而影響產品外觀質量。
[0004] 為了解決透明導電層增厚所產生的色差問題，參閱圖1，現(xiàn)有觸控基板包括彼此間 隔的一個透光板材91與一個透明導電層92,以及設置于該透光板材91與該透明導電層92 之間的膜層93、94。通過形成彼此折射率不同的該兩個膜層93、94,從而提供調整光學色差 的作用。但膜層93、94調整光學色差的作用有限，在透明導電層的厚度較厚以降低電阻的 條件下，現(xiàn)有觸控基板仍無法同時滿足光學穿透率、低色差與電性需求。

【發(fā)明內容】

[0005] 本實用新型的目的在于提供一種低色差觸控基板，在透明導電層的厚度較厚的條 件下能滿足光學穿透率、低色差與電性需求。
[0006] 本實用新型低色差觸控基板，包含：一個透光板材、一個與該透光板材間隔的透明 導電層，以及一個設置于該透光板材與該透明導電層之間的光學調整單元。該光學調整單 元包括一個設置于該透光板材的第一低折射率層，以及設置于該第一低折射率層與該透明 導電層之間的至少兩個高折射率層與至少兩個第二低折射率層；所述高折射率層與所述第 二低折射率層是由鄰近至遠離該第一低折射率層方向交錯排列；該第一低折射率層具有一 個接觸該透光板材的第一表面，以及一個相反于該第一表面且接觸其中一個高折射率層的 第二表面；該第一低折射率層的折射率為1. 4~1.8,每一個第二低折射率層的折射率為 1. 3~1.6,每一個高折射率層的折射率為1. 9~2. 42。
[0007] 本實用新型所述低色差觸控基板，該第一低折射率層的厚度為5~40nm。
[0008] 本實用新型所述低色差觸控基板，該第一低折射率層的材料為氮氧化硅或氧化 娃。
[0009] 本實用新型所述低色差觸控基板，每一個高折射率層的厚度為5~55nm。
[0010] 本實用新型所述低色差觸控基板，每一個高折射率層的材料為氧化鈮、氧化鈦、氮 化硅或氧化鋯。
[0011] 本實用新型所述低色差觸控基板，每一個第二低折射率層的厚度為1〇~55nm。
[0012] 本實用新型所述低色差觸控基板，每一個第二低折射率層的材料為氧化硅或氟化 鎂。
[0013] 本實用新型所述低色差觸控基板，該透明導電層的材料為氧化銦錫、氧化鋁鋅、氧 化銦鋅、氧化錳鋅、摻鎵氧化鋅或摻鎵鋁氧化鋅。
[0014] 本實用新型所述低色差觸控基板，該透明導電層的厚度為50~300nm。
[0015] 本實用新型所述低色差觸控基板，該透明導電層的片電阻為5~150D/ 口。
[0016] 本實用新型的有益效果在于：通過該光學調整單元的第一低折射率層、高折射率 層與第二低折射率層在折射率的選定與層體的特定排列順序，通過前述層體結構，可使該 低色差觸控基板在廣視角下整體色差更低且光學穿透率較高而使外觀更近自然色，進而能 提升產品外觀質量。
【附圖說明】
[0017] 圖1是現(xiàn)有觸控基板的個側視不意圖；
[0018] 圖2是本實用新型低色差觸控基板的一個實施例的一個側視示意圖。
【具體實施方式】
[0019] 下面結合附圖及實施例對本實用新型進行詳細說明，要注意的是，在以下的說明 內容中，類似的元件以相同的編號來表示。
[0020] 參閱圖2,本實用新型低色差觸控基板的一個實施例，包含一個透光板材1、一個 與該透光板材1間隔的透明導電層2,以及一個設置于該透光板材1與該透明導電層2之間 的光學調整單元3。
[0021] 該透光板材1對波長為633nm的光線的折射率為1. 5~1.8。實施上，該透光板材 1的材料可為塑膠、玻璃或藍寶石（sapphire)。
[0022] 該透明導電層2是以圖形化分布的方式設置于該光學調整單元3上，至于所述圖 形化的具體俯視結構非本實用新型的改良重點，在此不予詳述。該透明導電層2的折射率 為1. 7~2. 2,厚度為50~300nm，片電阻為5~150D/ □。所述透明導電層2的材料具體 可為氧化銦錫（ITO)、氧化鋁鋅（AZO)、氧化銦鋅（IZO)、氧化錳鋅（MZO)、摻鎵氧化鋅（GZO) 或摻鎵鋁氧化鋅（GAZO)。
[0023] 需要說明的是，當該透明導電層2厚度小于50nm時，將導致片電阻大于 150Q/ □;當該透明導電層2的厚度大于300nm時，片電阻雖然可低于5Q/ □，但是將導致 制造成本提高。因此，該透明導電層2的厚度宜為50~300nm，片電阻宜為5~150D/ 口。
[0024] 該光學調整單元3包括一個設置于該透光板材1上的第一低折射率層31，以及設 置于該第一低折射率層31與該透明導電層2之間的兩個高折射率層32、32'與兩個第二低 折射率層33、33'。在實施上，所述高折射率層32、32'與所述第二低折射率層33、33'的數(shù) 量分別可為兩個以上，而不限于本實施例的舉例。
[0025] 所述高折射率層32、32'與所述第二低折射率層33、33'是由鄰近至遠離該第一低 折射率層31方向交錯排列，在本實施例中由鄰近至遠離該第一低折射率層31方向具體的 排列順序為高折射率層32、第二低折射率層33、高折射率層32'與第二低折射率層33'。該 第一低折射率層31具有一個接觸該透光板材1的第一表面311，以及一個相反于該第一表 面311且接觸該高折射率層32的第二表面312。
[0026] 該第一低折射率層31對波長為633nm的光線的折射率為1. 4~1.8,且厚度為5~ 40nm，其材料具體可為氮氧化娃（siliconoxynitride，SiOxNy)或氧化娃（Si02)。
[0027] 每一個高折射率層32、32'對波長為633nm的光線的折射率為1. 9~2. 42,且厚 度為5~55nm，其材料具體可為氧化鈮（Nb20x)、氧化鈦（TiOx)、氮化硅（SiNx)或氧化鋯 (ZrOx)。
[0028] 每一個第二低折射率層33、33'對波長為633nm的光線的折射率為1. 3~1.6,且 厚度為10~55nm，其材料具體可為氧化硅（Si02)或氟化鎂（MgF2)。
[0029] 本實用新型就以下實驗例1~12與比較例1~12來作進一步說明，但應了解的 是，所述實驗例1~12僅為例示說明，而不應被解釋為本實用新型實施的限制。
[0030] 實驗例1~12的試驗品的結構如圖2所示。
[0031] 實驗例1~12的透光板材1的材料為玻璃，折射率為1. 52,厚度為3. 2mm。
[0032] 實驗例1~12的透明導電層2的材料為氧化銦錫，折射率為1.8。在實驗例1~ 3、7~9的透明導電層2是在約25°C的室溫所制成，其片電阻為25~100D/ □。在實驗 例4~6、10~12的透明導電層2是在約320°C的高溫所制成，其片電阻為10~40D/ 口。
[0033] 實驗例1~12的第一低折射率層31的材料為氧化硅，折射率為1. 46。
[0034] 實驗例1~6的高折射率層32、32'的材料為氧化鈮，折射率為2. 42 ;實驗例7~ 12的高折射率層32、32'的材料為氮化硅，折射率為2. 0。
[0035] 實驗例1~12的第二低折射率層33、33'的材料為氧化硅，折射率為1. 46。
[0036] 以下將實驗例1~12的透明導電層2的厚度與片電阻，以及第一低折射率層31、 高折射率層32、32'與第二低折射率層33、33'各自的厚度分別整理于表1。
[0037] 表 1
[0038]
【主權項】
1. 一種低色差觸控基板，包含：一個透光板材、一個與該透光板材間隔的透明導電層， 以及一個設置于該透光板材與該透明導電層之間的光學調整單元；其特征在于：該光學調 整單元包括一個設置于該透光板材的第一低折射率層，以及設置于該第一低折射率層與該 透明導電層之間的至少兩個高折射率層與至少兩個第二低折射率層；所述高折射率層與所 述第二低折射率層是由鄰近至遠離該第一低折射率層方向交錯排列；該第一低折射率層具 有一個接觸該透光板材的第一表面，以及一個相反于該第一表面且接觸其中一個高折射率 層的第二表面；該第一低折射率層的折射率為1. 4~1. 8,每一個第二低折射率層的折射率 為1. 3~1. 6,每一個高折射率層的折射率為1. 9~2. 42。
2. 根據(jù)權利要求1所述的低色差觸控基板，其特征在于：該第一低折射率層的厚度為 5 ~40nm〇
3. 根據(jù)權利要求1所述的低色差觸控基板，其特征在于：該第一低折射率層的材料為 氮氧化硅或氧化硅。
4. 根據(jù)權利要求1所述的低色差觸控基板，其特征在于：每一個高折射率層的厚度為 5 ~55nm〇
5. 根據(jù)權利要求1所述的低色差觸控基板，其特征在于：每一個高折射率層的材料為 氧化銀、氧化鈦、氮化娃或氧化錯。
6. 根據(jù)權利要求1所述的低色差觸控基板，其特征在于：每一個第二低折射率層的厚 度為10~55nm。
7. 根據(jù)權利要求1所述的低色差觸控基板，其特征在于：每一個第二低折射率層的材 料為氧化硅或氟化鎂。
8. 根據(jù)權利要求1所述的低色差觸控基板，其特征在于：該透明導電層的材料為氧化 銦錫、氧化鋁鋅、氧化銦鋅、氧化錳鋅、摻鎵氧化鋅或摻鎵鋁氧化鋅。
9. 根據(jù)權利要求1所述的低色差觸控基板，其特征在于：該透明導電層的厚度為50~ 300nm〇
10. 根據(jù)權利要求1所述的低色差觸控基板，其特征在于：該透明導電層的片電阻為 5 ~150Q/□ 〇
【專利摘要】一種低色差觸控基板，包含一個透光板材、一個透明導電層，以及一個設置于該透光板材與該透明導電層之間的光學調整單元。該光學調整單元包括一個折射率為1.4～1.8的第一低折射率層、至少兩個折射率為1.3～1.6為第二低折射率層，及至少兩個折射率為1.9～2.42為高折射率層。高折射率層與第二低折射率層是由鄰近至遠離該第一低折射率層方向交錯排列。該第一低折射率層接觸該透光板材與其中一個高折射率層。通過前述層體結構，使該低色差觸控基板在廣視角下整體色差更低且光學穿透率較高，進而使外觀更近自然色并能提升產品外觀質量。
【IPC分類】G06F3-041
【公開號】CN204480205
【申請?zhí)枴緾N201520150035
【發(fā)明人】簡谷衛(wèi), 黃有為, 黃圣涵, 沈俊宏, 辜建燁
【申請人】北儒精密股份有限公司
【公開日】2015年7月15日
【申請日】2015年3月17日